KR100784759B1 - Plasma Display Panel - Google Patents

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Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel)에 관한 것으로, 전극과 기판 사이에 상대적으로 낮은 유전율을 갖는 유전체 층을 추가로 더 구비하여 전체 기생 캐패시턴스 값을 저감시킴으로써 구동 효율이 개선되는 효과가 있다.The present invention relates to a plasma display panel, and further includes a dielectric layer having a relatively low dielectric constant between the electrode and the substrate to reduce the overall parasitic capacitance value, thereby improving driving efficiency.

이러한, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널은 기판과, 상기 기판 상에 형성되는 제 1 유전체 층과, 상기 제 1 유전체 층 상부에 형성되는 전극 및 상기 제 1 유전체 층과 유전율이 다르며, 상기 전극을 덮도록 제 1 유전체 층 상부에 형성되는 제 2 유전체 층을 포함하는 것이 바람직하다.The plasma display panel of the present invention has a dielectric constant different from that of a substrate, a first dielectric layer formed on the substrate, an electrode formed on the first dielectric layer, and the first dielectric layer, and covering the electrode. It is preferred to include a second dielectric layer formed over the first dielectric layer.

또한, 본 발명의 또 다른 플라즈마 디스플레이 패널은 기판과, 상기 기판 상에 형성되는 제 1 유전체 층과, 상기 제 1 유전체 층 상부에 형성되는 복수의 전극과, 상기 제 1 유전체 층 상부에서 상기 복수의 전극들 사이에 형성되는 제 2 유전체 층 및 상기 전극 및 제 2 유전체 층을 덮도록 형성되는 제 3 유전체 층을 포함하는 것이 바람직하다.In addition, another plasma display panel of the present invention includes a substrate, a first dielectric layer formed on the substrate, a plurality of electrodes formed on the first dielectric layer, and the plurality of electrodes on the first dielectric layer. It is preferred to include a second dielectric layer formed between the electrodes and a third dielectric layer formed to cover the electrode and the second dielectric layer.

Description

플라즈마 디스플레이 패널{Plasma Display Panel}Plasma Display Panel

도 1은 종래의 플라즈마 디스플레이 패널에 대해 설명하기 위한 도면.1 is a diagram for explaining a conventional plasma display panel.

도 2는 종래 플라즈마 디스플레이 패널의 문제점을 설명하기 위한 도면.2 is a view for explaining a problem of the conventional plasma display panel.

도 3a 내지 도 3b는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널 구조의 제 1 실시예를 설명하기 위한 도면.3A to 3B are views for explaining a first embodiment of the plasma display panel structure of the present invention.

도 4는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 후면 기판의 구조를 더욱 상세히 설명하기 위한 도면.4 is a view for explaining the structure of the back substrate of the plasma display panel of the present invention in more detail.

도 5는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널에서 기생 캐패시턴스에 대해 설명하기 위한 도면.FIG. 5 is a diagram for explaining parasitic capacitance in the plasma display panel of the present invention; FIG.

도 6a 내지 도 6b는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널 구조의 제 1 실시예의 또 다른 일례를 설명하기 위한 도면.6A to 6B are views for explaining still another example of the first embodiment of the structure of the plasma display panel of the present invention;

도 7은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널 구조의 제 2 실시예를 설명하기 위한 도면.Fig. 7 is a view for explaining a second embodiment of the structure of the plasma display panel of the present invention.

도 8a 내지 도 8c는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 기판의 구조를 더욱 상세히 설명하기 위한 도면.8A to 8C are views for explaining the structure of the front substrate of the plasma display panel of the present invention in more detail.

도 9는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널 구조의 제 3 실시예를 설명하기 위한 도면.Fig. 9 is a view for explaining a third embodiment of the structure of the plasma display panel of the present invention.

도 10은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널 구조의 제 3 실시예의 또 다른 일례를 설명하기 위한 도면.10 is a view for explaining still another example of the third embodiment of the structure of the plasma display panel of the present invention;

도 11a 내지 도 11c는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널 구조의 제 4 실시예를 설명하기 위한 도면.11A to 11C are views for explaining a fourth embodiment of the structure of a plasma display panel of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for main parts of the drawings>

300 : 전면 패널 301 : 전면 기판300: front panel 301: front substrate

302 : 스캔 전극 303 : 서스테인 전극302 scan electrode 303 sustain electrode

304 : 상부 유전체 층 305 : 보호 층304: upper dielectric layer 305: protective layer

310 : 후면 패널 311 : 후면 기판310: rear panel 311: rear substrate

312 : 격벽 313 : 어드레스 전극312: partition 313: address electrode

314 : 형광체 층 315 : 제 1 하부 유전체 층314 phosphor layer 315 first lower dielectric layer

316 : 제 2 하부 유전체 층316: second lower dielectric layer

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel)에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma display panel.

일반적으로 플라즈마 디스플레이 패널에는 격벽으로 구획된 방전 셀 내에 형광체 층이 형성되고, 아울러 복수의 전극(Electrode)이 형성된다.In general, a phosphor layer is formed in a discharge cell partitioned by a partition, and a plurality of electrodes is formed in a plasma display panel.

이러한 전극을 통해 방전 셀로 구동 전압이 공급된다.The driving voltage is supplied to the discharge cell through this electrode.

그러면, 방전 셀 내에서는 공급되는 구동 전압에 의해 방전이 발생한다. 여 기서, 방전 셀 내에서 구동 전압에 의해 방전이 될 때, 방전 셀 내에 충진 되어 있는 방전 가스가 진공자외선(Vacuum Ultraviolet rays)을 발생하고, 이러한 진공 자외선이 방전 셀 내에 형성된 형광체를 발광시켜 가시 광을 발생시킨다.Then, the discharge is generated by the driving voltage supplied in the discharge cell. In this case, when discharged by a driving voltage in the discharge cell, the discharge gas filled in the discharge cell generates vacuum ultraviolet rays, and the vacuum ultraviolet light emits the phosphor formed in the discharge cell to emit visible light. Generates.

이러한 가시 광에 의해 플라즈마 디스플레이 패널의 화면상에 영상이 표시된다.The visible light displays an image on the screen of the plasma display panel.

도 1은 종래의 플라즈마 디스플레이 패널에 대해 설명하기 위한 도면이다.1 is a view for explaining a conventional plasma display panel.

도 1을 살펴보면, 종래의 플라즈마 디스플레이 패널은 기판(100)과, 이러한 기판(100)상에 형성된 전극(110, 120)과 이러한 전극(110, 120)이 형성된 기판(100) 상에 형성된 유전체 층(130)을 포함한다.Referring to FIG. 1, a conventional plasma display panel includes a substrate 100, electrodes 110 and 120 formed on the substrate 100, and dielectric layers formed on the substrate 100 on which the electrodes 110 and 120 are formed. 130.

여기서, 유전체 층(130)은 전극(110, 120)을 절연 파괴 등의 손상으로부터 보호하며, 아울러 방전을 안정시키는 역할을 수행한다.Here, the dielectric layer 130 protects the electrodes 110 and 120 from damage such as dielectric breakdown, and serves to stabilize the discharge.

이러한 유전체 층(130)은 유전율(Permittivity)이 과도하게 낮은 경우에는 방전이 불안정해지고, 아울러 전극(110, 120)을 충분히 안전하게 보호할 수 없게 된다.If the dielectric layer 130 has excessively low permittivity, the discharge becomes unstable, and the dielectric layers 130 may not be sufficiently secured to protect the electrodes 110 and 120.

반면에, 유전체 층(130)의 유전율이 과도하게 높은 경우에는 방전이 충분히 안정되고, 전극(110, 120)을 충분히 안전하게 보호할 수는 있지만, 전극들(110, 120) 간의 캐패시턴스(Capacitance) 값이 증가함으로써 구동 효율이 감소하는 문제점이 발생한다. 이에 대해 첨부된 도 2를 참조하여 살펴보면 다음과 같다.On the other hand, in the case where the dielectric constant of the dielectric layer 130 is excessively high, the discharge is sufficiently stabilized and the electrodes 110 and 120 can be sufficiently secured, but the capacitance value between the electrodes 110 and 120 is large. This increase causes a problem that the driving efficiency decreases. This will be described with reference to FIG. 2.

도 2는 종래 플라즈마 디스플레이 패널의 문제점을 설명하기 위한 도면이다.2 is a view for explaining the problem of the conventional plasma display panel.

도 2를 살펴보면, 구동 시 전극들(110, 120) 사이에는 전압 차이에 의해 기 생 캐패시턴스가 발생한다. 이러한 기생 캐패시턴스는 여기 도 2에서와 같이 일반적으로 C1과 C2의 합으로 결정될 수 있다.Referring to FIG. 2, parasitic capacitance is generated due to a voltage difference between the electrodes 110 and 120 during driving. This parasitic capacitance can be determined in general by the sum of C1 and C2, as shown here in FIG.

여기서, C1 기생 캐패시턴스는 기판(100)의 유전율에 크게 좌우되고, C2 기생 캐패시턴스는 유전체 층(130)의 유전율에 크게 좌우된다.Here, the C1 parasitic capacitance greatly depends on the dielectric constant of the substrate 100, and the C2 parasitic capacitance greatly depends on the dielectric constant of the dielectric layer 130.

따라서 유전체 층(130)의 유전율이 과도하게 높은 경우에는 C2 기생 캐패시턴스 값이 과도하게 증감함으로써 전체 구동 효율이 저하되는 문제점이 발생한다.Therefore, when the dielectric constant of the dielectric layer 130 is excessively high, the C2 parasitic capacitance value is excessively increased or decreased, resulting in a problem that the overall driving efficiency is lowered.

한편, 기판(100)은 일반적으로 유리 재질로 이루어지기 때문에 기판(100)의 유전율은 상대적으로 매우 높다.On the other hand, since the substrate 100 is generally made of a glass material, the dielectric constant of the substrate 100 is relatively very high.

