KR100786042B1 - Process for producing bisphenol a - Google Patents

Process for producing bisphenol a Download PDF

Info

Publication number
KR100786042B1
KR100786042B1 KR1020027014618A KR20027014618A KR100786042B1 KR 100786042 B1 KR100786042 B1 KR 100786042B1 KR 1020027014618 A KR1020027014618 A KR 1020027014618A KR 20027014618 A KR20027014618 A KR 20027014618A KR 100786042 B1 KR100786042 B1 KR 100786042B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
phenol
mother liquor
acid
bisphenol
crystals
Prior art date
Application number
KR1020027014618A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20020092463A (en
Inventor
노무라마꼬또
쯔지까와미찌노리
시부따니이사오
야마모또스스무
니시지마히로아끼
Original Assignee
미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 filed Critical 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤
Publication of KR20020092463A publication Critical patent/KR20020092463A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100786042B1 publication Critical patent/KR100786042B1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C37/00Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C07C37/68Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation
    • C07C37/685Processes comprising at least two steps in series
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C37/00Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C07C37/68Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation
    • C07C37/70Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation by physical treatment
    • C07C37/74Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation by physical treatment by distillation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C37/00Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C07C37/68Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation
    • C07C37/70Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation by physical treatment
    • C07C37/84Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation by physical treatment by crystallisation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

하기 단계를 포함하는 비스페놀 A 의 제조 방법:Method for preparing bisphenol A comprising the following steps:

(a) 산 촉매의 존재하에 페놀 및 아세톤을 함유하는 공급원료를 반응시켜 생성물 흐름을 수득하는 단계; (b) 상기 생성물 흐름을 증류시켜, 아세톤을 제거하고, 비스페놀 A, 페놀 및 산 오염물질을 함유하는 탑저 흐름을 수득하는 단계; (c) 상기 탑저 흐름을 결정화시켜, 비스페놀 A 와 페놀의 첨가생성물의 결정을 수득하는 단계; (d) 상기 결정으로부터 페놀을 제거하여 비스페놀 A 를 수득하는 단계; (e) 상기 모액의 일부를 단계 (a)로 재순환시키는 단계; (f) 상기 모액의 나머지 부분을 처리하여 잔류 타르를 퍼지하고 정제된 모액을 회수하며, 상기 나머지 부분의 양이 상기 모액의 100 중량부 당 0.5-5 중량부인 것을 특징으로 하는 단계; (g) 상기 정제액을 단계 (a)로 재순환시키는 단계; 및 (h) (i) 상기 공급원료의 일부 이상, (ii) 상기 생성물 흐름의 일부 이상, (iii) 상기 모액의 일부분 이상의 적어도 하나를 거기에 함유된 산 오염물질을 제거하기 위한 처리를 수행하여, 단계 (c)에 공급되는 흐름에서의 산 오염물질의 농도를 0.001-0.5 meq/L 의 범위로 유지하는 단계.(a) reacting a feedstock containing phenol and acetone in the presence of an acid catalyst to obtain a product stream; (b) distilling the product stream to remove acetone and obtain a bottoms stream containing bisphenol A, phenol and acid contaminants; (c) crystallizing the bottom stream to obtain crystals of an adduct of bisphenol A and phenol; (d) removing phenol from the crystals to obtain bisphenol A; (e) recycling a portion of the mother liquor to step (a); (f) treating the remaining portion of the mother liquor to purge the residual tar and recover the purified mother liquor, wherein the amount of the remaining portion is 0.5-5 parts by weight per 100 parts by weight of the mother liquor; (g) recycling the purified liquid to step (a); And (h) treating at least one of (i) at least part of the feedstock, (ii) at least part of the product stream, and (iii) at least one part of the mother liquor to remove acid contaminants contained therein. Maintaining the concentration of acid contaminants in the stream fed to step (c) in the range of 0.001-0.5 meq / L.

Description

비스페놀 A 의 제조 방법{PROCESS FOR PRODUCING BISPHENOL A}The manufacturing method of bisphenol A {PROCESS FOR PRODUCING BISPHENOL A}

본 발명은 색조가 우수하며 열적으로 안정하고 고온에서 착색되지 않는 고급 비스페놀 A 의 경제적인 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an economical process for the preparation of higher bisphenol A which is excellent in color tone and is thermally stable and does not color at high temperatures.

공지된 비스페놀 A (이후부터 BPA로 언급함)의 제조 방법중의 하나는 반응 부산물과 같은 불순물을 함유하는 미정제 BPA 를 결정화기로 도입하여 페놀 및 모액과 BPA 의 첨가생성물의 결정을 형성하는 단계를 포함한다. 모액으로부터 분리된 결정은 탈페놀화 단계로 도입되어 페놀을 제거하고 고순도의 BPA를 수득한다. 대부분의 모액은 반응 구역으로 재순환되는 한편, 이의 일부는 퍼지되고 처리되어 정제된 모액 및 잔류 타르를 수득한다. 정제된 모액은 반응 구역으로 재순환된다.One of the known processes for the preparation of bisphenol A (hereinafter referred to as BPA) is the introduction of crude BPA containing impurities such as reaction byproducts into the crystallizer to form crystals of the phenol and the mother liquor and the adduct of BPA. It includes. Crystals isolated from the mother liquor are introduced into a dephenolation step to remove phenol and obtain high purity BPA. Most mother liquor is recycled to the reaction zone, while some of it is purged and treated to obtain purified mother liquor and residual tar. The purified mother liquor is recycled to the reaction zone.

또한 미정제 BPA 는 산 오염물질을 함유하며, 이것은 증류, 결정화, 및 기타 단계동안 페놀 및 이소프로페닐 페놀의 생성 및 BPA의 분해를 야기한다. 따라서, 산 오염물질이 시스템내에 축적되는 것을 허용하는 것은 바람직하지 않다. 상기 방법에서, 산 오염물질은 타르와 함께 시스템으로부터 방출될 수 있다. 그러나, 공정 라인에서 산 오염물질의 농도를 허용가능한 수준으로 유지하기 위하여, 페놀, 2,4'-BPA 등과 같은 불순물을 함유하는 공정 유체로 산 오염물질을 뽑아 내기 위한 타르 퍼지의 퍼지 유속을 증가시키는 것이 필요하다. 이러한 조작은 BPA 생산 비용을 증가시키는 문제점을 야기한다.Crude BPA also contains acid contaminants, which lead to the production of phenol and isopropenyl phenol and degradation of BPA during distillation, crystallization, and other steps. Thus, it is undesirable to allow acid contaminants to accumulate in the system. In this method, acid contaminants may be released from the system along with the tar. However, in order to maintain the concentration of acid contaminants in the process line, the purge flow rate of the tar purge to extract acid contaminants into the process fluid containing impurities such as phenol, 2,4'-BPA, etc. is increased. It is necessary to let. This operation raises the problem of increasing the BPA production cost.

본 발명은 상기 문제의 관점에서 만들어졌으며, 생성물 BPA의 등급에 부정적인 영향을 주지 않으면서 원료 물질 페놀 소비를 감소시킬 수 있는 경제적인 방법을 제공하는 것을 목표로 한다.The present invention has been made in view of the above problems and aims to provide an economical way to reduce raw material phenol consumption without adversely affecting the grade of the product BPA.

