JPH05345737A - Production of bisphenol a - Google Patents

Production of bisphenol a

Info

Publication number
JPH05345737A
JPH05345737A JP4316352A JP31635292A JPH05345737A JP H05345737 A JPH05345737 A JP H05345737A JP 4316352 A JP4316352 A JP 4316352A JP 31635292 A JP31635292 A JP 31635292A JP H05345737 A JPH05345737 A JP H05345737A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
phenol
bisphenol
reaction
line
mother liquor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP4316352A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3413497B2 (en
Inventor
Sachio Asaoka
佐知夫 浅岡
Koji Sakashita
幸治 坂下
Akio Shindo
昭夫 進藤
Nobuyuki Suda
信幸 須田
Makoto Nomura
誠 野村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Chiyoda Corp
Chiyoda Chemical Engineering and Construction Co Ltd
Original Assignee
Chiyoda Corp
Chiyoda Chemical Engineering and Construction Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Chiyoda Corp, Chiyoda Chemical Engineering and Construction Co Ltd filed Critical Chiyoda Corp
Priority to JP31635292A priority Critical patent/JP3413497B2/en
Publication of JPH05345737A publication Critical patent/JPH05345737A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3413497B2 publication Critical patent/JP3413497B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide the method for producing highly pure bisphenol A. CONSTITUTION:The method contains a reaction process for reacting acetone with an excessive amount of phenol in the presence of an acid catalyst to produce the bisphenol A, a separation process for separating the reaction products, a crystallization process for crystallizing the crystal adduct of the bisphenol A to the phenol, a crystal product-separating process for separating the crystal adduct from the mother liquid, a crystal adductliquidizing process for liquidizing the crystal adduct, a phenol-removing process for removing the phenol from the phenol solution containing the bisphenol A, and a bisphenol A-granulating process for granulating the bisphenol A, and further containing an acetone- circulating process for circulating the acetone separated from the separation process in the reaction process, etc.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ビスフェノールAの製
造方法に関するものである。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing bisphenol A.

【0002】[0002]

【従来技術及びその問題点】ビスフェノールA〔2,2
−ビス(4′−ヒドロキシフェニル)プロパン〕を製造
するために、酸触媒の存在下、過剰のフェノールにアセ
トンを反応させることは知られている。また、この反応
生成物から高純度ビスフェノールAを分離回収するため
に、反応生成物を晶析してビスフェノールAとフェノー
ルとの結晶アダクト(以下、単に結晶アダクトとも言
う)を析出させ、得られた結晶アダクトからフェノール
を除去することも知られている(特公昭36−2333
5号、特公昭52−42790号)。さらに、前記晶析
工程で得られた結晶アダクトを分離した後の母液(フェ
ノール溶液)を反応工程へ循環使用することも知られて
いる。
2. Description of the Related Art Bisphenol A [2,2]
It is known to react acetone with excess phenol in the presence of an acid catalyst to produce -bis (4'-hydroxyphenyl) propane]. Further, in order to separate and collect high-purity bisphenol A from this reaction product, the reaction product was crystallized to precipitate a crystal adduct of bisphenol A and phenol (hereinafter, also simply referred to as a crystal adduct), which was obtained. It is also known to remove phenol from crystal adducts (Japanese Patent Publication No. 36-2333).
No. 5, Japanese Patent Publication No. 52-42790). Further, it is also known that the mother liquor (phenol solution) after separating the crystal adduct obtained in the crystallization step is recycled to the reaction step.

【0003】ところで、ビスフェノールAを含むフェノ
ール溶液の晶析生成物から分離された母液には、多量の
フェノール及びビスフェノールAの他、少量のビスフェ
ノールAの異性体である2−(2′−ヒドロキシフェニ
ル)−2−(4′−ヒドロキシフェニル)−プロパン
(以下、単に2,4′−ビスフェノールAと言う)等の
ビスフェノール化合物、トリスフェノール、高分子量の
ポリフェノール化合物、クロマン化合物等の副生物を含
み、さらに、極く少量の着色不純物や着色性不純物が含
まれている。そして、この母液は、その着色した不純物
や着色しやすい不純物を含むため、加熱により高い着色
濃度を与える着色した液体となっている。このような母
液は、ビスフェノールAの反応原料となるフェノールや
目的物であるビスフェノールAを含むことから反応系に
循環して再使用されるが、そのまま循環すると、前記副
生物や、着色不純物及び着色性不純物の蓄積が起ること
から、それらの副生物や不純物の除去を行うことが必要
となる。このため、母液を反応系に循環使用するに際
し、母液の少なくとも一部を酸型陽イオン交換樹脂から
なる吸着剤と接触させて着色物を吸着除去し、その後反
応系に循環する方法(特公昭55−34779号)が知
られている。しかし、この方法では、母液中の不純物の
一部が吸着除去されるだけであるので、循環母液中には
依然として相当量の副生物や不純物が残存し、その蓄積
を防止することはできない。
By the way, in the mother liquor separated from the crystallization product of the phenol solution containing bisphenol A, in addition to a large amount of phenol and bisphenol A, 2- (2'-hydroxyphenyl) which is an isomer of a small amount of bisphenol A. ) -2- (4'-hydroxyphenyl) -propane (hereinafter, simply referred to as 2,4'-bisphenol A) and the like, trisphenol, high molecular weight polyphenol compounds, including by-products such as chroman compounds, Further, it contains a very small amount of coloring impurities and coloring impurities. Since the mother liquor contains the colored impurities and the easily colored impurities, it is a colored liquid that gives a high coloring density by heating. Since such mother liquor contains phenol as a reaction raw material of bisphenol A and bisphenol A which is a target substance, it is circulated and reused in the reaction system. However, when it is circulated as it is, the by-products, coloring impurities and coloring It is necessary to remove these by-products and impurities because the accumulation of volatile impurities occurs. Therefore, when the mother liquor is recycled to the reaction system, at least a part of the mother liquor is brought into contact with an adsorbent composed of an acid-type cation exchange resin to adsorb and remove the coloring matter, and then the mother liquor is circulated to the reaction system. 55-34779). However, in this method, only a part of the impurities in the mother liquor is adsorbed and removed, so that a considerable amount of by-products and impurities still remain in the circulating mother liquor, and their accumulation cannot be prevented.

【0004】特開平1−230538号公報によれば、
フェノールとアセトンを反応させて得られる反応生成物
を第1晶析し、得られた第1晶析生成物から第1結晶ア
ダクトと第1母液を得、第1結晶アダクトからフェノー
ルを除去してビスフェノールAを得る一連の主工程と、
前記第1母液にイソプロペニルフェノールとフェノール
を混合し、酸触媒の存在下で反応させて得られる反応生
成物を第2晶析し、得られた第2晶析生成物から第2結
晶アダクトと第2母液を得、第2結晶アダクトはこれを
前記第1晶析工程へ循環し、一方、第2母液は、これを
塩基性触媒の存在下で反応処理してイソプロペニルフェ
ノールとフェノールを含む反応生成物となした後、前記
イソプロペニルフェノール及びフェノールとして循環使
用する一連の副工程とからなるビスフェノールAの製造
方法が提案されている。この方法は、副工程を用い、フ
ェノールとアセトンとの反応生成物を晶析して得られる
母液をフェノールとアセトンとの反応系に循環しないた
め、反応系に副生物や不純物の蓄積が起こらないという
利点はあるが、副工程においては、ポリフェノール以外
の副生物や不純物の蓄積が起るため、副工程で得られる
第2結晶アダクトの純度が悪いものとなる。また、第2
結晶アダクトの純度を高めようとすると、副工程からの
第2母液の一部を系外へ排出させる必要があるが、この
場合には、その母液には、ビスフェノールAや、フェノ
ール、ポリフェノールが含まれているため、それら有用
成分の損失が起こるという問題がある。
According to JP-A-1-230538,
The reaction product obtained by reacting phenol with acetone is first crystallized, a first crystal adduct and a first mother liquor are obtained from the obtained first crystallization product, and phenol is removed from the first crystal adduct. A series of main steps for obtaining bisphenol A,
Isopropenylphenol and phenol were mixed with the first mother liquor, and the reaction product obtained by reacting in the presence of an acid catalyst was subjected to second crystallization, and the second crystallization product thus obtained was used as a second crystal adduct. A second mother liquor is obtained, which is recycled to the first crystallization step by the second crystal adduct, while the second mother liquor is treated by reacting it in the presence of a basic catalyst to contain isopropenylphenol and phenol. A method for producing bisphenol A has been proposed, which comprises a reaction product and a series of sub-processes in which the isopropenylphenol and the phenol are recycled and used. This method uses a substep and does not circulate the mother liquor obtained by crystallization of the reaction product of phenol and acetone into the reaction system of phenol and acetone, so that byproducts and impurities do not accumulate in the reaction system. However, since the by-products other than polyphenol and the accumulation of impurities occur in the sub-step, the purity of the second crystal adduct obtained in the sub-step becomes poor. Also, the second
In order to increase the purity of the crystal adduct, it is necessary to discharge a part of the second mother liquor from the sub-step to the outside of the system. In this case, the mother liquor contains bisphenol A, phenol and polyphenol. Therefore, there is a problem that the loss of those useful components occurs.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、有機的に結
合された一連の工程により、反応系における副生物や不
純物の蓄積を効果的に防止し、高純度のビスフェノール
Aを取得するビスフェノールAの製造方法を提供するこ
とをその課題とする。
DISCLOSURE OF THE INVENTION According to the present invention, a series of organically bonded steps effectively prevent the accumulation of by-products and impurities in the reaction system and obtain bisphenol A of high purity. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing the above.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明によれば、アセトンと過剰量の
フェノールとを酸触媒の存在下で反応させてビスフェノ
ールAを生成させる反応工程、該反応工程から得られた
反応生成物を、アセトンと、水と、フェノールと、ビス
フェノールAを含むフェノール溶液とに分離する分離工
程、該ビスフェノールAを含むフェノール溶液からビス
フェノールAとフェノールとの結晶アダクトを析出させ
る晶析工程、該晶析工程で得られた晶析生成物から結晶
アダクトと母液を分離する晶析生成物分離工程、該晶析
生成物分離工程で得られた結晶アダクトを液化する結晶
アダクト液化工程、該結晶アダクト液化工程で得られた
ビスフェノールAを含むフェノール溶液からフェノール
を除去する脱フェノール工程及び該脱フェノール工程か
ら得られたビスフェノールAを造粒するビスフェノール
Aの造粒工程を備え、さらに、前記分離工程から分離さ
れたアセトンを反応工程に循環させるアセトン循環工
程、該分離工程で得られたフェノールの少なくとも一部
を晶析生成物分離工程に結晶アダクト洗浄液として循環
させるフェノール循環工程、該晶析生成物で分離工程で
得られた母液を反応工程に循環させる母液循環工程及び
該循環母液の一部を精製する母液精製工程及び該母液精
製工程で得られた精製母液を反応工程に循環させる精製
母液工程を含むことを特徴とするビスフェノールAの製
造方法が提供される。
The present inventors have completed the present invention as a result of intensive studies to solve the above problems. That is, according to the present invention, a reaction step in which acetone and an excess amount of phenol are reacted in the presence of an acid catalyst to produce bisphenol A, and the reaction product obtained from the reaction step is mixed with acetone and water. , A separation step of separating phenol and a phenol solution containing bisphenol A, a crystallization step of precipitating a crystal adduct of bisphenol A and phenol from the phenol solution containing bisphenol A, and a crystallization obtained in the crystallization step The crystallization product separation step of separating the crystal adduct and the mother liquor from the product, the crystal adduct liquefaction step of liquefying the crystal adduct obtained in the crystallization product separation step, and the bisphenol A obtained in the crystal adduct liquefaction step Dephenoling step for removing phenol from phenol containing solution and bisphenol A obtained from the dephenoling step A step of granulating bisphenol A for granulation, further comprising an acetone circulation step of circulating the acetone separated from the separation step to a reaction step, and separating at least a part of the phenol obtained in the separation step into a crystallization product. Phenol circulation step of circulating as a crystal adduct cleaning liquid in the step, mother liquor circulation step of circulating the mother liquor obtained in the separation step with the crystallization product to the reaction step, mother liquor purification step of purifying a part of the circulated mother liquor and the mother liquor There is provided a method for producing bisphenol A, which comprises a purification mother liquor step of circulating the purification mother liquor obtained in the purification step to a reaction step.

【0007】次に本発明を図面を参照しながら説明す
る。図1は、本発明によりビスフェノールAを製造する
ための工程図である。図1において、1は反応工程、2
は分離工程、3は晶析工程、4は晶析生成物分離工程、
5は液化工程、6は脱フェノール工程、7は造粒工程、
8は蒸留工程、9は加熱工程、10は減圧回収工程を各
示す。
Next, the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a process diagram for producing bisphenol A according to the present invention. In FIG. 1, 1 is a reaction step, 2
Is a separation step, 3 is a crystallization step, 4 is a crystallization product separation step,
5 is a liquefaction process, 6 is a dephenoling process, 7 is a granulation process,
8 is a distillation step, 9 is a heating step, and 10 is a reduced pressure recovery step.

【0008】反応工程1においては、酸触媒の存在下で
アセトンと過剰量のフェノールとの反応が行われ、これ
によりビスフェノールAが生成される。酸触媒として
は、塩酸や硫酸等の鉱酸や、スルホン酸基を有する強酸
型イオン交換樹脂が用いられるが、強酸型イオン交換樹
脂の使用が好ましい。フェノールの使用量は、アセトン
1モルに対して8〜20モル、好ましくは10〜18モ
ルの割合である。反応温度は、50〜90℃である。こ
の反応工程1で得られた反応生成物は、目的物であるビ
スフェノールAの他、ビスフェノールAの異性体である
2,4′−ビスフェノールA等のビスフェノール化合
物、トリスフェノール化合物、高分子量のポリフエノー
ル化合物、クロマン化合物及び水等の副生物を含み、さ
らに着色不純物や着色性不純物を含む。この反応生成物
の代表的組成を示すと、未反応フェノール:60〜90
wt%、好ましくは70〜80wt%、未反応アセト
ン:0.1〜2wt%、好ましくは0.5〜1.5wt
%、ビスフェノールA:15〜30wt%、好ましくは
18〜25wt%、水:0.1〜2wt%、好ましくは
0.5〜1.5wt%、副生ポリフェノール化合物:2
〜15wt%、好ましくは5〜10wt%である。この
反応生成物は、ライン11を通って分離工程2へ導入さ
れる。
In the reaction step 1, acetone is reacted with an excess amount of phenol in the presence of an acid catalyst to produce bisphenol A. As the acid catalyst, a mineral acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid, or a strong acid type ion exchange resin having a sulfonic acid group is used, but a strong acid type ion exchange resin is preferably used. The amount of phenol used is 8 to 20 mol, preferably 10 to 18 mol, per 1 mol of acetone. The reaction temperature is 50 to 90 ° C. The reaction product obtained in this reaction step 1 is a bisphenol A which is a target product, as well as a bisphenol compound such as 2,4'-bisphenol A which is an isomer of bisphenol A, a trisphenol compound and a high molecular weight polyphenol. It contains compounds, chroman compounds, and by-products such as water, and further contains coloring impurities and coloring impurities. The typical composition of this reaction product is as follows: unreacted phenol: 60 to 90
wt%, preferably 70-80 wt%, unreacted acetone: 0.1-2 wt%, preferably 0.5-1.5 wt
%, Bisphenol A: 15 to 30 wt%, preferably 18 to 25 wt%, water: 0.1 to 2 wt%, preferably 0.5 to 1.5 wt%, by-product polyphenol compound: 2
-15 wt%, preferably 5-10 wt%. This reaction product is introduced into separation step 2 through line 11.

【0009】分離工程2は、反応工程1で得られた反応
生成物を分離処理して、主に、アセトン、水、フェノー
ル及びビスフェノールAを含むフェノール溶液にそれぞ
れ分離する工程である。この分離工程2で分離されたア
セトンはライン12を通って反応工程1に循環され、水
はライン13を通って排出され、フェノールはライン1
4を通って洗浄用フェノールとして晶析生成物分離工程
4に導入され、ビスフェノールAを含むフェノール溶液
はライン15を通って晶析工程3に導入される。分離工
程2は、通常、複数の蒸留塔を含む蒸留処理工程から構
成され、反応生成物を前記した特定成分に分離し得るよ
うに構成されたものであれば任意の分離工程を採用する
ことができる。図2に、本発明の分離工程2として好ま
しく採用される反応生成物の蒸留処理系統図を示す。図
2において、31は第1蒸留塔、32は第2蒸留塔、3
3は第3蒸留塔、34は第4蒸留塔、35は強酸型イオ
ン交換樹脂処理装置、36,37は静置槽を示す。
The separation step 2 is a step of separating the reaction product obtained in the reaction step 1 into a phenol solution mainly containing acetone, water, phenol and bisphenol A. The acetone separated in this separation step 2 is circulated to the reaction step 1 through the line 12, water is discharged through the line 13, and phenol is discharged through the line 1.
4 is introduced into the crystallization product separation step 4 as a washing phenol, and the phenol solution containing bisphenol A is introduced into the crystallization step 3 through the line 15. Separation step 2 is usually composed of a distillation treatment step including a plurality of distillation columns, and any separation step may be adopted as long as it is configured to separate the reaction product into the above-mentioned specific components. it can. FIG. 2 shows a distillation treatment system diagram of the reaction product preferably adopted as the separation step 2 of the present invention. In FIG. 2, 31 is a first distillation column, 32 is a second distillation column, 3
3 is a 3rd distillation column, 34 is a 4th distillation column, 35 is a strong acid type ion exchange resin treatment apparatus, and 36 and 37 are stationary tanks.

【0010】フェノールとアセトンとの反応を行う反応
工程1で得られた反応生成物は、ライン38を通して、
第1蒸留処理工程を構成する第1蒸留塔31に導入さ
れ、この第1蒸留塔31において、未反応フェノール、
ビスフェノールA及び副生物を含む塔底物(I)と、未反
応フェノール、未反応アセトン及び水を含む塔頂物(I)
とに分離される。
The reaction product obtained in the reaction step 1 in which the reaction between phenol and acetone is carried out through a line 38.
Introduced into the first distillation column 31 constituting the first distillation treatment step, in the first distillation column 31, unreacted phenol,
Column bottoms (I) containing bisphenol A and by-products, and column tops (I) containing unreacted phenol, unreacted acetone and water
Separated into and.

【0011】第1蒸留塔からの塔頂物(I)の成分組成を
示すと、フェノール:60〜90wt%、好ましくは8
0〜90wt%、アセトン:2〜20wt%、好ましく
は5〜10wt%、水:5〜20wt%、好ましくは5
〜10wt%である。一方、第1蒸留塔からの塔底物
(I)の成分組成を示すと、フェノール:50〜80wt
%、好ましくは65〜75wt%、ビスフェノールA:
18〜30wt%、好ましくは20〜25wt%、副生
物:5〜20wt%、好ましくは5〜10wt%であ
る。
The component composition of the overhead product (I) from the first distillation column is as follows: phenol: 60 to 90 wt%, preferably 8
0 to 90 wt%, acetone: 2 to 20 wt%, preferably 5 to 10 wt%, water: 5 to 20 wt%, preferably 5
10 to 10 wt%. On the other hand, the bottom product from the first distillation column
The component composition of (I) is as follows: phenol: 50-80 wt
%, Preferably 65-75 wt%, bisphenol A:
18-30 wt%, preferably 20-25 wt%, by-product: 5-20 wt%, preferably 5-10 wt%.

【0012】前記第1蒸留塔で得られた塔頂物(I)は
ライン40を通って第2蒸留処理工程を構成する第2蒸
留塔32に導入され、一方、前記第1蒸留塔31で得ら
れた塔底物(I)(ビスフェノールAを含むフェノール溶
液)は、ライン39を通って抜出され、晶析用原料とし
て、図1のライン15を通って晶析工程3に送られる。
The overhead product (I) obtained in the first distillation column is introduced into a second distillation column 32 constituting a second distillation treatment step through a line 40, while in the first distillation column 31. The obtained bottom product (I) (phenol solution containing bisphenol A) is withdrawn through a line 39 and sent to the crystallization step 3 as a crystallization raw material through a line 15 in FIG.

【0013】第2蒸留塔32においては、油性共沸剤の
存在下で蒸留処理が行われ、アセトン、水及び共沸剤か
らなる塔頂物(II)が得られる。この塔頂物(II)の成
分組成は、アセトン:2〜20wt%、好ましくは5〜
20wt%、水:10〜30wt%、好ましくは15〜
25wt%であり、共沸剤:40〜80wt%、好まし
くは50〜70wt%である。塔底からは、塔底物(II)
としてフェノールが得られる。第2蒸留塔32の塔底物
(II)中のアセトンの含有量は5wt%以下、好ましく
はゼロ%である。共沸剤は、第2蒸留塔の運転条件を調
節して、第2蒸留塔の塔底物中に少量、特に5重量%以
下、好ましくは1重量%以下の割合で存在させるのが好
ましい。これにより、塔頂物へのフェノール混入量を低
減させることができる。
In the second distillation column 32, distillation treatment is carried out in the presence of an oily azeotropic agent to obtain a column top product (II) consisting of acetone, water and an azeotropic agent. The component composition of the column top (II) is acetone: 2 to 20 wt%, preferably 5 to
20 wt%, water: 10-30 wt%, preferably 15-
25 wt%, azeotropic agent: 40-80 wt%, preferably 50-70 wt%. From the bottom of the tower, the bottom product (II)
As a result, phenol is obtained. The content of acetone in the bottom product (II) of the second distillation column 32 is 5 wt% or less, preferably 0%. The azeotropic agent is preferably present in a small amount, particularly 5% by weight or less, preferably 1% by weight or less, in the bottom product of the second distillation column by adjusting the operating conditions of the second distillation column. As a result, the amount of phenol mixed in the column top product can be reduced.

【0014】第2蒸留塔32の塔頂からの塔頂物(II)
は、ライン42を通って静置工程を構成する静置槽36
に導入され、ここでアセトンと共沸剤からなる油性成分
と、アセトンと水からなる水性成分とに分離される。こ
の静置槽36で分離された油性成分はライン44を通っ
て及び水性成分はライン45を通ってそれぞれ第3蒸留
塔33に導入される。第2蒸留塔32の塔頂物(II)を
静置槽36により油性成分と水性成分とに分離すること
により、その塔頂物(II)を第3蒸留工程へ安定的に供
給できる。しかし、この静置槽36の設置は必ずしも必
要とされず、塔頂物(II)は、ライン42を通して直接第
3蒸留塔へ供給することも可能である。一方、第2蒸留
塔32からのフェノールからなる塔底物(II)は、ライ
ン41を通って、必要に応じ、強酸型イオン交換樹脂処
理装置35を介して第4蒸留処理工程を構成する第4蒸
留塔34に導入される。
Top product from the top of the second distillation column 32 (II)
Is a stationary tank 36 that constitutes a stationary step through a line 42.
And is separated into an oily component consisting of acetone and an azeotropic agent and an aqueous component consisting of acetone and water. The oil component separated in the stationary tank 36 is introduced into the third distillation column 33 through the line 44, and the aqueous component is introduced into the third distillation column 33 through the line 45. By separating the overhead (II) of the second distillation column 32 into the oil component and the aqueous component by the stationary tank 36, the overhead (II) can be stably supplied to the third distillation step. However, it is not always necessary to install the stationary tank 36, and the column top product (II) can be directly supplied to the third distillation column through the line 42. On the other hand, the bottom product (II) composed of phenol from the second distillation column 32 passes through the line 41 and, if necessary, through the strong acid type ion exchange resin treatment device 35, constitutes the fourth distillation treatment step. 4 is introduced into the distillation column 34.