따라서 구동 시 C1 기생 캐패시턴스 값이 크게 증가함으로써 전체 구동 효율이 더욱 저하되는 문제점이 발생한다.Therefore, when driving, the C1 parasitic capacitance value is greatly increased, resulting in a problem that the overall driving efficiency is further lowered.

상술한 문제점을 해결하기 위해 본 발명은 유전체 층의 구조를 개선하여 전체 캐패시턴스 값이 저감된 플라즈마 디스플레이 패널을 제공하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above problems, an object of the present invention is to provide a plasma display panel in which the total capacitance value is reduced by improving the structure of the dielectric layer.

상술한 목적을 이루기 위한 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널은 기판과, 상기 기판 상에 형성되는 제 1 유전체 층과, 상기 제 1 유전체 층 상부에 형성되는 전극 및 상기 제 1 유전체 층과 유전율이 다르며, 상기 전극을 덮도록 제 1 유전체 층 상부에 형성되는 제 2 유전체 층을 포함하는 것이 바람직하다.Plasma display panel of the present invention for achieving the above object is different from the dielectric constant of the substrate, the first dielectric layer formed on the substrate, the electrode formed on the first dielectric layer and the first dielectric layer, It is preferred to include a second dielectric layer formed over the first dielectric layer to cover the electrode.

또한, 상기 제 1 유전체 층은 제 2 유전체 층 보다 유전율이 더 낮은 것을 특징으로 한다.In addition, the first dielectric layer is characterized by a lower dielectric constant than the second dielectric layer.

상기 제 1 유전체 층의 유전율은 상기 제 2 유전체 층의 유전율의 0.01배 이상 0.5배 이하인 것을 특징으로 한다.The dielectric constant of the first dielectric layer is characterized by being 0.01 to 0.5 times the dielectric constant of the second dielectric layer.

또한, 상기 제 1 유전체 층의 두께는 상기 전극의 두께의 0.1배 이상 10배 이하인 것을 특징으로 한다.In addition, the thickness of the first dielectric layer is characterized in that less than 0.1 times 10 times the thickness of the electrode.

또한, 상기 제 1 유전체 층의 두께는 상기 전극의 두께와 대략 동일한 것을 특징으로 한다.Also, the thickness of the first dielectric layer is approximately equal to the thickness of the electrode.

또한, 상기 제 2 유전체 층의 두께는 상기 전극의 두께의 2배 이상 10배 이하인 것을 특징으로 한다.In addition, the thickness of the second dielectric layer is characterized in that more than 2 times 10 times the thickness of the electrode.

또한, 상기 제 1 유전체 층은 상기 전극 사이에서 상기 제 2 유전체 층 방향으로 돌출된 돌출부를 구비하는 것을 특징으로 한다.In addition, the first dielectric layer is characterized by having a protrusion projecting in the direction of the second dielectric layer between the electrodes.

또한, 상기 돌출부는 상기 전극과 같은 높이로 돌출되거나 더 높이 돌출되는 것을 특징으로 한다.In addition, the protrusion may be protruded at the same height as the electrode or protruded higher.

상술한 목적을 이루기 위한 본 발명의 또 다른 플라즈마 디스플레이 패널은 기판과, 상기 기판 상에 형성되는 제 1 유전체 층과, 상기 제 1 유전체 층 상부에 형성되는 복수의 전극과, 상기 제 1 유전체 층 상부에서 상기 복수의 전극들 사이에 형성되는 제 2 유전체 층 및 상기 전극 및 제 2 유전체 층을 덮도록 형성되는 제 3 유전체 층을 포함하는 것이 바람직하다.Another plasma display panel of the present invention for achieving the above object is a substrate, a first dielectric layer formed on the substrate, a plurality of electrodes formed on the first dielectric layer, and the top of the first dielectric layer Preferably include a second dielectric layer formed between the plurality of electrodes and a third dielectric layer formed to cover the electrode and the second dielectric layer.

또한, 상기 제 3 유전체 층은 제 1 유전체 층 및 제 2 유전체 층 보다 유전율이 더 높은 것을 특징으로 한다.In addition, the third dielectric layer is characterized by a higher dielectric constant than the first dielectric layer and the second dielectric layer.

또한, 상기 제 3 유전체 층의 유전율은 상기 제 1 유전체 층 또는 제 2 유전체 층의 유전율의 2배 이상 100배 이하인 것을 특징으로 한다.In addition, the dielectric constant of the third dielectric layer is characterized by being at least two times and at most 100 times the dielectric constant of the first dielectric layer or the second dielectric layer.

또한, 상기 제 1 유전체 층의 두께는 상기 전극의 두께의 0.1배 이상 10배 이하인 것을 특징으로 한다.In addition, the thickness of the first dielectric layer is characterized in that less than 0.1 times 10 times the thickness of the electrode.

또한, 상기 제 1 유전체 층의 두께는 상기 전극의 두께와 대략 동일한 것을 특징으로 한다.Also, the thickness of the first dielectric layer is approximately equal to the thickness of the electrode.

또한, 상기 제 2 유전체 층의 두께는 상기 전극의 두께와 대략 동일하거나 더 큰 것을 특징으로 한다.Also, the thickness of the second dielectric layer is approximately equal to or greater than the thickness of the electrode.

또한, 상기 제 3 유전체 층의 두께는 상기 전극의 두께의 2배 이상 10배 이하인 것을 특징으로 한다.In addition, the thickness of the third dielectric layer is characterized in that more than 2 times 10 times the thickness of the electrode.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널을 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, a plasma display panel of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널을 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, a plasma display panel of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3a 내지 도 3b는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널 구조의 제 1 실시예를 설명하기 위한 도면이다.3A to 3B are views for explaining a first embodiment of the structure of the plasma display panel of the present invention.

먼저, 도 3a를 살펴보면 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 제 1 실시예는 전극(Electrode), 바람직하게는 스캔 전극(302, Y)과 서스테인 전극(303, Z)이 형성되는 전면 기판(301)을 포함하는 전면 패널(300)과, 전술한 스캔 전극(302, Y) 및 서스테인 전극(303, Z)과 교차하는 전극, 바람직하게는 어드레스 전극(313a, 313b, 313c, X)이 형성되는 후면 기판(311)을 포함하는 후면 패널(310)이 합착되어 이루어진다.First, referring to FIG. 3A, a first embodiment of a plasma display panel of the present invention includes a front substrate 301 on which electrodes, preferably scan electrodes 302 and Y and sustain electrodes 303 and Z, are formed. A back substrate including the front panel 300 and an electrode intersecting the aforementioned scan electrodes 302 and Y and the sustain electrodes 303 and Z, preferably address electrodes 313a, 313b, 313c, and X. The rear panel 310 including the 311 is bonded to each other.

여기서, 전면 기판(301) 상에 형성되는 전극, 바람직하게는 스캔 전극(302, Y)과 서스테인 전극(303, Z)은 방전 공간, 즉 방전 셀(Cell)에서 방전을 발생시키고 아울러 방전 셀의 방전을 유지한다.Here, the electrodes formed on the front substrate 301, preferably the scan electrodes 302 and Y and the sustain electrodes 303 and Z, generate a discharge in a discharge space, that is, a discharge cell, and at the same time Maintain the discharge.

이러한 스캔 전극(302, Y)과 서스테인 전극(303, Z)이 형성된 전면 기판(301)의 상부에는 스캔 전극(302, Y)과 서스테인 전극(303, Z)을 덮도록 유전체 층, 바람직하게는 상부 유전체 층(304)이 형성된다.The dielectric layer, preferably on the upper surface of the front substrate 301 on which the scan electrodes 302 and Y and the sustain electrodes 303 and Z are formed, covers the scan electrodes 302 and Y and the sustain electrodes 303 and Z. Upper dielectric layer 304 is formed.

이러한, 상부 유전체 층(304)은 스캔 전극(302, Y) 및 서스테인 전극(303, Z)의 방전 전류를 제한하며 스캔 전극(302, Y)과 서스테인 전극(303, Z) 간을 절연시킨다.This upper dielectric layer 304 limits the discharge current of the scan electrodes 302 and Y and the sustain electrodes 303 and Z and insulates the scan electrodes 302 and Y from the sustain electrodes 303 and Z.

이러한, 상부 유전체 층(304) 상면에는 방전 조건을 용이하게 하기 위한 보호 층(305)이 형성된다. 이러한 보호 층(305)은 산화마그네슘(MgO) 등의 재료를 상부 유전체 층(304) 상부에 증착하는 방법 등을 통해 형성된다.A protective layer 305 is formed on the top surface of the upper dielectric layer 304 to facilitate a discharge condition. The protective layer 305 is formed through a method of depositing a material such as magnesium oxide (MgO) over the upper dielectric layer 304.

한편, 후면 기판(311) 상에는 제 1 하부 유전체 층(316)이 형성된다. 이러한 제 1 하부 유전체 층(316)은 구동 시 어드레스 전극(313a, 313b, 313c, X) 간의 캐패시턴스(Capacitance) 값을 저감시킨다. 이러한 제 1 하부 유전체 층(316)에 대해서는 이후에 더욱 상세히 설명하기로 한다.Meanwhile, a first lower dielectric layer 316 is formed on the back substrate 311. The first lower dielectric layer 316 reduces a capacitance value between the address electrodes 313a, 313b, 313c, and X when driven. This first lower dielectric layer 316 will be described in more detail later.

이러한 어드레스 전극(313a, 313b, 313c, X)은 방전 셀에 데이터(Data) 펄스를 공급하는 전극이다.The address electrodes 313a, 313b, 313c, and X are electrodes for supplying data pulses to the discharge cells.

이러한 어드레스 전극(313a, 313b, 313c, X)이 형성된 후면 기판(311)의 상부에는 어드레스 전극(313a, 313b, 313c, X)을 덮도록 제 2 하부 유전체 층(315)이 형성된다.The second lower dielectric layer 315 is formed on the rear substrate 311 on which the address electrodes 313a, 313b, 313c, and X are formed to cover the address electrodes 313a, 313b, 313c, and X.

