JP2001316313A - Method for producing crystalline adduct of bisphenol a and phenol for producing high-quality bisphenol a - Google Patents

Method for producing crystalline adduct of bisphenol a and phenol for producing high-quality bisphenol a

Info

Publication number
JP2001316313A
JP2001316313A JP2000133873A JP2000133873A JP2001316313A JP 2001316313 A JP2001316313 A JP 2001316313A JP 2000133873 A JP2000133873 A JP 2000133873A JP 2000133873 A JP2000133873 A JP 2000133873A JP 2001316313 A JP2001316313 A JP 2001316313A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bisphenol
mother liquor
free acid
phenol
crystallization
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000133873A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4140171B2 (en
Inventor
Makoto Nomura
誠 野村
Sukenori Tsujikawa
典範 辻川
Ko Shibuya
効 渋谷
Susumu Yamamoto
進 山本
Hiroaki Nishijima
裕明 西島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Chemical Corp filed Critical Mitsubishi Chemical Corp
Priority to JP2000133873A priority Critical patent/JP4140171B2/en
Priority to PCT/JP2001/003660 priority patent/WO2001083416A1/en
Priority to AU2001252614A priority patent/AU2001252614A1/en
Priority to CNA01812223XA priority patent/CN1738787A/en
Priority to KR1020027014618A priority patent/KR100786042B1/en
Publication of JP2001316313A publication Critical patent/JP2001316313A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4140171B2 publication Critical patent/JP4140171B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C37/00Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C07C37/68Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation
    • C07C37/685Processes comprising at least two steps in series
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C37/00Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C07C37/68Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation
    • C07C37/70Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation by physical treatment
    • C07C37/74Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation by physical treatment by distillation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C37/00Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C07C37/68Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation
    • C07C37/70Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation by physical treatment
    • C07C37/84Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation by physical treatment by crystallisation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce a mass of tarry substances discharged from a purging process without deteriorating a quality of a crystalline adduct in a method for producing the crystalline adduct of bisphenol A and phenol. SOLUTION: This method comprises including free acid-removing processes 5, 6 and 7 removing at least one kind of a free acid in a phenol-containing liquid selected from a reactional liquid from a bisphenol A-generating process 1 including a distilling process and a crystallizing process as an aftertreatment and a circulating mother liquor obtained from the crystallizing process 3, keeping a cocentration of the free acid in a distillation-treated product supplied to the crystallizing process 3 within tie range of 0.001-0.5 meq/L and keeping a transporting amount of the circulating mother liquor discharged from the crystallizing process 3 to the purging process 4 in an amount of within the range of 0.5-5 pts.wt. based on the 100 pts.wt. of the total mother liquor discharged from the crystallizing process 3.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高品位ビスフェノ
ールA製造のためのビスフェノールAとフェノールとの
結晶アダクトを低められたコストで製造する方法に関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a crystalline adduct of bisphenol A and phenol at a reduced cost for producing high quality bisphenol A.

【0002】[0002]