본 발명에 따라, 하기 단계를 포함하는 비스페놀 A 의 제조 방법이 제공된다:According to the present invention there is provided a process for the preparation of bisphenol A comprising the following steps:

(a) 산 촉매의 존재하에 페놀 및 아세톤을 함유하는 공급원료를 반응시켜, 비스페놀 A, 페놀 및 산 오염물질을 함유하는 생성물 흐름을 수득하는 단계;(a) reacting a feedstock containing phenol and acetone in the presence of an acid catalyst to obtain a product stream containing bisphenol A, phenol and acid contaminants;

(b) 상기 생성물 흐름을 증류시켜 아세톤을 제거하고, 비스페놀 A, 페놀 및 산 오염물질을 함유하는 탑저 흐름을 수득하는 단계;(b) distilling the product stream to remove acetone and obtain a bottoms stream containing bisphenol A, phenol and acid contaminants;

(c) 상기 탑저 흐름을 결정화시켜, 산 오염물질 및 페놀을 함유하는 모액 및 페놀과 비스페놀 A 의 첨가생성물의 결정을 수득하는 단계;(c) crystallizing the bottom stream to obtain crystals of the mother liquor containing acid contaminants and phenols and the adducts of phenol and bisphenol A;

(d) 상기 결정으로부터 페놀을 제거하여 비스페놀 A 를 수득하는 단계;(d) removing phenol from the crystals to obtain bisphenol A;

(e) 상기 모액의 제 1 부분을 상기 공급원료의 일부로서 단계 (a)로 재순환시키는 단계;(e) recycling the first portion of the mother liquor to step (a) as part of the feedstock;

(f) 상기 모액의 나머지 부분인 제 2 부분을 처리하여 잔류 타르를 퍼지하고 정제된 모액을 회수하며, 상기 제 2 부분의 양이 상기 모액의 100 중량부 당 0.5-5 중량부인 것을 특징으로 하는 단계; (f) treating the second portion, which is the remainder of the mother liquor, to purge the residual tar and recover the purified mother liquor, wherein the amount of the second portion is 0.5-5 parts by weight per 100 parts by weight of the mother liquor; step;                 

(g) 상기 정제된 모액을 상기 공급원료의 일부로서 단계 (a)로 재순환시키는 단계; 및(g) recycling the purified mother liquor to step (a) as part of the feedstock; And

(h) (i) 상기 공급원료의 일부 이상, (ii) 상기 생성물 흐름의 일부 이상, 및 (iii) 상기 모액의 제 1 부분의 일부 이상을 거기에 함유된 산 오염물질을 제거하기 위한 처리를 수행하여, 단계 (c)에 공급되는 상기 탑저 흐름에서의 산 오염물질의 농도를 0.001-0.5 meq/L 의 범위로 유지하는 단계.(h) treating at least a portion of the feedstock, (ii) at least a portion of the product stream, and (iii) at least a portion of the first portion of the mother liquor to remove acid contaminants contained therein. Carrying out the step of maintaining the concentration of acid contaminants in said bottoms stream which is fed to step (c) in the range of 0.001-0.5 meq / L.

본 발명은 하기 도면을 참조로 하여 하기에서 더욱 상세하게 설명될 것이다.The invention will be explained in more detail below with reference to the drawings.

도 1 을 참조하여, (1)로 표시되는 것은 라인 (11) 로부터의 원료 물질(페놀 및 아세톤의 혼합물)을 함유하는 공급원료가 라인 (13) 및 (15)를 통해 공급되는 반응기이다. 반응기 (1)에서, 아세톤 및 페놀은 술폰산 형의 양이온 교환 수지와 같은 강산 촉매의 존재하에 반응한다. 반응은 일반적으로 온도 45-95 ℃, 바람직하게는 55-85 ℃에서 수행된다. 반응 압력은 BPA 생성 반응에 거의 영향을 주지 않으며, 구체적으로 한정되지 않는다. 반응기 (1) 이 고정층 시스템일 때, 반응기에 요구되는 기계적인 강도 또는 촉매 분쇄의 관점에서, 반응 압력은 바람직하게는 0.05-0.5 MPa 의 범위이다.Referring to FIG. 1, denoted by (1) is a reactor through which feedstock containing raw material (mixture of phenol and acetone) from line 11 is fed through lines 13 and 15. In reactor 1, acetone and phenol react in the presence of a strong acid catalyst such as a cation exchange resin of the sulfonic acid type. The reaction is generally carried out at a temperature of 45-95 ° C, preferably 55-85 ° C. The reaction pressure hardly affects the BPA production reaction, and is not particularly limited. When the reactor 1 is a fixed bed system, the reaction pressure is preferably in the range of 0.05-0.5 MPa in view of the mechanical strength or catalyst grinding required for the reactor.

술폰산형 양이온 교환 수지는 바람직하게는 겔 형태이며, 황-함유 화합물, 바람직하게는 예를 들어 머캡토알킬피리딘 또는 머캡토알킬아민과 같은 머캡토 기 및 3차 질소-함유 기를 갖는 화합물로 부분적으로 개질된다. 황-함유 화합물의 예로는 2-머캡토에틸아민 및 2,2-디메틸티아졸리딘을 포함한다. 양이온 교환 수지의 개질은 수중 또는 유기 용매중에서 수지를 황-함유 화합물과 반응시켜, 술 폰산기의 일부, 일반적으로 3-30%, 바람직하게는 5-15% 를 황-함유 화합물로 개질할 수 있다.The sulfonic acid type cation exchange resin is preferably in the form of a gel and partly with sulfur-containing compounds, preferably compounds having mercapto groups and tertiary nitrogen-containing groups such as, for example, mercaptoalkylpyridine or mercaptoalkylamine Modified. Examples of sulfur-containing compounds include 2-mercaptoethylamine and 2,2-dimethylthiazolidine. The modification of the cation exchange resin can be carried out by reacting the resin with a sulfur-containing compound in water or in an organic solvent to modify a portion of the sulfonic acid group, usually 3-30%, preferably 5-15%, with the sulfur-containing compound. have.

촉매는 바람직하게는 입자 형태이며, 원통형 반응기내에 팩킹된다. 촉매 입자의 평균 입자 직경은 바람직하게는 0.2-2.0 mm, 더욱 바람직하게는 0.4-1.5 mm이며, 이 때 입자 직경 분포의 균등성은 1.0-1.4, 바람직하게는 1.0-1.3 이다. 여기서의 평균 입자 직경 및 입자 직경 분포의 균등성은 촉매 입자가 물로 팽창된 상태에서 측정된 것이다. 입자 직경 분포의 균등성 Z 는 하기 식으로 정의된다:The catalyst is preferably in the form of particles and packed in a cylindrical reactor. The average particle diameter of the catalyst particles is preferably 0.2-2.0 mm, more preferably 0.4-1.5 mm, wherein the uniformity of the particle diameter distribution is 1.0-1.4, preferably 1.0-1.3. The average particle diameter and uniformity of the particle diameter distribution herein are measured in the state where the catalyst particles are expanded with water. Uniformity Z of the particle diameter distribution is defined by the formula:

Z = A/BZ = A / B

(식 중, A 및 B 는 각각 촉매 입자의 40 부피% 및 90 부피%가 통과되지 않고 남아있게 되는 체의 개구 크기임).Wherein A and B are the opening sizes of the sieve, where 40 and 90 volume% of the catalyst particles, respectively, remain unpassed.