【0015】油性共沸剤としては、沸点範囲が80〜1
40℃、好ましくは100〜140℃の炭化水素油が用
いられる。共沸剤の具体例としては、トルエン、エチル
ベンゼン、キシレン等が挙げられる。この共沸剤は、前
記したように、第2蒸留塔32運転開始に際しては、ラ
イン43より第2蒸留塔32と第3蒸留塔33を循環す
るための必要量を系外より塔内に供給され、運転開始後
においては、静置槽37で分離された後、ライン43を
通って第2蒸留塔32に返還される。
The oily azeotropic agent has a boiling point range of 80 to 1.
Hydrocarbon oils at 40 ° C, preferably 100-140 ° C are used. Specific examples of the azeotropic agent include toluene, ethylbenzene, xylene and the like. As described above, this azeotropic agent supplies the necessary amount for circulating the second distillation column 32 and the third distillation column 33 through the line 43 into the column from the outside of the system when the operation of the second distillation column 32 is started. After the operation is started, it is separated in the stationary tank 37 and then returned to the second distillation column 32 through the line 43.

【0016】第3蒸留処理工程を構成する第3蒸留塔3
3においては、塔頂物(III)としてアセトンが得ら
れ、このものはライン46を通って抜出され、図1に示
したライン12を通って反応工程1に循環される。この
循環アセトン中の水含有量は5wt%以下、好ましくは
3wt%以下である。一方、第3蒸留塔33の塔底から
は、水と共沸剤からなる塔底物(III)が得られるが、
このものは、ライン47を通って静置工程を構成する静
置槽37に導入され、ここで共沸剤と水とに分離され
る。共沸剤はライン43を通って第2蒸留塔32に循環
される。一方、水はライン48を通って排出される。こ
の排水中に含まれるアセトン含有量は5wt%以下、好
ましくはゼロ%である。
Third distillation column 3 constituting the third distillation treatment step
At 3, acetone is obtained as overhead (III), which is withdrawn through line 46 and is recycled to reaction step 1 through line 12 shown in FIG. The water content in this circulating acetone is 5 wt% or less, preferably 3 wt% or less. On the other hand, a bottom product (III) consisting of water and an azeotropic agent is obtained from the bottom of the third distillation column 33.
This product is introduced into a stationary tank 37 which constitutes a stationary process through a line 47, and is separated into an azeotropic agent and water here. The azeotropic agent is circulated to the second distillation column 32 through the line 43. On the other hand, the water is discharged through the line 48. The content of acetone contained in this waste water is 5 wt% or less, preferably 0%.

【0017】強酸型イオン交換樹脂処理装置35におい
ては、その強酸型イオン交換樹脂が触媒となって、塔底
物(II)(フェノール)中に含まれる着色不純物や、着色不
純物前駆体等の縮合性不純物が縮合反応して、タール状
高沸点物に変換される。この場合、縮合性不純物として
は、ベンゾフラン等が挙げられる。強酸型イオン交換樹
脂としては、スルホン基を有するゲル型のものが用いら
れ、このような強酸型イオン交換樹脂は、従来良く知ら
れているものである。例えば、ロームアンドハース社か
ら入手し得るアンバーライト及びアンバーリストや、三
菱化成社から入手し得るダイヤイオン等を好ましく用い
ることができる。この強酸型イオン交換樹脂を用いる塔
底物(II)の処理は、塔底物(II)を強酸型イオン交換樹脂
を含む充填塔に流通させる方法や、強酸型イオン交換樹
脂を入れた撹拌槽に塔底物(II)を入れて撹拌する方法等
により実施することができる。処理温度は45〜15
0、好ましくは50〜100℃である。強酸型イオン交
換樹脂と塔底物(II)との接触時間は、5〜200分、好
ましくは15〜60分程度である。この強酸型イオン交
換樹脂を用いて塔底物(II)の処理を行う場合、塔底物
(II)中に水分が混入すると、強酸型イオン交換樹脂によ
る不純物除去効果が低下する。この蒸留処理法において
は、前記のように、第2蒸留塔32においては、水が塔
頂物成分としてほぼ完全に分離され、塔底物として得ら
れるフェノール中には水は実質上含まれてこないことか
ら、その塔底物(II)の強酸型イオン交換樹脂処理は円滑
に実施される。
In the strong acid type ion exchange resin treatment device 35, the strong acid type ion exchange resin serves as a catalyst to condense the colored impurities contained in the bottom product (II) (phenol) and the colored impurity precursors. The reactive impurities undergo a condensation reaction and are converted into tar-like high-boiling substances. In this case, examples of condensable impurities include benzofuran. As the strong acid type ion exchange resin, a gel type resin having a sulfone group is used, and such a strong acid type ion exchange resin is conventionally well known. For example, Amberlite and Amberlyst available from Rohm and Haas Company, Diaion etc. available from Mitsubishi Kasei Co. can be preferably used. Treatment of the bottom product (II) using this strong acid type ion exchange resin is a method of circulating the bottom product (II) into a packed column containing a strong acid type ion exchange resin, or a stirring tank containing a strong acid type ion exchange resin. It can be carried out by, for example, a method in which the bottom product (II) is put in and stirred. Processing temperature is 45-15
0, preferably 50 to 100 ° C. The contact time between the strong acid type ion exchange resin and the bottom product (II) is 5 to 200 minutes, preferably about 15 to 60 minutes. When treating the column bottoms (II) using this strong acid type ion exchange resin, the column bottoms
When water is mixed in (II), the effect of removing impurities by the strong acid type ion exchange resin decreases. In this distillation treatment method, as described above, in the second distillation column 32, water is almost completely separated as a tower top component, and the phenol obtained as a column bottom product contains substantially water. Therefore, the strong acid type ion exchange resin treatment of the bottom product (II) is smoothly carried out.

【0018】強酸型イオン交換樹脂処理装置35には、
必要に応じ、未精製フェノールをライン49を通して、
ライン41を通る塔底物(II)と混合して導入することが
できる。未精製フェノールには、工業用フェノールや、
晶析工程で得られた母液フェノール及び洗浄廃液フェノ
ール等が挙げられる。
The strong acid type ion exchange resin processing device 35 includes
If necessary, pass the crude phenol through line 49,
It can be introduced as a mixture with the bottom product (II) passing through the line 41. Unrefined phenols include industrial phenols,
Examples include mother liquor phenol and washing waste liquor phenol obtained in the crystallization step.

【0019】強酸型イオン交換樹脂処理装置35で得ら
れる処理生成物はライン50を通って第4蒸留塔34に
導入され、ここでフェノールからなる塔頂物(IV)と、
タール状高沸点物質からなる塔底物(IV)に分離され
る。この蒸留塔の運転条件はフェノールと高沸点物質と
が完全に分離できる条件であることが必要であり、フェ
ノール中に高沸点物質が混入しない条件で行う必要があ
る。この場合の留意すべきポイントは、蒸留処理温度を
190℃以下にすることである。190℃以下の温度で
あれば運転圧力は任意に設定されるが、通常50Tor
r〜760Torrの減圧ないし常圧が採用される。運
転温度が190℃をこえると高沸点物質等の分解が著し
くなり、留出フェノールの品質を低下させるので好まし
くない。この第4蒸留塔34においては、導入されるフ
ェノールの95重量%以上、好ましくは99重量%以上
が留出される。第4蒸留塔34の塔頂から得られるフェ
ノールは色相の良好なもので、その色相APHAは、1
0以下である。この精製フェノールは、ライン52を通
して抜出され、少なくともその一部は、図1に示したラ
イン14を通して晶析生成物分離工程4に導入され、高
純度ビスフェノールAを得るための結晶アダクトの洗浄
液として使用される。また、この精製フェノールは、必
要に応じ反応工程1に循環使用することもできる。第4
蒸留塔34の底部からライン51を通って抜出される塔
底物(IV)は、通常、フェノール:10〜90重量%
と、高沸点物質:10〜60重量%を含む混合物からな
る。この塔底物(IV)の量は少量であるため、そのまま
系外へ排出させることができる。
The treated product obtained in the strong acid type ion exchange resin treatment unit 35 is introduced into the fourth distillation column 34 through a line 50, and the column overhead (IV) consisting of phenol,
It is separated into a bottom product (IV) consisting of tar-like high-boiling substances. The operating conditions of this distillation column must be such that phenol and the high-boiling substance can be completely separated, and it must be performed under the condition that the high-boiling substance is not mixed in the phenol. The point to be noted in this case is to set the distillation treatment temperature to 190 ° C. or lower. If the temperature is 190 ° C or lower, the operating pressure is set arbitrarily, but usually 50 Tor
A reduced pressure or normal pressure of r to 760 Torr is adopted. If the operating temperature exceeds 190 ° C., decomposition of high-boiling substances and the like becomes remarkable and the quality of distillate phenol is deteriorated, which is not preferable. In the fourth distillation column 34, 95% by weight or more, preferably 99% by weight or more of the introduced phenol is distilled. Phenol obtained from the top of the fourth distillation column 34 has a good hue, and its hue APHA is 1
It is 0 or less. This purified phenol is extracted through a line 52, and at least a part thereof is introduced into a crystallization product separation step 4 through a line 14 shown in FIG. 1 as a cleaning liquid for a crystal adduct to obtain high-purity bisphenol A. used. Further, this purified phenol can be recycled and used in the reaction step 1 if necessary. Fourth
The bottom product (IV) extracted from the bottom of the distillation column 34 through the line 51 is usually phenol: 10 to 90% by weight.
And a high-boiling substance: a mixture containing 10 to 60% by weight. Since the amount of this bottom product (IV) is small, it can be discharged as it is out of the system.

【0020】図2に示した反応生成物の分離工程によれ
ば、第2蒸留塔32における蒸留は、共沸剤の存在下で
行われていることから、水及びアセトンの実質的全量を
塔頂物(II)として分離することができる。そしてこの
塔頂物(II)は第3蒸留塔33で水とアセトンとにほぼ
完全に分離させることができる。即ち、第3蒸留塔33
に供給されるアセトンの実質的全量を第3蒸留塔の塔頂
物(III)として分離することができ、第3蒸留塔33
の塔底物(III)には、実質上アセトンの混入はない。
この結果、静置槽37から抜出される排水にはアセトン
の混入がなく、その排水からアセトンを除去するような
面倒な廃水処理の問題は解消される。また、第3蒸留塔
33から塔頂物(III)として分離されるアセトン中に
も水は殆ど混入されないことから、アセトンの再利用も
容易である。
According to the step of separating the reaction products shown in FIG. 2, since the distillation in the second distillation column 32 is carried out in the presence of the azeotropic agent, substantially all the amount of water and acetone is removed from the column. It can be separated as the top (II). Then, the column top (II) can be almost completely separated into water and acetone in the third distillation column 33. That is, the third distillation column 33
The substantially total amount of acetone supplied to the third distillation column 33 can be separated as the top product (III) of the third distillation column.
The bottom product (III) of (3) is substantially free of acetone.
As a result, the waste water extracted from the stationary tank 37 does not contain acetone, and the troublesome waste water treatment problem of removing acetone from the waste water is solved. In addition, since acetone is separated from the third distillation column 33 as the top product (III), almost no water is mixed therein, the acetone can be easily reused.

【0021】図3に、本発明の分離工程2として採用す
ることのできる他の蒸留処理系統図を示す。図3におい
て、31は第1蒸留塔、32は第2蒸留塔、33は第3
蒸留塔、34は第4蒸留塔、35は強酸型イオン交換樹
脂処理装置を示す。
FIG. 3 shows another distillation treatment system diagram which can be adopted as the separation step 2 of the present invention. In FIG. 3, 31 is a first distillation column, 32 is a second distillation column, and 33 is a third distillation column.
A distillation column, 34 is a fourth distillation column, and 35 is a strong acid ion exchange resin treatment device.

【0022】フェノールとアセトンとの反応を行う反応
工程1で得られた生成物は、ライン38を通して、第1
蒸留処理工程を構成する第1蒸留塔31に導入され、こ
こで未反応フェノール、ビスフェノールA及び副生物を
含む塔底物(I)と、未反応フェノール、未反応アセト
ン及び水を含む塔頂物(I)とに分離される。第1蒸留
塔31は、その塔頂物(I)中のフェノール含有量が40
wt%以下、好ましくは30wt%以下の範囲になるよ
うに操作される。これにより、第2蒸留塔32から得ら
れる塔項物(II)中の水含有量を5wt%以下、特に2
wt%以下に抑制することができる。第1蒸留塔31の
塔頂物(I)の成分組成を示すと、フェノール:40w
t%以下、好ましくは30wt%以下、アセトン:20
〜45wt%、好ましくは30〜40wt%、水:20
〜45wt%、好ましくは30〜40wt%である。一
方、第1蒸留塔31の塔底物(I)の成分組成を示す
と、フェノール:55〜80wt%、好ましくは65〜
75wt%、ビスフェノールA:18〜30wt%、好
ましくは20〜25wt%、副生物:5〜15wt%、
好ましくは6〜10wt%である。前記第1蒸留塔31
で得られた塔頂物(I)はライン40を通って第2蒸留
処理工程を構成する第2蒸留塔32に導入され、一方、
前記第1蒸留塔31で得られた塔底物(I)はライン3
9を通って第4蒸留塔34に導入される。
The product obtained in the reaction step 1 in which the reaction between phenol and acetone is carried out, through line 38, to the first
The bottom product (I), which is introduced into the first distillation column 31 constituting the distillation treatment step and contains unreacted phenol, bisphenol A and by-products, and the top product containing unreacted phenol, unreacted acetone and water (I) is separated. The first distillation column 31 has a phenol content of 40% in the top (I) thereof.
It is operated so as to be in the range of wt% or less, preferably 30 wt% or less. As a result, the water content in the column product (II) obtained from the second distillation column 32 is 5 wt% or less, particularly 2
It can be suppressed to wt% or less. The component composition of the top product (I) of the first distillation column 31 is phenol: 40w.
t% or less, preferably 30 wt% or less, acetone: 20
~ 45 wt%, preferably 30-40 wt%, water: 20
~ 45 wt%, preferably 30-40 wt%. On the other hand, regarding the component composition of the bottom product (I) of the first distillation column 31, phenol: 55-80 wt%, preferably 65-
75 wt%, bisphenol A: 18 to 30 wt%, preferably 20 to 25 wt%, by-product: 5 to 15 wt%,
It is preferably 6 to 10 wt%. The first distillation column 31
The column top product (I) obtained in (1) is introduced into the second distillation column 32 constituting the second distillation treatment step through the line 40, while
The bottom product (I) obtained in the first distillation column 31 is the line 3
It is introduced into the fourth distillation column 34 through 9.

【0023】第2蒸留塔32においては、アセトンが塔
頂物(II)として得られ、このものは、ライン46を通
して抜出され、図1に示すライン12を通って反応工程
1に循環される。この循環アセトン中の水含有量は、1
0wt%以下、好ましくは5wt%以下である。一方、
第2蒸留塔32の塔底からは、フェノールと水との混合
物からなる塔底物(II)が得られ、このものは、ライン4
7を通って第3蒸留塔33に導入される。第2蒸留塔3
2の塔底物(II)の成分組成は、フェノール:40〜60
wt%、好ましくは40〜50wt%、水:40〜60
wt%、好ましくは50〜60wt%であり、アセトン
の含有量は1wt%以下である。
In the second distillation column 32, acetone is obtained as the overhead product (II), which is withdrawn through the line 46 and circulated to the reaction step 1 through the line 12 shown in FIG. . The water content in this circulating acetone is 1
It is 0 wt% or less, preferably 5 wt% or less. on the other hand,
A bottom product (II) consisting of a mixture of phenol and water is obtained from the bottom of the second distillation column 32.
It is introduced into the third distillation column 33 through 7. Second distillation column 3
The composition of the column bottoms (II) of 2 is phenol: 40-60
wt%, preferably 40-50 wt%, water: 40-60
wt%, preferably 50-60 wt%, and the content of acetone is 1 wt% or less.

【0024】第3蒸留処理工程を構成する第3蒸留塔3
3においては、塔頂物(III)として水が得られ、このも
のはライン48を通って排出される。一方、第3蒸留塔
33の塔底からは、フェノールからなる塔底物(III)が
得られるが、このものはライン41を通って強酸型イオ
ン交換樹脂処理装置35で処理された後、第4蒸留処理
工程を構成する第4蒸留塔34に導入される。また、こ
の第3蒸留塔33の塔底物(III)には、必要に応じ、未
精製フェノールをライン49を介して添加し、強酸型イ
オン交換樹脂処理装置35に導入することができる。こ
の場合、未精製フェノールとしては、工業用フェノール
や、晶析工程で得られる母液フェノール、洗浄廃液フェ
ノール等が挙げられる。
Third distillation column 3 constituting the third distillation treatment step
In 3, water is obtained as overhead (III), which is discharged via line 48. On the other hand, the bottom product (III) made of phenol is obtained from the bottom of the third distillation column 33. This product is treated with the strong acid type ion exchange resin treatment device 35 through the line 41, and then the It is introduced into the fourth distillation column 34 which constitutes the four-distillation treatment step. If necessary, unpurified phenol can be added to the bottom product (III) of the third distillation column 33 via the line 49 and introduced into the strong acid ion exchange resin treatment device 35. In this case, examples of the unpurified phenol include industrial phenol, mother liquor phenol obtained in the crystallization step, and washing waste liquor phenol.

【0025】強酸型イオン交換樹脂処理装置35におい
ては、その強酸型イオン交換樹脂が触媒となって、フェ
ノール中に含まれる着色不純物や着色不純物前駆体等の
縮合性不純物が縮合反応して、タール状高沸点物に変換
される。強酸型イオン交換樹脂処理装置35で得られる
処理生成物はライン50を通って第4蒸留処理工程を構
成する第4蒸留塔34に導入され、ここでフェノールが
塔頂物(IV)として取得される。また、この第4蒸留塔
34には、第1蒸留塔31の塔底物(I)(ビスフェノ
ールAを含むフェノール溶液)がライン39を通して導
入される。この第4蒸留塔34においては、その塔頂か
らフェノールが留出されるが、このフェノールは色相の
良好なもので、その色相APHAは、10以下である。
この精製フェノールは、図1に示すようにその少なくと
も一部は、ライン14を通して晶析生成物分離工程4に
循環され、高純度ビスフェノールAを得るための結晶ア
ダクトの洗浄液として使用される。また、この精製フェ
ノールは、必要に応じ反応工程1に循環使用することが
できる。第4蒸留塔34の底部からライン51を通って
抜出される塔底物(IV)は、通常、ビスフェノールを1
5〜30wt%、好ましくは、20〜25wt%を含
み、フェノールを50〜80重量%、好ましくは65〜
75重量%含み、さらに副生物を5〜15重量%、好ま
しくは6〜10重量%の割合で含むもので、図1に示す
ように、ライン15を通して晶析用原料として晶析工程
3へ導入される。なお、第1蒸留塔31の塔底物(I)
は、第4蒸留塔34に導入せずに、そのまま晶析工程3
へ導入することもできる。
In the strong acid type ion exchange resin treatment device 35, the strong acid type ion exchange resin serves as a catalyst to cause condensation reaction of the condensable impurities such as the colored impurities and the colored impurity precursors contained in phenol to generate tar. It is converted to high boilers. The treatment product obtained in the strong acid ion exchange resin treatment device 35 is introduced into the fourth distillation column 34 constituting the fourth distillation treatment step through the line 50, and phenol is obtained as the column top (IV) there. It Further, the bottom product (I) of the first distillation column 31 (phenol solution containing bisphenol A) is introduced into the fourth distillation column 34 through a line 39. In the fourth distillation column 34, phenol is distilled out from the top of the column, and this phenol has a good hue and its hue APHA is 10 or less.
At least a part of this purified phenol is circulated to a crystallization product separation step 4 through a line 14 as shown in FIG. 1 and used as a cleaning liquid for a crystal adduct to obtain high-purity bisphenol A. Further, this purified phenol can be recycled and used in the reaction step 1 if necessary. The bottom product (IV) extracted from the bottom of the fourth distillation column 34 through the line 51 is usually 1 bisphenol.
5 to 30 wt%, preferably 20 to 25 wt%, and phenol to 50 to 80 wt%, preferably 65 to
75% by weight, and 5 to 15% by weight, preferably 6 to 10% by weight, by-products are introduced into the crystallization step 3 as a crystallization raw material through a line 15 as shown in FIG. To be done. The bottom product (I) of the first distillation column 31
Is not introduced into the fourth distillation column 34 and is used as it is in the crystallization step 3
Can also be introduced to.

【0026】図3に示した反応生成物の分離工程によれ
ば、第1蒸留塔31から得られる塔頂物(I)中のフェ
ノール含有量を40重量%以下に保持することにより、
第2蒸留塔32に供給されるアセトンの実質的全量を第
2蒸留塔の塔頂物(II)として分離することができ、第
2蒸留塔2の塔底物(II)には、実質上アセトンの混入
はない。この結果、第3蒸留塔33において、その塔頂
物(III)として分離される水にはアセトンの混入がな
く、その分離水からアセトンを除去するような面倒な廃
水処理の問題は解消される。また、この分離工程によれ
ば、第3蒸留塔内には、アセトンが存在しないため、効
率よくその蒸留操作を行うことができる。
According to the separation step of the reaction product shown in FIG. 3, by keeping the phenol content in the overhead product (I) obtained from the first distillation column 31 at 40% by weight or less,
Substantially all of the acetone supplied to the second distillation column 32 can be separated as the top product (II) of the second distillation column, and the bottom product (II) of the second distillation column 2 is substantially There is no mixing of acetone. As a result, in the third distillation column 33, the water separated as the column top (III) does not contain acetone, and the troublesome problem of wastewater treatment such as removing acetone from the separated water is solved. . Further, according to this separation step, since acetone does not exist in the third distillation column, the distillation operation can be efficiently performed.

【0027】晶析工程3は、前記のようにして分離工程
2で得られたビスフェノールAを含む溶液を冷却して、
ビスフェノールAとフェノールとの結晶アダクトを析出
させる工程である。この場合、晶析温度は35〜80
℃、好ましくは45〜70℃である。この晶析工程で得
られた晶析生成物(結晶アダクトスラリー)は、図1に
おいてライン16を通して晶析生成物分離工程4に導入
される。晶析工程3は、1つ又は複数の晶析段階からな
ることができるが、その晶析工程の1つの例についての
晶析系統図を図4に示す。図4において、55は外筒、
56は内筒、57は微結晶アダクト溶解タンク、58は
冷却器、59は加熱器、60、61はポンプ、Aは晶析
塔を示す。晶析塔Aは、密閉構造の外筒55内に上部に
開口部を有する内筒56を挿入した2重筒構造を有す
る。本明細書でいう密閉構造とは、晶析塔が大気開放状
態にあるのではなく、イナートガスにてシールされてい
る状態をいう。晶析塔Aが大気開放であると、晶析塔内
のスラリーに大気中の酸素の一部が吸収され、アダクト
の色相を悪化させるとともに、更には、後段の処理にお
いて悪影響を与えて、高品質のアダクトひいては高品質
のビスフェノールAを得ることができなくなる。従っ
て、晶析塔Aにおいては、酸素の混入を防止する為に、
イナートガスにてシールする必要が生じる。この場合、
酸素の混入を防止することができれば、必ずしも、高圧
に耐えうる密閉耐圧容器である必要はない。また、晶析
塔Aにおいては、外筒部に直接抜出孔を設けるのではな
く、内部のスラリーの旋回流の中心軸上に内筒を設け、
その上部までスラリーの旋回流を上昇させ、内筒上部の
開口部よりスラリーを溢流させ、内筒内部を下降させた
後、内筒底部より抜出す方法をとるのがよい。これによ
り、導入された循環スラリーに対し均一な混合と、アダ
クト粒子に対して充分な滞留時間を確保することができ
る。
In the crystallization step 3, the solution containing the bisphenol A obtained in the separation step 2 as described above is cooled,
In this step, a crystal adduct of bisphenol A and phenol is deposited. In this case, the crystallization temperature is 35-80.
C., preferably 45 to 70.degree. The crystallization product (crystal adduct slurry) obtained in this crystallization step is introduced into the crystallization product separation step 4 through line 16 in FIG. Crystallization process 3 can consist of one or more crystallization stages, a crystallization diagram for one example of which is shown in FIG. In FIG. 4, 55 is an outer cylinder,
56 is an inner cylinder, 57 is a microcrystal adduct dissolution tank, 58 is a cooler, 59 is a heater, 60 and 61 are pumps, and A is a crystallization tower. The crystallization tower A has a double cylinder structure in which an inner cylinder 56 having an opening at the top is inserted into an outer cylinder 55 having a closed structure. The closed structure referred to in this specification means a state in which the crystallization tower is not open to the atmosphere but is sealed with an inert gas. When the crystallization tower A is open to the atmosphere, a part of oxygen in the atmosphere is absorbed by the slurry in the crystallization tower, which deteriorates the hue of the adduct and further adversely affects the subsequent treatment, resulting in high It becomes impossible to obtain a quality adduct and thus a high quality bisphenol A. Therefore, in the crystallization tower A, in order to prevent the mixing of oxygen,
It becomes necessary to seal with inert gas. in this case,
If the mixture of oxygen can be prevented, it is not always necessary to use a closed pressure-resistant container that can withstand high pressure. Further, in the crystallization tower A, instead of directly providing an extraction hole in the outer cylinder part, an inner cylinder is provided on the central axis of the swirling flow of the slurry inside,
It is advisable to increase the swirling flow of the slurry to the upper part, overflow the slurry from the opening in the upper part of the inner cylinder, lower the inside of the inner cylinder, and then withdraw it from the bottom part of the inner cylinder. As a result, it is possible to ensure uniform mixing of the introduced circulating slurry and sufficient residence time for the adduct particles.