【従来の技術】ビスフェノールAに含まれる不純物を除
去するために、ビスフェノールAを晶析工程において冷
却してビスフェノールAとフェノールからなる結晶アダ
クトを晶析させること、この晶析工程で得られた結晶ア
ダクトと母液との混合物から結晶アダクトと母液を分離
し、該母液をビスフェノールA生成工程へ循環させるこ
と、該循環母液の一部をパージ工程へ送り、ここで母液
中に含まれる不純物をタール状物質に変換除去し、得ら
れた精製母液をビスフェノールA生成工程へ循環するこ
とは知られている(特開平5−331088号公報)。
また、ビスフェノールAを製造する方法において、主反
応器で発生した遊離酸が原因となって、ビスフェノール
Aの分解や2,4’−ビスフェノールAの生成が促進さ
れることも知られている。主反応器で発生した遊離酸
は、このように不純物を発生させる原因物質となること
から、これを母液とともにビスフェノールAの生成工程
に循環させることは好ましくなく、前記パージ工程にお
いては、タール状物質とともに、この遊離酸も系外へ除
去されている。しかしながら、パージ工程において遊離
酸を除去するには、パージ工程で比較的多量のタール状
物質を生成させて、これを系外へ排出させることが必要
となるため、ビスフェノールAの製造コストが不可避的
に上昇するという問題があった。
2. Description of the Related Art In order to remove impurities contained in bisphenol A, bisphenol A is cooled in a crystallization step to crystallize a crystal adduct composed of bisphenol A and phenol. Separating the crystal adduct and the mother liquor from the mixture of the adduct and the mother liquor, circulating the mother liquor to the bisphenol A generation step, sending a part of the circulating mother liquor to the purging step, where impurities contained in the mother liquor are tar-like. It has been known that the purified mother liquor is converted into a substance and removed, and the obtained purified mother liquor is circulated to a bisphenol A production step (JP-A-5-331088).
It is also known that in the method for producing bisphenol A, the decomposition of bisphenol A and the production of 2,4′-bisphenol A are promoted due to the free acid generated in the main reactor. Since the free acid generated in the main reactor becomes a substance causing the generation of impurities as described above, it is not preferable to circulate the free acid together with the mother liquor in the step of generating bisphenol A. At the same time, the free acid is also removed from the system. However, in order to remove the free acid in the purging step, it is necessary to generate a relatively large amount of tar-like substances in the purging step and discharge the same out of the system, so that the production cost of bisphenol A is inevitable. There was a problem of rising.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、晶析工程で
得られた母液の一部をパージ工程を経由してビスフェノ
ールA生成工程へ循環させるとともに、該パージ工程に
おいて該母液中の不純物をタール状物質として系外へ排
出させるビスフェノールAとフェノールとの結晶アダク
トの製造方法において、結晶アダクトの品質を低下させ
ることなく、該パージ工程から排出させるタール状物質
量を低減させる方法を提供することをその課題とする。
SUMMARY OF THE INVENTION According to the present invention, a part of a mother liquor obtained in a crystallization step is circulated to a bisphenol A producing step via a purging step, and impurities in the mother liquor are removed in the purging step. Provided is a method for producing a crystal adduct of bisphenol A and phenol which is discharged out of the system as a tar-like substance, wherein a method for reducing the amount of tar-like substance discharged from the purging step without lowering the quality of the crystal adduct is provided. Is the subject.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明によれば、高品位ビスフェノー
ルA製造のためのビスフェノールAとフェノールとの結
晶アダクトの製造方法において、(i)ビスフェノール
A生成工程、(ii)該ビスフェノールA生成工程で得ら
れた反応生成液を蒸留する蒸留工程、(iii)該蒸留工
程で得られたビスフェノールAを含む蒸留処理物を冷却
してビスフェノールAとフェノールからなる結晶アダク
トを晶析させるとともに、該結晶アダクトを母液から分
離させる晶析工程、(iv)該晶析工程で得られた母液を
ビスフェノールA生成工程へ循環させる母液循環工程、
(v)該循環母液の一部をパージ工程へ移送するパージ
処理用母液移送工程、(vi)該母液中に含まれる不純物
をタール状物質へ変換させるとともに、該タール状物質
を排出させるパージ工程、(vii)該パージ工程で得ら
れた精製母液を該ビスフェノールA生成工程へ移送する
精製母液循環工程及び(viii)該ビスフェノールA生成
工程へ供給する反応原料を含む供給液、該ビスフェノー
ルA生成工程からの反応生成液及び該晶析工程から得ら
れる循環母液の中から選ばれる少なくとも1種のフェノ
ール含有液中の遊離酸を除去する遊離酸除去工程を包含
する方法であって、該晶析工程へ供給する蒸留処理物中
の遊離酸濃度を0.001〜0.5meq/Lの範囲に
保持するとともに、該晶析工程から排出された循環母液
のパージ工程への移送量を、該晶析工程から排出された
全母液100重量部当り0.5〜5重量部の割合に保持
することを特徴とする高品位ビスフェノールA製造のた
めのビスフェノールAとフェノールとの結晶アダクトの
製造方法が提供される。なお、本明細書で言う高品位ビ
スフェノールAとは、色相にすぐれかつ着色の生じにく
いビスフェノールAのことを意味する。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, have completed the present invention. That is, according to the present invention, in a method for producing a crystalline adduct of bisphenol A and phenol for producing high-quality bisphenol A, (i) a bisphenol A producing step, and (ii) a reaction obtained in the bisphenol A producing step. A distillation step of distilling the product liquid; and (iii) cooling the distilled product containing bisphenol A obtained in the distillation step to crystallize a crystal adduct composed of bisphenol A and phenol, and separating the crystal adduct from the mother liquor. (Iv) a mother liquor circulation step of circulating the mother liquor obtained in the crystallization step to a bisphenol A production step;
(V) a purging mother liquor transfer step of transferring a part of the circulating mother liquor to a purging step, and (vi) a purging step of converting impurities contained in the mother liquor into tar-like substances and discharging the tar-like substances. (Vii) a purification mother liquor circulation step of transferring the purified mother liquor obtained in the purging step to the bisphenol A production step, and (viii) a supply liquid containing a reaction raw material to be supplied to the bisphenol A production step, and the bisphenol A production step A free acid removal step of removing free acid in at least one phenol-containing liquid selected from a reaction product solution from the reaction product and a circulating mother liquor obtained from the crystallization step, While maintaining the free acid concentration in the distillation product supplied to the crystallization process in the range of 0.001 to 0.5 meq / L, and transferring the circulating mother liquor discharged from the crystallization process to the purge process Of a crystal adduct of bisphenol A and phenol for the production of high-grade bisphenol A, characterized in that the ratio is maintained at 0.5 to 5 parts by weight per 100 parts by weight of the whole mother liquor discharged from the crystallization step. A manufacturing method is provided. In addition, the high-quality bisphenol A referred to in the present specification means bisphenol A which is excellent in hue and hardly causes coloring.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】本発明の方法は、(i)ビスフェ
ノールA生成工程、(ii)該ビスフェノールA生成工程
で得られた反応生成液を蒸留する蒸留工程、(iii)該
蒸留工程で得られたビスフェノールAを含む蒸留処理物
を冷却してビスフェノールAとフェノールとの結晶アダ
クトを晶析させるとともに、該結晶アダクトを母液から
分離させる晶析工程、(iv)該晶析工程で得られた母液
をビスフェノールA生成工程へ循環させる母液循環工
程、(v)該循環母液の一部をパージ工程へ移送するパ
ージ処理用母液移送工程、(vi)該母液中に含まれる不
純物をタール状物質へ変換させるとともに、該タール状
物質を排出させるパージ工程、(vii)該パージ工程で
得られた精製母液を該ビスフェノールA生成工程へ循環
する精製母液循環工程及び(viii)遊離酸を除去する遊
離酸除去工程を包含する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The method of the present invention comprises (i) a bisphenol A producing step, (ii) a distillation step of distilling the reaction product obtained in the bisphenol A producing step, and (iii) a distillation step obtained by the distillation step. Cooling the distilled product containing bisphenol A to crystallize a crystalline adduct of bisphenol A and phenol, and separating the crystalline adduct from the mother liquor; and (iv) the crystallization step. A mother liquor circulating step of circulating the mother liquor to the bisphenol A producing step, (v) a mother liquor transferring step for purging processing in which a part of the circulating mother liquor is transferred to a purging step, and (vi) impurities contained in the mother liquor to tar-like substances. A purging step of converting and discharging the tar-like substance; (vii) a purifying mother liquor circulating step of circulating the purified mother liquor obtained in the purging step to the bisphenol A producing step; viii) include the free acid removing step of removing the free acid.

【0006】以下、本発明を図面を参照しながら説明す
る。図1は、本発明の方法を実施する場合のフローシー
トの1例を示す。図1において、1はビスフェノールA
生成工程、2は蒸留工程、3は晶析工程、4はパージ工
程、5、6、7は遊離酸除去工程を示す。
Hereinafter, the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows an example of a flow sheet for implementing the method of the present invention. In FIG. 1, 1 is bisphenol A
The production step, 2 is a distillation step, 3 is a crystallization step, 4 is a purge step, 5, 6, and 7 are free acid removal steps.