이러한, 제 2 하부 유전체 층(315)은 어드레스 전극(313a, 313b, 313c, X)을 절연시킨다.This second lower dielectric layer 315 insulates the address electrodes 313a, 313b, 313c, and X.

이러한 제 2 하부 유전체 층(315)의 상부에는 방전 공간 즉, 방전 셀을 구획하기 위한 스트라이프 타입(Stripe Type) 또는 웰 타입(Well Type) 등의 격벽(312)이 형성된다. 이에 따라, 전면 기판(301)과 후면 기판(311)의 사이에서 적색(Red : R), 녹색(Green : G), 청색(Blue : B) 등의 방전 셀이 형성된다.A discharge space, that is, a partition 312 such as a stripe type or a well type for partitioning the discharge cell is formed on the second lower dielectric layer 315. Accordingly, discharge cells such as red (R), green (G), and blue (B) are formed between the front substrate 301 and the rear substrate 311.

여기서, 격벽(312)에 의해 구획된 방전 셀 내에는 소정의 방전 가스가 채워진다.Here, a predetermined discharge gas is filled in the discharge cell partitioned by the partition 312.

아울러, 격벽(312)에 의해 구획된 방전 셀 내에는 방전 시 화상표시를 위한 가시 광을 방출하는 형광체 층(314)이 형성된다. 예를 들면, 적색(Red : R), 녹색(Green : G), 청색(Blue : B) 형광체 층이 형성될 수 있다.In addition, a phosphor layer 314 is formed in the discharge cell partitioned by the partition 312 to emit visible light for image display during discharge. For example, red (R), green (G), and blue (B) phosphor layers may be formed.

이상에서 설명한 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널에서는 스캔 전극(302, Y), 서스테인 전극(303, Z) 또는 어드레스 전극(313a, 313b, 313c, X) 중 적어도 하나 이상의 전극으로 구동 전압이 공급되면, 격벽(312)에 의해 구획된 방전 셀 내에서 방전이 발생한다.In the plasma display panel of the present invention described above, when the driving voltage is supplied to at least one of the scan electrodes 302 and Y, the sustain electrodes 303 and Z, and the address electrodes 313a, 313b, 313c, and X, the partition wall The discharge occurs in the discharge cell partitioned by 312.

그러면, 방전 셀 내에 채워진 방전 가스에서 진공 자외선이 발생하고, 이러한 진공 자외선이 방전 셀 내에 형성된 형광체 층(314)에 가해진다. 그러면, 형광 체 층(314)에서 소정의 가시광선이 발생되고, 이렇게 발생된 가시광선이 상부 유전체 층(304)이 형성된 전면 기판(301)을 통해 외부로 방출되고, 이에 따라 전면 기판(301)의 외부 면에 소정의 영상이 표시된다.Then, vacuum ultraviolet rays are generated in the discharge gas filled in the discharge cells, and the vacuum ultraviolet rays are applied to the phosphor layer 314 formed in the discharge cells. Then, predetermined visible light is generated in the phosphor layer 314, and the visible light is emitted to the outside through the front substrate 301 on which the upper dielectric layer 304 is formed, and thus the front substrate 301. A predetermined image is displayed on the outer surface of the.

이상의 도 3a에서 설명한 전극, 즉 스캔 전극(302, Y)과 서스테인 전극(303, Z)과 어드레스 전극(313a, 313b, 313c, X) 중 적어도 하나 이상은 제 1 전극과 제 2 전극을 포함하여 이루어지는 것이 바람직하다. 이에 대해 도 3b를 참조하여 살펴보면 다음과 같다.At least one or more of the electrodes described with reference to FIG. 3A, that is, the scan electrodes 302 and Y, the sustain electrodes 303 and Z, and the address electrodes 313a, 313b, 313c, and X include a first electrode and a second electrode. It is preferable to make. This will be described with reference to FIG. 3B.

도 3b를 살펴보면, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널에서는 스캔 전극(302, Y) 및 서스테인 전극(303, Z)이 각각 복수의 층(Layer)으로 이루어진다. 더욱 바람직하게는 스캔 전극(302, Y) 및 서스테인 전극(303, Z)은 각각 제 1 전극(302a, 303a)과 제 2 전극(302b, 303b)을 포함하여 이루어진다.Referring to FIG. 3B, in the plasma display panel of the present invention, the scan electrodes 302 and Y and the sustain electrodes 303 and Z are formed of a plurality of layers, respectively. More preferably, the scan electrodes 302 and Y and the sustain electrodes 303 and Z include the first electrodes 302a and 303a and the second electrodes 302b and 303b, respectively.

여기, 도 3b에서는 스캔 전극(302, Y)과 서스테인 전극(303, Z)이 제 1 전극(302a, 303a)과 제 2 전극(302b, 303b)을 포함하여 이루어지는 경우만을 도시하고 있지만, 어드레스 전극(313a, 313b, 313c, X)도 제 1 전극과 제 2 전극을 포함하여 이루어지는 것도 가능하다.3B illustrates only the case where the scan electrodes 302 and Y and the sustain electrodes 303 and Z include the first electrodes 302a and 303a and the second electrodes 302b and 303b. 313a, 313b, 313c, and X may also comprise a 1st electrode and a 2nd electrode.

여기서, 광 투과율 및 전기 전도도를 고려하면 방전 셀 내에서 발생한 광을 외부로 방출시키며 아울러 구동 효율을 확보하는 차원에서 스캔 전극(302, Y)과 서스테인 전극(303, Z)의 제 1 전극(302a, 303a)은 실질적으로 투명한 재질로 이루어지는 것이 바람직하고, 제 2 전극(302b, 303b)은 전기 전도성의 불투명 재질로 이루어지는 것이 바람직하다.Here, in consideration of the light transmittance and the electrical conductivity, the first electrode 302a of the scan electrodes 302 and Y and the sustain electrodes 303 and Z in order to emit light generated in the discharge cell to the outside and to secure driving efficiency. , 303a is preferably made of a substantially transparent material, and the second electrodes 302b, 303b are preferably made of an electrically conductive opaque material.

여기서, 더욱 바람직하게는 스캔 전극(302, Y)과 서스테인 전극(303, Z)의 제 1 전극(302a, 303a)은 인듐 틴 옥사이드(Indium-Tin-Oxide : ITO)를 포함하는 투명한 재질로 이루어지고, 제 2 전극(302b, 303b)은 은(Ag)을 포함하는 전기 전도성의 불투명 재질로 이루어진다.Here, more preferably, the first electrodes 302a and 303a of the scan electrodes 302 and Y and the sustain electrodes 303 and Z are made of a transparent material including indium tin oxide (ITO). The second electrodes 302b and 303b are made of an electrically conductive opaque material containing silver (Ag).

이와 같이, 스캔 전극(302, Y)과 서스테인 전극(303, Z)의 제 1 전극(302a, 303a)이 실질적으로 투명하도록 형성하는 이유는, 방전 셀 내에서 발생한 가시 광이 플라즈마 디스플레이 패널의 외부로 방출될 때 효과적으로 방출되도록 하기 위해서이다.As such, the reason why the scan electrodes 302 and Y and the first electrodes 302a and 303a of the sustain electrodes 303 and Z are formed to be substantially transparent is that visible light generated in the discharge cells is external to the plasma display panel. This is to ensure that when released to the effective release.

아울러, 스캔 전극(302, Y)과 서스테인 전극(303, Z)의 제 2 전극(302b, 303b)을 전기 전도성의 불투명한 금속 재료로 형성하는 이유는, 스캔 전극(302, Y)과 서스테인 전극(303, Z)이 실질적으로 투명한 제 1 전극(302a, 303a)만을 포함하는 경우에는 제 1 전극(302a, 303a)의 전기 전도도가 상대적으로 낮기 때문에 구동 효율이 감소할 수 있어서, 이러한 구동 효율의 감소를 야기할 수 있는 제 1 전극(302a, 303a)의 낮은 전기 전도도를 보상하기 위해서이다.In addition, the reason why the second electrodes 302b and 303b of the scan electrodes 302 and Y and the sustain electrodes 303 and Z are formed of an electrically conductive opaque metal material is the scan electrodes 302 and Y and the sustain electrode. When (303, Z) includes only the substantially transparent first electrodes 302a and 303a, the driving efficiency can be reduced because the electrical conductivity of the first electrodes 302a and 303a is relatively low, so that To compensate for the low electrical conductivity of the first electrodes 302a, 303a which may cause a decrease.

이상의 도 3a 내지 도 3b에서는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 일례만을 도시하고 설명한 것으로써, 본 발명이 여기 도 3a 내지 도 3b와 같은 구조의 플라즈마 디스플레이 패널에 한정되는 것은 아님을 밝혀둔다. 예를 들면, 여기 도 3a 내지 도 3b에서는 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 형광체 층(314)이 형성되는 경우만을 도시하고 있지만, 이와는 다르게 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 형광체 층 이외에 황색(Yellow, Y) 형광체 층이 더 형성될 수도 있는 것이다.3A to 3B, only one example of the plasma display panel of the present invention is shown and described, and the present invention is not limited to the plasma display panel having the structure shown in FIGS. 3A to 3B. For example, although only red (R), green (G), and blue (B) phosphor layers 314 are formed here in FIGS. 3A to 3B, red (R) and green (G) are different. In addition to the blue (B) phosphor layer, a yellow (Yellow, Y) phosphor layer may be further formed.

이러한 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 주요 특징은 이후의 설명을 통해 보다 명확히 될 것이다.The main features of the plasma display panel of the present invention will be more apparent from the following description.

다음, 도 4는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 후면 기판의 구조를 더욱 상세히 설명하기 위한 도면이다.Next, FIG. 4 is a view for explaining the structure of the rear substrate of the plasma display panel of the present invention in more detail.

