KR100780863B1 - 노광 장치 및 방법, 그리고 이에 사용되는 마스크 스테이지 - Google Patents

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KR100780863B1 KR1020060033868A KR20060033868A KR100780863B1 KR 100780863 B1 KR100780863 B1 KR 100780863B1 KR 1020060033868 A KR1020060033868 A KR 1020060033868A KR 20060033868 A KR20060033868 A KR 20060033868A KR 100780863 B1 KR100780863 B1 KR 100780863B1
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Abstract

본 발명은 노광 공정에 사용되는 마스크 스테이지를 제공한다. 마스크 스테이지는 복수의 마스크들이 장착되는 지지면들이 형성된 제 1 모듈을 가진다. 제 1 모듈은 대체로 중공 원통의 형상을 가지며, 지지면들은 제 1 모듈의 내측면에 제공된다. 마스크의 교체는 제 1 모듈을 그 중심축을 기준으로 회전시킴으로써 이루어진다.
마스크, 노광, 마스크 스테이지, 교체

Description

노광 장치 및 방법, 그리고 이에 사용되는 마스크 스테이지{EXPOSURE APPARATUS AND METHOD, AND MASK STAGE USED IN THIS}
도 1은 본 발명의 노광 장치의 일 예를 개략적으로 보여주는 정면도;
도 2는 도 1의 기판 스테이지의 사시도;
도 3은 도 1의 마스크 스테이지의 분해 사시도;
도 4는 도 1의 마스크 스테이지가 결합된 상태에서의 단면도;
도 5는 마스크 스테이지에 마스크가 장착된 상태의 일 예를 보여주는 도면;
도 6은 도 1의 장치에서 회전 유닛의 구조를 개략적으로 보여주는 도면;
도 7은 기판 스테이지의 다른 예를 보여주는 단면도;
도 8은 기판 스테이지의 또 다른 예를 보여주는 사시도; 그리고
도 9는 노광 장치의 다른 예를 보여주는 정면도이다
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
100 : 기판 스테이지 200 : 투영 렌즈
300 : 광원 부재 400 : 마스크 스테이지
420 : 제 1 블록 500 : 마스크 이동 유닛
520 : 지지 블록 540 : 제 2 블록
560 : 제 1 블록 이동기 580 : 제 2 블록 이동기
600 : 회전 유닛 700 : 회전 감지 부재
820, 840 : 가스 공급홀
본 발명은 기판을 제조하는 장치 및 방법에 관한 것으로, 더 상세하게는 마스크에 형성된 패턴을 기판 상으로 전사하는 노광 장치 및 방법, 그리고 이에 사용되는 마스크 스테이지에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 소자를 제조하기 위해 이온주입 공정, 증착 공정, 확산공정, 사진공정, 그리고 식각공정 등과 같은 다수의 공정들이 요구된다. 이러한 공정들 중에서 사진공정은 웨이퍼 상에 원하는 패턴을 형성하기 위해 사용된다. 사진 공정은 크게 웨이퍼 상에 포토레지스트를 도포하는 도포 공정, 광을 조사하여 웨이퍼 상에 도포된 포토레지스트에 마스크에 형성된 패턴을 전사하는 노광 공정, 그리고 노광 후 웨이퍼 상의 특정 영역에서 포토 레지스트를 제거하는 현상 공정으로 이루어진다.
상술한 노광 공정을 수행하는 장치는 마스크가 놓여지는 마스크 스테이지, 마스크로 광을 조사하는 광원, 웨이퍼가 놓여지는 웨이퍼 스테이지, 그리고 마스크 스테이지와 웨이퍼 스테이지 사이에 배치되어 마스크를 통과한 광을 웨이퍼로 투영하는 투영 렌즈를 가진다. 서로 상이한 그룹에 속하는 웨이퍼들 간에, 또는 동일 그룹에 속하는 웨이퍼들 간에, 또는 하나의 웨이퍼에 대해 노광 공정 수행시 서로 상이한 패턴이 형성된 마스크들이 복수개가 사용된다. 일반적으로 사용되고 있는 마스크 스테이지에는 단일의 마스크만을 장착하도록 구성되어 있다. 따라서 다른 패턴이 형성된 마스크를 공정에 사용하고자 하는 경우 마스크 스테이지에 장착된 마스크를 교체하여야 한다. 마스크 교체를 위해서는 마스크 스테이지로부터 기존에 사용된 마스크를 언로딩하고, 라이브러리(library)나 스미프 포드(SMIF Pod)와 같은 마스크 보관 장소로부터 새로운 마스크를 꺼내어 위치 정렬한 후 마스크 스테이지로 로딩하여야 한다. 마스크가 그 위치가 정렬된 상태로 마스크 스테이지에 장착될 수 있도록 마스크의 이동은 느린 속도로 이루어진다. 따라서 마스크 교체에 많은 시간이 소요된다.