【0007】図1のフローシートに従ってビスフェノー
ルAとフェノールの結晶アダクトを製造するには、ライ
ン11から反応原料(フェノールとアセトンとの混合
液)をビスフェノールA生成工程1へ供給する。また、
このビスフェノールA生成工程1には、ライン31及び
ライン12を通って晶析工程3から循環される循環母液
及びライン27及びライン12を通る、パージ工程4に
おいて不純物がタール状物質として除去された後の精製
母液が供給される。ビスフェノールA生成工程1におい
ては、強酸の存在下でフェノールとアセトンとの縮合反
応が実施され、ビスフェノールAが生成される。前記強
酸は、触媒として作用するもので、通常、スルホン酸型
陽イオン交換樹脂が用いられる。前記反応温度は45〜
95℃、好ましくは55〜85℃であり、反応圧力は1
00〜510kPa、好ましくは常圧である。
In order to produce a crystal adduct of bisphenol A and phenol according to the flow sheet of FIG. 1, a reaction raw material (mixture of phenol and acetone) is supplied to a bisphenol A production step 1 from a line 11. Also,
In the bisphenol A production step 1, after the impurities are removed as tar-like substances in the purge step 4 through the circulation mother liquor circulated from the crystallization step 3 through the line 31 and the line 12 and the line 27 and the line 12, Is supplied. In the bisphenol A production step 1, a condensation reaction between phenol and acetone is carried out in the presence of a strong acid to produce bisphenol A. The strong acid acts as a catalyst, and a sulfonic acid type cation exchange resin is usually used. The reaction temperature is between 45 and
95 ° C, preferably 55-85 ° C, and the reaction pressure is 1
00 to 510 kPa, preferably normal pressure.

【0008】ビスフェノールA生成工程1で得られたビ
スフェノールA、水、未反応アセトン及びフェノールか
らなる反応生成液はライン17を通って排出され、ライ
ン20を通って蒸留工程へ供給される。前記蒸留工程2
においては、反応生成液中の水、未反応アセトン及びフ
ェノールの一部が蒸留物としてライン21を通って排出
される。一方、蒸留処理物としてのビスフェノールAと
フェノールとの混合液がライン22を通って排出され
る。前記蒸留工程2で得られたビスフェノールAとフェ
ノールとの混合液は晶析工程3へ供給され、ここで冷却
されてビスフェノールAとフェノールからなる結晶アダ
クトが晶析される。この結晶アダクトは母液から分離さ
れ、フェノールで洗浄された後、加熱溶融される。次い
で、再度冷却晶析される。本発明の場合、この冷却晶析
は2〜3段階、好ましくは2段階で行われる。晶析生成
物は固液分離処理に付され、結晶アダクトと母液とに分
離される。母液から分離された結晶アダクトは、ライン
23を通って排出され、結晶アダクトからフェノールを
除去するための脱フェノール工程へ送られ、高品位の製
品ビスフェノールAとされる。
The reaction product liquid comprising bisphenol A, water, unreacted acetone and phenol obtained in the bisphenol A production step 1 is discharged through a line 17 and supplied to a distillation step through a line 20. The distillation step 2
In, a part of water, unreacted acetone and phenol in the reaction product liquid is discharged as a distillate through the line 21. On the other hand, a mixed liquid of bisphenol A and phenol as a distilled product is discharged through the line 22. The mixture of bisphenol A and phenol obtained in the distillation step 2 is supplied to a crystallization step 3, where it is cooled to crystallize a crystal adduct composed of bisphenol A and phenol. This crystal adduct is separated from the mother liquor, washed with phenol, and then heated and melted. Then, it is cooled and crystallized again. In the case of the present invention, this cooling crystallization is carried out in two to three stages, preferably in two stages. The crystallized product is subjected to a solid-liquid separation treatment to be separated into a crystal adduct and a mother liquor. The crystal adduct separated from the mother liquor is discharged through a line 23 and sent to a dephenolization step for removing phenol from the crystal adduct, to be a high-quality product bisphenol A.

【0009】一方、晶析工程3で結晶アダクトが分離さ
れた後の母液の大部分は、ライン24、ライン28、ラ
イン31及びライン12を通ってビスフェノールA生成
工程1へ循環される。また、母液の一部は、ライン2
4、ライン25を通ってパージ工程4へ移送される。前
記ライン24を通って排出される母液の組成を示すと、
ビスフェノールA8〜12%、フェノール75〜90%
であり、不純物5〜15%である。この場合、不純物に
は、遊離酸、トリスフェノール等のポリフェノール、ク
ロマン化合物等が包含される。
On the other hand, most of the mother liquor after the crystal adduct is separated in the crystallization step 3 is circulated to the bisphenol A production step 1 through the lines 24, 28, 31 and 12. Also, part of the mother liquor
4. Transferred to purge step 4 through line 25. Indicating the composition of the mother liquor discharged through said line 24:
Bisphenol A 8-12%, phenol 75-90%
And the impurity is 5 to 15%. In this case, the impurities include free acids, polyphenols such as trisphenol, chroman compounds, and the like.

【0010】前記パージ工程4の詳細は以下の通りであ
る。パージ工程4は、フェノール蒸留塔、反応槽と減圧
蒸発塔を有する反応塔及び強酸型イオン交換樹脂塔より
構成される。原料母液はフェノール蒸留塔へ送られ、こ
こで反応性成分の濃縮が行われる。次にフェノール蒸留
塔の塔底から抜き出された当該濃縮液は塩基性触媒とと
もに反応塔底部の反応槽に送られる。反応塔において
は、その反応槽内において、濃縮母液中に含まれるビス
フェノール、トリスフェノール等のポリフェノールが塩
基性触媒の作用により熱分解され、イソプロペニルフェ
ノールとフェノールに転換されるとともに、クロマン化
合物等の不純物の重縮合反応が起り、不純物は高沸点物
に変換される。反応塔の頂部から抜出されたフェノール
及びイソプロペニルフェノールを含む留出蒸気は、反応
塔に付設された減圧凝縮器に導入され、ここでフェノー
ル蒸留塔から導入された留出液と混合接触して急冷され
た後、強酸型イオン交換樹脂塔に導入される。この強酸
型イオン交換樹脂塔においては、混合液中に含まれるイ
ソプロペニルフェノールとフェノールとの反応によりビ
スフェノールAが生成される。一方、反応塔から抜出さ
れる塔底液(反応液)は高沸点物(ビスフェノールAよ
りも高い沸点をもつ)が濃縮されるとともに着色性の物
質がタールとして濃縮される。
The details of the purging step 4 are as follows. The purge step 4 includes a phenol distillation tower, a reaction tower having a reaction tank and a reduced pressure evaporation tower, and a strong acid ion exchange resin tower. The raw mother liquor is sent to a phenol distillation column, where the reactive components are concentrated. Next, the concentrated liquid extracted from the bottom of the phenol distillation column is sent to the reaction tank at the bottom of the reaction column together with the basic catalyst. In the reaction tower, in the reaction tank, polyphenols such as bisphenol and trisphenol contained in the concentrated mother liquor are thermally decomposed by the action of a basic catalyst, converted into isopropenylphenol and phenol, and chroman compounds and the like. A polycondensation reaction of the impurities occurs, and the impurities are converted into high-boiling substances. The distillate vapor containing phenol and isopropenylphenol withdrawn from the top of the reaction column is introduced into a reduced pressure condenser attached to the reaction column, where it mixes with and contacts the distillate introduced from the phenol distillation column. After quenching, it is introduced into a strong acid type ion exchange resin tower. In this strong acid type ion exchange resin tower, bisphenol A is generated by the reaction of isopropenylphenol and phenol contained in the mixture. On the other hand, in the bottom liquid (reaction liquid) discharged from the reaction tower, high-boiling substances (having a higher boiling point than bisphenol A) are concentrated, and coloring substances are concentrated as tar.