반응기 (1)에서 반응 혼합물은 라인 (17)을 통해 생성물 흐름으로서 여기로부터 방출된다. 비스페놀 A, 페놀, 미반응 아세톤, 산 촉매로부터 유래된 산 오염물질 또는 유리산, 반응 부산물 등을 함유하는 생성물 흐름이 라인 (20) 을 통해 증류탑 및/또는 증발기와 같은 증류 구역 (2)로 공급되며, 여기서 물, 미반응 아세톤 및 일부 페놀을 함유하는 증류물이 분리되고 라인 (21)을 통해 방출된다. 비스페놀 A, 페놀 및 산 오염물질을 함유하는 증류 구역 (2) 로부터의 탑저 흐름은 라인 (22) 를 통해 결정화 구역 (3) 으로 공급되며, 여기서 탑저 흐름은 냉각되어 비스페놀 A와 페놀의 첨가생성물의 결정을 생성한다. 산 오염물질 및 페놀을 함유하는 모액으로부터 결정이 분리된 후, 라인 (23) 을 통해 다음 탈페놀화 단계 (8)로 보내진다. 바람직하게는, 결정화는 2 회 이상 반복된다.In reactor 1 the reaction mixture is discharged from here as product flow through line 17. Product streams containing bisphenol A, phenol, unreacted acetone, acid contaminants or free acids derived from acid catalysts, reaction by-products, etc. are fed via line 20 to distillation zones 2 such as distillation towers and / or evaporators Where the distillate containing water, unreacted acetone and some phenol is separated and discharged via line 21. The bottoms stream from the distillation zone (2) containing bisphenol A, phenol and acid contaminants is fed via line (22) to the crystallization zone (3), where the bottoms stream is cooled to produce an adduct of bisphenol A and phenol Generate a crystal. After the crystals are separated from the mother liquor containing acid contaminants and phenols, they are sent via line (23) to the next dephenolation step (8). Preferably, the crystallization is repeated two or more times.

하나의 바람직한 구현예에서, 결정화 구역 (3) 내에서의 결정화는 제 1 및 제 2 결정화 단계의 시리즈에서 수행되며, 제 1 결정화 단계에서 수득되는 결정은 페놀에 용해되고, 제 2 결정화 단계로부터 적합하게 모액이 분리되고, 수득되는 용액은 제 2 결정화 단계에서 결정화가 수행된다.In one preferred embodiment, the crystallization in the crystallization zone (3) is carried out in a series of first and second crystallization steps, wherein the crystals obtained in the first crystallization step are dissolved in phenol and are suitable from the second crystallization step. The mother liquor is separated and the resulting solution is crystallized in a second crystallization step.

제 1 결정화 단계는 바람직하게는 제 1 및 제2 결정화기의 2 개의 시리즈를 사용하여, 증류 구역으로부터의 탑저 흐름이 냉각되어 직경이 100 ㎛ 이하인 미세 결정의 함량이 30 중량% 미만인, 첨가생성물 결정의 상대적으로 큰 결정(순수 결정종)을 형성하는 방식으로 수행된다. 제 1 결정화기내의 결정종-함유 슬러리는 제 2 결정화기로 공급되고, 제 1 결정화기의 온도보다 더 낮은 온도로 냉각되어 결정종을 성장시키고, 100 ㎛ 이하의 직경의 미세 결정의 함량이 30 중량% 미만인, 첨가생성물 결정을 형성한다.The first crystallization step preferably uses two series of first and second crystallizers, in which the bottoms stream from the distillation zone is cooled so that the content of fine crystals having a diameter of 100 μm or less is less than 30% by weight. Is carried out in a manner to form relatively large crystals (pure crystalline species). The crystal species-containing slurry in the first crystallizer is fed to a second crystallizer, cooled to a temperature lower than the temperature of the first crystallizer to grow crystal grains, and the content of fine crystals having a diameter of 100 μm or less is 30 Formation product crystals, which are less than% by weight.

제 2 결정화기내에 형성된 결정은 모액으로부터 분리되고 페놀로 다시 용해된다. 상기 용액은 제 2 결정화 단계에서 결정화되고, 또한 제 3 및 제 4 결정화기인 2 개의 시리즈를 사용하여 바람직하게는 수행된다. 따라서, 용액은 제 3 결정화기로 공급되고 냉각되어, 100 ㎛ 이하의 직경을 갖는 미세한 결정의 함량이 30 중량% 미만인 첨가 생성물의 상대적으로 큰 결정(순수 결정종)을 형성한다. 제 3 결정화기내의 결정종-함유 슬러리는 제 4 결정화기로 공급되고 제 3 결정화기의 온도보다 낮은 온도로 냉각되어, 결정종을 성장시키고 100 ㎛ 이하의 직경을 갖는 미세 결정의 함량이 30 중량% 미만인 결정을 형성한다. 제 4 결정화기에서 형성된 결정은 모액으로부터 분리되고 열에 의해 용융되며, 다음 탈페놀화 단계로 보내진다. 제 2 결정화 단계에서 수득된 모액은 바람직하게는 제 1 결정화 단계에서 수득된 첨가생성물 결정을 용해시키는데 사용된다.Crystals formed in the second crystallizer are separated from the mother liquor and dissolved again into phenol. The solution is crystallized in the second crystallization step and is preferably carried out using two series which are also the third and fourth crystallizers. Thus, the solution is fed to a third crystallizer and cooled to form relatively large crystals (pure crystal species) of the additive product having a content of fine crystals having a diameter of 100 μm or less, which is less than 30% by weight. The crystal species-containing slurry in the third crystallizer is fed to the fourth crystallizer and cooled to a temperature lower than the temperature of the third crystallizer, so that the crystal grains grow and the content of fine crystals having a diameter of 100 μm or less is 30% by weight. Form crystals less than%. The crystals formed in the fourth crystallizer are separated from the mother liquor and melted by heat, and then sent to the next dephenolation step. The mother liquor obtained in the second crystallization step is preferably used to dissolve the additive product crystals obtained in the first crystallization step.

결정화 구역 (3) 에서 수득된 페놀과 비스페놀 A 의 첨가생성물의 용융 결정은 탈페놀화 단계 (8) 로 보내지고, 여기서 페놀은 상기 결정으로부터 제거되어 비스페놀 A 가 수득되고, 이것은 라인 (32)를 통해 회수된다. 탈페놀화는 임의의 적합한 공지된 방법으로 수행될 수 있다.Melt crystals of the adducts of phenol and bisphenol A obtained in the crystallization zone (3) are sent to the dephenolation step (8), where the phenol is removed from the crystals to give bisphenol A, which is obtained in line (32). Recovered through Dephenolation can be carried out by any suitable known method.

본 발명에 따른 하나의 바람직한 구현예에서, 결정을 용융시켜 비스페놀 A 및 페놀을 함유하는 용융물을 형성하고, 수득된 용융물을 가열하여 페놀을 증발시킴에 의해 탈페놀화가 수행된다. 바람직하다면, 증발에 이어 탈거, 예를 들어 증기 탈거가 이어질 수 있다.In one preferred embodiment according to the invention, dephenolation is carried out by melting the crystals to form a melt containing bisphenol A and phenol and heating the obtained melt to evaporate the phenol. If desired, evaporation may be followed by stripping, for example steam stripping.

증발 전에, 용융물을 양이온 공여 고체와 접촉시켜, 양이온 공여 고체로 용융물내에 함유된 강산을 중화시키는 것이 바람직하다. 양이온 공여 고체와의 이러한 처리에 의해, 용융물의 가열동안 비스페놀 A 의 분해가 효과적으로 방지될 수 있으며, 고순도 고급 비스페놀 A 가 고수율로 회수될 수 있다. 양이온 공여 고체로서, 유리 섬유가 적합하게 사용될 수 있다.Prior to evaporation, the melt is preferably contacted with a cationic donor solid to neutralize the strong acid contained in the melt with the cationic donor solid. By such treatment with a cationic donor solid, decomposition of bisphenol A can be effectively prevented during heating of the melt and high purity higher bisphenol A can be recovered in high yield. As cationic donor solids, glass fibers can suitably be used.