본 발명은 노광 공정을 효율적으로 수행할 수 있는 노광 장치 및 노광 방법, 그리고 마스크 스테이지를 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 마스크 교체에 소요되는 시간을 줄일 수 있는 노광 장치 및 노광 방법, 그리고 마스크 스테이지를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 노광 장치를 제공한다. 본 발명에 의하면, 노광 장치는 기판이 놓여지는 기판 스테이지, 서로 상이한 패턴이 형성된 마스크들이 장착되는 마스크 스테이지, 상기 마스크들 중 공정 위치에 위치된 마스크로 광을 조사하는 광원 부재, 그리고 상기 마스크를 통과한 광을 상기 기판으로 투영하는 투영 렌즈를 가진다. 본 발명의 일 특징에 의하면, 상기 마스크 스테이지는 마스크가 안착되는 지지면을 복수개 구비하는 제 1 블록과 상기 지지면들에 안착된 마스크들 중 공정에 사용하고자 하는 마스크가 상기 공정 위치로 이동되도록 상기 제 1 블록의 위치를 변경하는 마스크 교체 유닛을 가진다.
일 예에 의하면, 상기 제 1 블록은 내부에 공간이 제공된 통 형상을 가지며 상기 지지면들은 상기 제 1 블록의 측면에 제공된다. 상기 마스크 교체 유닛은 상기 제 1 블록을 회전시키는 회전 유닛을 가진다.
상기 지지면들은 상기 제 1 블록의 내측면에 상기 제 1 블록의 중심축을 감싸도록 배치되고, 상기 마스크의 패턴이 기판으로 전사되는 통로를 제공하기 위해 각각의 상기 지지면에는 상기 제 1 블록을 관통하는 제 1 개구들이 형성될 수 있다.
일 예에 의하면, 상기 마스크 스테이지는 공정 진행 중 상기 제 1 블록을 직선 이동시키는 마스크 이동 유닛을 가진다. 상기 마스크 이동 유닛은 상기 제 1 블록을 삽입하는 공간이 제공된 통 형상의 몸체를 가지며 상기 공정 위치로 이동된 마스크의 패턴이 기판으로 전사되는 통로를 제공하는 제 2 개구가 형성된 제 2 블록, 상기 제 2 블록을 지지하는 지지 블록, 상기 제 2 블록이 상기 지지 블록을 따라 직선 이동되도록 구동력을 제공하는 제 2 블록 구동기, 그리고 상기 제 1 블록을 상기 제 2 블록과 함께 이동시키고 상기 제 2 블록에 대한 상기 제 1 블록의 상대 위치를 변화시켜 상기 제 1 블록의 위치를 보정하는 제 1 블록 구동기를 가질 수 있다.
일 예에 의하면, 상기 제 2 블록 구동기는 상기 제 1 블록에 고정 설치되는 제 1 이동용 자성 부재, 상기 제 2 블록에 고정 설치되는 제 2 이동용 자성 부재, 그리고 상기 제 1 이동용 자성 부재와 상기 제 2 이동용 자성 부재 간의 자력에 의해 상기 제 1 블록이 상기 제 2 블록에 대해 직선 이동되도록 상기 제 1 이동용 자성 부재 또는 상기 제 2 이동용 자성 부재로 인가되는 전류를 제어하는 제 1 제어기를 가진다. 상기 지지 블록 또는 상기 제 2 블록에는 상기 지지 블록에 대해 상기 제 2 블록을 부상시키는 가스가 공급되는 가스 공급홀이 형성될 수 있다.
일 예에 의하면, 상기 제 1 블록 구동기는 상기 제 1 블록의 이동 상태를 감지하는 이동 감지 센서, 상기 제 1 개구들 사이에 각각 위치되며 상기 제 1 블록에 고정 설치된 제 1 보정용 자성 부재들, 상기 공정 위치에 위치된 마스크의 양측에 위치된 제 1 보정용 자성 부재들과 대향되도록 상기 제 2 블록에 고정 설치되는 제 2 보정용 자성 부재들, 그리고 상기 이동 감지 센서로부터 감지된 신호를 전송받고, 상기 제 1 보정용 자성 부재와 상기 제 2 보정용 자성 부재 간의 자력에 의해 상기 제 1 블록이 상기 제 2 블록과 함께 이동되고 상기 제 2 블록에 대한 상대위치가 변화가능하도록 상기 제 1 보정용 자성 부재 또는 상기 제 2 보정용 자성 부재로 인가되는 전류를 제어하는 제 2 제어기를 가진다. 상기 제 1 블록 또는 상기 제 2 블록에는 상기 제 1 블록을 상기 제 2 블록에 대해 부상시키는 가스가 공급되는 가스 공급홀이 형성될 수 있다.