【0011】前記パージ工程で得られたタール状物質は
ライン26を通って排出される。母液中の不純物がター
ル状物質として除去された後の精製母液は、ライン2
7、ライン12を通ってビスフェノールA生成工程1へ
循環される。
The tar-like substance obtained in the purging step is discharged through a line 26. The purified mother liquor after the impurities in the mother liquor were removed as tar-like substances was supplied to line 2
7. Recirculated through line 12 to bisphenol A production step 1.

【0012】本発明においては、ライン22を通って晶
析工程3へ供給される蒸留処理物中の遊離酸濃度を、
0.001〜0.50meq/L、好ましくは0.00
1〜0.10meq/Lの範囲に規定する。このような
遊離酸濃度の蒸留処理物は、前記晶析工程3において冷
却晶析処理することにより、遊離酸を実質的に含まない
高品質の結晶アダクトを与える。結晶アダクト中の遊離
酸濃度は、結晶アダクト溶融液中の遊離酸濃度で表わし
て、0.002meq/L以下、特に0.001meq
/L以下である。なお、前記遊離酸は、ビスフェノール
A生成工程で触媒として用いる強酸に由来するものであ
る。
In the present invention, the concentration of the free acid in the distilled product supplied to the crystallization step 3 through the line 22 is determined as follows:
0.001 to 0.50 meq / L, preferably 0.00
It is defined in the range of 1 to 0.10 meq / L. By subjecting the distilled product having such a free acid concentration to a cooling crystallization treatment in the crystallization step 3, a high-quality crystal adduct substantially containing no free acid is provided. The free acid concentration in the crystal adduct is 0.002 meq / L or less, particularly 0.001 meq, expressed as the free acid concentration in the crystal adduct melt.
/ L or less. The free acid is derived from a strong acid used as a catalyst in the bisphenol A production step.

【0013】晶析工程3へ供給される蒸留処理物中の遊
離酸濃度を0.001〜0.5meq/L、好ましくは
0.001〜0.10meq/Lに保持するには、遊離
酸除去工程を設け、ここで遊離酸を除去する。遊離酸除
去工程は、遊離酸を吸着除去し得る吸着剤を用いて構成
することができる。このような吸着剤としては、溶出性
不純物のない活性炭や塩基性無機酸化物等を用いること
も可能であるが、好ましくは塩基性陰イオン交換樹脂が
用いられる。この弱塩基性陰イオン交換樹脂としては、
従来公知の各種のものが用いられる。このようなものに
は、弱塩基性陰イオン交換基として、第1級アミンや、
第2級アミン、第3級アミン等が包含される。本発明で
好ましく用いることのできるものとしては、例えば、ロ
ーム・アンド・ハース社製の「アンバーライト」や、ダ
ウ・ケミカル社製の「ダウエックス」、三菱化学社製の
「ダイヤイオン」等を挙げることができる。
In order to maintain the concentration of free acid in the distilled product supplied to the crystallization step 3 at 0.001 to 0.5 meq / L, preferably 0.001 to 0.10 meq / L, the free acid is removed. A step is provided where free acid is removed. The free acid removing step can be configured using an adsorbent capable of absorbing and removing the free acid. As such an adsorbent, activated carbon or basic inorganic oxide having no eluting impurities can be used, but a basic anion exchange resin is preferably used. As this weakly basic anion exchange resin,
Conventionally known various ones are used. These include, as weakly basic anion exchange groups, primary amines,
Secondary amines, tertiary amines and the like are included. Examples of those that can be preferably used in the present invention include, for example, "Amberlite" manufactured by Rohm and Haas, "Dowex" manufactured by Dow Chemical Company, and "Diaion" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation. Can be mentioned.

【0014】前記遊離酸除去工程の配設個所としては、
晶析工程3に供給される蒸留処理物中の遊離酸濃度を前
記範囲に保持し得る個所であればよく、遊離酸を高濃
度、通常、0.5meq/L以上の濃度で含むフェノー
ル含有液に対して適用すればよい。本発明では、(i)
ビスフェノールA生成工程1への供給原料液、(ii)ビ
スフェノールA生成工程1からの反応生成液及び(ii
i)晶析工程3からビスフェノールA生成工程1への循
環母液の中から選ばれる少なくとも1種のフェノール含
有液に対して適用するのが好ましい。
The location of the free acid removing step is as follows:
It is sufficient that the concentration of the free acid in the distilled product supplied to the crystallization step 3 is maintained within the above range, and the phenol-containing liquid containing the free acid at a high concentration, usually at a concentration of 0.5 meq / L or more It should be applied to In the present invention, (i)
(Ii) the feed liquid to bisphenol A production step 1, (ii) the reaction product liquid from bisphenol A production step 1 and (ii)
i) It is preferably applied to at least one phenol-containing liquid selected from the mother liquor circulating from the crystallization step 3 to the bisphenol A generation step 1.