도 4를 살펴보면, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널은 기판, 즉 후면 기판(311) 상에 형성되는 제 1 하부 유전체 층(316), 제 1 하부 유전체 층(316)의 상부에 형성되는 전극, 즉 어드레스 전극(313a, 313b, 313c) 및 이러한 어드레스 전극(313a, 313b, 313c)을 덮도록 제 1 하부 유전체 층(316) 상부에 형성되는 제 2 하부 유전체 층(315)이 차례로 형성되는 것을 확인할 수 있다.Referring to FIG. 4, the plasma display panel according to the present invention includes a first lower dielectric layer 316 formed on a substrate, that is, an electrode formed on an upper portion of the first lower dielectric layer 316, that is, an address. It can be seen that the second lower dielectric layer 315 formed over the first lower dielectric layer 316 is sequentially formed to cover the electrodes 313a, 313b, and 313c and the address electrodes 313a, 313b, and 313c. .

여기서, 제 1 하부 유전체 층(316)의 두께(t2)는 전극, 즉 어드레스 전극(313a, 313b, 313c)의 두께(t1)의 0.1배 이상 10배 이하인 것이 바람직하다. 여기서 제 1 하부 유전체 층(316)의 두께(t2)를 전극, 즉 어드레스 전극(313a, 313b, 313c)의 두께(t1)의 0.1배 이상 10배 이하로 하는 이유는 제 1 하부 유전체 층(316)의 두께(t2)가 어드레스 전극(313a, 313b, 313c)의 두께(t1)의 0.1배 미만으로 과도하게 작아질 경우에는 제 1 하부 유전체 층(316)의 두께(t2)가 과도하게 얇아져서 구동 시 기생 캐패시턴스의 발생이 증가할 가능성이 증가하고, 반면에 제 1 하부 유전체 층(316)의 두께(t2)가 어드레스 전극(313a, 313b, 313c)의 두께(t1)의 10배 초과하여 과도하게 증가할 경우에는 제 1 하부 유전체 층(316)의 두께(t2)가 과도하게 두꺼워져서 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 전체 두께가 증가하며 전체 캐패시턴스의 값이 과도하게 증가할 가능성이 증가하기 때문이다.Here, the thickness t2 of the first lower dielectric layer 316 is preferably 0.1 times or more and 10 times or less than the thickness t1 of the electrodes, that is, the address electrodes 313a, 313b, and 313c. The reason why the thickness t2 of the first lower dielectric layer 316 is 0.1 times or more and 10 times or less than the thickness t1 of the electrodes, that is, the address electrodes 313a, 313b, and 313c is because of the first lower dielectric layer 316. ), When the thickness t2 is excessively smaller than 0.1 times the thickness t1 of the address electrodes 313a, 313b, and 313c, the thickness t2 of the first lower dielectric layer 316 becomes excessively thin. The likelihood of an increase in the generation of parasitic capacitance in driving increases, while the thickness t2 of the first lower dielectric layer 316 exceeds 10 times the thickness t1 of the address electrodes 313a, 313b, and 313c, and is excessive. In this case, the thickness t2 of the first lower dielectric layer 316 becomes excessively thick, thereby increasing the overall thickness of the plasma display panel of the present invention and increasing the possibility of excessive increase in the total capacitance value. .

여기서 더욱 바람직하게는, 제 1 하부 유전체 층(316)의 두께(t2)는 어드레스 전극(313a, 313b, 313c)의 두께(t1)와 대략 동일하다.More preferably, the thickness t2 of the first lower dielectric layer 316 is approximately equal to the thickness t1 of the address electrodes 313a, 313b, and 313c.

여기서, 제 1 하부 유전체 층(316)의 유전율(Permittivity)은 상대적으로 작은 값을 갖는다. 보다 바람직하게는 제 1 하부 유전체 층(316)의 유전율은 제 2 하부 유전체 층(315)의 유전율 보다 더 낮은 것이 바람직하다.Here, the permittivity of the first lower dielectric layer 316 has a relatively small value. More preferably, the dielectric constant of the first lower dielectric layer 316 is lower than that of the second lower dielectric layer 315.

더욱 바람직하게는, 제 1 하부 유전체 층(316)의 유전율은 제 2 하부 유전체 층(315)의 유전율의 0.01배 이상 0.5배 이하의 값을 갖는다.More preferably, the dielectric constant of the first lower dielectric layer 316 has a value of 0.01 times or more and 0.5 times or less of the dielectric constant of the second lower dielectric layer 315.

이와 같이, 제 1 하부 유전체 층(316)의 유전율을 제 2 하부 유전체 층(315)의 유전율의 0.01배 이상 0.5배 이하로 설정하는 이유는, 제 1 하부 유전체 층(316)의 유전율이 제 2 하부 유전체 층(315)의 유전율의 0.01배 미만으로 과도하게 작아질 경우에는 제 1 하부 유전체 층(316)의 유전율이 과도하게 낮아 어드레스 전극(313a, 313b, 313c)의 절연 파괴 등의 손상이 발생할 가능성이 증가하고, 반면에 제 1 하부 유전체 층(316)의 유전율이 제 2 하부 유전체 층(315)의 유전율의 0.5배를 초과하여 과도하게 증가할 경우에는 전체 기생 캐패시턴스 값이 과도하게 증가하여 구동 효율이 저하될 가능성이 증가하기 때문이다.As such, the reason for setting the dielectric constant of the first lower dielectric layer 316 to 0.01 times or more and 0.5 times or less of the dielectric constant of the second lower dielectric layer 315 is that the dielectric constant of the first lower dielectric layer 316 is set to the second. If the dielectric constant of the lower dielectric layer 315 is excessively small, less than 0.01 times, the dielectric constant of the first lower dielectric layer 316 is excessively low, resulting in damage such as dielectric breakdown of the address electrodes 313a, 313b, and 313c. If the dielectric constant of the first lower dielectric layer 316 increases excessively by more than 0.5 times the dielectric constant of the second lower dielectric layer 315, the overall parasitic capacitance value increases excessively to drive. This is because the likelihood of efficiency deterioration increases.

아울러, 이러한 제 1 하부 유전체 층(316)의 유전율은 후면 기판(311)의 유전율 보다 낮다.In addition, the dielectric constant of the first lower dielectric layer 316 is lower than that of the rear substrate 311.

또한, 제 2 하부 유전체(315) 층의 두께는 전극, 즉 어드레스 전극(313a, 313b, 313c)의 두께(t1)의 2배 이상 10배 이하인 것이 바람직하다.In addition, the thickness of the second lower dielectric layer 315 is preferably two times or more and ten times or less the thickness t1 of the electrodes, that is, the address electrodes 313a, 313b, and 313c.

이와 같이, 제 2 하부 유전체(315) 층의 두께를 전극, 즉 어드레스 전 극(313a, 313b, 313c)의 두께(t1)의 2배 이상 10배 이하로 설정하는 이유는, 제 2 하부 유전체(315) 층의 두께가 전극, 즉 어드레스 전극(313a, 313b, 313c)의 두께(t1)의 2배 미만으로 과도하게 작아질 경우에는 어드레스 전극(313a 313b, 313c)을 덮고 있는 제 2 하부 유전체 층(315)이 과도하게 얇아져서 어드레스 전극(313a, 313b, 313c)을 절연 파괴 등의 손상으로부터 충분히 보호할 수 없게 될 가능성이 증가하고, 반면에 제 2 하부 유전체(315) 층의 두께가 전극, 즉 어드레스 전극(313a, 313b, 313c)의 두께(t1)의 10배를 초과하여 과도하게 증가할 경우에는 전체 플라즈마 디스플레이 패널의 두께가 증가하고 아울러 전체 기생 캐패시턴스 값이 과도하게 증가하여 구동 효율이 저하될 가능성이 증가하기 때문이다.As such, the reason for setting the thickness of the second lower dielectric layer 315 to be two or more and ten or less times the thickness t1 of the electrodes, that is, the address electrodes 313a, 313b, and 313c is because of the second lower dielectric ( 315) the second lower dielectric layer covering the address electrodes 313a 313b, 313c when the thickness of the layer becomes excessively small, less than twice the thickness t1 of the electrodes, that is, the address electrodes 313a, 313b, 313c. The possibility that the 315 is excessively thin so that the address electrodes 313a, 313b, and 313c cannot be sufficiently protected from damage such as dielectric breakdown increases, whereas the thickness of the second lower dielectric 315 layer is increased by the electrode, In other words, when the thickness increases excessively by more than 10 times the thickness t1 of the address electrodes 313a, 313b, and 313c, the thickness of the entire plasma display panel increases and the overall parasitic capacitance value increases excessively, thereby lowering the driving efficiency. Because the likelihood of becoming increases.

여기서, 어드레스 전극(313a, 313b, 313c)의 절연 파괴로부터의 보호 및 구동 효율의 확보 등을 고려할 때, 제 2 하부 유전체(315) 층의 두께는 전극, 즉 어드레스 전극(313a, 313b, 313c)의 두께(t1)의 2배 이상 5배 이하인 것이 더욱 바람직하다.Here, in consideration of protection from breakdown of the address electrodes 313a, 313b, and 313c and securing of driving efficiency, the thickness of the second lower dielectric 315 layer is the electrode, that is, the address electrodes 313a, 313b, and 313c. It is more preferable that they are 2 times or more and 5 times or less of the thickness t1.

이러한 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 시 발생하는 기생 캐패시턴스(Capacitance)에 대해 다음 도 5를 참조하여 살펴보면 다음과 같다.The parasitic capacitance generated when the plasma display panel is driven is described with reference to FIG. 5 as follows.

도 5는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널에서 기생 캐패시턴스에 대해 설명하기 위한 도면이다.5 is a diagram for describing parasitic capacitance in the plasma display panel of the present invention.

도 5를 살펴보면, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 시 어드레스 전극들(313a, 313b, 313c) 사이에는 전압 차이에 의해 기생 캐패시턴스(Capacitance)가 발생한다. 이러한 기생 캐패시턴스는 여기 도 5에서와 같이 일 반적으로 C1과 C2의 합으로 결정될 수 있다.Referring to FIG. 5, parasitic capacitance is generated between voltages of the address electrodes 313a, 313b, and 313c when the plasma display panel is driven. This parasitic capacitance can be determined as the sum of C1 and C2 in general, as shown here in FIG. 5.