【0028】図4に示した晶析系統図に従って晶析工程
を実施するには、先ず、分離工程2から図1のライン1
5を通して抜出された被処理原料であるビスフェノール
Aを含むフェノール溶液の一部を、ライン62及びライ
ン63を通って晶析塔A内に充填するとともに、内筒5
6の底部からライン64を通ってフェノール溶液を抜出
し、これをライン65、ポンプ60、ライン66、冷却
器58、ライン67及びライン63を通して晶析塔A下
部の外筒内に連続的に循環させる。この操作によって、
晶析塔A内のフェノール溶液は冷却され、結晶アダクト
が晶析し、結晶アダクトを含むスラリーが生成される。
このスラリーは内筒56の底部から抜出され、前記のよ
うにして冷却器58で冷却された後、晶析塔A下部の外
筒55内に循環されるようになる。また、内筒56の底
部からスラリーの一部をライン64、ライン68、ポン
プ61、ライン69、加熱器59、タンク57及びライ
ン70、71を通って晶析塔A下部の外筒55内に連続
的に循環させる。この操作によって、内筒56の底部か
ら抜出されたスラリー中の微結晶アダクト粒子がタンク
57で溶解され、微結晶アダクト粒子含有率の低いスラ
リーが晶析塔A内に循環される。その結果、晶析塔A内
の微結晶アダクト粒子の含有率が減少されるようにな
る。
In order to carry out the crystallization process according to the crystallization system diagram shown in FIG. 4, first, the separation process 2 to the line 1 in FIG.
A part of the phenol solution containing bisphenol A as the raw material to be treated extracted through 5 is filled in the crystallization tower A through lines 62 and 63, and the inner cylinder 5
The phenol solution is withdrawn from the bottom of 6 through a line 64 and continuously circulated in the outer cylinder below the crystallization column A through a line 65, a pump 60, a line 66, a cooler 58, a line 67 and a line 63. . By this operation,
The phenol solution in the crystallization tower A is cooled, the crystal adduct is crystallized, and a slurry containing the crystal adduct is produced.
This slurry is extracted from the bottom of the inner cylinder 56, cooled by the cooler 58 as described above, and then circulated in the outer cylinder 55 below the crystallization tower A. Further, a part of the slurry is passed from the bottom of the inner cylinder 56 through the line 64, the line 68, the pump 61, the line 69, the heater 59, the tank 57 and the lines 70, 71 into the outer cylinder 55 below the crystallization tower A. Circulate continuously. By this operation, the fine crystal adduct particles in the slurry extracted from the bottom of the inner cylinder 56 are dissolved in the tank 57, and the slurry having a low content rate of the fine crystal adduct particles is circulated in the crystallization tower A. As a result, the content of the fine crystal adduct particles in the crystallization tower A is reduced.

【0029】次に、このような状態において、分離工程
2からライン15を通して抜出されたビスフェノールA
を含むフェノール溶液をライン62、及びライン63を
通して晶析塔A下部の外筒55内に導入するとともに、
内筒56の底部から製品スラリーをライン73を通って
抜出す。この場合、次の晶析生成物分離工程へこのスラ
リーをグラビティーフローで流せる場合は、このように
ライン73を使って抜き出すが、そうでない場合は、ポ
ンプ61の吐出ライン74より、その一部を抜き出すこ
ともできる。また、微結晶含有率の少ないスラリーの一
部を、ライン72より回収し、これを製品結晶アダクト
スラリーとすることもできる。これらの結晶アダクトス
ラリーは、必要に応じ、さらに前記と同様の晶析処理を
施すことができる。
Next, under such a condition, bisphenol A extracted from the separation step 2 through the line 15
A phenol solution containing is introduced into the outer cylinder 55 below the crystallization tower A through lines 62 and 63,
The product slurry is extracted from the bottom of the inner cylinder 56 through the line 73. In this case, when this slurry can be flowed to the next crystallization product separation step by gravity flow, it is extracted using the line 73 in this way, but if not, a part of it is discharged from the discharge line 74 of the pump 61. It can also be extracted. Further, a part of the slurry having a small content of fine crystals can be recovered from the line 72 and used as a product crystal adduct slurry. These crystal adduct slurries can be subjected to the same crystallization treatment as described above, if necessary.

【0030】ライン63を通る温度降下したスラリー及
びライン70、71を通る温度上昇したスラリーは、外
筒55内に導入させるに際し、外筒下部より外筒内に、
同一の向きの旋回流を生じるように導入するのがよい。
この場合、好ましくは、外筒内周面に対し接線方向にな
るように導入し、かつその導入位置が異なるように行
う。導入位置が近すぎると、局部的な流れの乱れを生
じ、スムーズな旋回流を得ることができなくなり、また
晶析塔の構造及び強度の面から好ましくない。よって、
これら2つのスラリーの導入位置は、外筒の中心点から
角度で表わして好ましくは90〜180度離れた位置に
おいて行うのがよい。更に、同一の向きの旋回流が生じ
るためであれば、2つのスラリーの導入位置は必ずしも
同一水平面上にある必要はなく、少くとも外筒下部に
て、多少の高低の差はあってもさしつかえない。前記の
ようにして、ライン63及びライン70、71を通る各
スラリーを、外筒内に同一の向きの旋回流を生じるよう
に導入すると、この旋回流は外筒55内を内筒56の上
端部まで上昇し、そして内筒56の上部開口から内筒5
6内を下降し、その内筒の底部からライン64を通って
抜出される。外筒55内にこのような旋回流を生じさせ
ることにより、次のような効果を得ることができる。 (1)異なる温度の2つの液流を効果的に均一に混合す
ることができる。 (2)スラリーの偏流を防止し、外筒内のスラリー濃度
が均一になることから、結晶アダクト粒子の外筒内での
滞留時間のムラをなくすことができる。 (3)結晶アダクト粒子の外筒内での沈降堆積を防止す
るに足る充分な線速を得ることができる。
When the temperature-reduced slurry passing through the line 63 and the temperature-increasing slurry passing through the lines 70 and 71 are introduced into the outer cylinder 55, they are introduced into the outer cylinder from below the outer cylinder.
It is preferable to introduce so as to generate swirling flows in the same direction.
In this case, preferably, the introduction is performed so as to be tangential to the inner peripheral surface of the outer cylinder, and the introduction positions are different. If the introduction position is too close, local turbulence of the flow occurs, a smooth swirling flow cannot be obtained, and it is not preferable from the viewpoint of the structure and strength of the crystallization tower. Therefore,
The introduction position of these two slurries is preferably expressed by an angle from the center point of the outer cylinder, preferably 90 to 180 degrees apart. Further, if swirling flows in the same direction are generated, the introduction positions of the two slurries do not necessarily have to be on the same horizontal plane, and at least in the lower part of the outer cylinder, there may be a slight difference in height. Absent. As described above, when the respective slurries passing through the line 63 and the lines 70 and 71 are introduced into the outer cylinder so as to generate a swirling flow in the same direction, the swirling flow moves in the outer cylinder 55 and the upper end of the inner cylinder 56. The inner cylinder 5 from the upper opening of the inner cylinder 56.
6 descends and is withdrawn through the line 64 from the bottom of the inner cylinder. By producing such a swirling flow in the outer cylinder 55, the following effects can be obtained. (1) Two liquid streams having different temperatures can be effectively and uniformly mixed. (2) Since uneven flow of the slurry is prevented and the slurry concentration in the outer cylinder becomes uniform, it is possible to eliminate unevenness in the residence time of the crystal adduct particles in the outer cylinder. (3) It is possible to obtain a sufficient linear velocity for preventing the sedimentation and deposition of the crystal adduct particles in the outer cylinder.

【0031】また、前記のように、内筒56底部から抜
出されたスラリーの一部を、ライン64、ライン68、
ポンプ61、加熱器59、タンク57及びライン70、
71を通して晶析塔Aに循環させる時には、スラリー中
の微結晶アダクトがタンク57内で溶解消失されること
から、一定大きさの粗大結晶アダクトを含むスラリーが
ライン70、71を通って晶析塔Aに循環され、これに
よって晶析塔A内に含まれる結晶アダクトの粒径が揃え
られ、晶析塔A内には、微結晶アダクト粒子含有率が低
く、粗大結晶アダクト粒子含有率の高い結晶アダクトが
生成される。晶析塔A内における微結晶アダクトは、そ
の比表面積が大きいことから、着色原因物質に対して高
い吸着性を示す。従って、晶析塔Aで得られる結晶アダ
クト中の微結晶アダクト粒子含有率を可及的に減少させ
ることにより、色相のよい結晶アダクトを得ることがで
きる。結晶アダクト中の粒径100μm以下の微結晶ア
ダクト粒子含有率を30重量%以下、好ましくは20重
量%以下に保持することにより、色相の良い高純度結晶
アダクトを製造することができる。
Further, as described above, a part of the slurry extracted from the bottom of the inner cylinder 56 is transferred to the line 64, the line 68,
A pump 61, a heater 59, a tank 57 and a line 70,
When circulating to the crystallization tower A through 71, the fine crystal adduct in the slurry is dissolved and disappears in the tank 57, so that the slurry containing the coarse crystal adduct of a certain size passes through the lines 70 and 71 to the crystallization tower. The crystal is circulated to A, whereby the particle size of the crystal adduct contained in the crystallization tower A is made uniform, and the crystallite A has a low content of fine crystal adduct particles and a high content of coarse crystal adduct particles. An adduct is generated. Since the microcrystalline adduct in the crystallization tower A has a large specific surface area, it exhibits a high adsorptivity for the color-causing substance. Therefore, by reducing the content ratio of the fine crystal adduct particles in the crystal adduct obtained in the crystallization tower A as much as possible, a crystal adduct having a good hue can be obtained. By maintaining the content of the fine crystal adduct particles having a particle size of 100 μm or less in the crystal adduct at 30% by weight or less, preferably 20% by weight or less, a high-purity crystal adduct having a good hue can be produced.

【0032】ライン62から供給されるビスフェノール
Aを含むフェノール溶液の温度は、結晶アダクトの飽和
温度より、1〜20℃程度高い温度であり、晶析塔Aの
温度は45〜70℃である。ライン65、ポンプ60、
冷却器58及びライン63を通って循環されるスラリー
は、冷却器58において、その温度を10℃程度以下、
好ましくは5℃以下程度降下される。晶析塔Aにおける
フェノール溶液の滞留時間は0.5〜10時間、好まし
くは0.5〜5時間である。一方、ライン68、ポンプ
61、ライン69、加熱器59を通って微結晶アダクト
溶解タンク57に導入されるスラリーは、その加熱器5
9において、その温度を0.5〜5℃程度上昇され、微
結晶溶解タンク57に保持される。このタンク57にお
けるフェノール溶液の滞留時間は3〜15分程度であ
る。
The temperature of the phenol solution containing bisphenol A supplied from the line 62 is about 1 to 20 ° C. higher than the saturation temperature of the crystal adduct, and the temperature of the crystallization tower A is 45 to 70 ° C. Line 65, pump 60,
In the cooler 58, the temperature of the slurry circulated through the cooler 58 and the line 63 is about 10 ° C. or less,
It is preferably lowered by about 5 ° C. or less. The residence time of the phenol solution in the crystallization tower A is 0.5 to 10 hours, preferably 0.5 to 5 hours. On the other hand, the slurry introduced into the microcrystal adduct dissolution tank 57 through the line 68, the pump 61, the line 69, and the heater 59 is the heater 5
In 9, the temperature is raised by about 0.5 to 5 ° C. and held in the microcrystal dissolution tank 57. The retention time of the phenol solution in the tank 57 is about 3 to 15 minutes.

【0033】微結晶溶解タンク57内においては、粒径
100μm以下の結晶アダクトが溶解される。ライン7
0を通るスラリー中の結晶アダクト中の粒径100μm
以下の結晶アダクト粒子含有率は、30重量%以下、好
ましくは20重量%以下である。
In the fine crystal dissolution tank 57, crystal adducts having a grain size of 100 μm or less are dissolved. Line 7
Particle size in the crystal adduct in the slurry passing through 0
The content of the crystalline adduct particles below is 30% by weight or less, preferably 20% by weight or less.

【0034】前記晶析法によれば、微結晶アダクト粒子
含有率の低い、色相の良好な結晶アダクトを効率よく生
成させることができる。この結晶アダクトは、これから
フェノールを分離除去することにより、色相の良いビス
フェノールAを与える。
According to the crystallization method, it is possible to efficiently generate a crystal adduct having a low hue of fine crystal adduct particles and a good hue. This crystalline adduct gives bisphenol A having a good hue by separating and removing phenol therefrom.

【0035】前記晶析工程3で得られた結晶アダクトス
ラリー(晶析生成物)は、晶析生成物分離工程4に送ら
れる。この晶析生成物分離工程4においては、結晶アダ
クトスラリーは、結晶アダクトと母液とに分離され、結
晶アダクトは、分離工程2からライン14を通って抜出
された精製フェノールを洗浄液として用いて洗浄処理さ
れる。そして、分離された母液は、必要に応じ、洗浄済
みのフェノールとともに、ライン17を通して晶析生成
物分離工程4から抜出され、反応工程1に循環される。
この場合、循環母液の少なくとも一部、通常、1〜20
重量%は、これを後記する母液精製工程に導入して処理
する。そして、精製処理された母液は、これを再び反応
工程1に循環させる。
The crystal adduct slurry (crystallization product) obtained in the crystallization step 3 is sent to the crystallization product separation step 4. In the crystallization product separation step 4, the crystal adduct slurry is separated into the crystal adduct and the mother liquor, and the crystal adduct is washed using the purified phenol extracted from the separation step 2 through the line 14 as a washing liquid. It is processed. Then, the separated mother liquor is withdrawn from the crystallization product separation step 4 through the line 17 and is recycled to the reaction step 1 together with the washed phenol, if necessary.
In this case, at least part of the circulating mother liquor, usually 1-20
The weight% is introduced into the mother liquor purification step to be described later for treatment. Then, the purified mother liquor is circulated to the reaction step 1 again.

【0036】晶析生成物分離工程4において、結晶アダ
クトスラリーを濾過処理して結晶アダクトを母液から分
離する場合、そのスラリー中に含まれる結晶アダクトの
うち、粒径100μm以下の微結晶アダクト成分の少な
くとも一部を濾液(母液)側に移行させ、粒径100μ
m以下の微結晶アダクト成分の割合が20重量%以下、
好ましくは15重量%以下の粗大結晶アダクトを得るの
が好ましい。この場合、微結晶アダクト成分を濾液側に
移行させるためには、フィルター(濾材)の選定や、濾
過操作条件の選定によって行うことができる。フィルタ
ーとしては、一般的に、その目開が100〜300μ
m、好ましくは150〜250μmのものが使用され
る。また、濾過操作条件による微結晶アダクト成分を濾
液側に移行させる場合、その微結晶アダクト成分の移行
量は、その濾過処理により得られる結晶アダクトケーク
の厚みやそのケークを逆洗する頻度によって調整するこ
とができる。
In the crystallization product separation step 4, when the crystalline adduct slurry is filtered to separate the crystalline adduct from the mother liquor, among the crystalline adducts contained in the slurry, the fine crystalline adduct component having a particle size of 100 μm or less is used. At least part of it is transferred to the filtrate (mother liquor) side, and the particle size is 100μ
The proportion of the microcrystalline adduct component of m or less is 20% by weight or less,
It is preferable to obtain a coarse crystal adduct of preferably 15% by weight or less. In this case, in order to transfer the microcrystalline adduct component to the filtrate side, it can be carried out by selecting a filter (filter material) or filtering operation conditions. As a filter, its opening is generally 100-300μ.
m, preferably 150 to 250 μm. Further, when the microcrystalline adduct component is transferred to the filtrate side according to the filtration operation condition, the transfer amount of the microcrystalline adduct component should be adjusted by the thickness of the crystal adduct cake obtained by the filtration treatment and the frequency of backwashing the cake. You can

【0037】前記のようにして得られた結晶アダクト
は、それ自体で不純物含有量の低い高品位のものである
が、さらにこの結晶アダクトを、分離工程2からライン
14を通って抜出された精製フェノールで洗浄すること
によってその品位をさらに向上させることができる。精
製フェノールによる結晶アダクトの洗浄は、結晶アダク
トと精製フェノールとの接触を充分に達し得る方法であ
ればよい。この洗浄処理は、例えば、結晶アダクトを分
離するための濾過機や遠心分離機等の固液分離装置の中
で、母液を結晶アダクトから除去した後、精製フェノー
ルをその固液分離装置内に導入して洗浄する方法や、固
液分離装置から排出される少量の母液が付着する結晶ア
ダクトを、別の撹拌槽において精製フェノールにより洗
浄することもできる。結晶アダクトに対する精製フェノ
ールの使用割合は、結晶アダクト100重量部に対し
て、50重量部以上、好ましくは100重量部以上であ
る。
The crystal adduct obtained as described above is of high quality with a low content of impurities by itself, and this crystal adduct was further extracted from separation step 2 through line 14. The quality can be further improved by washing with purified phenol. The cleaning of the crystal adduct with the purified phenol may be any method that can sufficiently bring the contact between the crystal adduct and the purified phenol. This washing treatment is carried out, for example, by removing the mother liquor from the crystal adduct in a solid-liquid separator such as a filter or a centrifuge for separating the crystal adduct, and then introducing purified phenol into the solid-liquid separator. It is also possible to clean the adduct adhering a small amount of mother liquor discharged from the solid-liquid separation device with purified phenol in another stirring tank. The ratio of the purified phenol to the crystal adduct is 50 parts by weight or more, preferably 100 parts by weight or more, based on 100 parts by weight of the crystal adduct.

【0038】精製フェノールにより洗浄処理された結晶
アダクトは、ビスフェノールAとフェノールの等モル組
成からなる結晶であるが、このものは、結晶アダクトの
液化工程5に送り、ここで液化させてビスフェノールA
を含むフェノール溶液となした後、脱フェノール工程6
に送り、ここでフェノールを除去し、高純度の製品ビス
フェノールAとすることができる。また、このビスフェ
ノールAは、さらに造粒工程7に送り、ここでビスフェ
ノールAの造粒物とすることができる。
The crystal adduct washed with purified phenol is a crystal composed of an equimolar composition of bisphenol A and phenol.
Dephenoling step 6 after forming a phenol solution containing
Where it can be stripped of phenol to give the highly pure product bisphenol A. Further, this bisphenol A is further sent to the granulation step 7, where it can be made into a granulated product of bisphenol A.

【0039】前記した結晶アダクトスラリーの濾過と結
晶アダクトの洗浄処理によれば、結晶アダクト表面に付
着する着色物質や着色性物質等の吸着性の高い不純物を
効率よく除去することができ、これにより、色相にすぐ
れ、かつ着色を生じにくい熱安定性の良い結晶アダクト
を容易に得ることができる。また、この結晶アダクトか
らフェノールを除去して得られるビスフェノールAも色
相にすぐれ、かつ着色を生じにくい高品位のものであ
る。
By filtering the crystal adduct slurry and cleaning the crystal adduct, it is possible to efficiently remove highly adsorbable impurities such as coloring substances and coloring substances adhering to the surface of the crystal adduct. In addition, it is possible to easily obtain a crystal adduct having an excellent hue and having good thermal stability that hardly causes coloring. In addition, bisphenol A obtained by removing phenol from the crystal adduct also has a high hue and is of a high quality which hardly causes coloring.

【0040】前記のようにして晶析生成物分離工程4か
ら得られた母液は、図1に示したライン17及びライン
19を通して反応工程1へ循環使用されるが、その循環
母液の少なくとも一部はライン17から抜出され、ライ
ン18を通って(i)蒸留工程8、(ii)加熱工程9及
び(iii)減圧回収工程10及び強酸型イオン交換樹脂工
程Rによって精製処理される。加熱工程9と減圧回収工
程10は、それぞれ独立して実施することができるが、
反応塔を用いて同時に実施するのが好ましい。
The mother liquor obtained from the crystallization product separation step 4 as described above is circulated to the reaction step 1 through lines 17 and 19 shown in FIG. 1, and at least a part of the circulated mother liquor is used. Is extracted from a line 17 and is purified through a line 18 by (i) distillation step 8, (ii) heating step 9 and (iii) reduced pressure recovery step 10 and strong acid ion exchange resin step R. Although the heating step 9 and the reduced pressure recovery step 10 can be carried out independently of each other,
Preference is given to carrying out simultaneously using a reaction column.

【0041】図5に、図1のライン17,18を通して
抜出された母液の精製処理方法の1つの例についての処
理系統図を示す。図5において、8はフェノール蒸留
塔、Dは反応槽6と減圧蒸発塔7を有する反応塔、Rは
強酸型イオン交換樹脂塔を示す。原料母液は、ライン1
8を通ってフェノール蒸留塔8に導入される。この場合
原料母液としては、晶析生成物分離工程4で得られた母
液の少なくとも一部を用いることができる。ビスフェノ
ールAを含むフェノール溶液の晶析処理においては、通
常、複数段の晶析工程と晶析生成物の固液分離工程が採
用され、それに応じて複数種の母液(フェノール溶液)
が得られるが、本発明ではこれらの母液の任意のものを
原料母液として用いることができる。本発明で用いる好
ましい原料母液は、第1段目の晶析工程で得られた第1
晶析生成物から分離された母液である。この第1晶析生
成物から分離された母液は、通常、フェール:85重量
%、ビスフェノールA:5〜10重量%、2,4−ビス
フェノールAを含むその他のポリフェノール:1〜5重
量%、クロマン化合物等の着色性不純物:2重量%以下
アルデヒドやキノン等の加熱により着色物質に変換する
着色性不純物:微量を含有する。
FIG. 5 shows a processing system diagram for one example of the purification processing method of the mother liquor extracted through the lines 17 and 18 of FIG. In FIG. 5, 8 is a phenol distillation column, D is a reaction column having a reaction tank 6 and a reduced pressure evaporation column 7, and R is a strong acid ion exchange resin column. Raw material mother liquor is line 1
It is introduced into the phenol distillation column 8 through 8. In this case, as the raw material mother liquor, at least a part of the mother liquor obtained in the crystallization product separation step 4 can be used. In the crystallization treatment of a phenol solution containing bisphenol A, a plurality of stages of crystallization steps and a solid-liquid separation step of a crystallization product are usually adopted, and a plurality of mother liquors (phenol solution) are accordingly used.
In the present invention, any of these mother liquors can be used as the raw material mother liquor. The preferable raw material mother liquor used in the present invention is the first mother liquor obtained in the first crystallization step.
This is the mother liquor separated from the crystallization product. The mother liquor separated from the first crystallization product is usually a fail: 85% by weight, bisphenol A: 5-10% by weight, other polyphenols containing 2,4-bisphenol A: 1-5% by weight, chroman Coloring impurities such as compounds: 2% by weight or less Coloring impurities that are converted into colored substances by heating such as aldehydes and quinones: A trace amount is contained.