【0015】図1において、遊離酸除去工程5、6、7
は、それぞれ、ビスフェノールA生成工程1に供給され
る原料液、ビスフェノールA生成工程1からの反応生成
液及び循環母液に対して適用された例を示す。遊離酸除
去工程は、図1に示すように、3箇所において配設する
こともできるが、2個所又は1個所であってもよく、好
ましくは1個所である。一つの遊離酸除去工程を配設す
る場合には、晶析工程3の出口における母液に対して適
用するのが好ましい。フェノール含有液に対して遊離酸
除去工程を適用する場合、その処理対象となるフェノー
ル含有液の全てを処理してもよいし、その一部のみを処
理してもよい。晶析工程へ導入される蒸留処理物中の遊
離酸濃度との関連において、その処理量を適宜決めれば
よい。
In FIG. 1, free acid removal steps 5, 6, 7
Shows examples applied to the raw material liquid supplied to the bisphenol A production step 1, the reaction product liquid from the bisphenol A production step 1, and the circulating mother liquor, respectively. The free acid removing step can be provided at three places as shown in FIG. 1, but may be provided at two places or one place, and preferably at one place. When one free acid removing step is provided, it is preferable to apply the method to the mother liquor at the outlet of the crystallization step 3. When the free acid removing step is applied to the phenol-containing liquid, the entire phenol-containing liquid to be treated may be treated, or only a part thereof may be treated. The amount of the treatment may be appropriately determined in relation to the concentration of the free acid in the distilled product introduced into the crystallization step.

【0016】本発明においては、前記のように、晶析工
程3に供給される蒸留処理物中の遊離酸濃度を0.5m
eq/L以下に保持するとともに、晶析工程3から排出
される母液のうちのパージ工程4へ移送する量を、該母
液100重量部当り、0.5〜5重量部、好ましくは1
〜4重量部とする。本発明の場合、パージ工程4とは別
に、遊離酸除去工程5、6、7において、系内の遊離酸
は除去されるので、パージ工程4は、遊離酸の除去を目
的として操作する必要はなく、あくまでも遊離酸以外の
不純物の除去を目的として操作すればよい。その結果、
前記のように、パージ工程4へ移送する母液量を低減さ
せても、晶析工程3から排出される結晶アダクトの品質
を損なうことはない。また、パージ工程4に移送される
母液量が低減される結果、パージ工程4から排出される
タール状物質量も低減される。
In the present invention, as described above, the concentration of free acid in the distilled product supplied to the crystallization step 3 is 0.5 m
eq / L or less, and the amount of the mother liquor discharged from the crystallization step 3 to be transferred to the purge step 4 is 0.5 to 5 parts by weight, preferably 1 to 100 parts by weight of the mother liquor.
To 4 parts by weight. In the case of the present invention, in addition to the purging step 4, the free acid in the system is removed in the free acid removing steps 5, 6, and 7, the purging step 4 does not need to be operated for the purpose of removing the free acid. Instead, the operation may be performed for the purpose of removing impurities other than the free acid. as a result,
As described above, even if the amount of the mother liquor transferred to the purge step 4 is reduced, the quality of the crystal adduct discharged from the crystallization step 3 is not impaired. In addition, as a result of reducing the amount of mother liquor transferred to the purging step 4, the amount of tar-like substances discharged from the purging step 4 is also reduced.

【0017】[0017]

【実施例】次に本発明を実施例によりさらに詳細に説明
する。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples.

【0018】実施例1 図1に示したフローシートに従ってビスフェノールAと
の結晶アダクトを製造した。この場合の主要操作条件を
図1との関連で以下に示す。この場合、遊離酸除去工程
5及び6は省略し、遊離酸除去工程7のみを用いた。 (1)ビスフェノールA生成工程1 (i)反応温度:60℃ (ii)反応圧力:405kPa (iii)触媒 :スルホン酸型陽イオン交換樹脂(ロー
ム・アンド・ハース社製、商品名「アンバーライト11
8−H」) (2)ビスフェノールA生成工程1からの反応生成液
(ライン17) (i)流量 :116.7kg/h (ii)成分組成 ビスフェノールA:18.8% フェノール :73.6% 水 :1.0% アセトン :0.8% 遊離酸 :0.086meq/L その他の不純物 :5.8% (3)ライン21 (i)流量 :17.8kg/h (ii)成分組成 水 :7.2% アセトン :5.8% フェノール :86.1% その他 :0.9%
Example 1 A crystalline adduct with bisphenol A was produced according to the flow sheet shown in FIG. The main operating conditions in this case are shown below in relation to FIG. In this case, the free acid removing steps 5 and 6 were omitted, and only the free acid removing step 7 was used. (1) Bisphenol A production step 1 (i) Reaction temperature: 60 ° C. (ii) Reaction pressure: 405 kPa (iii) Catalyst: sulfonic acid type cation exchange resin (trade name “Amberlite 11” manufactured by Rohm and Haas Company)
8-H ") (2) Reaction product solution from bisphenol A production step 1 (line 17) (i) Flow rate: 116.7 kg / h (ii) Component composition Bisphenol A: 18.8% Phenol: 73.6% Water: 1.0% Acetone: 0.8% Free acid: 0.086 meq / L Other impurities: 5.8% (3) Line 21 (i) Flow rate: 17.8 kg / h (ii) Component composition Water: 7.2% Acetone: 5.8% Phenol: 86.1% Other: 0.9%

【0019】(4)ライン22 (i)流量 :98.9kg/h (ii)成分組成 ビスフェノールA:22% フェノール :74% 遊離酸 :0.101meq/L その他の不純物 :4% (5)ライン23 (i)結晶アダクト流量:22.1kg/h (ii)遊離酸 :0.001meq/L以下 (6)ライン24 (i)流量 :100kg/h (ii)成分組成 ビスフェノールA:7.7% フェノール :86.3% 遊離酸 :0.1meq/L その他の不純物 :6%(4) Line 22 (i) Flow rate: 98.9 kg / h (ii) Component composition Bisphenol A: 22% Phenol: 74% Free acid: 0.101 meq / L Other impurities: 4% (5) Line 23 (i) Crystal adduct flow rate: 22.1 kg / h (ii) Free acid: 0.001 meq / L or less (6) Line 24 (i) Flow rate: 100 kg / h (ii) Component composition Bisphenol A: 7.7% Phenol: 86.3% Free acid: 0.1 meq / L Other impurities: 6%