결정화 구역 (3)에서 수득되는 모액은 일반적으로 비스페놀 A 8-12 중량%, 페놀 75-90 중량% 및 트리스페놀 및 쿠마론 화합물과 같은 폴리페놀 및 산 오염물질과 같은 불순물 5-15 중량%를 포함한다. 모액의 대부분은 라인 (24), (31), (12), (13) 및 (16)을 통해 재순환되어, 공급원료의 일부로서 반응기 (1)로 되돌려 진다. 또다른 모액의 나머지 부분, 즉 모액 100 중량부 당 0.5-5 중량부는 라인 (25)를 통해서 퍼지 회수 구역 (4)로 공급된다. 퍼지 회수 구역 (4)에서, 액체는 처리되어 타르성 화합물을 퍼지하고, 정제된 모액을 회수한다. 또한 산 화합물은 모액으로부터 분리된다. 퍼지 회수 구역 (4) 로 공급되는 모액의 양이 0.5 부 미만일 때, 고비등점 물질 및 산 오염물질과 같은 불순물이 시스템내에서 생성되어 BPA의 등급을 감소시킨다. 모액 100 중량부 당 5 중량부 초과로 퍼지 회수 구역 (4) 로 공급되는 너무 많은 모액의 양은 원료 물질의 소비를 증가시켜 페놀 손실이 증가되므로 경제적으로 유익하지 않다.The mother liquor obtained in the crystallization zone (3) generally contains 8-12% by weight of bisphenol A, 75-90% by weight phenol and 5-15% by weight impurities such as polyphenols and acid contaminants such as trisphenol and coumarone compounds. Include. Most of the mother liquor is recycled via lines 24, 31, 12, 13 and 16 and returned to reactor 1 as part of the feedstock. The remainder of another mother liquor, ie 0.5-5 parts by weight per 100 parts by weight of mother liquor, is fed via line 25 to purge recovery zone 4. In the purge recovery zone 4, the liquid is treated to purge the tarry compound and recover the purified mother liquor. The acid compound is also separated from the mother liquor. When the amount of mother liquor supplied to the purge recovery zone 4 is less than 0.5 parts, impurities such as high boiling point substances and acid contaminants are generated in the system to reduce the grade of BPA. The amount of too much mother liquor fed to the purge recovery zone 4 in excess of 5 parts by weight per 100 parts by weight of the mother liquor is not economically beneficial as it increases the consumption of raw materials and increases phenol losses.

바람직하게는, 퍼지 회수 구역 (4) 는 페놀 증류탑, 진공 조건하에서 작동되는 증발기가 구비된 반응기 및 강산형 이온 교환 수지-함유 탑을 포함한다. 퍼지 회수 구역 (4)에서, 모액 흐름 (25) 는 먼저 증류탑으로 공급되어 증류물로서 페놀을 회수한다. 탑저 흐름인 농축 모액은 염기성 촉매가 첨가된 반응기로 도입되고, 여기서 탑저 흐름에 함유된 비스페놀, 트리스페놀 및 기타 폴리페놀이 촐매에 의해 이소프로페닐페놀 및 페놀로 열적으로 분해되는 한편, 크로만(chromans) 화합물과 같은 불순물이 축중합되어 고비등점 물질, 타르를 형성한다.Preferably, the purge recovery zone 4 comprises a phenol distillation column, a reactor equipped with an evaporator operated under vacuum conditions and a strong acid type ion exchange resin-containing tower. In purge recovery zone 4, mother liquor stream 25 is first fed to a distillation column to recover phenol as distillate. The bottom stream, concentrated mother liquor, is introduced into a reactor to which a basic catalyst is added, wherein the bisphenols, trisphenols and other polyphenols contained in the bottom stream are thermally decomposed into isopropenylphenol and phenol by the solvent, while chromans) Impurities such as compounds condense to form high-boiling substances, tars.

반응기로부터 회수된 이소프로페닐 페놀 및 페놀의 증기는 응축기로 도입되고, 여기서 증기는 증류탑으로부터의 증류물과 접촉되고 응축된다. 그 후, 응축된 증기는 강산형 이온 교환 수지-함유 탑으로 공급되어, 비스페놀 A 가 페놀과 이소프로페닐 페놀의 반응 결과로서 형성된다. 탑으로부터의 유출물은 퍼지 회수 구역 (4)로부터 수득된 정제액을 나타내며, 라인 (27), (12), (13) 및 (16)을 통해 반응기 (1)로 재순환된다. 반응기내에서 수득되는 고비등점 물질은 라인 (26) 을 통해 잔류 타르로서 방출된다.The vapor of isopropenyl phenol and phenol recovered from the reactor is introduced into a condenser, where the steam is contacted and condensed with the distillate from the distillation column. The condensed vapor is then fed to a strong acid type ion exchange resin-containing tower so that bisphenol A is formed as a result of the reaction of phenol and isopropenyl phenol. The effluent from the tower represents the purification liquid obtained from the purge recovery zone 4 and is recycled to reactor 1 via lines 27, 12, 13 and 16. The high boiling point material obtained in the reactor is discharged as residual tar via line 26.

바람직하다면, 라인 (26)으로부터의 타르는 페놀 제조 공정으로부터 수득되는 방향족 에테르를 포함하는 에테르 부산물 오일과 혼합되고 희석됨으로써, 연료 오일로서 사용될 수 있다. 180-230 ℃에서의 타르는 혼합 구역으로 공급되고, 60-170 ℃에서 방향족 에테르를 포함하는 희석제 부산물 오일이 타르와의 혼합을 위해 공급된다. 희석제 대 타르의 혼합 비는 0.1:1 내지 2:1 이다. 혼합 구역으로부터 방출되는 혼합물은 냉각되며, 냉각된 혼합물의 온도는 80-150 ℃이다. 냉각된 혼합물의 일부는 연료 오일로서 회수되는 나머지 부분과 함께 혼합 구역으로 재순환된다.If desired, the tar from line 26 can be used as fuel oil by mixing and diluting with ether by-product oil comprising aromatic ethers obtained from the phenol production process. Tar at 180-230 ° C. is fed to the mixing zone and diluent by-product oil comprising aromatic ether is fed for mixing with tar at 60-170 ° C. The mixing ratio of diluent to tar is 0.1: 1 to 2: 1. The mixture released from the mixing zone is cooled and the temperature of the cooled mixture is 80-150 ° C. A portion of the cooled mixture is recycled to the mixing zone along with the remainder recovered as fuel oil.