여기서, C1 기생 캐패시턴스는 제 1 하부 유전체 층(316)의 유전율에 크게 좌우되고, C2 기생 캐패시턴스는 제 2 하부 유전체 층(315)의 유전율에 크게 좌우된다.Here, the C1 parasitic capacitance greatly depends on the dielectric constant of the first lower dielectric layer 316, and the C2 parasitic capacitance greatly depends on the dielectric constant of the second lower dielectric layer 315.

여기서, 제 1 하부 유전체 층(316)의 유전율이 제 2 하부 유전체 층(315) 보다 더 낮기 때문에, C1 기생 캐패시턴스는 C2 기생 캐패시턴스보다 더 작은 값을 갖는다.Here, because the dielectric constant of the first lower dielectric layer 316 is lower than the second lower dielectric layer 315, the C1 parasitic capacitance has a smaller value than the C2 parasitic capacitance.

이에 따라, 앞선 종래의 도 2와 비교해서 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 전체 기생 캐패시턴스 값이 상대적으로 작은 값을 갖기 때문에 구동 효율이 개선된다.Accordingly, the driving efficiency is improved because the overall parasitic capacitance of the plasma display panel of the present invention has a relatively small value as compared with the conventional FIG. 2 described above.

아울러, 제 2 하부 유전체 층(315)은 제 1 하부 유전체 층(316)에 비해 충분히 큰 유전율을 갖기 때문에 어드레스 전극(313a, 313b, 313c)을 절연 파괴 등의 손상으로부터 보호하며 방전을 안정시킨다.In addition, since the second lower dielectric layer 315 has a sufficiently large dielectric constant than the first lower dielectric layer 316, the second lower dielectric layer 315 protects the address electrodes 313a, 313b, and 313c from damage such as dielectric breakdown and stabilizes discharge.

다음, 도 6a 내지 도 6b는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널 구조의 제 1 실시예의 또 다른 일례를 설명하기 위한 도면이다.6A to 6B are views for explaining still another example of the first embodiment of the structure of the plasma display panel of the present invention.

먼저, 도 6a를 살펴보면 제 1 하부 유전체 층(316)은 어드레스 전극(313a, 313b, 313c) 사이에서 제 2 하부 유전체 층(315) 방향으로 돌출된 돌출부(600, 610)를 더 구비한다.First, referring to FIG. 6A, the first lower dielectric layer 316 further includes protrusions 600 and 610 that protrude in the direction of the second lower dielectric layer 315 between the address electrodes 313a, 313b, and 313c.

이러한, 돌출부(600, 610)는 어드레스 전극(313a, 313b, 313c)과 같은 높이로 돌출될 수 있다.The protrusions 600 and 610 may protrude to the same height as the address electrodes 313a, 313b, and 313c.

이와 같이, 제 1 하부 유전체 층(316)이 어드레스 전극(313a, 313b, 313c)들의 사이에서 돌출된 돌출부(600, 610)를 포함하게 되면 앞선 도 5에서의 C2 기생 캐패시턴스 값을 C1 기생 캐패시턴스 값 정도로 충분히 작게 줄일 수 있어서 구동 효율이 더욱 향상될 수 있다.As such, when the first lower dielectric layer 316 includes protrusions 600 and 610 protruding between the address electrodes 313a, 313b, and 313c, the C2 parasitic capacitance value in FIG. It can be reduced to such a small enough that the driving efficiency can be further improved.

아울러, 이러한 도 6a와 같은 구조에서는 어드레스 전극(313a, 313b, 313c)을 덮도록 형성되는 제 2 하부 유전체 층(315)이 충분히 큰 유전율을 갖기 때문에 어드레스 전극(313a, 313b, 313c)을 절연 파괴 등의 손상으로부터 보호하며 방전을 안정시킨다.In addition, in the structure of FIG. 6A, since the second lower dielectric layer 315 formed to cover the address electrodes 313a, 313b, and 313c has a sufficiently large dielectric constant, the address electrodes 313a, 313b, and 313c are destroyed. It protects against back damage and stabilizes discharge.

다음, 도 6b를 살펴보면 도 6a와는 다르게 돌출부(620, 630)가 어드레스 전극(313a, 313b, 313c)보다 더 높은 높이로 돌출되었다. 이와 같이, 돌출부(600, 610)의 높이는 다양하게 조절될 수 있다.Next, referring to FIG. 6B, unlike FIG. 6A, the protrusions 620 and 630 protrude to a higher height than the address electrodes 313a, 313b, and 313c. As such, the heights of the protrusions 600 and 610 may be variously adjusted.

이상의 설명에서는 후면 기판에 형성되는 하부 유전체 층이 제 1 하부 유전체 층 및 제 2 하부 유전체 층을 포함하는 경우만을 도시하고 설명하였지만, 이와는 다르게 전면 기판에 형성되는 상부 유전체 층이 제 1 상부 유전체 층 및 제 2 상부 유전체 층을 포함하는 것도 가능하다. 이에 대해 살펴보면 다음과 같다.In the above description, only the lower dielectric layer formed on the rear substrate includes the first lower dielectric layer and the second lower dielectric layer. However, the upper dielectric layer formed on the front substrate is different from the first upper dielectric layer and It is also possible to include a second upper dielectric layer. This is as follows.

도 7은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널 구조의 제 2 실시예를 설명하기 위한 도면이다.7 is a view for explaining a second embodiment of the structure of the plasma display panel of the present invention.

도 7을 살펴보면, 앞선 도 3a와 같은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널 구조의 제 2 실시예와는 다르게 제 1 상부 유전체 층(306)과 제 2 상부 유전체 층(304)을 포함한다. 여기 도 7에서는 이미 앞에서 설명된 내용에 대해서는 그 설 명을 생략하기로 한다.Referring to FIG. 7, unlike the second embodiment of the plasma display panel structure of the present invention as shown in FIG. 3A, the first upper dielectric layer 306 and the second upper dielectric layer 304 are included. In FIG. 7, the description of the above description will be omitted.

이러한 도 7과 같은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 기판의 구조에 대해 보다 상세히 살펴보면 다음과 같다.Looking at the structure of the front substrate of the plasma display panel of the present invention as shown in FIG. 7 as follows.

도 8a 내지 도 8c는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 기판의 구조를 더욱 상세히 설명하기 위한 도면이다.8A to 8C are views for explaining the structure of the front substrate of the plasma display panel of the present invention in more detail.

먼저, 도 8a를 살펴보면 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널은 기판, 즉 전면 기판(301) 상에 형성되는 제 1 상부 유전체 층(306), 제 1 상부 유전체 층(306)의 상부에 형성되는 전극, 즉 스캔 전극(302, Y)과 서스테인 전극(303, Z) 및 이러한 스캔 전극(302, Y)과 서스테인 전극(303, Z)을 덮도록 제 1 상부 유전체 층(306) 상부에 형성되는 제 2 상부 유전체 층(304)이 차례로 형성되는 것을 확인할 수 있다.First, referring to FIG. 8A, the plasma display panel of the present invention includes a first upper dielectric layer 306 formed on a substrate, that is, an electrode formed on the first upper dielectric layer 306. A second upper portion formed over the first upper dielectric layer 306 to cover the scan electrodes 302 and Y and the sustain electrodes 303 and Z and the scan electrodes 302 and Y and the sustain electrodes 303 and Z. It can be seen that the dielectric layer 304 is formed in sequence.

여기서는 앞선 도 3a와 같이 스캔 전극(302, Y)과 서스테인 전극(303, Z)은 각각 제 1 전극(302a, 303a)과 제 2 전극(302b, 303b)을 포함하는 경우를 예로 들어 설명하기로 한다.Herein, as illustrated in FIG. 3A, the scan electrodes 302 and Y and the sustain electrodes 303 and Z respectively include the first electrodes 302a and 303a and the second electrodes 302b and 303b. do.

여기서, 제 1 상부 유전체 층(306)의 두께(t1)는 전극, 즉 스캔 전극(302, Y) 또는 서스테인 전극(303, Z)의 두께의 0.1배 이상 10배 이하인 것이 바람직하다. 여기서 제 1 상부 유전체 층(306)의 두께(t1)를 전극, 즉 스캔 전극(302, Y) 또는 서스테인 전극(303, Z)의 두께의 0.1배 이상 10배 이하로 하는 이유는 제 1 상부 유전체 층(306)의 두께(t1)가 스캔 전극(302, Y) 또는 서스테인 전극(303, Z)의 두께의 0.1배 미만인 경우에는 제 1 상부 유전체 층(306)의 두께(t1)가 과도하 게 얇아져서 구동 시 스캔 전극(302, Y) 또는 서스테인 전극(303, Z)의 절연 파괴가 발생할 가능성이 증가하고, 반면에 제 1 상부 유전체 층(306)의 두께(t1)가 스캔 전극(302, Y) 또는 서스테인 전극(303, Z)의 두께의 10배 초과인 경우에는 제 1 상부 유전체 층(306)의 두께(t1)가 과도하게 두꺼워져서 전체 기생 캐패시턴스 값이 증가할 가능성이 증가하기 때문이다.Here, the thickness t1 of the first upper dielectric layer 306 is preferably 0.1 to 10 times the thickness of the electrodes, that is, the scan electrodes 302 and Y or the sustain electrodes 303 and Z. The thickness t1 of the first upper dielectric layer 306 is 0.1 to 10 times the thickness of the electrodes, that is, the scan electrodes 302 and Y or the sustain electrodes 303 and Z. When the thickness t1 of the layer 306 is less than 0.1 times the thickness of the scan electrodes 302 and Y or the sustain electrodes 303 and Z, the thickness t1 of the first upper dielectric layer 306 is excessive. The thinning increases the likelihood of dielectric breakdown of the scan electrodes 302 and Y or the sustain electrodes 303 and Z when driven, while the thickness t1 of the first upper dielectric layer 306 is increased by the scan electrode 302. This is because the thickness t1 of the first upper dielectric layer 306 becomes excessively thick when the thickness of the first upper dielectric layer 306 is excessively increased when Y) or the sustain electrodes 303 and Z are increased. .