【0020】(7)ライン25 流量:3.0kg/h (8)パージ工程4 (i)反応蒸留塔 塔底温度:250℃ 圧力 :15.9kPa (ii)強酸型イオン交換樹脂塔 温度 :53℃ 圧力 :101kPa (9)ライン26 (i)タール状物質流量:0.2kg/h (10)ライン27 (i)流量 :2.8kg/h (ii)成分組成 ビスフェノールA:8.0% フェノール :89.5% 遊離酸 :0meq/L その他不純物 :2.5% (11)ライン29 (i)流量 :7.0kg/h (ii)遊離酸 :0.1meq/L (12)遊離酸除去工程7 (i)吸着剤 :第2級アミン基を有する陰イオン交換
樹脂(ローム・アンド・ハース社製、「アンバーライ
ト」) (ii)温度 :50℃ (13)ライン30 (i)遊離酸 :0.02meq/L (14)ライン16 (i)流量 :116.7kg/h (ii)遊離酸 :0.078meq/L
(7) Line 25 Flow rate: 3.0 kg / h (8) Purge step 4 (i) Reactive distillation column Column bottom temperature: 250 ° C. Pressure: 15.9 kPa (ii) Strong acid type ion exchange resin column Temperature: 53 C. Pressure: 101 kPa (9) Line 26 (i) Tar-like substance flow rate: 0.2 kg / h (10) Line 27 (i) Flow rate: 2.8 kg / h (ii) Component composition Bisphenol A: 8.0% phenol : 89.5% Free acid: 0 meq / L Other impurities: 2.5% (11) Line 29 (i) Flow rate: 7.0 kg / h (ii) Free acid: 0.1 meq / L (12) Removal of free acid Step 7 (i) Adsorbent: an anion exchange resin having a secondary amine group (“Amberlite” manufactured by Rohm and Haas Co.) (ii) Temperature: 50 ° C. (13) Line 30 (i) Free acid : 0.02 meq L (14) line 16 (i) flow rate: 116.7kg / h (ii) free acid: 0.078meq / L

【0021】比較例1 実施例1において、遊離酸除去工程5、6、7を用いな
い以外は同様にして実験を行った。この場合、晶析工程
へ供給する蒸留処理物中の遊離酸濃度を、実施例1の場
合と同様の0.101meq/Lに保持するためには、
パージ工程へ移送する母液流量を、10kg/hとし、
タール状物質排出量を0.7kg/hとすることが必要
となり、結晶アダクトの製造コストは、実施例1の場合
よりも高いものとなった。
Comparative Example 1 An experiment was conducted in the same manner as in Example 1 except that the free acid removing steps 5, 6, and 7 were not used. In this case, in order to maintain the free acid concentration in the distilled product supplied to the crystallization step at 0.101 meq / L, which is the same as in Example 1,
The mother liquor flow rate to be transferred to the purge step is 10 kg / h,
It was necessary to reduce the amount of tar-like substances to 0.7 kg / h, and the production cost of the crystal adduct was higher than that of Example 1.

【0022】[0022]

【発明の効果】本発明によれば、高品位ビスフェノール
Aを製造するのに必要な遊離酸を実質的に含まないビス
フェノールAとフェノールとの高品質結晶アダクトを製
造することができる。この結晶アダクトからは高品位の
ビスフェノールAを得ることができる。本発明の場合、
パージ工程へ移送する母液量が低められていることか
ら、パージ工程を小型化することができる上、パージ工
程から排出されるタール状物質量も低められる。従っ
て、系外へ排出されるタール状物質の排出量が低められ
ることから、供給原料であるフェノール及びアセトンの
使用量を節約することができ、その結果、ビスフェノー
ルAの製造コストを低減させることができる。また、本
発明の場合、晶析工程へ供給する蒸留処理物中の遊離酸
濃度をゼロにする必要はなく、0.001〜0.5me
q/Lの範囲に保持すればよいことから、遊離酸除去工
程の負荷を減少させることができ、かつ吸着剤の使用割
合も少なくすることができる。その結果、遊離酸除去工
程を低められたコストで実施することができる。
According to the present invention, it is possible to produce a high-quality crystalline adduct of bisphenol A and phenol substantially free of a free acid necessary for producing high-grade bisphenol A. High-quality bisphenol A can be obtained from this crystal adduct. In the case of the present invention,
Since the amount of mother liquor transferred to the purge step is reduced, the size of the purge step can be reduced, and the amount of tar-like substances discharged from the purge step can also be reduced. Therefore, the amount of the phenol and acetone used as feed materials can be saved because the amount of the tar-like substances discharged to the outside of the system is reduced. As a result, the production cost of bisphenol A can be reduced. it can. Further, in the case of the present invention, it is not necessary to make the free acid concentration in the distilled product supplied to the crystallization step zero, and 0.001 to 0.5 me
Since it is sufficient to keep the ratio in the range of q / L, the load of the free acid removing step can be reduced, and the use ratio of the adsorbent can be reduced. As a result, the free acid removing step can be performed at a reduced cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の方法を実施する場合のフローシートの
1例を示す。
FIG. 1 shows an example of a flow sheet for carrying out the method of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ビスフェノールA生成工程 2 蒸留工程 3 晶析工程 4 パージ工程 5、6、7 遊離酸除去工程 1 Bisphenol A production step 2 Distillation step 3 Crystallization step 4 Purge step 5, 6, 7 Free acid removal step

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渋谷 効 神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番 1号 千代田化工建設株式会社内 (72)発明者 山本 進 神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番 1号 千代田化工建設株式会社内 (72)発明者 西島 裕明 神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番 1号 千代田化工建設株式会社内 Fターム(参考) 4H006 AA02 AC25 AD11 AD15 AD17 AD32 AD33 BD42 BD52 BD60 BD84 FC52 FE13  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Tsuyoshi Shibuya 2-1-1, Tsurumichuo, Tsurumi-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Inside Chiyoda Kako Construction Co., Ltd. (72) Susumu Yamamoto Susumu Yamamoto Tsurumi-chuo, Tsurumi-ku, Yokohama-shi, Kanagawa No. 12-1 Chiyoda Chemical Construction Co., Ltd. (72) Inventor Hiroaki Nishijima 2-1-1 Tsurumi Chuo, Tsurumi-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture F-term in Chiyoda Chemical Construction Co., Ltd. 4H006 AA02 AC25 AD11 AD15 AD17 AD32 AD33 BD42 BD52 BD60 BD84 FC52 FE13