【0042】フェノール蒸留塔8は、温度:100〜2
00℃、好ましくは120〜185℃、圧力:50トー
ル〜常圧条件で運転される。このフェノール蒸留塔5で
は、ライン18から導入される原料母液の50〜90重
量%好ましくは65〜85重量%が留出される。留出量
がこの範囲より多くなると、高粘度となり塔底物固化、
ライン閉塞等の問題が生じ、一方、この範囲より少ない
と、フェノールの濃度が高くなり、加熱工程や減圧回収
工程における処理効率や熱効率が低下する等の問題が生
じる。フェノール蒸留塔8からの留出蒸気は、この蒸留
塔に付設された凝縮器85で凝縮されたのち、その一部
は還流液としてライン86を通って蒸留塔8に返還さ
れ、残部の凝縮液(留出液)はライン87を通って反応
塔Dに付設された減圧凝縮器90に導入される。このラ
イン87を通る留出液は、ほぼフェノール100%から
なる。一方、フェノール蒸留塔8の底部からライン81
を通ってその塔底液が抜出され、この塔底液は、ライン
83を通って供給される塩基性触媒とともに、ライン8
4を通って反応塔Dの底部の反応槽9に導入され、ここ
で、それに含まれる反応性成分の反応と同時に、この反
応により生成した生成物を含む濃縮母液の蒸発回収処理
が行われる。なお、塩基性触媒の供給は反応塔Dの反応
槽9に対して直接行うこともできる。フェノール蒸留塔
8の底部からライン81を通って抜出される塔底液は、
通常、フェノール:10〜50重量%、好ましくは15
〜30重量%で、残りはビスフェノールA、2,4′−
ビスフェノールA、その他のポリフェノール、その他の
不純物からなる。
The phenol distillation column 8 has a temperature of 100 to 2
The operation is carried out under the conditions of 00 ° C., preferably 120 to 185 ° C., pressure: 50 Torr to normal pressure. In the phenol distillation column 5, 50 to 90% by weight, preferably 65 to 85% by weight, of the raw material mother liquor introduced through the line 18 is distilled. If the amount of distillate exceeds this range, the viscosity becomes high and the bottom solidifies,
If the amount is less than this range, the concentration of phenol will increase and the processing efficiency and the thermal efficiency in the heating step and reduced pressure recovery step will decrease. The distillate vapor from the phenol distillation column 8 is condensed in a condenser 85 attached to this distillation column, and a part of it is returned to the distillation column 8 as a reflux liquid through the line 86, and the remaining condensate is condensed. The (distillate) is introduced into the reduced pressure condenser 90 attached to the reaction tower D through the line 87. The distillate passing through this line 87 consists essentially of 100% phenol. On the other hand, from the bottom of the phenol distillation column 8 to the line 81
The bottom liquid is extracted through the line 8 and the bottom liquid together with the basic catalyst supplied through the line 83.
4 is introduced into the reaction tank 9 at the bottom of the reaction tower D, and at the same time as the reaction of the reactive components contained therein, the concentrated mother liquor containing the product produced by this reaction is evaporated and recovered. The basic catalyst may be supplied directly to the reaction tank 9 of the reaction tower D. The bottom liquid withdrawn from the bottom of the phenol distillation column 8 through the line 81 is
Usually, phenol: 10 to 50% by weight, preferably 15
~ 30% by weight, balance bisphenol A, 2,4'-
Consists of bisphenol A, other polyphenols, and other impurities.

【0043】反応塔Dにおいては、その反応槽9内にお
いて、濃縮母液中に含まれるビスフェノール、トリスフ
ェノール等のポリフェノールが塩基性触媒の作用により
熱分解され、イソプロペニルフェノールとフェノールに
転換されるとともに、クロマン化合物等の不純物の重縮
合反応が起り、不純物は高沸点物に変換される。塩基性
触媒としては、ナトリウムやカリウム等のアルカリ金属
の水酸化物、酸化物、炭酸塩、各種フェノール塩、カル
シウムやマグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化
物、酸化物、炭酸塩、各種フェノール塩等が挙げられ
る。この塩基性触媒の使用割合は、ライン81を通って
抜出される濃縮母液中のビスフェノールAを含む全ポリ
フェノールに対し0.005〜0.8重量%、好ましく
は0.01〜0.5重量%である。
In the reaction tower D, polyphenols such as bisphenol and trisphenol contained in the concentrated mother liquor are thermally decomposed by the action of a basic catalyst in the reaction tank 9 and are converted into isopropenylphenol and phenol. A polycondensation reaction of impurities such as chroman compounds occurs, and the impurities are converted into high-boiling substances. Examples of the basic catalyst include hydroxides, oxides, carbonates, various phenol salts of alkali metals such as sodium and potassium, hydroxides, oxides, carbonates, various phenols of alkaline earth metals such as calcium and magnesium. Salt etc. are mentioned. The proportion of the basic catalyst used is 0.005 to 0.8% by weight, preferably 0.01 to 0.5% by weight, based on the total polyphenol containing bisphenol A in the concentrated mother liquor extracted through the line 81. Is.

【0044】反応塔Dは、底部に反応槽9を有し、その
反応槽上に減圧蒸発塔10を立設した構造を有する。こ
の反応塔Dは、塔底(反応槽)温度:200〜350
℃、好ましくは220〜300℃、塔内圧力:5トール
〜常圧、好ましくは10〜150トールの条件で運転さ
れる。反応塔Dの頂部からライン89を通って抜出され
たフェノール及びイソプロペニルフェノールを含む留出
蒸気は、反応塔Dに付設された減圧凝縮器90に導入さ
れ、ここでフェノール蒸留塔8からライン87を取って
導入された留出液と混合接触して急冷された後、ライン
91を通って強酸型イオン交換樹脂塔Rに導入される。
フェノール蒸留塔8からライン87を通って減圧凝縮器
90に送られる留出液の温度は、45〜150℃、好ま
しくは50〜110℃である。また、ライン87を通る
留出液の量は、ライン89を通る留出蒸気に対する重量
比で1〜20、好ましくは2〜15である。ライン89
を通って反応塔Dから抜出される留出蒸気の成分は、フ
ェノール、イソプロペニルフェノール、ビスフェノール
A、その他の不純物である。ライン88を通って反応塔
Dから抜出される塔底液(反応液)は、反応塔Dにライ
ン84を通して供給される液に対して重量比で0.05
〜0.5好ましくは0.05〜0.4であり、この塔底
液には高沸点物(ビスフェノールAよりも高い沸点をも
つ)が濃縮されるとともに着色性の物質が濃縮される。
減圧凝縮器90内の混合液は、ライン91を通って強酸
型イオン交換樹脂塔Rに導入される。この強酸型イオン
交換樹脂塔Rにおいては、混合液中に含まれるイソプロ
ペニルフェノールとフェノールとの反応によりビスフェ
ノールAが生成される。このビスフェノールAを含む生
成物はライン92を通って排出され、図1に示した循環
母液ライン19又は反応工程1に、ライン25を通して
導入される。
The reaction tower D has a structure in which a reaction tank 9 is provided at the bottom and a reduced pressure evaporation tower 10 is erected on the reaction tank. This reaction tower D has a bottom (reaction tank) temperature of 200 to 350.
C., preferably 220 to 300.degree. C., column pressure: 5 torr to normal pressure, preferably 10 to 150 torr. The distillate vapor containing phenol and isopropenylphenol extracted from the top of the reaction tower D through a line 89 is introduced into a vacuum condenser 90 attached to the reaction tower D, where the phenol distillation tower 8 draws a line. 87 is mixed with the introduced distillate and brought into contact with the distillate to be rapidly cooled, and then introduced into the strong acid ion exchange resin tower R through a line 91.
The temperature of the distillate sent from the phenol distillation column 8 to the vacuum condenser 90 through the line 87 is 45 to 150 ° C, preferably 50 to 110 ° C. The amount of the distillate passing through the line 87 is 1 to 20, preferably 2 to 15 by weight ratio with respect to the distillate vapor passing through the line 89. Line 89
The components of the distillate vapor extracted from the reaction column D through the reactor are phenol, isopropenylphenol, bisphenol A and other impurities. The bottom liquid (reaction liquid) extracted from the reaction column D through the line 88 is 0.05 in weight ratio with respect to the liquid supplied to the reaction column D through the line 84.
˜0.5, preferably 0.05 to 0.4, and the high-boiling substance (having a higher boiling point than bisphenol A) and the coloring substance are concentrated in this bottom liquid.
The mixed liquid in the reduced pressure condenser 90 is introduced into the strong acid type ion exchange resin tower R through a line 91. In this strong acid type ion exchange resin tower R, bisphenol A is produced by the reaction of isopropenylphenol and phenol contained in the mixed liquid. The product containing bisphenol A is discharged through a line 92 and introduced into the circulating mother liquor line 19 shown in FIG. 1 or the reaction step 1 through a line 25.

【0045】強酸型イオン交換樹脂としては、スルホン
基を有するゲル型のものが用いられ、このような強酸型
イオン交換樹脂は、従来良く知られているものである。
例えば、ロームアンドハース社から入手しえるアンバー
ライト及びアンバーリストや、三菱化成社から入手し得
るダイヤイオン等を好ましく用いることができる。この
強酸型イオン交換樹脂を用いる混合液の反応において、
その反応温度は45〜130℃、好ましくは50〜10
0℃であり、接触時間は5〜200分、好ましくは15
〜120分である。この強酸型イオン交換樹脂を用いる
混合液の反応を行う場合、混合液中の水分は、0.5重
量%以下、好ましくは0.1重量%以下にする。強酸型
イオン交換樹脂塔Rからライン92を通って抜出される
反応生成物の成分は、フェノール:85〜95重量%、
ビスフェノールA:5〜15重量%、好ましくは5〜1
0重量%、その他の不純物:微量であり、着色性の低い
ものである。このものは、図1に示したように、ライン
25を通して反応工程1に循環使用される。また必要に
応じて、その一部を濃縮晶析してビスフェノールA・フ
ェノール結晶アダクトとすることができる。なお、強酸
型イオン交換樹脂塔Rは、必ずしも必要とされず、反応
蒸留Dの塔頂物は、直接反応工程1に循環させることが
できる。
As the strong acid type ion exchange resin, a gel type one having a sulfone group is used, and such a strong acid type ion exchange resin is well known in the prior art.
For example, Amberlite and Amberlyst available from Rohm and Haas Company, Diaion etc. available from Mitsubishi Kasei Co. can be preferably used. In the reaction of the mixed solution using this strong acid type ion exchange resin,
The reaction temperature is 45 to 130 ° C, preferably 50 to 10 ° C.
0 ° C., contact time 5 to 200 minutes, preferably 15
~ 120 minutes. When the reaction of the mixed solution using the strong acid type ion exchange resin is performed, the water content in the mixed solution is 0.5% by weight or less, preferably 0.1% by weight or less. The component of the reaction product extracted from the strong acid ion exchange resin tower R through the line 92 is phenol: 85 to 95% by weight,
Bisphenol A: 5 to 15% by weight, preferably 5 to 1
0% by weight, other impurities: Trace amount and low coloring property. This is recycled to reaction step 1 through line 25, as shown in FIG. If necessary, a part thereof can be concentrated and crystallized to obtain a bisphenol A / phenol crystal adduct. The strong acid type ion exchange resin column R is not always necessary, and the top product of the reactive distillation D can be directly circulated in the reaction step 1.

【0046】反応塔Dは、図6に示すように、加熱処理
装置Aと滞留槽Bを付設して用いるのが好ましい。この
ような反応塔Dの運転においては、反応塔Dの底部の反
応槽9からライン96を通って、その塔底物の一部が抜
出され、その抜出された塔底物の一部は、第1循環液と
してライン97を通って加熱処理装置Aに導入され、こ
こで加熱処理をうけた後、ライン94及びライン95を
通って反応塔Dの反応槽9に循環される。加熱処理装置
Aにおいて、第1循環液は、塩基性触媒の存在下200
〜350℃、好ましくは230〜300℃の温度に加熱
される。この加熱によって、第1循環液に含まれるポリ
フェノールは、前記した熱分解反応を受ける。加熱処理
装置A内における第1循環液の滞留時間は、1〜30
分、好ましくは1〜20分である。一方、反応蒸留塔D
の底部から抜出された塔底物の一部は、第2循環液とし
て、ライン98、ライン99、滞留槽B及びライン10
0を通って反応塔Dの反応槽9に循環される。滞留槽B
においては、第2循環液は、200〜300℃、好まし
くは220〜280℃の温度において、5〜120分好
ましくは10〜100分間保持される。この滞留処理に
よって、母液中に含まれるポリフェノールの解重合が不
十分な場合に、更にその解重合が進行するとともに、着
色原因物質、たとえばクロマン化合物の重質化が不十分
な場合には、更にその重質化が進行し分離の容易な高沸
点タール状物に変換される等の効果が得られる。第1循
環液の循環量は、ライン100を通って反応塔Dに供給
される濃縮母液100重量部に対して50〜5000重
量部であり、一方、第2循環液の循環量は、同じく10
〜10000重量部、好ましくは50〜5000重量部
である。
As shown in FIG. 6, the reaction tower D is preferably used with a heat treatment apparatus A and a retention tank B attached thereto. In such operation of the reaction tower D, a part of the bottom product is withdrawn from the reaction tank 9 at the bottom of the reaction tower D through the line 96, and a part of the withdrawn bottom product. Is introduced into the heat treatment apparatus A through the line 97 as the first circulating liquid, is subjected to the heat treatment there, and then is circulated to the reaction tank 9 of the reaction tower D through the lines 94 and 95. In the heat treatment apparatus A, the first circulating liquid is 200
It is heated to a temperature of ~ 350 ° C, preferably 230-300 ° C. By this heating, the polyphenol contained in the first circulating liquid undergoes the above-mentioned thermal decomposition reaction. The residence time of the first circulating liquid in the heat treatment apparatus A is 1 to 30.
Minutes, preferably 1 to 20 minutes. On the other hand, reactive distillation column D
Part of the column bottoms extracted from the bottom of the column is the line 98, the line 99, the retention tank B and the line 10 as the second circulating liquid.
It is circulated to the reaction tank 9 of the reaction tower D through 0. Retention tank B
In, the second circulating liquid is held at a temperature of 200 to 300 ° C., preferably 220 to 280 ° C. for 5 to 120 minutes, preferably 10 to 100 minutes. By this retention treatment, when the depolymerization of the polyphenol contained in the mother liquor is insufficient, the depolymerization proceeds further, and when the color-causing substance, for example, the chroman compound is insufficiently heavier, It is possible to obtain the effect that the heaviness progresses and is converted into a high boiling point tar-like substance that can be easily separated. The circulation amount of the first circulating liquid is 50 to 5000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the concentrated mother liquor supplied to the reaction column D through the line 100, while the circulating amount of the second circulating liquid is 10
It is from 1 to 10,000 parts by weight, preferably from 50 to 5,000 parts by weight.

【0047】前記した母液の処理方法においては、母液
中に含まれる不純物は、反応塔Dの塔底又は反応槽9に
連結するライン23(図1)又はライン88(図5、図
6)を通して、濃縮不純物として排出される。この濃縮
不純物にはビスフェノールAよりも高沸点の副生物や、
縮合性不純物の縮合物が含まれ、さらに、反応工程1に
おいて触媒として高沸点の強酸性物質、例えば、スルホ
ン酸基を有するイオン交換樹脂を用いた場合には、その
触媒から遊離したスルホン化物が含まれる。従って、前
記した母液の処理方法によれば、その母液に含まれてい
るポリフェノール化合物、着色不純物、着色性不純物、
さらには反応工程1で用いた触媒由来の高沸点物(スル
ホン化物等)は、いずれも濃縮された状態で母液から分
離除去される。そして、このようにして副生物及び不純
物の除去された母液を、再び反応工程1に循環すること
によって、母液中に含まれる有用成分の損失を抑え、反
応系における副生物及び不純物の蓄積を防止することが
でき、その結果、高純度でかつ着色の防止されたビスフ
ェノールAを得ることができる。
In the method for treating the mother liquor described above, impurities contained in the mother liquor are passed through the line 23 (FIG. 1) or the line 88 (FIG. 5, FIG. 6) connected to the bottom of the reaction tower D or the reaction tank 9. , Discharged as concentrated impurities. By-products having a higher boiling point than bisphenol A,
Condensates of condensable impurities are contained, and when a strongly acidic substance having a high boiling point such as an ion exchange resin having a sulfonic acid group is used as a catalyst in the reaction step 1, the sulfonated product liberated from the catalyst is included. Therefore, according to the treatment method of the mother liquor described above, the polyphenol compound contained in the mother liquor, the coloring impurities, the coloring impurities,
Further, the catalyst-derived high-boiling substances (such as sulfonates) used in the reaction step 1 are separated and removed from the mother liquor in a concentrated state. Then, by recycling the mother liquor from which the by-products and impurities have been removed in this way to the reaction step 1 again, the loss of useful components contained in the mother liquor is suppressed and the accumulation of by-products and impurities in the reaction system is prevented. As a result, it is possible to obtain bisphenol A with high purity and in which discoloration is prevented.

【0048】結晶アダクト液化工程5は、結晶アダクト
を加熱溶融して液化する工程である。結晶アダクトの溶
融装置としては、外壁面に加熱ジャケットを備えた外部
加熱方式の密閉型容器や、内部に加熱コイルを備えた内
部加熱方式の密閉型容器等が用いられる。この溶融装置
は、結晶アダクトの溶融液化に先立ち、内壁面を構成す
る材質の表面に付着する酸素除去処理を施して用いるの
が好ましい。このことにより、結晶アダクトの溶融に際
しての加熱に起因する着色原因物質の生成量を著しく抑
制させることができ、色相の良好な高純度ビスフェノー
ルAを得ることができる。溶融装置の内壁面は、金属材
質、通常、ステンレススチール、例えば、SUS30
4、SUS316、316L等で形成され、その表面に
は、通常、1m2当り30〜60ミリモル程度の酸素が
付着結合している。この酸素量は種々の方法によって測
定することができる。たとえば試験片によって洗浄条件
と、表面エッチングによって深さが測定された表面付着
結合酸素量との相関をもとめて推定する方法もあるが、
表面付着結合酸素量と洗浄フェノールの着色の関係から
も測定できる。また他の洗浄液の場合にもその着色と表
面付着結合酸素量の相関を予め求めておいてそれを測定
方法とすることができる。たとえば、フェノールの着色
は酸素百万分の1重量部に対して6APHAとなり、こ
の測定の相関として用いることができる。溶融装置は、
あらかじめその内壁表面に付着する酸素を除去して使用
することにより、結晶アダクトの溶融時における加熱に
より生じる着色原因物質の生成を著しく抑制することが
でき、色相の良好な製品ビスフェノールを得ることがで
きる。
The crystal adduct liquefying step 5 is a step of liquefying by heating and melting the crystal adduct. As a melting device for the crystal adduct, an external heating type closed container having a heating jacket on the outer wall surface, an internal heating type closed container having a heating coil inside, or the like is used. This melting apparatus is preferably used after being subjected to a treatment for removing oxygen adhering to the surface of the material forming the inner wall surface, prior to the melt liquefaction of the crystal adduct. As a result, the amount of the coloring-causing substance produced due to heating during melting of the crystal adduct can be significantly suppressed, and high-purity bisphenol A having a good hue can be obtained. The inner wall surface of the melting device is made of a metallic material, usually stainless steel, such as SUS30.
4, SUS316, 316L, etc., and about 30 to 60 millimoles of oxygen per m 2 are attached and bonded to the surface thereof. This oxygen content can be measured by various methods. For example, there is also a method of estimating based on the correlation between the cleaning conditions of a test piece and the amount of surface-attached bound oxygen whose depth is measured by surface etching.
It can also be measured from the relationship between the amount of oxygen attached to the surface and the coloration of the washed phenol. Also in the case of other cleaning liquids, the correlation between the coloring and the amount of oxygen adhering to the surface can be determined in advance and used as the measuring method. For example, the coloring of phenol is 6 APHA for 1 part by weight of oxygen and can be used as a correlation for this measurement. The melting device
By removing oxygen adhering to the inner wall surface in advance, it is possible to remarkably suppress the production of a coloring-causing substance caused by heating during melting of the crystal adduct, and to obtain a product bisphenol having a good hue. .

【0049】溶融装置の内壁面からの酸素除去は、内壁
面を有機溶剤を用いて洗浄処理することによって行うこ
とができる。有機溶剤としては、フェノール又はビスフ
ェノールA、フェノールとビスフェノールAの混合物等
を用いることができる。洗浄処理温度は、100〜20
0℃、好ましくは120〜185℃である。洗浄に際し
ての雰囲気としては、窒素ガスや窒素ガスやアルゴンガ
ス、脱ガススチーム等の非酸化性ガス雰囲気や、減圧雰
囲気が用いられ、その雰囲気中酸素濃度は0.01vo
l%以下、好ましくは0.005vol%以下、更に好
ましくは0.001vol%以下である。有機溶剤によ
る内壁面の洗浄は、内壁面に対し、スプレーノズルを介
して有機溶剤を噴射させることによって行うことができ
る。有機溶剤による洗浄後には、溶融装置の底部に滞留
する有機溶剤を排出し、必要に応じ、内部を乾燥処理す
る。なお、気相の酸素濃度の測定には通常のガスクロマ
トグラフィー法あるいは電気化学法による微量酸素分析
計などを利用することができる。
Oxygen can be removed from the inner wall surface of the melting apparatus by cleaning the inner wall surface with an organic solvent. As the organic solvent, phenol, bisphenol A, a mixture of phenol and bisphenol A, or the like can be used. The cleaning treatment temperature is 100 to 20.
The temperature is 0 ° C, preferably 120 to 185 ° C. As an atmosphere for cleaning, a non-oxidizing gas atmosphere such as nitrogen gas, nitrogen gas, argon gas, degassing steam, or a reduced pressure atmosphere is used, and the oxygen concentration in the atmosphere is 0.01 vo
It is 1% or less, preferably 0.005 vol% or less, and more preferably 0.001 vol% or less. The cleaning of the inner wall surface with the organic solvent can be performed by spraying the organic solvent onto the inner wall surface through a spray nozzle. After washing with the organic solvent, the organic solvent remaining at the bottom of the melting device is discharged, and the inside is dried as necessary. In addition, for the measurement of the oxygen concentration in the gas phase, a normal gas chromatography method or a trace oxygen analyzer by an electrochemical method can be used.

【0050】前記内壁面からの酸素除去処理において
は、その内壁面に付着する酸素量が、内壁面1m2
り、10ミリモル以下、好ましくは5ミリモル以下にな
るように行うのが良い。溶融装置の操作条件としては、
温度:115〜180℃、好ましくは120〜150
℃、圧力:常圧、酸素濃度:0.01vol%以下、好
ましくは0.005vol%以下、更に好ましくは0.
001vol%以下の条件が採用される。結晶アダクト
の溶融に際しては、結晶アダクトをそのまま溶液液化さ
せる方法を採用し得るが、結晶アダクトを短時間で溶融
させるために、その結晶アダクトを精製フェノールのよ
うな着色の殆どない熱フェノールを用いて希釈して溶融
する方法や、結晶アダクトの溶融済みの液中で溶融させ
る方法等を採用することもできる。
In the oxygen removal treatment from the inner wall surface, the amount of oxygen attached to the inner wall surface is preferably 10 mmol or less, preferably 5 mmol or less per 1 m 2 of the inner wall surface. The operating conditions of the melting device are:
Temperature: 115-180 ° C, preferably 120-150
° C, pressure: normal pressure, oxygen concentration: 0.01 vol% or less, preferably 0.005 vol% or less, more preferably 0.
Conditions of 001 vol% or less are adopted. When melting the crystal adduct, a method of liquefying the crystal adduct as it is can be adopted, but in order to melt the crystal adduct in a short time, the crystal adduct is used with a non-colored hot phenol such as purified phenol. It is also possible to employ a method of diluting and melting, a method of melting in a liquid in which the crystal adduct has been melted, or the like.