아울러, 제 1 상부 유전체 층(306)의 두께(t1)는 스캔 전극(302, Y) 또는 서스테인 전극(303, Z)의 두께와 대략 동일한 것이 바람직하다. 여기서 더욱 바람직하게는 제 1 상부 유전체 층(306)의 두께(t1)는 스캔 전극(302, Y) 또는 서스테인 전극(303, Z)의 제 1 전극(302a, 303a)의 두께와 대략 동일하다.In addition, the thickness t1 of the first upper dielectric layer 306 is preferably about the same as the thickness of the scan electrodes 302 and Y or the sustain electrodes 303 and Z. More preferably, the thickness t1 of the first upper dielectric layer 306 is approximately equal to the thickness of the first electrodes 302a and 303a of the scan electrodes 302 and Y or the sustain electrodes 303 and Z.

여기서, 제 1 상부 유전체 층(306)의 유전율(Permittivity)은 상대적으로 작은 값을 갖는다. 보다 바람직하게는 제 1 상부 유전체 층(306)의 유전율은 제 2 상부 유전체 층(304)의 유전율 보다 더 낮은 것이 바람직하다.Here, the permittivity of the first upper dielectric layer 306 has a relatively small value. More preferably, the dielectric constant of the first upper dielectric layer 306 is lower than that of the second upper dielectric layer 304.

더욱 바람직하게는, 제 1 상부 유전체 층(306)의 유전율은 제 2 상부 유전체 층(304)의 유전율의 0.01배 이상 0.5배 이하의 값을 갖는다.More preferably, the dielectric constant of the first upper dielectric layer 306 has a value of 0.01 times or more and 0.5 times or less of the dielectric constant of the second upper dielectric layer 304.

이와 같이, 제 1 상부 유전체 층(306)의 유전율을 제 2 상부 유전체 층(304)의 유전율의 0.01배 이상 0.5배 이하로 설정하는 이유는, 제 1 상부 유전체 층(306)의 유전율이 제 2 상부 유전체 층(304)의 유전율의 0.01배 미만으로 과도하게 작아질 경우에는 제 1 상부 유전체 층(306)의 유전율이 과도하게 낮아 스캔 전극(302, Y) 또는 서스테인 전극(303, Z)의 절연 파괴 등의 손상이 발생할 가능성이 증가하고, 반면에 제 1 상부 유전체 층(306)의 유전율이 제 2 상부 유전체 층(304) 의 유전율의 0.5배를 초과하여 과도하게 증가할 경우에는 전체 기생 캐패시턴스 값이 과도하게 증가하여 구동 효율이 저하될 가능성이 증가하기 때문이다.As such, the reason for setting the dielectric constant of the first upper dielectric layer 306 to 0.01 times or more and 0.5 times or less of the dielectric constant of the second upper dielectric layer 304 is that the dielectric constant of the first upper dielectric layer 306 is equal to the second. When the dielectric constant of the upper dielectric layer 304 becomes excessively small, less than 0.01 times the dielectric constant of the upper dielectric layer 304, the dielectric constant of the first upper dielectric layer 306 is excessively low to insulate the scan electrodes 302 and Y or the sustain electrodes 303 and Z. The likelihood of damage such as destruction increases, while the overall parasitic capacitance value is increased when the permittivity of the first upper dielectric layer 306 excessively increases by more than 0.5 times the permittivity of the second upper dielectric layer 304. This is because the possibility of excessively increasing and lowering the driving efficiency increases.

아울러, 이러한 제 1 상부 유전체 층(306)의 유전율은 전면 기판(301)의 유전율 보다 낮다.In addition, the dielectric constant of this first upper dielectric layer 306 is lower than that of the front substrate 301.

또한, 제 2 상부 유전체(304) 층의 두께는 전극, 즉 스캔 전극(302, Y) 또는 서스테인 전극(303, Z)의 두께의 2배 이상 10배 이하인 것이 바람직하다. 이는 스캔 전극(302, Y) 또는 서스테인 전극(303, Z)은 앞선 도 3a에서와 같이 하나의 층으로 이루어지는 경우 또는 도 3b에서와 같이 복수의 층으로 이루어지는 경우 모두 가능하다.Further, the thickness of the second upper dielectric 304 layer is preferably at least two times and at most ten times the thickness of the electrodes, that is, the scan electrodes 302 and Y or the sustain electrodes 303 and Z. This can be done in the case where the scan electrodes 302 and Y or the sustain electrodes 303 and Z are made of one layer as in FIG. 3A or a plurality of layers as in FIG. 3B.

이와 같이, 제 2 상부 유전체(304) 층의 두께를 전극, 즉 스캔 전극(302, Y) 또는 서스테인 전극(303, Z)의 두께의 2배 이상 10배 이하로 설정하는 이유는, 제 2 상부 유전체(304) 층의 두께가 전극, 즉 스캔 전극(302, Y) 또는 서스테인 전극(303, Z)의 두께의 2배 미만으로 과도하게 작아질 경우에는 스캔 전극(302, Y) 또는 서스테인 전극(303, Z)을 덮고 있는 제 2 상부 유전체 층(304)이 과도하게 얇아져서 스캔 전극(302, Y) 또는 서스테인 전극(303, Z)을 절연 파괴 등의 손상으로부터 충분히 보호할 수 없게 될 가능성이 증가하고, 반면에 제 2 상부 유전체(304) 층의 두께가 전극, 즉 스캔 전극(302, Y) 또는 서스테인 전극(303, Z)의 두께의 10배를 초과하여 과도하게 증가할 경우에는 전체 플라즈마 디스플레이 패널의 두께가 증가하고 아울러 전체 기생 캐패시턴스 값이 과도하게 증가하여 구동 효율이 저하될 가능성이 증가하기 때문이다.As such, the reason for setting the thickness of the second upper dielectric 304 layer to be two or more and ten or less times the thickness of the electrodes, that is, the scan electrodes 302 and Y or the sustain electrodes 303 and Z, is because If the thickness of the dielectric 304 layer becomes excessively small, less than twice the thickness of the electrode, i.e., the scan electrode 302, Y or the sustain electrode 303, Z, the scan electrode 302, Y or the sustain electrode ( There is a possibility that the second upper dielectric layer 304 covering 303, Z becomes excessively thin so that the scan electrode 302, Y or the sustain electrode 303, Z cannot be sufficiently protected from damage such as dielectric breakdown. On the other hand, if the thickness of the second upper dielectric 304 layer excessively increases by more than 10 times the thickness of the electrode, i.e., the scan electrode 302, Y or the sustain electrode 303, Z, the entire plasma Increasing the thickness of the display panel and excessively increasing the overall parasitic capacitance value The it is because the possibility of increasing the driving efficiency decreases.

이에 따라, 앞선 도 5에서 상세히 설명한 바와 마찬가지로 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 시 스캔 전극(302, Y)과 서스테인 전극(303, Z)의 사이에서 전압 차이에 의해 발생하는 기생 캐패시턴스(Capacitance)의 값이 종래에 비해 더 작아진다. 따라서 구동 효율이 개선된다.Accordingly, as described in detail with reference to FIG. 5, the parasitic capacitance generated by the voltage difference between the scan electrodes 302 and Y and the sustain electrodes 303 and Z during the driving of the plasma display panel according to the present invention. The value is smaller than before. Therefore, the driving efficiency is improved.

아울러, 제 2 상부 유전체 층(304)은 제 1 상부 유전체 층(306)에 비해 충분히 큰 유전율을 갖기 때문에 스캔 전극(302, Y) 또는 서스테인 전극(303, Z)을 절연 파괴 등의 손상으로부터 보호하며 방전을 안정시킨다.In addition, since the second upper dielectric layer 304 has a sufficiently large permittivity compared to the first upper dielectric layer 306, the scan electrodes 302 and Y or the sustain electrodes 303 and Z are protected from damage such as dielectric breakdown. And stabilizes discharge.

다음, 도 8b를 살펴보면 제 1 상부 유전체 층(306)은 스캔 전극(302, Y)과 서스테인 전극(303, Z) 사이에서 제 2 상부 유전체 층(304) 방향으로 돌출된 돌출부(800)를 더 구비한다.Next, referring to FIG. 8B, the first upper dielectric layer 306 further includes a protrusion 800 protruding in the direction of the second upper dielectric layer 304 between the scan electrodes 302 and Y and the sustain electrodes 303 and Z. Equipped.

이러한, 돌출부(800)는 스캔 전극(302, Y)과 서스테인 전극(303, Z)과 같은 높이로 돌출될 수 있다. 더욱 바람직하게는 돌출부(800)는 스캔 전극(302, Y)과 서스테인 전극(303, Z)의 제 1 전극(302a, 303a)과 제 2 전극(302b, 303b)의 높이의 합만큼 돌출될 수 있다.The protrusion 800 may protrude to the same height as the scan electrodes 302 and Y and the sustain electrodes 303 and Z. More preferably, the protrusion 800 may protrude by the sum of the heights of the first electrodes 302a and 303a and the second electrodes 302b and 303b of the scan electrodes 302 and Y and the sustain electrodes 303 and Z. have.

다음, 도 8c를 살펴보면 도 8b와는 다르게 돌출부(800)가 스캔 전극(302, Y)과 서스테인 전극(303, Z)의 제 1 전극(302a, 303a)과 대략 동일한 높이로 돌출되었다.Next, referring to FIG. 8C, unlike FIG. 8B, the protrusion 800 protrudes to the same height as the first electrodes 302a and 303a of the scan electrodes 302 and Y and the sustain electrodes 303 and Z.

아울러, 도시하지는 않았지만 돌출부(800)가 스캔 전극(302, Y)과 서스테인 전극(303, Z)의 제 1 전극(302a, 303a)과 제 2 전극(302b, 303b)의 높이의 합보다 더 높이 돌출될 수도 있다.Although not shown, the protrusion 800 is higher than the sum of the heights of the first electrodes 302a and 303a and the second electrodes 302b and 303b of the scan electrodes 302 and Y and the sustain electrodes 303 and Z. It may protrude.