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ビスフェノールAとフェノールとの結晶
アダクトの製造方法において、(i)ビスフェノールA
生成工程、(ii)該ビスフェノールA生成工程で得られ
た反応生成液を蒸留する蒸留工程、(iii)該蒸留工程
で得られたビスフェノールAを含む蒸留処理物を冷却し
てビスフェノールAとフェノールからなる結晶アダクト
を晶析させるとともに、該結晶アダクトを母液から分離
させる晶析工程、(iv)該晶析工程で得られた母液をビ
スフェノールA生成工程へ循環させる母液循環工程、
(v)該循環母液の一部をパージ工程へ移送するパージ
処理用母液移送工程、(vi)該母液中に含まれる不純物
をタール状物質へ変換させるとともに、該タール状物質
を排出させるパージ工程、(vii)該パージ工程で得ら
れた精製母液を該ビスフェノールA生成工程へ移送する
精製母液循環工程及び(viii)該ビスフェノールA生成
工程へ供給する反応原料を含む供給液、該ビスフェノー
ルA生成工程からの反応生成液及び該晶析工程から得ら
れる循環母液の中から選ばれる少なくとも1種のフェノ
ール含有液中の遊離酸を除去する遊離酸除去工程を包含
する方法であって、該晶析工程へ供給する蒸留処理物中
の遊離酸濃度を0.001〜0.5meq/Lの範囲に
保持するとともに、該晶析工程から排出された循環母液
のパージ工程への移送量を、該晶析工程から排出された
全母液100重量部当り0.5〜5重量部の割合に保持
することを特徴とする高品位ビスフェノールA製造のた
めのビスフェノールAとフェノールとの結晶アダクトの
製造方法。
1. A method for producing a crystalline adduct of bisphenol A and phenol, comprising: (i) bisphenol A
A production step, (ii) a distillation step of distilling the reaction product liquid obtained in the bisphenol A production step, and (iii) a distillation treatment product containing bisphenol A obtained in the distillation step is cooled to produce A crystallization step of crystallizing the resulting crystal adduct and separating the crystal adduct from the mother liquor; (iv) a mother liquor circulating step of circulating the mother liquor obtained in the crystallization step to a bisphenol A producing step;
(V) a purging mother liquor transfer step of transferring a part of the circulating mother liquor to a purging step, and (vi) a purging step of converting impurities contained in the mother liquor into tar-like substances and discharging the tar-like substances. (Vii) a purification mother liquor circulation step of transferring the purified mother liquor obtained in the purging step to the bisphenol A production step, and (viii) a supply liquid containing a reaction raw material to be supplied to the bisphenol A production step, and the bisphenol A production step A free acid removal step of removing free acid in at least one phenol-containing liquid selected from a reaction product solution from the reaction product and a circulating mother liquor obtained from the crystallization step, While maintaining the free acid concentration in the distillation product supplied to the crystallization process in the range of 0.001 to 0.5 meq / L, and transferring the circulating mother liquor discharged from the crystallization process to the purge process Of a crystalline adduct of bisphenol A and phenol for the production of high-grade bisphenol A, characterized in that the ratio is 0.5 to 5 parts by weight per 100 parts by weight of the total mother liquor discharged from the crystallization step. Production method.
【請求項2】 該遊離酸除去工程において、該フェノー
ル含有液を吸着剤と接触させて、該フェノール含有液に
含まれる遊離酸を該吸着剤に吸着させる請求項1の方
法。
2. The method according to claim 1, wherein, in the free acid removing step, the phenol-containing liquid is brought into contact with an adsorbent to adsorb the free acid contained in the phenol-containing liquid to the adsorbent.
【請求項3】 該吸着剤が、弱塩基性陰イオン交換樹脂
からなる請求項2の方法。
3. The method of claim 2 wherein said adsorbent comprises a weakly basic anion exchange resin.
【請求項4】 該晶析工程の晶析段数が2段である請求
項1〜3のいずれかの方法。
4. The method according to claim 1, wherein the number of crystallization stages in the crystallization step is two.
JP2000133873A 2000-05-02 2000-05-02 Method for producing crystalline adduct of bisphenol A and phenol for the production of high quality bisphenol A Expired - Lifetime JP4140171B2 (en)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000133873A JP4140171B2 (en) 2000-05-02 2000-05-02 Method for producing crystalline adduct of bisphenol A and phenol for the production of high quality bisphenol A
PCT/JP2001/003660 WO2001083416A1 (en) 2000-05-02 2001-04-26 Process for producing bisphenol a
AU2001252614A AU2001252614A1 (en) 2000-05-02 2001-04-26 Process for producing bisphenol a
CNA01812223XA CN1738787A (en) 2000-05-02 2001-04-26 Process for producing bisphenol a
KR1020027014618A KR100786042B1 (en) 2000-05-02 2001-04-26 Process for producing bisphenol a

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000133873A JP4140171B2 (en) 2000-05-02 2000-05-02 Method for producing crystalline adduct of bisphenol A and phenol for the production of high quality bisphenol A

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001316313A true JP2001316313A (en) 2001-11-13
JP4140171B2 JP4140171B2 (en) 2008-08-27

Family

ID=18642275

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000133873A Expired - Lifetime JP4140171B2 (en) 2000-05-02 2000-05-02 Method for producing crystalline adduct of bisphenol A and phenol for the production of high quality bisphenol A

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP4140171B2 (en)
KR (1) KR100786042B1 (en)
CN (1) CN1738787A (en)
AU (1) AU2001252614A1 (en)
WO (1) WO2001083416A1 (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005132798A (en) * 2003-10-31 2005-05-26 Mitsubishi Chemicals Corp Method for producing bisphenol a
JPWO2003076378A1 (en) * 2002-03-13 2005-07-07 三菱化学株式会社 Method for producing bisphenol A
WO2007132575A1 (en) * 2006-05-17 2007-11-22 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Process for producing high-purity bisphenol a and production apparatus
WO2010084929A1 (en) 2009-01-22 2010-07-29 三菱化学株式会社 Process for preparing bisphenol
WO2014010510A1 (en) * 2012-07-13 2014-01-16 出光興産株式会社 Method for producing bisphenol a
KR20160127002A (en) 2014-02-28 2016-11-02 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 Bisphenol a production method