【0051】溶融装置で液化させる原料としての結晶ア
ダクトとしては、実質的に中性条件下にあるものの使用
が好ましい。アセトンとフェノールの反応に際しては、
触媒として強酸性物質を使用することから、その反応生
成物中に存在する強酸性物質は、これを反応後、中和点
を超えないように中和するか、反応系から除去すること
が必要であり、また、強酸性物質の中和に用いたアルカ
リが残存するときには、このアルカリも除去することが
必要である。また、反応生成物中に存在する強酸性物質
あるいはアルカリの除去は、反応工程より後の晶析工程
や晶析生成物分離工程等において除去することができ
る。前記した実質的に中性条件下にある結晶アダクトと
は、前記のような強酸性物質やアルカリ性物質の影響の
除去された結晶アダクトを意味するものである。このよ
うな結晶アダクトは、pH5.0を示すように酸度を調
整したメタノール水溶液に添加溶解し、フェノールの実
質的非電離条件下におけるpH測定方法において、pH
4.90〜5.50、好ましくはpH4.95〜5.2
0を示すものである。結晶アダクトとしては、前記した
ように、実質的に中性条件下にあるものを用いるが、こ
の場合、結晶アダクトの溶融色APHAを15以下に保
持するのが好ましい。溶融色APHAが15以下の結晶
アダクトは、晶析工程における晶析段数を増加させるこ
とによって得ることができ、また、結晶アダクトを精製
フェノールで洗浄することによって得ることができる。
As the crystal adduct as a raw material to be liquefied in the melting apparatus, it is preferable to use a crystal adduct which is substantially under neutral conditions. In the reaction of acetone and phenol,
Since a strongly acidic substance is used as a catalyst, it is necessary to neutralize the strongly acidic substance present in the reaction product after the reaction so as not to exceed the neutralization point or remove it from the reaction system. Further, when the alkali used for neutralizing the strongly acidic substance remains, it is also necessary to remove this alkali. Further, the strongly acidic substance or the alkali present in the reaction product can be removed in the crystallization step after the reaction step, the crystallization product separation step, or the like. The above-mentioned substantially crystalline adduct under a neutral condition means a crystalline adduct from which the influence of the strongly acidic substance or the alkaline substance is removed. Such a crystal adduct is added to and dissolved in an aqueous methanol solution whose acidity is adjusted to have a pH of 5.0, and the pH is measured in a pH measuring method under substantially non-ionizing conditions of phenol.
4.90-5.50, preferably pH 4.95-5.2
It shows 0. As the crystal adduct, those which are under a substantially neutral condition are used as described above. In this case, it is preferable to maintain the melt color APHA of the crystal adduct at 15 or less. A crystal adduct having a melt color APHA of 15 or less can be obtained by increasing the number of crystallization stages in the crystallization step, and can also be obtained by washing the crystal adduct with purified phenol.

【0052】また、実質的に中性条件下にある結晶アダ
クトの溶融液化に際しては、脂肪族カルボン酸を添加す
るのが好ましい。この場合に用いる脂肪族カルボン酸
は、溶融状態にあるビスフェノールAを空気と長時間接
触させたり、高温に保持した際のビスフェノールAの着
色を防止する作用を示すものである。実質的に中性条件
下にある結晶アダクトに対して脂肪族カルボン酸を添加
し、結晶アダクトを溶融し、さらに脱フェノールさせる
ことにより、色相にすぐれかつ着色のないビスフェノー
ルAを得ることができる。脂肪族カルボン酸としては、
ビスフェノールAに対して着色防止効果を示すものであ
ればどのようなものでもよく、従来公知のものが用いら
れる。このようなものとしては、例えば、ギ酸、シュウ
酸、クエン酸、酒石酸、グリコール酸、乳酸、リンゴ
酸、グリセリン酸等を挙げることができる。これらのも
のは、反応中、160℃以上の温度で分解あるいは異性
化を起して、ビスフェノールAに対する着色防止剤とし
てすぐれた作用を示す。脂肪族カルボン酸の添加量は、
結晶アダクトに対し、1〜100重量ppm、好ましく
は5〜50重量ppmである。また、結晶アダクトをシ
ュウ酸又はクエン酸の存在下で加熱溶融する場合、その
溶融温度は115〜180℃、好ましくは120〜15
0℃であり、溶融圧力は、1〜5atm、好ましくは
1.0〜1.9atmである。溶融雰囲気は、できるだ
け酸素濃度の低い雰囲気が好ましく、通常、酸素濃度
0.005vol%以下、好ましくは0.001vol
%以下の雰囲気の使用が有利である。脂肪族カルボン酸
は、結晶アダクトに添加し得る他、結晶アダクトを分離
する以前の結晶アダクトスラリーに添加してもよく、ま
た、結晶アダクトを溶融して得たビスフェノールAを含
むフェノール溶液に添加してもよく、その添加時期は特
に制約されない。
When the crystal adduct is melted and liquefied under substantially neutral conditions, it is preferable to add an aliphatic carboxylic acid. The aliphatic carboxylic acid used in this case has an action of preventing the coloring of bisphenol A when the bisphenol A in a molten state is brought into contact with air for a long time or is kept at a high temperature. By adding an aliphatic carboxylic acid to a crystal adduct under a substantially neutral condition, melting the crystal adduct, and further dephenoling it, it is possible to obtain bisphenol A having an excellent hue and no coloring. As the aliphatic carboxylic acid,
Any material may be used as long as it has an effect of preventing coloring of bisphenol A, and conventionally known materials may be used. Examples of such substances include formic acid, oxalic acid, citric acid, tartaric acid, glycolic acid, lactic acid, malic acid, glyceric acid and the like. These compounds decompose or isomerize at a temperature of 160 ° C. or higher during the reaction, and exhibit an excellent action as a color preventing agent for bisphenol A. The amount of aliphatic carboxylic acid added is
It is 1 to 100 ppm by weight, preferably 5 to 50 ppm by weight, based on the crystal adduct. When the crystal adduct is heated and melted in the presence of oxalic acid or citric acid, the melting temperature is 115 to 180 ° C, preferably 120 to 15 ° C.
It is 0 ° C., and the melting pressure is 1 to 5 atm, preferably 1.0 to 1.9 atm. The melting atmosphere is preferably an atmosphere having an oxygen concentration as low as possible, and usually has an oxygen concentration of 0.005 vol% or less, preferably 0.001 vol.
It is advantageous to use an atmosphere of less than%. The aliphatic carboxylic acid may be added to the crystal adduct, may be added to the crystal adduct slurry before separating the crystal adduct, or may be added to the phenol solution containing bisphenol A obtained by melting the crystal adduct. However, the addition timing is not particularly limited.

【0053】脱フェノール工程6は、結晶アダクトの液
化により得られたビスフェノールAを含むフェノール溶
液からフェノールを蒸発除去してビスフェノールAを得
る工程である。この工程で分離されたフェノールはライ
ン29を通って放出され、また、フェノールの除去され
たビスフェノールAはライン28を通って造粒工程7に
送られる。蒸発装置としては、蒸留塔やストリッピング
装置、充填塔、薄膜蒸発器等が用いられる。この蒸発装
置も、前記溶融装置の場合と同様に、その使用に先立
ち、その内壁面を構成する材質の表面に付着する酸素除
去処理を施して用いるのが好ましい。この場合、その内
壁面に付着する酸素量を、内壁面1m2当り、10ミル
モル以下、好ましくは5ミリモル以下になるように除去
するのが好ましい。また、蒸発装置内に蒸発表面積を向
上せしめる部材、例えば、ラッシッヒリング、ボールリ
ング、板体、多孔体等の充填材や棚段が配設されている
場合には、それらの部材に対しても、その表面から酸素
を除去する処理を施すのが好ましい。蒸発装置は、1段
又は多段で用いることができるが、その操作条件として
は、1段で用いる場合にはその1段の蒸発装置及び多段
で用いる場合にはその最終段の蒸発装置の操作条件とし
て、温度:180〜200℃、好ましくは170〜18
5℃、圧力:1〜100トール、好ましくは5〜40ト
ール、雰囲気中酸素濃度:0.005vol%以下、好
ましくは0.001vol%以下の条件が採用される。
The dephenoling step 6 is a step for obtaining bisphenol A by evaporating and removing phenol from the phenol solution containing bisphenol A obtained by liquefying the crystal adduct. Phenol separated in this step is discharged through line 29, and phenol-free bisphenol A is sent through line 28 to granulation step 7. As the evaporator, a distillation tower, a stripping device, a packed tower, a thin film evaporator, or the like is used. As in the case of the melting device, it is preferable that this evaporation device is also used before being used after being subjected to a treatment for removing oxygen attached to the surface of the material forming the inner wall surface thereof. In this case, it is preferable to remove the amount of oxygen attached to the inner wall surface so that the amount of oxygen is 10 mmol or less, preferably 5 mmol or less per 1 m 2 of the inner wall surface. Further, in the evaporator, a member for improving the evaporation surface area, for example, if a Raschig ring, a ball ring, a plate, a packing material such as a porous body or a shelf is provided, for those members, It is preferable to perform a treatment for removing oxygen from the surface. The evaporator can be used in a single stage or in multiple stages. The operating conditions for the evaporator are the one stage evaporator when used in one stage and the final stage evaporator when used in multiple stages. As temperature: 180 to 200 ° C., preferably 170 to 18
The conditions are 5 ° C., pressure: 1 to 100 Torr, preferably 5 to 40 Torr, and oxygen concentration in atmosphere: 0.005 vol% or less, preferably 0.001 vol% or less.

【0054】脱フェノール工程を実施する場合の1つの
好ましい態様は、スチームを用いない蒸発工程と、スチ
ームを用いる蒸発工程とを組合せて結晶アダクト溶融液
を蒸発処理する方法である。この蒸発処理方法において
は、結晶アダクト溶融装置からの溶融液は、これを第1
の蒸発塔に導入し、ここでスチームの非存在下、減圧下
において蒸発処理し、その溶融液中のフェノールの一部
を蒸発除去する。この第1蒸発塔の塔頂からは、フェノ
ールを含む蒸気が分離回収され、その底部からは、フェ
ノールの一部が蒸発除去された溶融液が分離回収され
る。この第1蒸発塔からの塔底物は、これを第2蒸発塔
に導入し、ここでスチームの存在下、減圧下において蒸
発処理して、溶融液中の残部フェノールを蒸発除去す
る。この第2蒸発塔からは、その塔頂物として、フェノ
ール、スチーム及び少量のビスフェノールAを含む混合
蒸気が排出され、その塔底物として、高純度ビスフェノ
ールAが分離回収される。スチームを用いない第1蒸発
塔の操作条件としては、温度:125〜200℃、好ま
しくは130〜185℃、圧力:100トール以下、好
ましくは5〜40トールが採用される。蒸発塔内の蒸気
雰囲気中の酸素濃度は、0.005vol%以下、好ま
しくは0.001vol%以下に保持される。この第1
蒸発塔において、結晶アダクト溶融液中に存在するフェ
ノールの95〜99.8重量%、好ましくは98〜9
9.7重量%が蒸発除去される。前記スチームを用いる
第2蒸発塔の操作条件としては、温度:130〜200
℃、好ましくは160〜185℃、圧力:100トール
以下、好ましくは5〜40トール、ビスフェノールA溶
融液1kg当りのスチーム供給量:0.02〜0.2k
g、好ましくは0.04〜0.1kgの条件が採用され
る。蒸発塔内の蒸気雰囲気中の酸素濃度は、0.005
vol%以下、好ましくは0.001vol%以下に保
持される。この第2蒸発塔においては、第1蒸発塔から
得られる結晶アダクト溶融液中のフェノールの実質的全
量が蒸発除去され、塔底物として、フェノール含有率2
00wtppm以下、好ましくは50wtppm以下の
ビスフェノールAが得られる。
One preferable mode of carrying out the dephenoling step is a method of evaporating the crystal adduct melt by combining an evaporation step without steam and an evaporation step with steam. In this evaporation method, the molten liquid from the crystal adduct melting device is
In the absence of steam, evaporation is carried out under reduced pressure, and a part of the phenol in the melt is removed by evaporation. From the top of the first evaporation column, vapor containing phenol is separated and collected, and from the bottom thereof, a molten liquid in which a part of phenol is removed by evaporation is separated and collected. The bottom product from the first evaporation column is introduced into the second evaporation column, where it is subjected to an evaporation treatment under reduced pressure in the presence of steam to evaporate and remove the residual phenol in the melt. From the second evaporation column, a mixed vapor containing phenol, steam and a small amount of bisphenol A is discharged as the top product, and high-purity bisphenol A is separated and recovered as the bottom product. As operating conditions of the first evaporation column without using steam, temperature: 125 to 200 ° C., preferably 130 to 185 ° C., pressure: 100 Torr or less, preferably 5 to 40 Torr is adopted. The oxygen concentration in the vapor atmosphere in the evaporation tower is maintained at 0.005 vol% or less, preferably 0.001 vol% or less. This first
In the evaporation column, 95-99.8% by weight of the phenol present in the crystal adduct melt, preferably 98-9.
9.7% by weight is evaporated off. The operating conditions of the second evaporation column using the steam include temperature: 130 to 200
℃, preferably 160-185 ℃, pressure: 100 Torr or less, preferably 5-40 Torr, steam supply amount per kg bisphenol A melt: 0.02-0.2k
The condition of g, preferably 0.04 to 0.1 kg is adopted. The oxygen concentration in the vapor atmosphere in the evaporation tower is 0.005
It is kept at not more than vol%, preferably not more than 0.001 vol%. In this second evaporation tower, substantially all the amount of phenol in the crystal adduct melt obtained from the first evaporation tower is removed by evaporation, and the phenol content is 2 as the bottom product.
It is possible to obtain bisphenol A of 00 wtppm or less, preferably 50 wtppm or less.

【0055】前記のスチームを用いる第2蒸発塔から
は、スチーム、フェノール及び少量のビスフェノールA
を含む混合蒸気が得られるが、この混合蒸気からはフェ
ノール及びビスフェノールAを分離回収する。この混合
蒸気からのフェノール及びビスフェノールAの分離回収
は、従来公知の各種の方法で行うことができるが、本発
明においては、特に、2段階の冷却工程を用いて行うの
が好ましい。次に、この2段階の冷却工程を用いる混合
蒸気からのフェノールの分離回収について詳述する。こ
の方法においては、前記第2蒸発塔から得られフェノー
ル、スチーム及び少量のビスフェノールAを含む混合蒸
気は、これを、その減圧状態のまま第1冷却工程へ供給
し、ここでフェノール又はビスフェノールAを含むフェ
ノールからなる第1冷却媒体と向流接触させて冷却す
る。この第1冷却工程は、混合蒸気中のビスフェノール
Aの実質的全量を冷却媒体中に溶解するように実施す
る。混合蒸気中のスチームは、この第1冷却工程では実
質上凝縮されず、次の第2冷却工程へ送られる。混合蒸
気中のフェノールは、その一部がこの第1冷却工程で凝
縮され、残りの未凝縮のものはスチームとともに次の第
2冷却工程へ送られる。第1冷却工程で混合蒸気から分
離回収されたビスフェノールAとフェノールの混合液
は、その一部を冷却媒体として用いることができる。第
1冷却媒体の温度は、フェノールの凝固点より1〜50
℃程度高い温度である。この第1冷却工程における混合
蒸気からのフェノールの回収率は、この第1冷却工程に
対する全供給フェノールに対し、70重量%以上、好ま
しくは85重量%以上である。
From the second evaporation column using the above steam, steam, phenol and a small amount of bisphenol A are obtained.
A mixed vapor containing is obtained, and phenol and bisphenol A are separated and recovered from this mixed vapor. Separation and recovery of phenol and bisphenol A from this mixed vapor can be carried out by various conventionally known methods, but in the present invention, it is particularly preferable to carry out using a two-stage cooling process. Next, the separation and recovery of phenol from the mixed vapor using this two-stage cooling process will be described in detail. In this method, the mixed vapor obtained from the second evaporation column and containing phenol, steam and a small amount of bisphenol A is supplied to the first cooling step in the reduced pressure state, where phenol or bisphenol A is added. The first cooling medium containing phenol is countercurrently contacted to cool. This first cooling step is carried out so that substantially all the amount of bisphenol A in the mixed vapor is dissolved in the cooling medium. The steam in the mixed vapor is not substantially condensed in this first cooling step and is sent to the next second cooling step. Part of the phenol in the mixed vapor is condensed in this first cooling step, and the remaining uncondensed one is sent to the next second cooling step together with steam. A part of the mixed liquid of bisphenol A and phenol separated and recovered from the mixed vapor in the first cooling step can be used as a cooling medium. The temperature of the first cooling medium is 1 to 50 from the freezing point of phenol.
The temperature is about ℃ higher. The recovery rate of phenol from the mixed vapor in the first cooling step is 70% by weight or more, and preferably 85% by weight or more, based on the total amount of phenol supplied to the first cooling step.

【0056】第1冷却工程で用いる冷却媒体は、混合蒸
気を所望温度に冷却し得るに充分な量であればよく、通
常、混合蒸気に対する重量比で、5〜10、好ましくは
6〜9である。また、第1冷却工程で得られる混合蒸気
中のビスフェノールAとフェノールを溶解した冷却媒体
中に含まれるビスフェノールAの合計ビスフェノールA
のフェノールに対する重量比は、0.05〜0.20、
好ましくは0.08〜0.14である。この第1冷却工
程においては、ビスフェノールAに対し過剰のフェノー
ルが存在することから、ビスフェノールAの凝固点以下
の冷却温度であっても、ビスフェノールAとフェノール
とのアダクトが晶出するようなことはない。
The cooling medium used in the first cooling step may be an amount sufficient to cool the mixed vapor to a desired temperature, and is usually 5 to 10, preferably 6 to 9 by weight ratio to the mixed vapor. is there. Also, the total bisphenol A of bisphenol A contained in the cooling medium in which bisphenol A in the mixed vapor obtained in the first cooling step and phenol are dissolved.
Of phenol to the weight ratio of 0.05 to 0.20,
It is preferably 0.08 to 0.14. In this first cooling step, since excess phenol is present with respect to bisphenol A, the adduct between bisphenol A and phenol does not crystallize even at a cooling temperature below the freezing point of bisphenol A. .

【0057】第1冷却工程の圧力は、100トール以
下、好ましくは5〜40トールであり、前記第2充填塔
における圧力に対応する。また、第1冷却工程における
温度は、前記圧力条件下においてスチームが気体を保持
し、フェノールの一部が液体を保持する温度である。好
ましい冷却温度(ビスフェノールAを凝縮させる温度)
は、42〜90℃、好ましくは45〜55℃である。
The pressure in the first cooling step is 100 torr or less, preferably 5 to 40 torr, which corresponds to the pressure in the second packed column. Further, the temperature in the first cooling step is a temperature at which steam holds gas and a part of phenol holds liquid under the pressure condition. Preferred cooling temperature (temperature at which bisphenol A is condensed)
Is 42 to 90 ° C, preferably 45 to 55 ° C.

【0058】第2冷却工程へ送られたスチームとフェノ
ールの混合蒸気は、ここでフェノールの水溶液からなる
第2冷却媒体と向流接触させて冷却する。この第2冷却
工程は、この工程へ送られたスチームとフェノールの実
質的全量が凝縮液化するように実施し、この工程からは
フェノールの水溶液が回収される。この第2冷却工程で
得られるフェノールの水溶液は、その一部を第2冷却媒
体として用いることができる。水溶液中のフェノール濃
度は、混合蒸気の組成及び第1冷却工程の条件で決まる
が、通常、55〜75重量%である。また、この第2冷
却媒体の温度は、スチームの凝縮温度より1〜10℃程
度低い温度である。
The steam and phenol mixed vapor sent to the second cooling step are cooled by being countercurrently contacted with a second cooling medium consisting of an aqueous solution of phenol. This second cooling step is carried out so that substantially all of the steam and phenol sent to this step are condensed and liquefied, and an aqueous phenol solution is recovered from this step. A part of the aqueous phenol solution obtained in the second cooling step can be used as the second cooling medium. The phenol concentration in the aqueous solution is determined by the composition of the mixed vapor and the conditions of the first cooling step, but it is usually 55 to 75% by weight. The temperature of the second cooling medium is about 1 to 10 ° C. lower than the condensation temperature of steam.

【0059】第2冷却工程で用いる第2冷却媒体は、混
合蒸気の全量を凝縮させるに充分な量であればよく、通
常、第1冷却工程から送られたスチームとフェノールと
の混合蒸気に対する重量比で、100〜300、好まし
くは190〜250である。この第2冷却工程の圧力
は、100トール以下、好ましくは5〜40トールであ
り、第1冷却工程の圧力に対応する。第2冷却工程にお
ける冷却温度(スチーム凝縮温度)は、前記圧力条件下
においてスチームとフェノールの混合蒸気の全量が凝縮
液化する温度であればよい。
The second cooling medium used in the second cooling step may be an amount sufficient to condense the total amount of the mixed vapor, and is usually the weight of the mixed vapor of steam and phenol sent from the first cooling step. The ratio is 100 to 300, preferably 190 to 250. The pressure of this second cooling step is 100 torr or less, preferably 5 to 40 torr, which corresponds to the pressure of the first cooling step. The cooling temperature (steam condensation temperature) in the second cooling step may be a temperature at which the total amount of steam and phenol mixed vapor is condensed and liquefied under the pressure conditions.

【0060】第1冷却工程及び第2冷却工程において用
いる冷却器は、気液接触型の装置であればよく、任意の
ものが用いられる。このような冷却器としては、例え
ば、充填塔や、スプレー塔等を用いることができる。充
填塔を用いる場合、その充填物としては、圧力損失を抑
えるように、ラッシッヒリングや、ポールリング、多孔
金属板等を用いるのがよい。また、第1冷却工程と第2
冷却工程で用いる冷却器は、それぞれ別個に設置するこ
ともできるが、2つの冷却器を含む一塔型の装置であっ
てもよい。
The cooler used in the first cooling step and the second cooling step may be any gas-liquid contact type device, and any one may be used. As such a cooler, for example, a packed tower or a spray tower can be used. When a packed column is used, it is preferable to use a Raschig ring, a pole ring, a porous metal plate, or the like as the packing so as to suppress the pressure loss. Also, the first cooling step and the second
The coolers used in the cooling step may be installed separately, but may be a one-column type device including two coolers.