본 발명에서, 결정화 구역 (3)으로 공급되는 흐름 (22) 내의 산 오염물질의 농도는 결정화 구역 (3)에서 첨가생성물의 고급 결정을 수득하기 위하여, 0.001-0.5 meq/L(milliequivalent/liter), 바람직하게는 0.001-0.10 meq/L의 범위 내로 유지되어야 한다. 그러한 고급 결정은 결정 용융물내에 산 함유량의 관점에서 실질적으로 산 오염물질 함량이 없다. 결정화 구역 (3) 으로 공급되는 흐름 (22)에서 산 오염물질의 농도가 0.5 meg/L 을 초과할 때, 산 오염물질의 일부가 결정화 구역내에서 수득되는 첨가생성물의 결정내에 포함된다. 결과적으로, 이어지는 탈페놀화 단계 (8)에서, 산 오염물질은 BPA 의 분해를 야기하여, BPA 내의 페놀 함량의 증가 및 생성물 BPA 의 착색 및 분해를 증가시킨다.In the present invention, the concentration of acid contaminants in the stream 22 which is fed to the crystallization zone 3 is in the range of 0.001-0.5 meq / L (milliequivalent / liter) in order to obtain high quality crystals of the adduct in the crystallization zone (3). , Preferably in the range of 0.001-0.10 meq / L. Such higher crystals are substantially free of acid contaminants in terms of acid content in the crystal melt. When the concentration of acid contaminants in the stream 22 fed to the crystallization zone 3 exceeds 0.5 meg / L, some of the acid contaminants are included in the crystals of the additive product obtained in the crystallization zone. As a result, in the subsequent dephenolation step (8), acid contaminants cause degradation of the BPA, increasing the phenol content in the BPA and increasing the coloring and decomposition of the product BPA.

따라서, 본 발명에서, Thus, in the present invention,                 

(i) 라인 (13) 및 (16)을 통해 반응기 (1)로 도입되는 공급원료의 일부 이상, (i) at least a portion of the feedstock introduced into reactor 1 via lines 13 and 16,

(ii) 라인 (17) 및 (20) 을 통해 반응기 (1)로부터 증류 구역 (2) 로 공급되는 생성물 흐름의 일부 이상, 및 (ii) at least a portion of the product stream fed from reactor 1 to distillation zone 2 via lines 17 and 20, and

(iii) 라인 (24), (31), (12), (13) 및 (16) 을 통해 반응기 (1) 로 재순환되는 모액의 일부 이상(iii) at least a portion of the mother liquor recycled to reactor (1) via lines (24), (31), (12), (13) and (16)

의 적어도 하나는 여기에 함유된 산 오염물질을 제거하기 위한 처리가 수행되어, 결정화 구역 (3) 으로 공급되는 흐름 (22) 에서 산 오염물질의 농도가 0.001-0.5 meq/L 의 범위내로 유지된다.At least one of is subjected to a treatment for removing the acid contaminants contained therein, so that the concentration of the acid contaminants in the stream 22 fed to the crystallization zone 3 is maintained within the range of 0.001-0.5 meq / L. .

탑저 흐름에서 산 오염물질의 농도를 극히 낮은 수준으로 감소시키기 위하여 거대한 산 제거 시스템이 요구되기 때문에, 산 오염물질의 농도 하한은 경제적인 관점에서 0.001 meq/L 이다.The lower concentration limit of acid pollutants is 0.001 meq / L from an economic point of view, since a huge acid removal system is required to reduce the concentration of acid pollutants to extremely low levels in the bottom stream.

산 오염물질은 불순물을 거의 용출시키는 않는 흡착제와 산 오염물질 함유 유체를 접촉시킴으로써 제거될 수 있다. 그러한 흡착제의 예로는 활성탄, 알칼리성 무기 산화물 및 음이온 교환 수지를 포함한다. 음이온 교환 수지가 바람직하게 사용된다. 다양한 음이온 교환 수지가 본 발명의 목적을 위해 적합하게 사용될 수 있는 한편, 1차, 2차, 또는 3차 아민과 같은 약한 염기성 음이온 교환기를 갖는 음이온 교환 수지의 사용이 바람직하다. 적합한 음이온 교환 수지의 예시로는 Amberlite(Rohm & Haas Company 제조), Dowex(Dow Chemical Inc. 제조), 및 Diaion(Mitsubishi Chemical Company 제조)가 있다. Acid contaminants can be removed by contacting the acid contaminant containing fluid with an adsorbent that elutes little impurities. Examples of such adsorbents include activated carbon, alkaline inorganic oxides and anion exchange resins. Anion exchange resins are preferably used. While various anion exchange resins can be suitably used for the purposes of the present invention, the use of anion exchange resins having weak basic anion exchange groups such as primary, secondary, or tertiary amines is preferred. Examples of suitable anion exchange resins include Amberlite (manufactured by Rohm & Haas Company), Dowex (manufactured by Dow Chemical Inc.), and Diaion (manufactured by Mitsubishi Chemical Company).                 

예시적 구현예에서, (i) 라인 (13) 내의 공급원료의 일부 또는 전부가 라인 (14) 를 통해 산 처리 구역 (5) 로 도입되고 라인 (15) 를 통해 반응기 (1)로 공급되며, (ii) 라인 (17) 에서의 생성물 흐름의 일부 또는 전부는 라인 (18) 을 통해 산 처리 구역 (6) 으로 도입되고, 라인 (19) 를 통해 증류 구역 (2) 로 공급되고, (iii) 라인 (28) 에서의 모액의 일부 또는 전부는 라인 (29) 를 통해 산 처리 구역 (7) 로 도입되고 라인 (31) 을 통해 반응기 (1) 로 공급된다. 그러나, 상기 처리 구역 (5), (6) 및 (7) 중 1 또는 2 는 원한다면 생략될 수 있다. 산 오염물질은 경제적인 관점에서 산 처리 구역 (7) 에서만 제거되는 것이 바람직하다. 라인 (28) 에서 흐름의 부피당 산 오염물질의 농도는 라인 (13), (14), (17) 및 (18) 에서의 것보다 높으므로, 구역 (7) 에서 산 제거는 구역 (5) 또는 (6) 에서의 것보다 더욱 효율적이며 효과적이다.In an exemplary embodiment, (i) some or all of the feedstock in line 13 is introduced into acid treatment zone 5 via line 14 and fed to reactor 1 via line 15, (ii) part or all of the product stream in line 17 is introduced into the acid treatment zone 6 via line 18 and fed to the distillation zone 2 via line 19, and (iii) Some or all of the mother liquor in line 28 is introduced into acid treatment zone 7 via line 29 and fed to reactor 1 via line 31. However, one or two of the treatment zones (5), (6) and (7) can be omitted if desired. Acid contaminants are preferably removed only from the acid treatment zone 7 from an economic point of view. Since the concentration of acid contaminants per volume of flow in line 28 is higher than that in lines 13, 14, 17 and 18, the removal of acid in zone 7 is either zone 5 or More efficient and effective than in (6).

산 제거 구역 (5)-(7) 의 각각에서 처리되는 흐름의 양은 처리되는 흐름내의 산 오염물질의 농도에 따라 적합하게 결정될 수 있다.The amount of stream treated in each of the acid removal zones (5)-(7) can be suitably determined according to the concentration of acid pollutants in the stream being treated.

본 발명에서, 공정 흐름내의 산 오염물질이 산 제거구역 (5)-(7) 의 하나 이상에서 제거되어야 하므로, 퍼지 회수 구역 (4) 로의 흐름 (25)의 유속을 산 오염물질을 제거하기 위해 증가시키는 것은 더이상 필요하지 않다. 퍼지 회수 구역 (4) 에서의 처리는 산 오염물질외의 불순물을 감소시킬 목적만으로 수행될 수 있다. 따라서, 퍼지의 양이 감소될 때라도, 결정화 구역 (3) 에서 수득되는 첨가생성물의 결정의 품질은 부정적인 영향을 받지 않는다. 결과적으로, 라인 (26) 을 통해 방출되는 타르의 양은 감소될 수 있다.In the present invention, since the acid contaminants in the process stream must be removed in at least one of the acid removal zones (5)-(7), the flow rate of the flow 25 to the purge recovery zone 4 to remove the acid contaminants. It is no longer necessary to increase. The treatment in the purge recovery zone 4 can be performed only for the purpose of reducing impurities other than acid contaminants. Therefore, even when the amount of purge is reduced, the quality of the crystals of the additive product obtained in the crystallization zone 3 is not negatively affected. As a result, the amount of tar released through line 26 can be reduced.