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9573869B2 (en) 2013-07-11 2017-02-21 Lg Chem, Ltd. Bisphenol A preparation apparatus and preparation method
US20190308921A1 (en) * 2016-07-12 2019-10-10 Sabic Global Technologies B.V. Manufacture of bisphenol a
CN108147949B (en) * 2016-12-06 2021-03-26 嘉兴市中华化工有限责任公司 Method for separating benzenediol reaction liquid
CN212315566U (en) * 2019-05-22 2021-01-08 索尔维公司 Sodium sulfate recovery plant
CN116375564A (en) * 2021-12-24 2023-07-04 南通星辰合成材料有限公司 Method for improving bisphenol A raw material selectivity through bisphenol A isomer
CN116410060A (en) * 2021-12-31 2023-07-11 南通星辰合成材料有限公司 Method for inhibiting generation of impurity isopropenylphenol in bisphenol A synthesis process
CN116410061A (en) * 2021-12-31 2023-07-11 南通星辰合成材料有限公司 Method for inhibiting generation of impurity C3 phenol in bisphenol A synthesis process

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4107218A (en) * 1976-06-16 1978-08-15 Union Carbide Corporation Decoloration of bisphenol-A recycle stream with cation exchange resin
EP0001863B1 (en) * 1977-11-09 1981-07-15 Shell Internationale Researchmaatschappij B.V. Preparation of bisphenols
JPS5821633A (en) * 1981-07-30 1983-02-08 Mitsubishi Chem Ind Ltd Preparation of bisphenol a
US4766254A (en) * 1987-10-05 1988-08-23 General Electric Company Method for maximizing yield and purity of bisphenol A
JPH01211543A (en) * 1988-02-17 1989-08-24 Mitsui Toatsu Chem Inc Production of bisphenol a
US5059721A (en) * 1990-07-31 1991-10-22 Shell Oil Company Process for preparing a bisphenol
JP3413497B2 (en) * 1991-10-30 2003-06-03 三菱化学株式会社 Method for producing bisphenol A
JP3315163B2 (en) * 1992-04-20 2002-08-19 新日鐵化学株式会社 Method for producing bisphenol A
JP3917201B2 (en) * 1995-05-29 2007-05-23 三菱化学株式会社 Method for producing bisphenol A
JPH09255607A (en) * 1996-03-19 1997-09-30 Nippon Steel Chem Co Ltd Production of bisphenol a
US5786522A (en) * 1996-09-13 1998-07-28 General Electric Company Manufacture of bisphenol-A
JP3903634B2 (en) * 1999-03-31 2007-04-11 三菱化学株式会社 Method for producing bisphenol A
JP3903644B2 (en) * 1999-05-20 2007-04-11 三菱化学株式会社 Method for producing bisphenol A

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2003076378A1 (en) * 2002-03-13 2005-07-07 三菱化学株式会社 Method for producing bisphenol A
JP2005132798A (en) * 2003-10-31 2005-05-26 Mitsubishi Chemicals Corp Method for producing bisphenol a
JP4552418B2 (en) * 2003-10-31 2010-09-29 三菱化学株式会社 Method for producing bisphenol A
WO2007132575A1 (en) * 2006-05-17 2007-11-22 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Process for producing high-purity bisphenol a and production apparatus
WO2010084929A1 (en) 2009-01-22 2010-07-29 三菱化学株式会社 Process for preparing bisphenol
KR20110111386A (en) 2009-01-22 2011-10-11 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 Process for preparing bisphenol
US8445731B2 (en) 2009-01-22 2013-05-21 Mitsubishi Chemical Corporation Process for producing bisphenol compound
KR20160119286A (en) 2009-01-22 2016-10-12 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 Process for preparing bisphenol
WO2014010510A1 (en) * 2012-07-13 2014-01-16 出光興産株式会社 Method for producing bisphenol a
CN104411670A (en) * 2012-07-13 2015-03-11 出光兴产株式会社 Process for producing bisphenol A
JPWO2014010510A1 (en) * 2012-07-13 2016-06-23 出光興産株式会社 Method for producing bisphenol A
KR20160127002A (en) 2014-02-28 2016-11-02 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 Bisphenol a production method

Also Published As

Publication number Publication date
KR100786042B1 (en) 2007-12-17
JP4140171B2 (en) 2008-08-27
AU2001252614A1 (en) 2001-11-12
WO2001083416A1 (en) 2001-11-08
KR20020092463A (en) 2002-12-11
CN1738787A (en) 2006-02-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0523931B1 (en) Process for the production of bisphenol A
US5345000A (en) Process for the production of crystalline adduct of bisphenol A and phenol and apparatus therefor
JP4140171B2 (en) Method for producing crystalline adduct of bisphenol A and phenol for the production of high quality bisphenol A
JP5030472B2 (en) Manufacturing method and manufacturing equipment of high purity bisphenol A
JP6055472B2 (en) Method for producing bisphenol A
JPS59231033A (en) Purification of bisphenol a
JP2796557B2 (en) Method for producing bisphenol A and method for treating mother liquor separated from crystallization product of phenol solution containing bisphenol A
JP2009242316A (en) Method for producing bisphenol a
JP3413497B2 (en) Method for producing bisphenol A
US5368827A (en) Process for the production of crystalline adduct of bisphenol A and phenol and apparatus therefor
JPH0725798A (en) Production of highly pure bisphenol a
WO2014010510A1 (en) Method for producing bisphenol a
JP2004359594A (en) Method for production of bisphenol a
US4568776A (en) Process for purifying 2,6-xylenol
JP5150086B2 (en) Recovery method of bisphenol A
JP2014037368A (en) Method for producing bisphenol a
JP3190388B2 (en) Method for producing high-grade bisphenol A
JP2913123B2 (en) Method for separating bisphenol A without discoloration
JP3171208B2 (en) Method for treating phenol separated from reaction products
WO2004014828A1 (en) Method of purifying bisphenol a containing phenol
JP2007112763A (en) Method for producing bisphenol a having good hue
JP3173732B2 (en) Method for producing bisphenol A with excellent hue
KR100190334B1 (en) Process for the production of crystalline adduct of bisphenol a and phenol and apparatus therefor
JPS6326734B2 (en)
KR20190060430A (en) Method for preparing bisphenol-a

Legal Events

Date Code Title Description
RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20040716

RD05 Notification of revocation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425

Effective date: 20040723

A072 Dismissal of procedure [no reply to invitation to correct request for examination]

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A073

Effective date: 20040817

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040824

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070904

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071022

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080205

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080404

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080520

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080602

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110620

Year of fee payment: 3

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 4140171

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110620

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120620

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130620

Year of fee payment: 5

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

EXPY Cancellation because of completion of term