【0061】次に、前記混合蒸気の凝縮処理方法の1つ
の実施態様について、図面を参照して説明する。図7に
おいて、101は第1冷却器、102は第2冷却器を示
す。ライン103は、スチームを用いる前記第2蒸発塔
に接続する混合蒸気ラインを示す。ライン104は排気
ポンプ(図示されず)及び冷却器に接続する真空ライン
であり、前記した結晶アダクト溶融液からフェノールを
蒸発除去する第1蒸発塔(図示されず)、第2蒸発塔
(図示されず)、第1冷却器1及び第2冷却器2を含む
全装置系は減圧条件に保持される。第2蒸発塔からの混
合蒸気は、ライン103を通って第1冷却器101の下
部に供給され、ここで、ライン105を通って第1冷却
器の上部から導入される第1冷却媒体(フェノール又は
ビスフェノールAを含むフェノール)と向流接触する。
この第1冷却器で凝縮したビスフェノールAとフェノー
ルを溶解した冷却媒体は、抜出しポンプ107を含むラ
イン106を通って第1冷却器の底部から抜出される。
このライン106を通って抜出される冷却媒体は、必要
に応じ、その一部を所要温度に冷却した後、冷却媒体と
してライン105にリサイクルすることもできる。
Next, one embodiment of the method for condensing the mixed vapor will be described with reference to the drawings. In FIG. 7, 101 indicates a first cooler and 102 indicates a second cooler. Line 103 shows a mixed vapor line connected to the second evaporation column using steam. A line 104 is a vacuum line connected to an exhaust pump (not shown) and a cooler, and a first evaporation column (not shown) and a second evaporation column (not shown) that evaporate and remove phenol from the above-described crystal adduct melt. No.), the entire system including the first cooler 1 and the second cooler 2 is kept under reduced pressure. The mixed vapor from the second evaporating tower is supplied to the lower part of the first cooler 101 through a line 103, where the first cooling medium (phenol) introduced from the upper part of the first cooler through a line 105. Or in a countercurrent contact with phenol containing bisphenol A).
The cooling medium in which bisphenol A and phenol which are condensed in the first cooler are dissolved is withdrawn from the bottom of the first cooler through a line 106 including a withdrawal pump 107.
The cooling medium extracted through the line 106 can be recycled to the line 105 as a cooling medium after cooling a part of the cooling medium to a required temperature, if necessary.

【0062】第1冷却器1の頂部からライン108を通
って抜出されるスチームとフェノールの混合ガスは、第
2冷却器102の下部に導入され、ここで、ライン10
9を通って第2冷却器の上部から導入される第2冷却媒
体(フェノールの水溶液)と向流接触する。この第2冷
却器でスチームとフェノールの混合蒸気は凝縮液化し、
この凝縮液は冷却媒体とともに第2冷却器102の底部
から抜出しポンプ111を含むライン110を通って抜
出され、その一部はライン113を通り、冷却媒体用の
冷却器114を通って冷却された後、ライン109を通
り、第2冷却器にリサイクルされる。ライン111を通
って抜出された凝縮スチームとフェノールを含む冷却媒
体の残部はライン112を通って系外へ抜出される。
The mixed gas of steam and phenol extracted from the top of the first cooler 1 through the line 108 is introduced into the lower part of the second cooler 102, where the line 10
It makes countercurrent contact with a second cooling medium (an aqueous solution of phenol) introduced from the upper part of the second cooler through 9. In this second cooler, steam and phenol mixed vapor is condensed and liquefied,
This condensate is discharged together with the cooling medium from the bottom of the second cooler 102 through a line 110 including a pump 111, and a part thereof is cooled through a line 113 and a cooling medium cooler 114. After passing through the line 109, it is recycled to the second cooler. The remainder of the cooling medium containing condensed steam and phenol extracted through the line 111 is extracted outside the system through the line 112.

【0063】次に、前記混合蒸気の凝縮処理法におい
て、第1冷却器と第2冷却器を含む一塔型の冷却装置を
用いた場合の系統図を図8に示す。図8において、13
0はその内部に第1冷却器101と第102冷却器2を
備えた一塔型の冷却装置である。この冷却装置は、第1
冷却器1と第2冷却器2との中間に中央部に開口を有す
る仕切板125を配設し、その開口に筒体123を立設
した構造を有する。この装置において、筒体123の外
周面と冷却装置130の内壁との間に形成される環状中
空室は、液体を貯留するためのものである。122は、
第2冷却器102を流下する液体を前記環状中空室に案
内するための案内板である。筒状空間124はガス通路
を示す。なお、図8における符号において、図7に示し
たものと同じ符号は同じ意味を示す。また、図8におい
ては、図7に示した流量コントロール系は図示されてい
ない。
Next, FIG. 8 shows a system diagram when a one-column type cooling device including a first cooler and a second cooler is used in the method for condensing the mixed vapor. In FIG. 8, 13
Reference numeral 0 is a one-column type cooling device including the first cooler 101 and the 102nd cooler 2 therein. This cooling device is the first
A partition plate 125 having an opening in the center is disposed between the cooler 1 and the second cooler 2, and a cylindrical body 123 is provided upright in the opening. In this device, the annular hollow chamber formed between the outer peripheral surface of the cylindrical body 123 and the inner wall of the cooling device 130 is for storing the liquid. 122 is
It is a guide plate for guiding the liquid flowing down the second cooler 102 to the annular hollow chamber. The cylindrical space 124 shows a gas passage. In the reference numerals in FIG. 8, the same reference numerals as those shown in FIG. 7 indicate the same meanings. Further, in FIG. 8, the flow rate control system shown in FIG. 7 is not shown.

【0064】前記のような混合蒸気の凝縮処理によれ
ば、スチームを用いる第2蒸発塔から得られる、スチー
ム、フェノール及びビスフェノールAを含む混合蒸気
を、昇圧することなく、100トール以下の減圧状態の
ままで冷却凝縮させることができる。しかも、この場
合、100トール以下という低い圧力条件と、それに応
じた低いスチーム凝縮温度条件を採用したにもかかわら
ず、ビスフェノールAやフェノールの結晶は何ら析出し
ない。従って、このような凝縮処理法においては、固体
析出による冷却器の効率低下や、冷却器の閉塞トラブル
は何ら生じない。しかも、混合蒸気を構成するスチー
ム、フェノール及びビスフェノールAの全てが凝縮さ
れ、真空排気系にはそれらの蒸気は実質的に流入されな
い。従って、真空排気ポンプは、装置系を所定の減圧条
件に保持するだけであるので、排気容量の小さなもので
済み、設備コスト及びエネルギーコスト的に非常に有利
である。さらに、このような混合蒸気の凝縮処理を採用
するときには、混合蒸気の冷却凝縮処理を100トール
以下の極めて低い圧力で実施し得ることから、その前段
の第1蒸発塔及び第2蒸発塔を低圧で行うことができ
る。従って、第2蒸発塔からは、フェノール含有率が極
めて低い高純度のビスフェノールA、例えば、フェノー
ル含有率が200ppm以下、特に50ppm以下とい
う極めて低い高純度ビスフェノールAを得ることができ
る。
According to the condensation treatment of the mixed vapor as described above, the mixed vapor containing steam, phenol and bisphenol A obtained from the second evaporation column using steam is depressurized to 100 torr or less without increasing the pressure. It can be cooled and condensed as it is. Moreover, in this case, crystals of bisphenol A and phenol do not precipitate at all, despite the low pressure condition of 100 Torr or less and the low steam condensation temperature condition corresponding thereto. Therefore, in such a condensation treatment method, the efficiency of the cooler is not lowered and the clogging trouble of the cooler due to solid deposition does not occur at all. Moreover, all of the steam, phenol and bisphenol A that compose the mixed vapor are condensed, and the vapor is not substantially introduced into the vacuum exhaust system. Therefore, the vacuum exhaust pump only needs to keep the apparatus system under a predetermined depressurization condition, so that it requires only a small exhaust capacity and is very advantageous in terms of equipment cost and energy cost. Furthermore, when such a condensation treatment of mixed vapor is adopted, the cooling condensation treatment of the mixed vapor can be carried out at an extremely low pressure of 100 Torr or less. Can be done at. Therefore, high-purity bisphenol A having a very low phenol content, for example, a very low-purity bisphenol A having a phenol content of 200 ppm or less, particularly 50 ppm or less, can be obtained from the second evaporation column.

【0065】脱フェノール工程を実施する場合の他の好
ましい方法は、結晶アダクト溶融液を複数の薄膜蒸発器
を用いて蒸発処理する方法である。この蒸発処理を図面
を参照して以下に説明する。図9において、201,2
02及び203は薄膜蒸発器を示す。このものは、その
内周壁に形成した薄膜を外部からの加熱により蒸発させ
る構造のものである。この薄膜蒸発器においては、内部
に回転翼を有し、その回転翼の回転によってその内周壁
面に液膜を形成するようにした遠心薄膜蒸発器の使用が
好ましい。また、図9において、204は、各薄膜蒸発
器に付設された外部ヒータである。このものは、通常、
加熱媒体が流通するジャケットとして構成される。
Another preferred method for carrying out the dephenoling step is to subject the crystal adduct melt to evaporation treatment using a plurality of thin film evaporators. This evaporation process will be described below with reference to the drawings. In FIG. 9, 201,
Reference numerals 02 and 203 denote thin film evaporators. This has a structure in which a thin film formed on the inner peripheral wall of the thin film is evaporated by heating from the outside. In this thin film evaporator, it is preferable to use a centrifugal thin film evaporator having a rotary blade inside and forming a liquid film on the inner peripheral wall surface by the rotation of the rotary blade. Further, in FIG. 9, reference numeral 204 is an external heater attached to each thin film evaporator. This one is usually
It is configured as a jacket through which the heating medium flows.

【0066】原料として用いる結晶アダクト溶融液とし
ては、実質的に中性条件下にあり、溶融色が15APH
A以下のビスフェノールA・フェノール結晶アダクトを
加熱によって溶融するか又は精製フェノールで希釈溶解
させて、ビスフェノールAを含むフェノール溶液とした
ものが好ましく用いられる。結晶アダクト溶液は、ビス
フェノールAを50〜80重量%、好ましくは60〜7
5重量%を含有するフェノール溶液からなる。この原料
フェノール溶液は、ライン210から第1薄膜蒸発器
(以下、単に蒸発器とも言う)201に導入され、フェ
ノール溶液は、この蒸発器の内周壁を液膜として流下す
るとともに、その間に外部ヒータ204により加熱さ
れ、フェノール及びビスフェノールAを含む蒸気がライ
ン211を通って排出される。この蒸気は、これを凝縮
処理して、フェノール及びビスフェノールAを回収す
る。ライン210を通るフェノール溶液の温度は120
〜150℃、第1蒸発器201の温度は、160〜18
5℃、その圧力は15〜60トール、好ましくは15〜
30トールである。また、第1蒸発器内は実質的に無酸
素条件下に保持される。第1蒸発器201において、原
料フェノール溶液を蒸発処理して得られた残液(ビスフ
ェノールA)は、ライン212を通って抜出され、第2
蒸発器202に導入される。ライン212を通るフェノ
ール溶液の蒸発残液の温度は、170〜185℃であ
る。また、この残液を構成するビスフェノールA中のフ
ェノール濃度は、1〜5重量%である。第2蒸発器20
2においては、ビスフェノールAは、第3蒸発器203
から抜出されるスチーム、フェノール及びビスフェノー
ルAからなるストリッピングガスと向流接触しながら、
外部ヒータ204により加熱され、フェノール、ビスフ
ェノールA及びスチームを含むストリッピングガスがラ
イン213を通って排出される。第2蒸発器2における
温度は170〜185℃、圧力は15トール以下、通
常、10〜15トールである。また、第2蒸発器内は実
質的に無酸素下に保持される。
The crystal adduct melt used as a raw material is under substantially neutral conditions and has a melt color of 15 APH.
A phenol solution containing bisphenol A is preferably used by melting the bisphenol A / phenol crystal adduct of A or less by heating or diluting and dissolving with purified phenol. The crystal adduct solution contains bisphenol A in an amount of 50 to 80% by weight, preferably 60 to 7%.
It consists of a phenol solution containing 5% by weight. This raw material phenol solution is introduced into a first thin film evaporator (hereinafter, also simply referred to as an evaporator) 201 from a line 210, and the phenol solution flows down as a liquid film on the inner peripheral wall of the evaporator, and an external heater is provided therebetween. Heated by 204, steam containing phenol and bisphenol A is discharged through line 211. This vapor condenses it to recover phenol and bisphenol A. The temperature of the phenol solution passing through line 210 is 120
˜150 ° C., the temperature of the first evaporator 201 is 160˜18
5 ° C., the pressure is 15-60 torr, preferably 15-
It is 30 torr. Further, the inside of the first evaporator is maintained under substantially oxygen-free conditions. In the first evaporator 201, the residual liquid (bisphenol A) obtained by evaporating the raw material phenol solution is extracted through a line 212,
It is introduced into the evaporator 202. The temperature of the evaporation residual liquid of the phenol solution passing through the line 212 is 170 to 185 ° C. The concentration of phenol in bisphenol A constituting this residual liquid is 1 to 5% by weight. Second evaporator 20
In 2, bisphenol A is added to the third evaporator 203.
While making countercurrent contact with the stripping gas consisting of steam, phenol and bisphenol A extracted from
The stripping gas containing phenol, bisphenol A and steam is heated by the external heater 204 and discharged through the line 213. The temperature in the second evaporator 2 is 170 to 185 ° C. and the pressure is 15 torr or less, usually 10 to 15 torr. Further, the inside of the second evaporator is kept substantially oxygen-free.

【0067】第2蒸発器2で得られる蒸発残液は、ライ
ン214を通って第3蒸発器203に導入される。この
残液の温度は170〜185℃、残液を構成するビスフ
ェノールA中のフェノール濃度は0.05〜0.10重
量%、好ましくは0.05〜0.07重量%である。第
3蒸発器203においては、第2蒸発器202からのビ
スフェノールAは、ライン215を通って導入されるス
チームと向流接触しながら、外部ヒータ204によって
加熱され、ストリッピングガスがライン217を通って
抜出され、このストリッピングガスは、第2蒸発器20
2にそのストリッピング用ガスとして導入される。第3
蒸発器における温度は170〜185℃、圧力は15ト
ール以下、通常10〜15トールである。また、第3蒸
発器内は実質的に無酸素下に保持される。ライン215
から第3蒸発器203に導入されるスチーム量は、ライ
ン214を通って第3蒸発器203に導入されるビスフ
ェノールAに対して、重量比で、3重量%以上、好まし
くは4〜6重量%である。ライン217を通るストリッ
ピングガスの組成は、フェノール:0.8〜1.2重量
%、好ましくは1重量%以下、ビスフェノールA:5〜
7重量%、残部:スチームである。第3蒸発器203に
おいて得られた高純度ビスフェノールAは、ライン21
6を通って抜出される。このビスフェノールAは、フェ
ノール含有率が0.005重量%のもので、その色相A
PHAが20以下の高品位のものである。
The evaporation residual liquid obtained in the second evaporator 2 is introduced into the third evaporator 203 through the line 214. The temperature of this residual liquid is 170 to 185 ° C., and the phenol concentration in bisphenol A constituting the residual liquid is 0.05 to 0.10% by weight, preferably 0.05 to 0.07% by weight. In the third evaporator 203, the bisphenol A from the second evaporator 202 is heated by the external heater 204 in countercurrent contact with the steam introduced through the line 215, and the stripping gas passes through the line 217. This stripping gas is extracted from the second evaporator 20.
2 is introduced as the stripping gas. Third
The temperature in the evaporator is 170 to 185 ° C. and the pressure is 15 torr or less, usually 10 to 15 torr. Further, the inside of the third evaporator is kept substantially oxygen-free. Line 215
The amount of steam introduced from the third to the third evaporator 203 is 3% by weight or more, preferably 4 to 6% by weight with respect to the bisphenol A introduced into the third evaporator 203 through the line 214. Is. The composition of the stripping gas passing through the line 217 is phenol: 0.8 to 1.2% by weight, preferably 1% by weight or less, bisphenol A: 5 to
7% by weight, balance: steam. The high-purity bisphenol A obtained in the third evaporator 203 is
It is extracted through 6. This bisphenol A has a phenol content of 0.005% by weight, and its hue A
It is of high quality with a PHA of 20 or less.

【0068】第2蒸発器202からライン213を通っ
て抜出されるストリッピングガスは、凝縮処理に付さ
れ、そのガスに含まれるフェノール及びビスフェノール
Aが分離回収される。このストリッピングガスの凝縮処
理は、図7及び図8に示した系統図に従って好ましく行
われる。
The stripping gas extracted from the second evaporator 202 through the line 213 is subjected to a condensation treatment, and the phenol and bisphenol A contained in the gas are separated and recovered. The stripping gas condensing process is preferably performed according to the system diagrams shown in FIGS. 7 and 8.

【0069】前記した薄膜蒸発器を用いる方法において
は、フェノールA・フェノール結晶アダクトから誘導さ
れたビスフェノールAを含むフェノール溶液を雰囲気中
の酸素濃度0.005vol%以下の条件で、先ず第1薄
膜蒸発器を用いて蒸発処理し、フェノール含有率が1〜
5重量%のビスフェノールAを得るが、この場合、その
第1薄膜蒸発器の温度を160〜185℃、圧力を15
〜60トールの条件に保持したことから、フェノールの
急速な蒸発による冷却が生じても、ビスフェノールAが
析出するようなことなく、円滑にその蒸発処理を実施す
ることができる。また、前記方法においては、前記のよ
うにして第1蒸発器から得られたビスフェノールAを、
それに含まれるフェノールを蒸発除去するために、薄膜
蒸発器を用いてスチームストリッピング処理するが、こ
の場合、そのビスフェノールA中のフェノール含有量が
1〜5重量%と低く、かつ2つの薄膜蒸発器を直列に結
合して用いたことから、それらの蒸発器の温度を170
〜180℃に保持し、かつ15トール以下の高真空に保
持して、そのビスフェノールA中のフェノールを蒸発除
去することが可能になり、色相にすぐれるとともに、フ
ェノール含有率が0.005重量%以下の高純度ビスフ
ェノールAを得ることができる。
In the method using the thin film evaporator described above, a phenol solution containing bisphenol A derived from a phenol A / phenol crystal adduct is first subjected to the first thin film evaporation under the condition that the oxygen concentration in the atmosphere is 0.005 vol% or less. Evaporate using a vessel, the phenol content is 1 ~
5% by weight of bisphenol A is obtained, in which case the temperature of the first thin film evaporator is 160-185 ° C. and the pressure is 15
Since the condition was maintained at -60 Torr, even if the phenol was cooled by rapid evaporation, bisphenol A could be smoothly evaporated without precipitation. Further, in the above method, the bisphenol A obtained from the first evaporator as described above is
In order to remove the phenol contained therein by evaporation, steam stripping treatment is carried out using a thin film evaporator. In this case, the phenol content in bisphenol A is as low as 1 to 5% by weight, and two thin film evaporators are used. Since they were used in series, the temperature of these evaporators was increased to 170
It is possible to evaporate and remove the phenol in bisphenol A by maintaining it at ˜180 ° C. and in a high vacuum of 15 Torr or less, which has an excellent hue and a phenol content of 0.005% by weight. The following high-purity bisphenol A can be obtained.

【0070】色相にすぐれたビフェノールAを得るに
は、その製造原料であるビスフェノールAを含むフェノ
ール溶液及びその溶液を蒸発処理する場合の温度を、1
90℃以下、特に、185℃以下に保持し、インプロペ
ニルフェノール等の着色不純物の生成の抑制することが
必要であるが、前記方法の場合は、その蒸発処理温度
を、185℃以下に保持しかつ蒸発器内を実質的に無酸
素下に保持してフェノールを実質的に完全に蒸発除去す
るので、得られるビスフェノールAは、APHA20以
下の色相のすぐれた高純度のものである。さらに、前記
方法においては、第3薄膜蒸発器で生成したフェノー
ル、ビスフェノールAを含むスチームからなるストリッ
ピングガスを、第2薄膜蒸発器に対するストリッピング
用スチームガスとして用いることから、第2薄膜蒸発器
におけるフェノールストリッピング効果が高くなるとい
う利点もある。さらにまた、前記した蒸発処理によれ
ば、全体的に極めて短かい滞留時間(通常、60〜12
0秒)で蒸発処理を行うことができるので、その処理効
率は非常に高いものとなる。特に、第1薄膜蒸発器、第
2薄膜蒸発器及び第3薄膜蒸発器は、それらを上方から
その順に結合し、液体の流れを重力により上方から下方
に流下させることが望ましく、これによって酸素リーフ
の防止を効果的に行えるとともに、装置系内における液
体の滞留時間を短かく保持することができる。
In order to obtain biphenol A having an excellent hue, the phenol solution containing bisphenol A, which is a raw material for producing the biphenol A, and the temperature at which the solution is subjected to evaporation treatment are set to 1
It is necessary to keep the temperature below 90 ° C, especially below 185 ° C to suppress the formation of colored impurities such as inpropenylphenol. In the case of the above method, the evaporation treatment temperature is kept below 185 ° C. Further, since the inside of the evaporator is kept substantially oxygen-free to substantially completely remove the phenol by evaporation, the obtained bisphenol A has a high purity of APHA20 or less and an excellent hue. Further, in the above method, the stripping gas consisting of steam containing phenol and bisphenol A produced in the third thin film evaporator is used as the stripping steam gas for the second thin film evaporator. There is also an advantage that the phenol stripping effect in the above becomes high. Furthermore, according to the above-mentioned evaporation treatment, the residence time as a whole is extremely short (usually 60 to 12).
Since the evaporation treatment can be performed in 0 second), the treatment efficiency is extremely high. In particular, it is desirable that the first thin film evaporator, the second thin film evaporator, and the third thin film evaporator combine them in this order from the upper side so that the flow of the liquid flows down from the upper side to the lower side by gravity. Can be effectively prevented, and the residence time of the liquid in the system can be kept short.

【0071】造粒工程7は、前記脱フェノール工程で得
たビスフェノールAを粒状物に成形する工程である。こ
の造粒工程としては、ビスフェノールAを造粒し得る方
法であれば任意の工程が採用できる。一般的には、ビス
フェノールAの溶融液を、冷却用不活性雰囲気中におい
て、液滴状で落下させるとともに、その間に冷却固形化
させる方法が採用される。ビスフェノールA粒状物の粒
径は、通常、0.5〜5mm程度である。また、ビスフ
ェノールAの造粒に際しては、必要に応じ、ビスフェノ
ールAのの溶融液滴の結晶固形化を促進させる結晶核剤
を微量添加させることもできる。
The granulating step 7 is a step of molding the bisphenol A obtained in the dephenoling step into granules. As this granulation step, any step can be adopted as long as it is a method capable of granulating bisphenol A. In general, a method is adopted in which a molten liquid of bisphenol A is dropped in the form of droplets in an inert atmosphere for cooling, and is cooled and solidified during that period. The particle size of the bisphenol A granules is usually about 0.5 to 5 mm. Further, when granulating bisphenol A, a small amount of a crystal nucleating agent that promotes solidification of crystals of molten droplets of bisphenol A can be added, if necessary.

【0072】[0072]

【実施例】次に本発明を実施例によってさらに詳細に説
明する。
EXAMPLES The present invention will now be described in more detail by way of examples.