이와 같이, 돌출부(800)의 높이는 다양하게 조절될 수 있다.As such, the height of the protrusion 800 may be variously adjusted.

다음, 첨부된 도 9 내지 도 10을 참조하여 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널 구조의 제 3 실시예에 대해 살펴보면 다음과 같다.Next, a third embodiment of the structure of the plasma display panel of the present invention will be described with reference to FIGS. 9 to 10.

도 9는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널 구조의 제 3 실시예를 설명하기 위한 도면이다.9 is a view for explaining a third embodiment of the structure of the plasma display panel of the present invention.

또한, 도 10은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널 구조의 제 3 실시예의 또 다른 일례를 설명하기 위한 도면이다.10 is a view for explaining another example of the third embodiment of the structure of the plasma display panel of the present invention.

먼저, 도 9를 살펴보면 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널은 기판(900)과, 기판(900) 상에 형성되는 제 1 유전체 층(910)과, 제 1 유전체 층(910) 상부에 형성되는 복수의 전극(940)과, 제 1 유전체 층(910) 상부에서 복수의 전극(940)들 사이에 형성되는 제 2 유전체 층(920)과, 전극(940) 및 제 2 유전체 층(920)을 덮도록 형성되는 제 3 유전체 층(930)을 포함한다.First, referring to FIG. 9, the plasma display panel of the present invention includes a substrate 900, a first dielectric layer 910 formed on the substrate 900, and a plurality of electrodes formed on the first dielectric layer 910. 940 and a second dielectric layer 920 formed between the plurality of electrodes 940 over the first dielectric layer 910, and covering the electrode 940 and the second dielectric layer 920. A third dielectric layer 930 to be formed.

여기, 도 9에서 기판(900)은 앞선 도 3a와 같은 전면 기판(301)일 수도 있고 후면 기판(311)일 수도 있다.Here, in FIG. 9, the substrate 900 may be the front substrate 301 or the rear substrate 311 as shown in FIG. 3A.

아울러, 전극(940)은 앞선 도 3a에서와 같이 어드레스 전극(313a, 313b, 313c)일 수도 있고, 도 7에서와 같이 스캔 전극(302, Y) 또는 서스테인 전극(303, Z)일 수도 있다.In addition, the electrode 940 may be the address electrodes 313a, 313b, and 313c as shown in FIG. 3A, or may be the scan electrodes 302 and Y or the sustain electrodes 303 and Z as shown in FIG. 7.

여기서, 제 1 유전체 층(910)의 두께는 전극(940)의 두께의 0.1배 이상 10배 이하인 것이 바람직하다. 여기서 더욱 바람직하게는 제 1 유전체 층(910)의 두께는 전극(940)의 두께와 대략 동일하다.Here, the thickness of the first dielectric layer 910 is preferably 0.1 times or more and 10 times or less of the thickness of the electrode 940. More preferably, the thickness of the first dielectric layer 910 is approximately equal to the thickness of the electrode 940.

아울러, 제 2 유전체 층(920)의 두께도 전극(940)의 두께와 대략 동일할 수 있다.In addition, the thickness of the second dielectric layer 920 may be approximately equal to the thickness of the electrode 940.

여기서, 제 3 유전체 층(930)은 제 1 유전체 층(910) 및 제 2 유전체 층(920) 보다 유전율이 더 높은 것이 바람직하다. 이러한 제 3 유전체 층(930)은 전극(940)을 보호할 만큼 충분히 큰 유전율을 갖는다.Here, it is preferable that the third dielectric layer 930 has a higher dielectric constant than the first dielectric layer 910 and the second dielectric layer 920. This third dielectric layer 930 has a dielectric constant large enough to protect the electrode 940.

더욱 바람직하게는, 제 3 유전체 층(930)의 유전율은 제 1 유전체 층(910) 또는 제 2 유전체 층(920)의 유전율의 2배 이상 100배 이하의 값을 갖는다.More preferably, the dielectric constant of the third dielectric layer 930 has a value of at least two times and at most 100 times the dielectric constant of the first dielectric layer 910 or the second dielectric layer 920.

이와 같이, 제 3 유전체 층(930)의 유전율을 제 1 유전체 층(910) 또는 제 2 유전체 층(920)의 유전율의 2배 이상 100배 이하로 설정하는 이유는, 제 3 유전체 층(930)의 유전율이 제 1 유전체 층(910) 또는 제 2 유전체 층(920)의 유전율의 2배 미만으로 과도하게 작아질 경우에는 제 3 유전체 층(930)의 유전율이 과도하게 낮아 전극(940)의 절연 파괴 등의 손상이 발생할 가능성이 증가하고, 반면에 제 3 유전체 층(930)의 유전율이 제 1 유전체 층(910) 또는 제 2 유전체 층(920)의 유전율의 100배를 초과하여 과도하게 증가할 경우에는 전체 기생 캐패시턴스 값이 과도하게 증가하여 구동 효율이 저하될 가능성이 증가하기 때문이다.As such, the reason why the dielectric constant of the third dielectric layer 930 is set to two or more times and 100 times or less of the dielectric constant of the first dielectric layer 910 or the second dielectric layer 920 is the third dielectric layer 930. The dielectric constant of the third dielectric layer 930 is excessively low when the dielectric constant of the dielectric layer is excessively smaller than twice the dielectric constant of the first dielectric layer 910 or the second dielectric layer 920 to insulate the electrode 940. The likelihood of damage such as destruction increases, while the dielectric constant of the third dielectric layer 930 may be excessively increased by more than 100 times the dielectric constant of the first dielectric layer 910 or the second dielectric layer 920. In this case, the overall parasitic capacitance value is excessively increased, which increases the possibility of lowering the driving efficiency.

아울러, 제 1 유전체 층(910)과 제 2 유전체 층(920)은 동일한 재질인 것도 가능하고, 서로 다른 재질로 이루어지는 것도 가능하다.In addition, the first dielectric layer 910 and the second dielectric layer 920 may be made of the same material, or may be made of different materials.

여기서, 제 1 유전체 층(910)과 제 2 유전체 층(920)이 서로 다른 재질로 이루어지는 경우에는 제 2 유전체 층(920)이 제 1 유전체 층(910)보다 유전율이 더 높은 재질로 이루어지는 것이 바람직하다. 즉, 제 2 유전체 층(920)의 유전율이 제 1 유전체 층(910)의 유전율보다 더 높은 것이다.Here, when the first dielectric layer 910 and the second dielectric layer 920 are made of different materials, it is preferable that the second dielectric layer 920 is made of a material having a higher dielectric constant than the first dielectric layer 910. Do. That is, the dielectric constant of the second dielectric layer 920 is higher than that of the first dielectric layer 910.

또한, 제 3 유전체 층(930)의 두께는 전극(940)의 두께의 2배 이상 10배 이하인 것이 바람직하다.In addition, the thickness of the third dielectric layer 930 is preferably two times or more and ten times or less the thickness of the electrode 940.

여기 도 9에서와 같은 구조에서는 앞선 도 5에서의 C1 기생 캐패시턴스 값과 C2 기생 캐패시턴스 값을 충분히 작게 줄일 수 있어서 구동 효율이 더욱 향상될 수 있다.Here, in the structure as shown in FIG. 9, the C1 parasitic capacitance value and the C2 parasitic capacitance value in FIG. 5 may be sufficiently reduced to further improve driving efficiency.

아울러, 이러한 도 9와 같은 구조에서는 전극(940)과 제 2 유전체 층(920)을 덮도록 형성되는 제 3 유전체 층(930)이 충분히 큰 유전율을 갖기 때문에 전극(940)을 절연 파괴 등의 손상으로부터 보호하며 방전을 안정시킨다.In addition, in such a structure as shown in FIG. 9, since the third dielectric layer 930 formed to cover the electrode 940 and the second dielectric layer 920 has a sufficiently large dielectric constant, damage to the electrode 940 such as breakdown or the like may occur. Protects against and stabilizes discharge.

다음, 도 10을 살펴보면 도 9와는 다르게 제 2 유전체 층(920)이 전극(940)보다 더 높은 높이를 갖는다. 이와 같이, 제 2 유전체 층(920)의 높이는 다양하게 조절될 수 있다.Next, referring to FIG. 10, unlike FIG. 9, the second dielectric layer 920 has a higher height than the electrode 940. As such, the height of the second dielectric layer 920 may be variously adjusted.

다음, 도 11a 내지 도 11c는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널 구조의 제 4 실시예를 설명하기 위한 도면이다.11A to 11C are diagrams for describing a fourth embodiment of the structure of the plasma display panel of the present invention.

먼저, 도 11a를 살펴보면 앞선 도 4와 같이 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널이 기판, 즉 후면 기판(311) 상에 형성되는 제 1 하부 유전체 층(316), 제 1 하부 유전체 층(316)의 상부에 형성되는 전극, 즉 어드레스 전극(313a, 313b, 313c) 및 이러한 어드레스 전극(313a, 313b, 313c)을 덮도록 제 1 하부 유전체 층(316) 상부에 형성되는 제 2 하부 유전체 층(315)을 포함하는 경우에, 이러한 제 2 하부 유전체 층(315)을 덮도록 제 3 하부 유전체 층(1100)이 더 형성될 수 있다.First, referring to FIG. 11A, as shown in FIG. 4, the plasma display panel of the present invention is disposed on the first lower dielectric layer 316 and the first lower dielectric layer 316 formed on the substrate, that is, the rear substrate 311. Electrodes formed, that is, address electrodes 313a, 313b, and 313c, and second lower dielectric layers 315 formed over the first lower dielectric layer 316 to cover the address electrodes 313a, 313b, and 313c. In this case, the third lower dielectric layer 1100 may be further formed to cover the second lower dielectric layer 315.

이러한, 제 3 하부 유전체 층(1100)의 유전율은 제 2 하부 유전체 층(315)의 유전율 보다 더 높은 것이 바람직하다.The dielectric constant of the third lower dielectric layer 1100 is preferably higher than that of the second lower dielectric layer 315.