따라서, BPA 와 산 오염물질이 없는 페놀 또는 유리산과의 고급 결정성 첨가생성물을 생성하여, 본 발명의 방법에 따라 착색체가 없는 고급 BPA 를 생성하는 것이 가능하다. 공정 라인으로부터의 퍼지의 양이 작으므로, 퍼지를 처리하기 위한 시스템은 압축되어 만들어질 수 있고, 여기서 방출되는 타르의 양이 작다. 따라서, 원료 물질로서 공급되는 아세톤 및 페놀의 양을 감소시켜 BPA의 생산 비용을 감소시키는 것이 가능하다. 게다가, 본 발명에서의 산 처리가 결정화 구역으로 공급되는 탑저 흐름에서의 산 오염물질의 농도를 0.001-0.5 meq/L 의 범위로 유지하도록 수행되어, 산 제거 단계에서 작동 하중이 감소될 수 있고, 산 처리에서 흡착제의 양이 감소될 수 있다. 따라서, 산은 감소되는 비용과 함께 제거될 수 있다.Thus, it is possible to produce higher crystalline additive products of BPA and phenols or free acids free of acid contaminants, thereby producing higher colorant free BPA according to the process of the present invention. Since the amount of purge from the process line is small, the system for processing the purge can be made compressed, where the amount of tar emitted is small. Thus, it is possible to reduce the amount of acetone and phenol supplied as raw material to reduce the production cost of BPA. In addition, the acid treatment in the present invention is carried out to maintain the concentration of acid contaminants in the bottom stream supplied to the crystallization zone in the range of 0.001-0.5 meq / L, so that the working load can be reduced in the acid removal step, The amount of adsorbent may be reduced in acid treatment. Thus, acid can be removed with reduced cost.

하기 실시예들이 본 발명을 추가적으로 예증할 것이다. 백분율은 중량에 의한 것이다.The following examples will further illustrate the invention. Percentages are by weight.

도 1 은 본 발명에 따른 BPA의 제조 방법을 수행하기에 적합한 시스템의 공정도이다.1 is a process diagram of a system suitable for carrying out the method for producing BPA according to the present invention.

실시예 1Example 1

도 1 의 공정도에서 보여지는 장치를 사용하여 BPA를 생성했다. (5) 및 (6) 에서의 산 제거 단계가 생략되었고, 산 처리는 단계 (7)에서만 수행되었다. 결정화 구역 (3)에서, 첨가생성물의 결정은 23.2 kg/h 의 순수 페놀로 세척되었다. 유속, 조건 및 분석 자료가 하기에 주어졌다.BPA was generated using the apparatus shown in the process diagram of FIG. 1. The acid removal step in (5) and (6) was omitted and the acid treatment was carried out only in step (7). In the crystallization zone (3), the crystals of the adduct were washed with 23.2 kg / h pure phenol. Flow rates, conditions and analytical data are given below.

반응기 1:Reactor 1:

반응 온도: 60 ℃Reaction temperature: 60 ℃

반응 압력: 0.3 MPaReaction pressure: 0.3 MPa

촉매: 술폰산형 양이온 교환 수지 (Rhom & Haas 제조; Amberlite 118-H, 평균 입자 직경: 0.54 mm, 균일성 예외 입자 직경 분포도: 1.46) 를 체쳐서, 평균 입자 직경 0.69 mm 및 입자 직경 분포의 균일성 1.17 을 갖는 걸러진 생성물을 수득했다. 걸러진 생성물은 이의 술폰산기의 10% 가 2-머캡토아민으로 개질되도록 처리되어, 촉매를 수득한다.Catalyst: Sulfonate type cation exchange resin (manufactured by Rhom &Haas; Amberlite 118-H, average particle diameter: 0.54 mm, uniformity exception particle diameter distribution: 1.46), uniformity of average particle diameter 0.69 mm and particle diameter distribution A filtered product with 1.17 was obtained. The filtered product is treated so that 10% of its sulfonic acid groups are modified with 2-mercaptoamine to obtain a catalyst.

라인 (17) 에서의 생성물 흐름: Product flow in line 17 :

유속: 116.7 kg/hFlow rate: 116.7 kg / h

조성Furtherance

BPA: 18.8 %BPA: 18.8%

페놀: 73.6 %Phenolic: 73.6%

물: 1.0 %Water: 1.0%

아세톤: 0.8 %Acetone: 0.8%

유리산: 0.086 meq/LFree acid: 0.086 meq / L

기타 불순물: 5.8 %Other Impurities: 5.8%

라인 (21) 에서의 증류물: Distillate in line 21 :

유속: 17.8 kg/h Flow rate: 17.8 kg / h                 

조성Furtherance

물: 7 %Water: 7%

아세톤: 6 %Acetone: 6%

페놀: 86 %Phenolic: 86%

기타: 1 %Other: 1%

라인 (22) 내의 탑저 흐름: Top bottom flow in line 22 :

유속: 98.9 kg/hFlow rate: 98.9 kg / h

조성Furtherance

BPA: 22 %BPA: 22%

페놀: 74 %Phenolic: 74%

유리산: 0.101 meq/LFree acid: 0.101 meq / L

기타 불순물: 4 %Other Impurities: 4%

라인 (23) 내의 첨가생성물의 결정: Determination of Addition Product in Line 23 :

유속: 22.1 kg/hFlow rate: 22.1 kg / h

유리산: 측정 한계 미만Free acid: below the measurement limit

(≤ 0.001 meq/L)(≤ 0.001 meq / L)

라인 (24) 에서의 모액: Mother liquor at line 24 :

유속: 100 kg/hFlow rate: 100 kg / h

조성:Furtherance:

BPA: 8 % BPA: 8%                 

페놀: 86 %Phenolic: 86%

유리산: 0.1 meq/LFree acid: 0.1 meq / L

기타 불순물: 6 %Other Impurities: 6%

라인 (25) 에서의 퍼지: Purge in line 25 :

유속: 3 kg/h (라인 (24) 에서의 모액의 100 중량부 당 3 중량부)Flow rate: 3 kg / h (3 parts by weight per 100 parts by weight of the mother liquor in line 24)

퍼지 회수 단계 4: Purge Recovery Step 4 :

반응기/진공 응축기:Reactor / vacuum condenser:

탑저 온도: 250 ℃Bottom temperature: 250 ℃

압력: 0.02 MPaPressure: 0.02 MPa

강산형 이온 교환 수지탑Strong Acid Ion Exchange Resin Tower

온도: 53 ℃Temperature: 53 ℃

압력: 0.1 MPaPressure: 0.1 MPa

라인 (26) 에서의 타르:Tar in line 26:

유속: 0.2 kg/hFlow rate: 0.2 kg / h

라인 (27)에서의 정제액: Purification liquid in line 27 :

유속: 2.8 kg/hFlow rate: 2.8 kg / h

조성Furtherance

BPA: 8 %BPA: 8%

페놀: 89.5 % Phenolic: 89.5%                 

유리산: 측정 한계 미만Free acid: below the measurement limit

(≤0.001 meq/L)(≤0.001 meq / L)

기타 불순물: 2.5 %Other Impurities: 2.5%

라인 (28) 에서의 모액: Mother liquor in line 28 :