【0073】(I)反応工程1 従来公知の方法に従って、スルホン酸基を有するイオン
交換樹脂の存在下、アセトンとフェノールとの反応を行
った。この場合、アセトン1モル当りフェノール14モ
ルを用いた。反応は60℃で行った。このようにして得
られた反応生成物の組成は以下の通りであった。 ビスフェノールA: 0.8wt% 水 : 1.0wt% フェノール :73.6wt% ビスフェノールA:18.8wt% その他 : 5.8wt%
(I) Reaction Step 1 According to a conventionally known method, acetone and phenol were reacted in the presence of an ion exchange resin having a sulfonic acid group. In this case, 14 mol of phenol was used per 1 mol of acetone. The reaction was carried out at 60 ° C. The composition of the reaction product thus obtained was as follows. Bisphenol A: 0.8 wt% Water: 1.0 wt% Phenol: 73.6 wt% Bisphenol A: 18.8 wt% Others: 5.8 wt%

【0074】(II−1)分離工程(図2) 図2に示す系統図に従って、前記反応工程1で得られた
フェノールとアセトン反応生成物を蒸留処理した。この
際に用いた主要な操作条件を図2に示したライン又は装
置との関係で以下に示す。 (1)ライン40を通る塔頂物(I) (i)成分組成 アセトン : 5.8wt% フェノール : 7.2wt% 水 : 86.1wt% その他 : 0.9wt% (2)ライン42を通る塔頂物(II) (i)成分組成 アセトン : 18.5wt% 水 : 22.5wt% 共沸剤 : 55.6wt% その他 : 3.4wt% (3)ライン41を通る塔底物(II) (i)成分組成 フェノール : 99.0wt% 共沸剤 : 0.5wt% その他 : 0.5wt% (4)ライン46を通る塔頂物(III) (i)成分組成 アセトン : 85.1wt% 水 : 1.0wt% その他 : 13.9wt% (5)ライン48を通る排水 (i)成分組成 水 : 99.95wt% フェノール : 0.05wt%
(II-1) Separation step (FIG. 2) According to the system diagram shown in FIG. 2, the reaction product of phenol and acetone obtained in the reaction step 1 was subjected to a distillation treatment. The main operating conditions used at this time are shown below in relation to the line or apparatus shown in FIG. (1) Column top (I) passing through the line 40 (i) Component composition Acetone: 5.8 wt% Phenol: 7.2 wt% Water: 86.1 wt% Others: 0.9 wt% (2) Tower passing through the line 42 Top (II) (i) Component composition Acetone: 18.5 wt% Water: 22.5 wt% Entropy agent: 55.6 wt% Others: 3.4 wt% (3) Bottom product (II) (3) passing through line 41 i) Component composition Phenol: 99.0 wt% Azeotropic agent: 0.5 wt% Others: 0.5 wt% (4) Column top (III) passing through the line 46 (i) Component composition Acetone: 85.1 wt% Water: 1.0 wt% Others: 13.9 wt% (5) Wastewater passing through the line 48 (i) Composition of water: 99.95 wt% Phenol: 0.05 wt%

【0075】(II−2)分離工程2(図3) 図3に示す装置系統図に従って、前記反応工程1で得ら
れたフェノールとアセトンとの反応生成物を処理した。
この際に用いた主要な操作条件を図3に示したライン又
は装置との関係で以下に示す。 (1)ライン40を通る塔頂物(I) (i)成分組成 アセトン : 29.0 wt% 水 : 38.8 wt% フェノール : 29.9 wt% その他 : 2.3 wt% (2)ライン46を通る塔頂物(II) (i)成分組成 アセトン : 89.7 wt% 水 : 2.1 wt% その他 : 8.2 wt% (3)ライン47を通る塔底物(II) (i)成分組成 水 : 55.5 wt% フェノール : 44.2 wt% その他 : 0.3 wt% (4)ライン48を通る塔頂物(III) (i)成分組成 水 : 99.7 wt% フェノール : 0.2 wt% その他 : 0.1 wt% (5)ライン41を通る塔底物(III) (i)成分組成 フェノール : 99.0 wt% その他 : 1.0 wt%
(II-2) Separation step 2 (FIG. 3) The reaction product of phenol and acetone obtained in the reaction step 1 was treated according to the system diagram shown in FIG.
The main operating conditions used at this time are shown below in relation to the line or apparatus shown in FIG. (1) Column top (I) that passes through line 40 (i) Component composition Acetone: 29.0 wt% Water: 38.8 wt% Phenol: 29.9 wt% Others: 2.3 wt% Line (2) Column top product (II) passing through 46 (i) Component composition Acetone: 89.7 wt% Water: 2.1 wt% Others: 8.2 wt% (3) Bottom product passing through line 47 (II) (i) ) Component composition Water: 55.5 wt% Phenol: 44.2 wt% Others: 0.3 wt% (4) Column top (III) passing through the line 48 (i) Component composition Water: 99.7 wt% Phenol : 0.2 wt% Others: 0.1 wt% (5) Column bottom product (III) passing through the line 41 (i) Component composition Phenol: 99.0 wt% Others: 1.0 wt%

【0076】(III)晶析工程3(図4) 図4に示した装置系統図に従って、ビスフェノールAを
含むフェノール溶液を晶析処理して、結晶アダクトを含
むスラリー(晶析生成物)を得た。この場合の主要操作
条件を、図4において符号で示したライン又は装置との
関係で以下に示す。 (1)ライン62における供給原料の成分組成 ビスフェノールA:22重量% フェノール:74重量% その他:4重量% (2)晶析塔A (i)温度:50℃ (ii)滞留時間:120分 (3)晶析塔Aに付設した微結晶アダクト溶解タンク5
7 (i)温度:51℃ (ii)滞留時間:6分 前記実験において、ライン73を通って得られるスラリ
ーから分離された結晶アダクト中の粒径100μm以下
の微粒子の割合は、20重量%であった。
(III) Crystallization Step 3 (FIG. 4) According to the system diagram shown in FIG. 4, a phenol solution containing bisphenol A is crystallized to obtain a slurry (crystallized product) containing crystal adducts. It was The main operating conditions in this case are shown below in relation to the lines or devices indicated by the symbols in FIG. (1) Component composition of feedstock in line 62 Bisphenol A: 22 wt% Phenol: 74 wt% Others: 4 wt% (2) Crystallizer A (i) Temperature: 50 ° C (ii) Residence time: 120 minutes ( 3) Microcrystal adduct dissolution tank 5 attached to crystallization tower A
7 (i) Temperature: 51 ° C. (ii) Residence time: 6 minutes In the above experiment, the proportion of fine particles having a particle size of 100 μm or less in the crystal adduct separated from the slurry obtained through the line 73 was 20% by weight. there were.

【0077】(IV)晶析生成物分離工程4 ビスフェノールAを含むフェノール溶液を晶析処理して
得られた結晶アダクトスラリーを、106μmの目開き
を有する濾布をセットした濾過機により、スラリー温度
を50℃に保持しながら減圧濾過した後、得られた結晶
アダクトケークを、前記(II−1)の分離工程2から
得られた精製フェノールにより洗浄した。この洗浄結晶
アダクト中の100μm以下の微結晶アダクト成分の割
合は5重量%であった。この結晶アダクトの溶融色は1
0APHAで、着色不純物の濃度は著しく低いものであ
った。また、この結晶アダクトに含まれるクロマン化合
物(着色性不純物)の濃度は100wtppmであっ
た。
(IV) Crystallized Product Separation Step 4 The crystal adduct slurry obtained by crystallizing a phenol solution containing bisphenol A was treated with a filter equipped with a filter cloth having an opening of 106 μm to obtain a slurry temperature. Was filtered under reduced pressure while maintaining at 50 ° C., and the obtained crystal adduct cake was washed with the purified phenol obtained from the separation step 2 in (II-1) above. The proportion of the fine crystal adduct component of 100 μm or less in this washed crystal adduct was 5% by weight. The melting color of this crystal adduct is 1
At 0 APHA, the concentration of colored impurities was remarkably low. The concentration of the chroman compound (coloring impurity) contained in this crystal adduct was 100 wtppm.

【0078】(V)晶析生成物から分離された母液の精
製処理(図5) 図5に示した装置系統図に従って、ビスフェノールAを
含むフェノール溶液の晶析生成物から分離した母液を処
理した。この際に用いた主要な操作条件を、図5に示し
たライン又は装置との関連で以下に示す。 (1)ライン18を通る母液 (i)成分組成 フェノール:86.3重量% ビスフェノールA:7.7重量% 2,4′−ビスフェノールA:2.4重量% その他トリスフェノール、ポリフェノール、 着色不純物及び着色性不純物など:3.6重量% (ii)色相APHA:500以上 (2)フェノール蒸留塔(5) (i)塔底温度:170℃ (ii)圧力 :170トール (3)ライン11を通る留出液 (i)成分組成 フェノール:99.8重量%以上 (ii)色相APHA:10 (4)ライン81を通る塔底物(濃縮母液) (i)成分組成 フェノール:14.8重量% ビスフェノールA:48.5重量% 2,4′−ビスフェノールA:14.8重量% その他トリスフェノール、ポリフェノール、 着色不純物及び着色性不純物など:21.9重量% (ii)色相APHA:500以上 (5)ライン83における塩基性触媒(NaOH)の添
加量:ライン81を通る濃縮母液に対して0.05重量
% (6)反応条蒸留塔(D) (i)塔底温度:250℃ (ii)圧力 :40トール (7)ライン89を通る留出蒸気 (i)成分組成 フェノール:92.6重量% イソプロペニルフェノールおよびその他:7.4重量% (ii)色相APHA:200 (8)ライン88を通る塔底液 (i)成分組成 フェノール:0.5重量% ビスフェノールA:5.5重量% その他のポリフェノール高沸点物など:90重量%以上 (ii)抜出量:ライン81を通る濃縮母液に対して1
7.0重量% (9)強酸型イオン交換樹脂塔(R) (i)温度:53℃ (ii)圧力:760トール (10)ライン92を通る生成物 フェノール:89.5重量% ビスフェノールA:8.0重量% その他、不純物:2.5重量% (ii)色相APHA:70以下
(V) Purification treatment of mother liquor separated from crystallization product (FIG. 5) The mother liquor separated from the crystallization product of the phenol solution containing bisphenol A was treated according to the apparatus system diagram shown in FIG. . The main operating conditions used at this time are shown below in connection with the line or apparatus shown in FIG. (1) Mother liquor passing through line 18 (i) Component composition Phenol: 86.3% by weight Bisphenol A: 7.7% by weight 2,4'-bisphenol A: 2.4% by weight Other trisphenols, polyphenols, coloring impurities and Coloring impurities, etc .: 3.6% by weight (ii) Hue APHA: 500 or more (2) Phenol distillation column (5) (i) Column bottom temperature: 170 ° C. (ii) Pressure: 170 Torr (3) Pass through line 11 Distillate (i) Component composition Phenol: 99.8 wt% or more (ii) Hue APHA: 10 (4) Bottom product (concentrated mother liquor) passing through line 81 (i) Component composition Phenol: 14.8 wt% Bisphenol A: 48.5% by weight 2,4'-bisphenol A: 14.8% by weight Other trisphenols, polyphenols, coloring impurities and coloring impurities, etc .: 21. 9 wt% (ii) Hue APHA: 500 or more (5) Addition amount of basic catalyst (NaOH) in line 83: 0.05 wt% with respect to concentrated mother liquor passing through line 81 (6) Reacting distillation column (D) ) (I) Bottom temperature: 250 ° C. (ii) Pressure: 40 Torr (7) Distillate vapor passing through line 89 (i) Component composition Phenol: 92.6% by weight Isopropenylphenol and others: 7.4% by weight (Ii) Hue APHA: 200 (8) Bottom liquid passing through the line 88 (i) Component composition Phenol: 0.5 wt% Bisphenol A: 5.5 wt% Other polyphenol high-boiling substances: 90 wt% or more ( ii) Withdrawal amount: 1 for concentrated mother liquor passing through line 81
7.0 wt% (9) Strong Acid Ion Exchange Resin Tower (R) (i) Temperature: 53 ° C (ii) Pressure: 760 Torr (10) Product Passing through Line 92 Phenol: 89.5 wt% Bisphenol A: 8.0 wt% Other impurities: 2.5 wt% (ii) Hue APHA: 70 or less

【0079】(VI-1)結晶アダクト液化工程6及び結晶
アダクト溶融液の脱フェノール工程7 結晶アダクト溶融装置として、SUS304製の外部加
熱式密閉容器を用い、蒸発装置として、SUS304製
のストリッピング装置を用いた。溶融装置の上部に結晶
アダクト供給管を付設し、また、その底部には溶融液配
管を付設し、この溶融液配管をストリッピング装置の中
間部に連結した。また、このストリッピング装置の上部
にはフェノール蒸気排出用の配管を付設し、またその底
部にはビスフェノールAの溶融液排出用の配管を付設し
た。なお、前記した配管はいずれもSUS304製であ
った。次に、前記のようにして構成された装置系におい
て、その溶融装置の内壁面、ストリッピング装置の内壁
面、溶融装置とストリッピング装置との間の配管、スト
リッピング装置に付設したビスフェノールA溶融の液の
排出用配管に対して、以下のようにしてその内壁面を洗
浄した。 (1)溶融装置内壁面の洗浄 スプレーノズルを介して、常圧下、130℃のフェノー
ル液を内壁面に噴射させて、内壁面を充分に洗浄した
後、150℃のフェノール/ビスフェノールA混合液
(混合重量比:65/35)を噴射させて内壁面を充分
に洗浄した。 (2)ストリッピング装置内壁面の洗浄 常圧下、130℃のフェノールを、その装置上部に付設
されたスプレーノズルから流させて装置内中心部の洗浄
を行った後、130℃のフェノール次いで150℃のフ
ェノール/ビスフェノールA混合物(混合重量比=65
/35)により装置壁面が充分濡れるように流通させ
た。次いで、180℃、10トールの条件でフェノール
/ビスフェノールA混合物(混合重量比=65/35)
を流通させた。 (3)配管内壁面の洗浄 130℃のフェノールを配管内を流通させて洗浄した。
その際、管内壁面に気相が存在しないように注意した。
なお、前記の洗浄により、各装置及び配管の内壁面に付
着する酸素量は、内壁面1m2当り5ミリモル以下であ
ることが確認された。
(VI-1) Crystal Adduct Liquefaction Step 6 and Dephenolization Step 7 of Crystal Adduct Melt Liquid SUS304 external heating closed container is used as a crystal adduct melting apparatus, and SUS304 stripping apparatus is used as an evaporator. Was used. A crystal adduct supply pipe was attached to the upper part of the melting device, and a melt liquid pipe was attached to the bottom thereof, and this melt liquid pipe was connected to the middle part of the stripping device. Further, a pipe for discharging phenol vapor was attached to the upper part of the stripping device, and a pipe for discharging a melt of bisphenol A was attached to the bottom part thereof. All the above-mentioned pipes were made of SUS304. Next, in the apparatus system configured as described above, the inner wall surface of the melting device, the inner wall surface of the stripping device, the piping between the melting device and the stripping device, and the bisphenol A melting attached to the stripping device. The inner wall surface of the liquid discharge pipe was washed as follows. (1) Cleaning of inner wall surface of melting device After injecting a phenol solution at 130 ° C onto the inner wall surface through a spray nozzle under normal pressure to sufficiently clean the inner wall surface, a phenol / bisphenol A mixed solution at 150 ° C ( A mixed weight ratio: 65/35) was sprayed to thoroughly clean the inner wall surface. (2) Cleaning of the inner wall surface of the stripping device Under normal pressure, 130 ° C phenol was made to flow from the spray nozzle attached to the upper part of the device to clean the center part of the device, then 130 ° C phenol and then 150 ° C. Phenol / Bisphenol A mixture (mixing weight ratio = 65
/ 35) so that the wall surface of the device was sufficiently wet. Then, at 180 ° C and 10 Torr, a phenol / bisphenol A mixture (mixing weight ratio = 65/35)
Was distributed. (3) Cleaning of the inner wall surface of the pipe Phenol at 130 ° C was circulated in the pipe for cleaning.
At that time, care was taken so that the gas phase did not exist on the inner wall surface of the tube.
By the above cleaning, it was confirmed that the amount of oxygen attached to the inner wall surface of each device and the pipe was 5 mmol or less per 1 m 2 of the inner wall surface.

【0080】次に、前記のようにして、結晶アダクトの
溶融液及びビスフェノールAの溶融液が接触する装置及
び配管の内壁面があらかじめ酸素除去された装置系を用
いて精製結晶アダクト(溶融色APHA:5)からフェ
ノールを蒸発除去して、ビスフェノールAを分離した
(実験A)。また、前記における溶融装置及びストリッ
ピング装置の操作条件は以下の通りである。 (溶融装置) 温度:130℃ 圧力:常圧 雰囲気酸素濃度:0.0005vol% (ストリッピング装置) 温度:175℃ 圧力:10トール 雰囲気酸素濃度分圧:0.0015vol%
Next, as described above, the purified crystal adduct (melted APHA : 5) was removed by evaporation of phenol to separate bisphenol A (experiment A). Further, the operating conditions of the melting device and the stripping device in the above are as follows. (Melting device) Temperature: 130 ° C. Pressure: Normal pressure Atmospheric oxygen concentration: 0.0005 vol% (Stripping device) Temperature: 175 ° C. Pressure: 10 torr Atmospheric oxygen concentration partial pressure: 0.0015 vol%

【0081】また、参考のために、溶融装置、ストリッ
ピング装置及び配管の各内壁を洗浄処理しない以外は同
様にして実験を行った(実験B)。次に、前記実験A及
び実験Bで得たビスフェノールAの175℃における溶
融色を次表にまとめて示す。
For reference, the same experiment was carried out (Experiment B) except that the inner walls of the melting device, the stripping device and the pipe were not washed. Next, the melting color of bisphenol A obtained in Experiment A and Experiment B at 175 ° C. is summarized in the following table.

【0082】[0082]

【表1】 [Table 1]

【0083】(VI-2)結晶アダクト液化工程6及び結晶
アダクト溶融液の脱フェノール工程7 結晶アダクト溶解装置として、SUS316製の外部加
熱式密閉容器を用い、結晶アダクト溶融液の蒸発処理装
置として、内部にSUS316製の充填材を充填したS
US304製の2つの充填塔を用いた。溶融装置には、
その上部に結晶アダクト供給管を付設し、その底部に溶
融液配管を付設し、この配管を第1充填塔の中間部に連
結した。この第1充填塔には、その塔頂部にフェノール
蒸気排出用配管を付設し、その底部にビスフェノールA
とフェノールを含む溶融液配管を付設し、この配管を第
2充填塔の中間部に連結した。この第2充填塔の塔頂部
はフェノール、スチーム及び少量のビスフェノールAを
含む混合蒸気排出用配管を付設し、この配管は、これを
図1に示した冷却凝縮装置に連結させた。また、この第
2充填塔の塔底部には、ビスフェノールA排出配管と、
スチーム供給配管を付設した。なお、前記した第1充填
塔及び第2充填塔の各底部には、加熱スチームを流通さ
せる加熱コイルを配設した。また、前記した各配管はい
ずれもSUS316製のものであった。
(VI-2) Crystal Adduct Liquefaction Step 6 and Dephenolization Step 7 of Crystal Adduct Melt Liquid As a crystal adduct dissolution apparatus, an external heating type closed container made of SUS316 is used, and as a vapor treatment apparatus for crystal adduct melt liquid, S filled with a filler made of SUS316 inside
Two packed columns made of US304 were used. In the melting device,
A crystal adduct supply pipe was attached to the upper part thereof, a melt liquid pipe was attached to the bottom thereof, and this pipe was connected to an intermediate portion of the first packed column. This first packed column is equipped with a pipe for discharging phenol vapor at the top of the column and bisphenol A at the bottom thereof.
A melt liquid pipe containing phenol and phenol was attached, and this pipe was connected to the middle part of the second packed column. A pipe for discharging mixed vapor containing phenol, steam and a small amount of bisphenol A was attached to the top of the second packed column, and this pipe was connected to the cooling condenser shown in FIG. Also, at the bottom of the second packed column, a bisphenol A discharge pipe,
A steam supply pipe was attached. A heating coil for circulating heating steam was arranged at the bottom of each of the first packed tower and the second packed tower. Further, each of the above-mentioned pipes was made of SUS316.

【0084】次に、前記のようにして構成された装置系
において、その溶融装置の内壁面、第1充填塔及び第2
充填塔の内壁面及びその充填材表面、溶融装置と第1充
填塔との間の配管、第1充填塔と第2充填塔との間の配
管及び第2充填塔の底部に配設したビスフェノールA排
出配管に対して、以下のようにして付着酸素除去用の洗
浄処理を施した。 (1)溶融装置内壁面の洗浄 スプレーノズルを介して常圧下、130℃のフェノール
液を内壁面に噴射させて、内壁面を充分に洗浄した後、
150℃のフェノール/ビスフェノールA混合液(混合
重量比=65/35)を噴射させて内壁面を充分に洗浄
した。 (2)充填塔内壁面及び充填材表面の洗浄 常圧下、130℃のフェノールを、その装置の上部に付
設されたスプレーノズルから流入させて装置内の洗浄を
行った後、130℃のフェノール次いで150℃のフェ
ノール/ビスフェノールA混合物(混合重量比=65/
35)により装置壁面および充填材表面が充分濡れるよ
うに流通させた。次いで180℃、10トールの条件で
フェノール/ビスフェノールA混合物(混合重量比=6
5/35)を流通させた。 (3)配管内壁面の洗浄 130℃のフェノールを配管内を流通させて洗浄した。
その際、管内壁面に気相が存在しないように注意した。
なお、前記の洗浄により、溶融装置内壁面、充填塔内壁
面とその充填材表面及び配管の内壁面に付着する酸素量
は、表面積1m2当り5ミリモル以下であることが確認
された。
Next, in the apparatus system constructed as described above, the inner wall surface of the melting apparatus, the first packed tower and the second
Inner wall surface of the packed tower and the surface of the packing material, piping between the melting device and the first packed tower, piping between the first packed tower and the second packed tower, and bisphenol arranged at the bottom of the second packed tower The A discharge pipe was subjected to a cleaning treatment for removing attached oxygen as follows. (1) Cleaning of the inner wall surface of the melting device After injecting a phenol liquid at 130 ° C. onto the inner wall surface under normal pressure through a spray nozzle to thoroughly clean the inner wall surface,
A phenol / bisphenol A mixed liquid (mixing weight ratio = 65/35) at 150 ° C. was jetted to thoroughly clean the inner wall surface. (2) Cleaning of the inner wall surface of the packed tower and the surface of the packing material Under normal pressure, 130 ° C. phenol is introduced from the spray nozzle attached to the upper part of the device to clean the inside of the device, and then 130 ° C. phenol is added. Phenol / bisphenol A mixture at 150 ° C (mixing weight ratio = 65 /
According to 35), the wall surface of the device and the surface of the filler were circulated so that they were sufficiently wet. Then, under the conditions of 180 ° C. and 10 Torr, a phenol / bisphenol A mixture (mixing weight ratio = 6
5/35) was distributed. (3) Cleaning of the inner wall surface of the pipe Phenol at 130 ° C was circulated in the pipe for cleaning.
At that time, care was taken so that the gas phase did not exist on the inner wall surface of the tube.
By the above cleaning, it was confirmed that the amount of oxygen adhering to the inner wall surface of the melting device, the inner wall surface of the packed column and the surface of the packing material, and the inner wall surface of the pipe was 5 mmol or less per 1 m 2 of surface area.