이와 같이, 하부 유전체 층은 다양한 구조로 형성되는 것이 가능한 것이다.As such, the lower dielectric layer may be formed in various structures.

다음, 도 11b를 살펴보면 앞선 도 8a에서와 같이 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널이 기판, 즉 전면 기판(301) 상에 형성되는 제 1 상부 유전체 층(306), 제 1 상부 유전체 층(306)의 상부에 형성되는 전극, 즉 스캔 전극(302, Y)과 서스테인 전극(303, Z) 및 이러한 스캔 전극(302, Y)과 서스테인 전극(303, Z)을 덮도록 제 1 상부 유전체 층(306) 상부에 형성되는 제 2 상부 유전체 층(304)이 차례로 형성되는 경우에, 제 2 상부 유전체 층(304)을 덮도록 제 3 상부 유전체 층(1110)이 더 형성될 수 있다.Next, referring to FIG. 11B, as shown in FIG. 8A, the plasma display panel of the present invention is formed on the substrate, that is, the first upper dielectric layer 306 and the first upper dielectric layer 306 formed on the front substrate 301. The first upper dielectric layer 306 to cover the electrodes formed on the electrodes, that is, the scan electrodes 302 and Y and the sustain electrodes 303 and Z, and the scan electrodes 302 and Y and the sustain electrodes 303 and Z. In the case where the second upper dielectric layer 304 is formed in turn, the third upper dielectric layer 1110 may be further formed to cover the second upper dielectric layer 304.

여기서는 앞선 도 3a와 같이 스캔 전극(302, Y)과 서스테인 전극(303, Z)이 각각 제 1 전극(302a, 303a)과 제 2 전극(302b, 303b)을 포함하는 경우이다.In this case, as illustrated in FIG. 3A, the scan electrodes 302 and Y and the sustain electrodes 303 and Z respectively include the first electrodes 302a and 303a and the second electrodes 302b and 303b.

이러한, 제 3 상부 유전체 층(1110)의 유전율은 제 2 상부 유전체 층(304)의 유전율 보다 더 높은 것이 바람직하다.The dielectric constant of the third upper dielectric layer 1110 is preferably higher than that of the second upper dielectric layer 304.

이와 같이, 상부 유전체 층은 다양한 구조로 형성되는 것이 가능한 것이다.As such, the upper dielectric layer may be formed in various structures.

다음, 도 11c를 살펴보면 앞선 도 9에서와 같이 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널이 기판(900)과, 기판(900) 상에 형성되는 제 1 유전체 층(910)과, 제 1 유전체 층(910) 상부에 형성되는 복수의 전극(940)과, 제 1 유전체 층(910) 상부에서 복수의 전극(940)들 사이에 형성되는 제 2 유전체 층(920)과, 전극(940) 및 제 2 유전체 층(920)을 덮도록 형성되는 제 3 유전체 층(930)을 포함하는 경우에, 제 3 유전체 층(930)을 덮도록 제 4 유전체 층(1120)이 더 형성되는 것도 가능하다.Next, referring to FIG. 11C, as shown in FIG. 9, the plasma display panel according to the present invention includes a substrate 900, a first dielectric layer 910 formed on the substrate 900, and an upper portion of the first dielectric layer 910. A plurality of electrodes 940 formed on the second dielectric layer 920 formed between the plurality of electrodes 940 over the first dielectric layer 910, the electrodes 940 and the second dielectric layers ( In the case of including the third dielectric layer 930 formed to cover the 920, it is also possible to further form the fourth dielectric layer 1120 to cover the third dielectric layer 930.

여기, 도 11c에서 기판(900)은 앞선 도 3a와 같은 전면 기판(301)일 수도 있고 후면 기판(311)일 수도 있다.Here, in FIG. 11C, the substrate 900 may be the front substrate 301 or the rear substrate 311 as shown in FIG. 3A.

아울러, 전극(940)은 앞선 도 3a에서와 같이 어드레스 전극(313a, 313b, 313c)일 수도 있고, 도 7에서와 같이 스캔 전극(302, Y) 또는 서스테인 전극(303, Z)일 수도 있다.In addition, the electrode 940 may be the address electrodes 313a, 313b, and 313c as shown in FIG. 3A, or may be the scan electrodes 302 and Y or the sustain electrodes 303 and Z as shown in FIG. 7.

이러한, 제 4 유전체 층(1120)의 유전율은 제 3 유전체 층(930)의 유전율 보다 더 높은 것이 바람직하다. 이러한 제 4 유전체 층(930)은 전극(940)을 보호할 만큼 충분히 큰 유전율을 갖는다.The dielectric constant of the fourth dielectric layer 1120 is preferably higher than that of the third dielectric layer 930. This fourth dielectric layer 930 has a dielectric constant large enough to protect the electrode 940.

이와 같이, 유전체 층은 다양한 구조로 형성되는 것이 가능한 것이다.As such, the dielectric layer can be formed in various structures.

이와 같이, 상술한 본 발명의 기술적 구성은 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자가 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.As such, the technical configuration of the present invention described above can be understood by those skilled in the art that the present invention can be implemented in other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention.

그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 하고, 본 발명의 범위는 전술한 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.Therefore, the exemplary embodiments described above are to be understood as illustrative and not restrictive in all respects, and the scope of the present invention is indicated by the appended claims rather than the foregoing detailed description, and the meaning and scope of the claims are as follows. And all changes or modifications derived from the equivalent concept should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

이상에서 설명한 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널은 전극과 기판 사이에 상대적으로 낮은 유전율을 갖는 유전체 층을 추가로 더 구비하여 전체 기생 캐패시턴스 값을 저감시킴으로써 구동 효율이 개선되는 효과가 있다.The plasma display panel of the present invention described above further includes a dielectric layer having a relatively low dielectric constant between the electrode and the substrate, thereby reducing driving parasitic capacitance, thereby improving driving efficiency.

Claims (15)

기판;Board; 상기 기판 상에 형성되는 제 1 유전체 층;A first dielectric layer formed on the substrate; 상기 제 1 유전체 층 상부에 형성되는 전극; 및An electrode formed on the first dielectric layer; And 상기 제 1 유전체 층과 유전율이 다르며, 상기 전극을 덮도록 제 1 유전체 층 상부에 형성되는 제 2 유전체 층;A second dielectric layer having a different dielectric constant from the first dielectric layer and formed over the first dielectric layer to cover the electrode; 을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널.Plasma display panel comprising a. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 유전체 층은 제 2 유전체 층 보다 유전율이 더 낮은 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.And wherein the first dielectric layer has a lower dielectric constant than the second dielectric layer. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 제 1 유전체 층의 유전율은 상기 제 2 유전체 층의 유전율의 0.01배 이상 0.5배 이하인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.And a dielectric constant of the first dielectric layer is 0.01 to 0.5 times the dielectric constant of the second dielectric layer. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 유전체 층의 두께는 상기 전극의 두께의 0.1배 이상 10배 이하인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.And the thickness of the first dielectric layer is 0.1 to 10 times the thickness of the electrode. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 제 1 유전체 층의 두께는 상기 전극의 두께와 동일한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.And the thickness of the first dielectric layer is the same as the thickness of the electrode. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 2 유전체 층의 두께는 상기 전극의 두께의 2배 이상 10배 이하인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.And the thickness of the second dielectric layer is at least 2 times and at most 10 times the thickness of the electrode. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 유전체 층은 상기 전극 사이에서 상기 제 2 유전체 층 방향으로 돌출된 돌출부를 구비하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.And the first dielectric layer has protrusions protruding in the direction of the second dielectric layer between the electrodes. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 돌출부는 상기 전극과 같은 높이로 돌출되거나 더 높이 돌출되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.And the protrusion protrudes at the same height as the electrode or protrudes higher. 청구항 9은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 9 was abandoned upon payment of a set-up fee. 기판;Board; 상기 기판 상에 형성되는 제 1 유전체 층;A first dielectric layer formed on the substrate; 상기 제 1 유전체 층 상부에 형성되는 복수의 전극;A plurality of electrodes formed on the first dielectric layer; 상기 전극 및 제 2 유전체 층을 덮도록 형성되는 제 3 유전체 층;A third dielectric layer formed to cover the electrode and the second dielectric layer; 을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널.Plasma display panel comprising a. 청구항 10은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 10 was abandoned upon payment of a setup registration fee. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 제 3 유전체 층은 제 1 유전체 층 및 제 2 유전체 층 보다 유전율이 더 높은 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.And the third dielectric layer has a higher dielectric constant than the first dielectric layer and the second dielectric layer. 청구항 11은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 11 was abandoned upon payment of a setup registration fee. 제 10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 제 3 유전체 층의 유전율은 상기 제 1 유전체 층 또는 제 2 유전체 층의 유전율의 2배 이상 100배 이하인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.And a dielectric constant of the third dielectric layer is at least two times and at most 100 times the dielectric constant of the first dielectric layer or the second dielectric layer. 청구항 12은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 12 was abandoned upon payment of a registration fee. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 제 1 유전체 층의 두께는 상기 전극의 두께의 0.1배 이상 10배 이하인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.And the thickness of the first dielectric layer is 0.1 to 10 times the thickness of the electrode. 청구항 13은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 13 was abandoned upon payment of a registration fee. 제 12 항에 있어서,The method of claim 12, 상기 제 1 유전체 층의 두께는 상기 전극의 두께와 동일한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.And the thickness of the first dielectric layer is the same as the thickness of the electrode. 청구항 14은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 14 was abandoned when the registration fee was paid. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 제 2 유전체 층의 두께는 상기 전극의 두께와 동일하거나 더 큰 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.And the thickness of the second dielectric layer is equal to or greater than the thickness of the electrode. 청구항 15은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 15 was abandoned upon payment of a registration fee. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 제 3 유전체 층의 두께는 상기 전극의 두께의 2배 이상 10배 이하인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.And the thickness of the third dielectric layer is at least 2 times and at most 10 times the thickness of the electrode.
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