유속: 97 kg/hFlow rate: 97 kg / h

라인 (29) 에서의 모액Mother liquor in line 29

유속: 7.0 kg/hFlow rate: 7.0 kg / h

유리산: 0.1 meq/LFree acid: 0.1 meq / L

산 제거 단계 (7): Acid removal step (7) :

흡착제: 2차 아민을 갖는 음이온 교환 수지Adsorbent: Anion Exchange Resin with Secondary Amine

(Rhom & Haas 사에 의해 제조된 Amberlite)        (Amberlite manufactured by Rhom & Haas)

온도: 50 ℃Temperature: 50 ℃

라인 (30) 내의 처리액: Treatment liquid in line 30 :

유리산: 측정 한계 미만Free acid: below the measurement limit

(≤0.001 meq/L)(≤0.001 meq / L)

라인 (16)에서의 공급원료: Feedstock in line 16 :

유속: 116.7 Kg/hFlow rate: 116.7 Kg / h

유리산: 0.078 meq/LFree acid: 0.078 meq / L

라인 (32) 로부터의 BPA: BPA from line 32 :

유속: 13.0 kg/h Flow rate: 13.0 kg / h                 

유리산: 측정 한계 미만Free acid: below the measurement limit

(≤0.001 meq/L)(≤0.001 meq / L)

페놀: 15 중량ppm 미만Phenolic: Less than 15 ppm by weight

비교예 1Comparative Example 1

구역 (7) 에서의 산 제거 처리를 수행하지 않은 것을 제외하고는, 실시예 1 에서 설명된 것과 같은 방식을 반복했다. 따라서, 라인 (28) 에서의 모액은 라인 (31)을 직접적으로 통과하고 반응기 (1) 로 공급되었다. 이 경우, 라인 (22) 에서의 탑저 흐름에서의 유리산 (산 오염물질)의 농도는 0.101 meq/L 초과였다. 라인 (22) 에서의 유리산 함량을 0.101 meq/L 로 유지하기 위하여, 라인 (25) 를 통과하여 퍼지되는 모액의 양을 10 kg/h 로 증가시키는 것이 필요했다. 결과적으로, 라인 (26) 을 통해 방출되는 타르의 양은 0.7 kg/h 로 증가했다. 따라서 BPA 생산 비용이 실시예 1 에서보다 높았다.The same procedure as described in Example 1 was repeated except that no acid removal treatment in zone 7 was performed. Thus, the mother liquor in line 28 passed directly through line 31 and was fed to reactor 1. In this case, the concentration of free acid (acid contaminants) in the bottoms stream in line 22 was greater than 0.101 meq / L. In order to maintain the free acid content in line 22 at 0.101 meq / L, it was necessary to increase the amount of mother liquor that was purged through line 25 to 10 kg / h. As a result, the amount of tar released through line 26 increased to 0.7 kg / h. The BPA production cost was therefore higher than in Example 1.

비교예 2Comparative Example 2

구역 (7) 에서의 산 제거 처리를 수행하지 않고, 라인 (25) 로 퍼지되는 모액의 양을 0.5 kg/h 로 감소시킨 것을 제외하고는, 실시예 1 에서 설명된 것과 동일한 방식을 반복했다. 이 경우, 라인 (26) 을 통해 방출되는 타르의 양은 0.05 kg/h 였다. 그러나, 라인 (22) 의 탑저 흐름에서 유리산의 농도는 2.0 meq/L 초과로 증가하여, 탈페놀화 단계 (8) 에서 BPA 가 분해되었다. 라인 (32)를 통해 회수되는 BPA 생성물은 100-1000 중량ppm 의 페놀 농도를 가졌다. The same manner as described in Example 1 was repeated except that the amount of mother liquor to be purged to line 25 was reduced to 0.5 kg / h without performing the acid removal treatment in zone 7. In this case, the amount of tar released through line 26 was 0.05 kg / h. However, the concentration of free acid in the bottoms stream of line 22 increased above 2.0 meq / L, so that BPA was decomposed in the dephenolation step (8). The BPA product recovered via line 32 had a phenol concentration of 100-1000 ppm by weight.

Claims (7)

하기 단계를 포함하는 비스페놀 A 제조 방법:Bisphenol A preparation method comprising the following steps: (a) 산 촉매의 존재하에 페놀 및 아세톤을 함유하는 공급원료를 반응시켜, 비스페놀 A, 페놀 및 산 오염물질을 함유하는 생성물 흐름을 수득하는 단계;(a) reacting a feedstock containing phenol and acetone in the presence of an acid catalyst to obtain a product stream containing bisphenol A, phenol and acid contaminants; (b) 상기 생성물 흐름을 증류시켜, 아세톤을 제거하고, 비스페놀 A, 페놀 및 산 오염물질을 함유하는 탑저 흐름을 수득하는 단계;(b) distilling the product stream to remove acetone and obtain a bottoms stream containing bisphenol A, phenol and acid contaminants; (c) 상기 탑저 흐름을 결정화시켜, 산 오염물질 및 페놀을 함유하는 모액 및 페놀과 비스페놀 A의 첨가생성물의 결정을 수득하는 단계;(c) crystallizing the bottom stream to obtain crystals of the mother liquor containing acid contaminants and phenols and the adducts of phenol and bisphenol A; (d) 상기 결정으로부터 페놀을 제거하여 비스페놀 A 를 수득하는 단계;(d) removing phenol from the crystals to obtain bisphenol A; (e) 상기 모액의 제 1 부분을 상기 공급원료의 일부로서 단계 (a)로 재순환시키는 단계;(e) recycling the first portion of the mother liquor to step (a) as part of the feedstock; (f) 상기 모액의 나머지 부분인 제 2 부분을 처리하여 잔류 타르를 퍼지하고 정제액을 회수하며, 상기 제 2 부분의 양이 상기 모액의 100 중량부 당 0.5-5 중량부인 것을 특징으로 하는 단계;(f) treating the remaining portion of the mother liquor to purge residual tar and recovering the purified liquid, wherein the amount of the second portion is 0.5-5 parts by weight per 100 parts by weight of the mother liquor ; (g) 상기 정제액을 상기 공급원료의 일부로서 단계 (a)로 재순환시키는 단계; 및(g) recycling the purified liquor to step (a) as part of the feedstock; And (h) (i) 상기 공급원료의 일부 이상, (ii) 상기 생성물 흐름의 일부 이상, (iii) 상기 모액의 제 1 부분의 일부 이상의 적어도 하나를 거기에 함유된 산 오염물질을 제거하기 위하여 흡착제와 접촉시켜, 단계 (c)에 공급되는 상기 흐름에서의 산 오염물질의 농도를 0.001-0.5 meq/L 의 범위로 유지하는 단계.(h) at least one of (i) at least a portion of the feedstock, (ii) at least a portion of the product stream, and (iii) at least one of at least a portion of the first portion of the mother liquor to remove acid contaminants contained therein. Contacting to maintain the concentration of acid contaminants in the stream fed to step (c) in the range of 0.001-0.5 meq / L. 삭제delete 제 1 항에 있어서, 상기 흡착제는 염기성 음이온 교환 수지인 것을 특징으로 하는 방법.The method of claim 1 wherein the adsorbent is a basic anion exchange resin. 제 1 항에 있어서, 단계 (c) 는 제 1 및 제 2 결정화 단계의 시리즈를 포함하며, 여기서 제 1 결정화 단계에서 수득된 결정은 제 2 결정화 단계에서 수득되는 모액에 용해되고, 수득되는 용액은 제 2 결정화 단계에서 결정화되는 것을 특징으로 하는 방법.The process of claim 1 wherein step (c) comprises a series of first and second crystallization steps, wherein the crystals obtained in the first crystallization step are dissolved in the mother liquor obtained in the second crystallization step and the solution obtained is And crystallized in a second crystallization step. 제 1 항에 있어서, 단계 (d) 는 상기 결정을 용해시켜 비스페놀 A 및 페놀을 함유하는 용융물을 형성하고, 이 용융물을 가열하여 페놀을 증발시키는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.The method of claim 1, wherein step (d) comprises dissolving the crystals to form a melt containing bisphenol A and phenol, and heating the melt to evaporate the phenol. 제 5 항에 있어서, 상기의 가열전, 상기 용융물이 양이온 공여 고체와 접촉되어 상기 용융물내에 함유된 강산을 상기 고체로 중화시키는 것을 특징으로 하는 방법.6. The method of claim 5, wherein prior to said heating, said melt is contacted with a cationic donor solid to neutralize the strong acid contained in said melt to said solid. 제 6 항에 있어서, 상기 양이온 공여 고체는 유리 섬유인 것을 특징으로 하는 방법.7. The method of claim 6, wherein the cationic donor solid is glass fiber.
KR1020027014618A 2000-05-02 2001-04-26 Process for producing bisphenol a KR100786042B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2000-00133873 2000-05-02
JP2000133873A JP4140171B2 (en) 2000-05-02 2000-05-02 Method for producing crystalline adduct of bisphenol A and phenol for the production of high quality bisphenol A