【0085】次に、結晶アダクトの溶融液及びビスフェ
ノールAの溶融液が接触する溶融装置、充填塔、充填材
及び配管の表面があらかじめ酸素除去された前記装置系
を用いて、精製結晶アダクト(溶融色APHA:5)から
フェノールを蒸発除去して、ビスフェノールAを分離回
収するとともに、第2充填塔の塔頂から得られる混合蒸
気の冷却凝縮処理を行った。また、前記における溶融装
置、第1充填塔、第2充填塔及び冷却凝縮装置系のの操
作条件は以下の通りである。 (溶融装置) 温度:130℃ 圧力:常圧 雰囲気酸素濃度:0.0005vol% (第1充填塔) 温度:170℃ 圧力:10トール 蒸気雰囲気中酸素濃度:0.0015vol% (第2充填塔) 温度:180℃ 圧力:10トール スチーム供給量:溶融液1kg当り0.08kg 蒸気雰囲気中酸素濃度:0.0002vol% (図7の第1冷却器の操作条件) (1)ライン103から第101冷却器1に導入される
ストリッピングガス 圧力:10トール 温度:180℃ 組成:ビスフェノールA25wt%、フェノール25w
t%、スチーム50wt% (2)ライン105から導入される第1冷却媒体(フェ
ノール) 温度:50℃ 冷却媒体/ストリッピングガス重量比:6 (3)冷却器101におけるストリッピングガスからの
ビスフェノールAの回収率:100%
Next, a purified crystal adduct (melted) Phenol was removed from the colored APHA: 5) by evaporation to separate and recover bisphenol A, and the mixed vapor obtained from the top of the second packed column was cooled and condensed. The operating conditions of the melting device, the first packed tower, the second packed tower and the cooling condenser system in the above are as follows. (Melting apparatus) Temperature: 130 ° C. Pressure: Normal pressure Atmospheric oxygen concentration: 0.0005 vol% (first packed tower) Temperature: 170 ° C. Pressure: 10 Torr Oxygen concentration in steam atmosphere: 0.0015 vol% (second packed tower) Temperature: 180 ° C. Pressure: 10 torr Steam supply: 0.08 kg per 1 kg of molten liquid Oxygen concentration in steam atmosphere: 0.0002 vol% (operating condition of the first cooler in FIG. 7) (1) Cooling from line 103 to 101 Stripping gas introduced into vessel 1 Pressure: 10 torr Temperature: 180 ° C. Composition: Bisphenol A 25 wt%, phenol 25 w
t%, steam 50 wt% (2) First cooling medium (phenol) introduced from line 105 Temperature: 50 ° C. Cooling medium / stripping gas weight ratio: 6 (3) Bisphenol A from stripping gas in cooler 101 Recovery rate: 100%

【0086】(図7の第2冷却器の操作条件) (1)ライン108から第2冷却器に導入される未凝縮
ガス 圧力:10トール 温度:51℃ 組成:フェノール65wt%、スチーム35wt% (2)ライン109から第2冷却器102に導入される
第2冷却媒体(フェノール水溶液) 温度:9℃ 冷却媒体/未凝縮ガス重量比:190 (3)冷却器102における未凝縮ガスからのフェノー
ル及びスチームの各回収率 フェノール回収率:100% スチーム回収率:100%
(Operation condition of the second cooler in FIG. 7) (1) Uncondensed gas introduced into the second cooler through the line 108 Pressure: 10 Torr Temperature: 51 ° C. Composition: Phenol 65 wt%, Steam 35 wt% ( 2) Second cooling medium (phenol aqueous solution) introduced into the second cooler 102 from the line 109 Temperature: 9 ° C. Cooling medium / uncondensed gas weight ratio: 190 (3) Phenol and uncondensed gas in the cooler 102 Steam recovery rates Phenol recovery rate: 100% Steam recovery rate: 100%

【0087】(VII)結晶アダクト溶融液の脱フェノール
工程 (実験I)実質的に中性条件下(pH5.05)にあ
り、溶融色がAPHA5であるビスフェノールA・フェ
ノール結晶アダクトを、精製フェノールで部分希釈し、
130℃に加熱してビスフェノールA30重量%を含む
フェノール溶液とした。このフェノール溶液を原料液と
して用い図9に示す蒸発装置系を用いて処理した。次
に、図9に示した装置系の主要な運転条件及び主要ライ
ンを通る液体の成分組成について以下に示す。 (1)第1蒸発器201 (i) 外部ヒータ温度:170℃ (ii) 内部圧力 :20トール (iii) 雰囲気中酸素濃度:0.0010vol% (2)第2蒸発器202 (i) 外部ヒータ温度:180℃ (ii) 内部圧力 :10トール (iii) 雰囲気中酸素濃度:0.0030vol% (3)第3蒸発器203 (i) 外部ヒータ温度:180℃ (ii) 内部圧力 :10トール (iii) 雰囲気中酸素濃度:0.0030vol% (4)ライン216を通るビスフェノールA (i)フェノール含有率:29wtppm (ii) 溶融色:APHA15 (5)ライン215を通るスチーム供給量:ライン21
4を通るビスフェノールA1重量部当り0.04重量部
(VII) Dephenolization Step of Crystal Adduct Melt (Experiment I) Bisphenol A / phenol crystal adduct having a melting color of APHA5 under substantially neutral conditions (pH 5.05) was purified with purified phenol. Partially diluted,
It was heated to 130 ° C. to obtain a phenol solution containing 30% by weight of bisphenol A. This phenol solution was used as a raw material liquid and treated using the evaporator system shown in FIG. Next, the main operating conditions of the system shown in FIG. 9 and the component composition of the liquid passing through the main lines will be shown below. (1) First evaporator 201 (i) External heater temperature: 170 ° C. (ii) Internal pressure: 20 Torr (iii) Oxygen concentration in atmosphere: 0.0010 vol% (2) Second evaporator 202 (i) External heater Temperature: 180 ° C. (ii) Internal pressure: 10 Torr (iii) Oxygen concentration in the atmosphere: 0.0030 vol% (3) Third evaporator 203 (i) External heater temperature: 180 ° C. (ii) Internal pressure: 10 Torr ( iii) Oxygen concentration in atmosphere: 0.0030 vol% (4) Bisphenol A through line 216 (i) Phenol content: 29 wtppm (ii) Melt color: APHA15 (5) Steam supply amount through line 215: Line 21
0.04 parts by weight per 1 part by weight of bisphenol A passing 4

【0088】(実験II)実験Aにおいて、原料としての
ビスフェノールAを含むフェノール溶液に、表2に示す
添加剤を20wtppm添加した以外は同様にして実験
を行った。この実験により、ライン16を通して高純度
ビスフェノールA(APHA:10、フェノール含有
率:27wtppm)を得た。次に、このビスフェノー
ルAを、空気雰囲気下で175℃で0時間又は2時間加
熱保持する熱安定性試験(試験A)及び空気を175℃
で2.0時間吹込む加速熱安定性試験(試験B)に付し
て、その際の色相を評価した。その結果を表2に示す。
(Experiment II) An experiment was conducted in the same manner as in Experiment A, except that 20 wtppm of the additive shown in Table 2 was added to the phenol solution containing bisphenol A as a raw material. Through this experiment, high-purity bisphenol A (APHA: 10, phenol content: 27 wtppm) was obtained through line 16. Next, this bisphenol A was subjected to a thermal stability test (test A) in which the bisphenol A was heated and held at 175 ° C. for 0 hours or 2 hours in an air atmosphere, and the air was heated to 175 ° C.
Was subjected to an accelerated thermal stability test (test B) of 2.0 hours in which the hue at that time was evaluated. The results are shown in Table 2.

【0089】[0089]

【表2】 [Table 2]

【0090】[0090]

【発明の効果】本発明によれば、分離工程でビスフェノ
ールAを含むフェノール溶液及びフェノールを分離する
とともに、アセトンを分離させ、そのアセトンを反応工
程に循環するアセトン循環工程を含むことから、アセト
ンを有効に利用することができる。また、本発明では、
晶析生成物から分離された母液を精製処理して反応系に
循環させる工程を含むことから、反応系での副生物や不
純物の蓄積を防止し、高純度で色相の良いビスフェノー
ルAを得ることができる。さらに、本発明では、特定の
工程を有機的に結合させた一連の工程からなることか
ら、高品質のビスフェノールAを効率よくかつ経済的に
製造することができる。
EFFECTS OF THE INVENTION According to the present invention, the acetone solution is separated from the phenol solution containing bisphenol A and the phenol in the separation step, and the acetone is separated in the reaction step. It can be used effectively. Further, in the present invention,
Since it includes a step of purifying the mother liquor separated from the crystallization product and circulating it in the reaction system, it is possible to prevent the accumulation of by-products and impurities in the reaction system and obtain bisphenol A with high purity and good hue. You can Further, in the present invention, a high-quality bisphenol A can be efficiently and economically produced because it comprises a series of steps in which specific steps are organically combined.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明によりビスフェノールAを製造するため
の工程図を示す。
FIG. 1 shows a process chart for producing bisphenol A according to the present invention.

【図2】アセトンとフェノールとの反応生成物を特定成
分に分離するための1つの例についての蒸留処理系統図
を示す。
FIG. 2 shows a distillation process flow diagram for one example for separating the reaction product of acetone and phenol into specific components.

【図3】アセトンとフェノールとの反応生成物を特定成
分に分離するための他の例についての蒸留処理系統図を
示す。
FIG. 3 shows a distillation treatment system diagram for another example for separating a reaction product of acetone and phenol into specific components.

【図4】ビスフェノールAを含むフェノール溶液の晶析
工程の1つの例についての晶析系統図を示す。
FIG. 4 shows a crystallization system diagram for one example of a crystallization process of a phenol solution containing bisphenol A.

【図5】晶析生成物から分離された母液の処理方法の1
つの例についての処理系統図を示す。
FIG. 5: Method 1 for treating mother liquor separated from crystallization product
A processing diagram for one example is shown.

【図6】反応蒸留塔に加熱処理装置と滞留槽を付設した
説明図を示す。
FIG. 6 is an explanatory diagram in which a heat treatment device and a retention tank are attached to the reactive distillation column.

【図7】スチームとフェノールの混合蒸気の凝縮処理方
法の系統図を示す。
FIG. 7 shows a system diagram of a method of condensing a mixed vapor of steam and phenol.

【図8】スチームとフェノールの混合蒸気の凝縮処理法
において、第1冷却器と第2冷却器を含む一塔型の冷却
装置を用いた場合の系統図を示す。
FIG. 8 is a system diagram when a one-column cooling device including a first cooler and a second cooler is used in the method for condensing a mixed vapor of steam and phenol.

【図9】薄膜蒸発器を用いて脱フェノール工程を実施す
る方法についての系統図を示す。
FIG. 9 shows a systematic diagram for a method of performing a dephenoling step using a thin film evaporator.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 反応工程 2 分離工程 3 晶析工程 4 晶析生成物分離工程 5 液化工程 6 脱フェノール工程 7 造粒工程 8 蒸留工程 9 加熱工程(反応槽) 10 減圧回収工程(減圧蒸発塔) 31,32,33,34 蒸留塔 35 強酸型イオン交換樹脂処理装置 36,37 静置槽 55 外筒 56 内筒 57 微結晶アダクト溶解タンク 101,102 冷却器 R 強酸型イオン交換樹脂塔 1 Reaction Process 2 Separation Process 3 Crystallization Process 4 Crystallized Product Separation Process 5 Liquefaction Process 6 Dephenolation Process 7 Granulation Process 8 Distillation Process 9 Heating Process (Reaction Tank) 10 Reduced Pressure Recovery Process (Decompressed Evaporation Tower) 31, 32 , 33, 34 Distillation tower 35 Strong acid ion exchange resin treatment device 36, 37 Standing tank 55 Outer cylinder 56 Inner cylinder 57 Microcrystalline adduct dissolution tank 101, 102 Cooler R Strong acid ion exchange resin tower

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 進藤 昭夫 神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番 1号 千代 田化工建設株式会社内 (72)発明者 須田 信幸 神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番 1号 千代 田化工建設株式会社内 (72)発明者 野村 誠 神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番 1号 千代 田化工建設株式会社 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Akio Shindo 2-12-1, Tsurumi Chuo, Tsurumi-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Chiyo Tadaka Construction Co., Ltd. (72) Nobuyuki Suda Tsurumi-chu, Tsurumi-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2-12-1 Chiyo Tako Construction Co., Ltd. (72) Inventor Makoto Nomura 2-12-1 Tsurumi Chuo, Tsurumi-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Chiyo Tako Construction Co., Ltd.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アセトンと過剰量のフェノールとを酸触
媒の存在下で反応させてビスフェノールAを生成させる
反応工程、該反応工程から得られた反応生成物を、アセ
トンと、水と、フェノールと、ビスフェノールAを含む
フェノール溶液とに分離する分離工程、該ビスフェノー
ルAを含むフェノール溶液からビスフェノールAとフェ
ノールとの結晶アダクトを析出させる晶析工程、該晶析
工程で得られた晶析生成物から結晶アダクトと母液を分
離する晶析生成物分離工程、該晶析生成物分離工程で得
られた結晶アダクトを液化する結晶アダクト液化工程及
び該結晶アダクト液化工程で得られたビスフェノールA
を含むフェノール溶液からフェノールを除去する脱フェ
ノール工程を備え、さらに、前記分離工程から分離され
たアセトンを反応工程に循環させるアセトン循環工程、
該分離工程で得られたフェノールの少なくとも一部を晶
析生成物分離工程に結晶アダクト洗浄液として循環させ
るフェノール循環工程、該晶析生成物分離工程で得られ
た母液を反応工程に循環させる母液循環工程及び該循環
母液の一部を精製する母液精製工程及び該母液精製工程
で得られた精製母液を反応工程に循環させる精製母液循
環工程を含むことを特徴とするビスフェノールAの製造
方法。
1. A reaction step in which acetone and excess phenol are reacted in the presence of an acid catalyst to produce bisphenol A, and the reaction product obtained from the reaction step is mixed with acetone, water, and phenol. A separation step of separating into a phenol solution containing bisphenol A, a crystallization step of precipitating a crystal adduct of bisphenol A and phenol from the phenol solution containing bisphenol A, and a crystallization product obtained in the crystallization step Crystallization product separation step for separating crystal adduct and mother liquor, crystal adduct liquefaction step for liquefying crystal adduct obtained in the crystallization product separation step, and bisphenol A obtained in the crystal adduct liquefaction step
A phenol circulation step of removing phenol from a phenol solution containing, further, an acetone circulation step of circulating acetone separated from the separation step in the reaction step,
A phenol circulation step in which at least a part of the phenol obtained in the separation step is circulated as a crystal adduct cleaning liquid in the crystallization product separation step, and a mother liquor circulation in which the mother liquor obtained in the crystallization product separation step is circulated in the reaction step A method for producing bisphenol A, which comprises a step and a mother liquor purification step of purifying a part of the circulating mother liquor, and a purified mother liquor circulation step of circulating the purified mother liquor obtained in the mother liquor purification step into a reaction step.
【請求項2】 該脱フェノール工程においてビスフェノ
ールAを含むフェノール溶液からフェノールを除去する
に際し、ビスフェノールAを含むフェノール溶液を、薄
膜蒸発器を用い、雰囲気中の酸素濃度0.005vol%以
下の条件で160〜185℃の温度及び15〜60トー
ルの圧力下で蒸発処理して、フェノール含有率が1〜5
重量%のビスフェノールAを得るフェノール蒸発工程
と、該フェノール蒸発工程で得られたフェノールを含む
ビスフェノールAを、170〜185℃の温度及び15
トール以下の圧力下でストリッピング用ガスと向流接触
させてストリッピング処理する第1ストリッピング工程
と、該第1ストリッピング工程で得られたフェノールを
含むビスフェノールAを、170〜185℃の温度及び
15トール以下の圧力下でストリッピング用ガスと向流
接触させてストリッピング処理する第2ストリッピング
工程とからなり、該第2ストリッピング工程におけるス
トリッピング用ガスとしてスチームを用い、該第1スト
リッピング工程におけるストリッピング用ガスとして、
第2ストリッピング工程で得られたフェノール及びビス
フェノールAを含むスチームからなるストリッピングガ
スを用いることを、特徴とする請求項1の方法。
2. When removing the phenol from the phenol solution containing bisphenol A in the dephenoling step, the phenol solution containing bisphenol A is used under the condition that the oxygen concentration in the atmosphere is 0.005 vol% or less using a thin film evaporator. Evaporated at a temperature of 160-185 ° C. and a pressure of 15-60 Torr to give a phenol content of 1-5.
Phenol evaporation step to obtain wt% bisphenol A and bisphenol A containing phenol obtained in the phenol evaporation step at a temperature of 170-185 ° C. and 15
A first stripping step in which the stripping gas is brought into countercurrent contact with the stripping gas under a pressure of less than or equal to torr and a bisphenol A containing phenol obtained in the first stripping step at a temperature of 170 to 185 ° C. And a second stripping step in which the stripping gas is brought into countercurrent contact with the stripping gas under a pressure of 15 torr or less, and steam is used as the stripping gas in the second stripping step. As stripping gas in the stripping process,
The method of claim 1, wherein a stripping gas consisting of steam containing phenol and bisphenol A obtained in the second stripping step is used.
【請求項3】 ビスフェノールAを含むフェノール溶液
に、脂肪族カルボン酸を添加混合する請求項2の方法。
3. The method according to claim 2, wherein the aliphatic carboxylic acid is added to and mixed with the phenol solution containing bisphenol A.
【請求項4】 該母液精製工程が以下の工程からなる請
求項1〜3のいずれかの方法。 (i)該母液を蒸留塔に導入し、該蒸留塔に導入した母
液の50〜90重量%を留出させてフェノールを含む留
出液を得る蒸留工程、 (ii)該蒸留工程(i)で得られた蒸留塔の塔底液を、
塩基性触媒の存在下で200〜350℃に加熱する加熱
工程、 (iii)該加熱工程(ii)で得られた生成物を減圧蒸発し
て、フェノール及びイソプロペニルフェノールを含む留
出蒸気を得る減圧回収工程、 (iv)該減圧回収工程(iii)で得られた留出蒸気を、蒸
留工程(i)で得られた留出液と接触させて急冷する急
冷工程。
4. The method according to claim 1, wherein the mother liquor purification step comprises the following steps. (I) a distillation step of introducing the mother liquor into a distillation column and distilling 50 to 90% by weight of the mother liquor introduced into the distillation column to obtain a distillate containing phenol; (ii) the distillation step (i) The bottom liquid of the distillation column obtained in
Heating step of heating to 200 to 350 ° C. in the presence of a basic catalyst, (iii) evaporation of the product obtained in the heating step (ii) under reduced pressure to obtain distillate vapor containing phenol and isopropenylphenol A reduced pressure recovery step, (iv) a quenching step in which the distillate vapor obtained in the reduced pressure recovery step (iii) is brought into contact with the distillate obtained in the distillation step (i) to rapidly cool it.
【請求項5】 加熱工程(ii)と減圧回収工程(iii)
を、反応塔を用いて同時に行う請求項4の方法。
5. A heating step (ii) and a reduced pressure recovery step (iii)
The method according to claim 4, wherein is carried out simultaneously by using a reaction tower.
【請求項6】 反応塔からその塔底液の一部を抜出し、
塩基性触媒の存在下で200〜350℃の温度で加熱処
理した後、反応塔に循環する請求項5の方法。
6. A part of the bottom liquid of the reaction tower is withdrawn from the reaction tower,
The method according to claim 5, which is heat-treated in the presence of a basic catalyst at a temperature of 200 to 350 ° C. and then circulated in the reaction column.
【請求項7】 急冷工程(v)で得られた急冷物を、反応
工程に循環するに際し、該急冷物を強酸型イオン交換樹
脂と接触させた後、反応工程に循環する請求項4〜6の
いずれかの方法。
7. The quenching product obtained in the quenching step (v) is circulated in the reaction step after the quenching material is contacted with a strong acid type ion exchange resin when the quenching material is circulated in the reaction step. Either way.
JP31635292A 1991-10-30 1992-10-30 Method for producing bisphenol A Expired - Lifetime JP3413497B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP31635292A JP3413497B2 (en) 1991-10-30 1992-10-30 Method for producing bisphenol A

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3-311991 1991-10-30
JP31199191 1991-10-30
JP31635292A JP3413497B2 (en) 1991-10-30 1992-10-30 Method for producing bisphenol A

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05345737A true JPH05345737A (en) 1993-12-27
JP3413497B2 JP3413497B2 (en) 2003-06-03

Family

ID=26566981

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP31635292A Expired - Lifetime JP3413497B2 (en) 1991-10-30 1992-10-30 Method for producing bisphenol A

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3413497B2 (en)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001083416A1 (en) * 2000-05-02 2001-11-08 Mitsubishi Chemical Corporation Process for producing bisphenol a
US6653513B1 (en) * 1998-10-22 2003-11-25 Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. Process for producing bisphenol A
JP2005220094A (en) * 2004-02-06 2005-08-18 Mitsubishi Chemicals Corp Method for producing bisphenol a
WO2007046434A1 (en) * 2005-10-21 2007-04-26 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Process for producing bisphenol a with satisfactory hue
WO2007088689A1 (en) 2006-02-02 2007-08-09 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Process and equipment for the recovery of bisphenol a
JP2009242316A (en) * 2008-03-31 2009-10-22 Mitsubishi Chemicals Corp Method for producing bisphenol a
JP2012506905A (en) * 2008-10-28 2012-03-22 バジャー・ライセンシング・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー Process for recovering phenol from a bisphenol A wastewater stream
JP2013249306A (en) * 2000-03-27 2013-12-12 Bayer Ag Method for producing bisphenol
WO2015005726A1 (en) * 2013-07-11 2015-01-15 주식회사 엘지화학 Bisphenol a preparation apparatus and preparation method
JPWO2014002787A1 (en) * 2012-06-28 2016-05-30 出光興産株式会社 Method for producing bisphenol A
CN109476571A (en) * 2016-07-22 2019-03-15 沙特基础工业全球技术有限公司 The preparation of bisphenol-A

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6653513B1 (en) * 1998-10-22 2003-11-25 Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. Process for producing bisphenol A
JP2013249306A (en) * 2000-03-27 2013-12-12 Bayer Ag Method for producing bisphenol
KR100786042B1 (en) * 2000-05-02 2007-12-17 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 Process for producing bisphenol a
WO2001083416A1 (en) * 2000-05-02 2001-11-08 Mitsubishi Chemical Corporation Process for producing bisphenol a
JP2005220094A (en) * 2004-02-06 2005-08-18 Mitsubishi Chemicals Corp Method for producing bisphenol a
WO2007046434A1 (en) * 2005-10-21 2007-04-26 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Process for producing bisphenol a with satisfactory hue
WO2007088689A1 (en) 2006-02-02 2007-08-09 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Process and equipment for the recovery of bisphenol a
JP2007204433A (en) * 2006-02-02 2007-08-16 Idemitsu Kosan Co Ltd Method for recovery of bisphenol-a and recovery equipment therefor
JP2009242316A (en) * 2008-03-31 2009-10-22 Mitsubishi Chemicals Corp Method for producing bisphenol a
JP2012506905A (en) * 2008-10-28 2012-03-22 バジャー・ライセンシング・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー Process for recovering phenol from a bisphenol A wastewater stream
JPWO2014002787A1 (en) * 2012-06-28 2016-05-30 出光興産株式会社 Method for producing bisphenol A
WO2015005726A1 (en) * 2013-07-11 2015-01-15 주식회사 엘지화학 Bisphenol a preparation apparatus and preparation method
JP2016528205A (en) * 2013-07-11 2016-09-15 エルジー・ケム・リミテッド Bisphenol A production apparatus and production method
US9573869B2 (en) 2013-07-11 2017-02-21 Lg Chem, Ltd. Bisphenol A preparation apparatus and preparation method
CN109476571A (en) * 2016-07-22 2019-03-15 沙特基础工业全球技术有限公司 The preparation of bisphenol-A
US10538471B2 (en) 2016-07-22 2020-01-21 Sabic Global Technologies B.V. Manufacture of bisphenol A

Also Published As

Publication number Publication date
JP3413497B2 (en) 2003-06-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5382712A (en) Process for the production of bisphenol A
US5345000A (en) Process for the production of crystalline adduct of bisphenol A and phenol and apparatus therefor
US5648561A (en) Process for the production of high purity and ultrapure bisphenol-A
TWI438184B (en) Crystallization processes for producing bisphenols
KR100781863B1 (en) Method for Producing Bisphenols
JP3413497B2 (en) Method for producing bisphenol A
JP2796557B2 (en) Method for producing bisphenol A and method for treating mother liquor separated from crystallization product of phenol solution containing bisphenol A
JP2009242316A (en) Method for producing bisphenol a
KR100786042B1 (en) Process for producing bisphenol a
US5368827A (en) Process for the production of crystalline adduct of bisphenol A and phenol and apparatus therefor
WO2000035847A1 (en) Process for the manufacture of bisphenol-a
KR100189205B1 (en) Process for the production of crystalline adduct of bisphenol and phenol and apparatus therefor
KR100190334B1 (en) Process for the production of crystalline adduct of bisphenol a and phenol and apparatus therefor
JPH0579051B2 (en)
US6919487B2 (en) Bis(4-hydroxyaryl)alkanes
US4568776A (en) Process for purifying 2,6-xylenol
JP3190388B2 (en) Method for producing high-grade bisphenol A
JP2913123B2 (en) Method for separating bisphenol A without discoloration
JP5150086B2 (en) Recovery method of bisphenol A
JPH08325183A (en) Production of bisphenol a
WO2007046434A1 (en) Process for producing bisphenol a with satisfactory hue
JPH06199720A (en) Production of bisphenol a having high thermal stability
JPS6326734B2 (en)
JPH06306001A (en) Recovery of pure phenol

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090404

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090404

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100404

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100404

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110404

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130404

Year of fee payment: 10

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130404

Year of fee payment: 10