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20020092463A KR20020092463A (en) 2002-12-11
KR100786042B1 true KR100786042B1 (en) 2007-12-17

Family

ID=18642275

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020027014618A KR100786042B1 (en) 2000-05-02 2001-04-26 Process for producing bisphenol a

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP4140171B2 (en)
KR (1) KR100786042B1 (en)
CN (1) CN1738787A (en)
AU (1) AU2001252614A1 (en)
WO (1) WO2001083416A1 (en)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6960697B2 (en) * 2002-03-13 2005-11-01 Mitsubishi Chemical Corporation System and method of producing bisphenol-A (BPA)
JP4552418B2 (en) * 2003-10-31 2010-09-29 三菱化学株式会社 Method for producing bisphenol A
JP5030472B2 (en) * 2006-05-17 2012-09-19 出光興産株式会社 Manufacturing method and manufacturing equipment of high purity bisphenol A
ES2807238T3 (en) 2009-01-22 2021-02-22 Mitsubishi Chem Corp Procedure to prepare bisphenol
RU2637311C2 (en) * 2012-07-13 2017-12-04 Идемицу Козан Ко., Лтд. Method of producing bisphenol a
WO2015005726A1 (en) * 2013-07-11 2015-01-15 주식회사 엘지화학 Bisphenol a preparation apparatus and preparation method
JPWO2015129640A1 (en) 2014-02-28 2017-03-30 出光興産株式会社 Method for producing bisphenol A
US20190308921A1 (en) * 2016-07-12 2019-10-10 Sabic Global Technologies B.V. Manufacture of bisphenol a
CN108147949B (en) * 2016-12-06 2021-03-26 嘉兴市中华化工有限责任公司 Method for separating benzenediol reaction liquid
CN212315566U (en) * 2019-05-22 2021-01-08 索尔维公司 Sodium sulfate recovery plant
CN116410061A (en) * 2021-12-31 2023-07-11 南通星辰合成材料有限公司 Method for inhibiting generation of impurity C3 phenol in bisphenol A synthesis process

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05345737A (en) * 1991-10-30 1993-12-27 Chiyoda Corp Production of bisphenol a
JPH0625043A (en) * 1992-04-20 1994-02-01 Nippon Steel Chem Co Ltd Production of bisphenol a

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4107218A (en) * 1976-06-16 1978-08-15 Union Carbide Corporation Decoloration of bisphenol-A recycle stream with cation exchange resin
DE2860850D1 (en) * 1977-11-09 1981-10-22 Shell Int Research Preparation of bisphenols
JPS5821633A (en) * 1981-07-30 1983-02-08 Mitsubishi Chem Ind Ltd Preparation of bisphenol a
US4766254A (en) * 1987-10-05 1988-08-23 General Electric Company Method for maximizing yield and purity of bisphenol A
JPH01211543A (en) * 1988-02-17 1989-08-24 Mitsui Toatsu Chem Inc Production of bisphenol a
US5059721A (en) * 1990-07-31 1991-10-22 Shell Oil Company Process for preparing a bisphenol
JP3917201B2 (en) * 1995-05-29 2007-05-23 三菱化学株式会社 Method for producing bisphenol A
JPH09255607A (en) * 1996-03-19 1997-09-30 Nippon Steel Chem Co Ltd Production of bisphenol a
US5786522A (en) * 1996-09-13 1998-07-28 General Electric Company Manufacture of bisphenol-A
JP3903634B2 (en) * 1999-03-31 2007-04-11 三菱化学株式会社 Method for producing bisphenol A
JP3903644B2 (en) * 1999-05-20 2007-04-11 三菱化学株式会社 Method for producing bisphenol A

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05345737A (en) * 1991-10-30 1993-12-27 Chiyoda Corp Production of bisphenol a
JPH0625043A (en) * 1992-04-20 1994-02-01 Nippon Steel Chem Co Ltd Production of bisphenol a

Also Published As

Publication number Publication date
KR20020092463A (en) 2002-12-11
AU2001252614A1 (en) 2001-11-12
CN1738787A (en) 2006-02-22
WO2001083416A1 (en) 2001-11-08
JP2001316313A (en) 2001-11-13
JP4140171B2 (en) 2008-08-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0558552B1 (en) A process to obtain high-purity bisphenol a
EP0332203B1 (en) Process for preparing high-purity bisphenol a
US5648561A (en) Process for the production of high purity and ultrapure bisphenol-A
US6586637B2 (en) Process for producing bisphenol A
KR910003253B1 (en) Process for preparing 2,2-bis(4-hydroxyphinyl)propane of high purity
KR100786042B1 (en) Process for producing bisphenol a
EP0829464B1 (en) Manufacture of bisphenol-A
US4327229A (en) Recovery of bisphenol-A values
WO2014002787A1 (en) Bisphenol-a production method
JPH05331088A (en) Production of bisphenol a and treatment of mother liquid separated from crystallization product of phenol solution containing bisphenol a
JP4904064B2 (en) Method for producing bisphenol A
TWI593665B (en) Method for producing bisphenol A.
JPH0725798A (en) Production of highly pure bisphenol a
US5723688A (en) Process for preparing an adduct of a bisphenol with phenolic compound
US6686508B2 (en) Process for producing bisphenol A
JPH05345737A (en) Production of bisphenol a
US4950804A (en) Process for preparing bisphenol A
WO2004108643A1 (en) Process for producing bisphenol a
JPH0558611B2 (en)
KR102349519B1 (en) Method for preparing bisphenol-a
JP2007112763A (en) Method for producing bisphenol a having good hue
CN111050912A (en) Method for washing ion exchange resin and method for preparing bisphenol A
KR20080090386A (en) Process for production of bisphenol a
KR20050102666A (en) Process for recovering an adduct of a bis(4-hydroxyaryl)alkane and a phenolic compound

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
AMND Amendment
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
J201 Request for trial against refusal decision
B701 Decision to grant
GRNT Written decision to grant
G170 Publication of correction
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121121

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131118

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141120

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151118

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161123

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171117

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181115

Year of fee payment: 12