일 예에 의하면, 상기 회전 유닛은 상기 제 1 블록에 고정설치되는 제 1 회전용 자성 부재와 상기 제 2 블록에 고정설치되는 제 2 회전용 자성 부재를 가지고, 상기 노광 장치는 상기 제 1 회전용 자성 부재와 상기 제 2 회전용 자성 부재 간의 자력에 의해 상기 제 1 블록이 회전되도록 상기 제 1 회전용 자성 부재 또는 상기 제 2 회전용 자성 부재로 인가되는 전류를 제어하는 제 3 제어기 더 포함한다.
상기 마스크 스테이지에는 상기 제 1 블록의 회전 위치를 감지하는 회전 감지 부재가 더 제공될 수 있다. 일 예에 의하면, 상기 감지 부재는 상기 제 1 블록 또는 상기 제 2 블록 중 어느 하나에 링 형상으로 배치된 스케일부와 상기 제 1 블록 또는 상기 제 2 블록 중 다른 하나에 고정설치되며 상기 스케일부에 제공된 눈금들을 감지하는 센서를 가진다.
일 예에 의하면, 상기 기판 스테이지는 공정 진행시 기판이 세워진 상태로 고정되도록 배치되고, 상기 기판 스테이지, 상기 투영 렌즈, 그리고 상기 마스크 스테이지는 측방향으로 나란히 배치된다.
또한, 본 발명은 노광 공정에 사용되는 마스크 스테이지를 제공한다. 마스크 스테이지는 서로 상이한 패턴이 형성된 마스크들을 동시에 지지할 수 있도록 상기 마스크가 놓여지는 지지면들을 복수개 가지는 제 1 블록과 상기 마스크들 중 공정에 사용되는 마스크가 공정 위치로 이동되도록 상기 제 1 블록을 직선 이동 또는 회전 이동시키는 마스크 교체 유닛을 가진다.
또한, 본 발명은 노광 공정을 수행하는 방법을 제공한다. 본 발명의 노광 방법에 의하면, 공정 위치에 위치된 마스크로 광을 조사하여 상기 마스크에 형성된 패턴을 기판으로 전사함으로써 노광 공정을 수행하되, 마스크의 교체는 복수개의 마스크들을 마스크 스테이지에 장착한 후, 상기 마스크 스테이지의 위치를 변화시 켜 이루어진다.
일 예에 의하면, 상기 마스크들은 통 형상으로 제공된 제 1 블록의 측면을 따라 고정되도록 배치되며, 상기 마스크 스테이지의 위치 변화는 상기 제 1 블록의 회전에 의해 이루어진다.
일 예에 의하면, 공정 진행시 상기 마스크를 직선 이동하여 스캔 방식에 의해 노광 공정을 수행하되, 상기 마스크의 직선 이동은 자력에 의해 이루어질 수 있다.
일 예에 의하면, 상기 제 1 블록은 통 형상의 제 2 블록 내 공간에 위치되고, 상기 제 2 블록은 자력에 의해 지지블록을 따라 직선 이동되며, 상기 제 1 블록은 자력에 의해 상기 제 2 블록과 함께 이동되며, 상기 제 1 블록이 상기 제 2 블록과 함께 이동되는 동안 상기 제 2 블록에 대한 상기 제 1 블록의 상대 위치가 변화되어 상기 제 1 블록의 위치가 보정된다.
또한, 공정 진행시 상기 제 2 블록은 가스에 의해 상기 지지블록으로부터 부상되고, 공정 진행시 상기 제 1 블록은 가스에 의해 상기 제 2 블록으로부터 부상될 수 있다.
이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면 도 1 내지 도 9를 참조하면서 상세히 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예로 인해 한정되어 지는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공된 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장된 것이다.
도 1은 본 발명의 노광 장치(1)를 개략적으로 보여주는 도면이다. 도 1을 참조하면, 노광 장치(1)는 기판 스테이지(substrate stage)(100), 투영 렌즈(projection lens)(200), 광원 부재(light member)(300), 그리고 마스크 스테이지(mask stage)(400)를 포함한다. 기판 스테이지(100)는 공정이 수행되는 기판(10)을 지지한다. 기판(10)으로는 반도체 칩 제조에 사용되는 웨이퍼(10)가 사용된다. 선택적으로 기판(10)은 평판 표시 패널 제조에 사용되는 기판(10)일 수 있다. 마스크 스테이지(400)는 레티클(reticle)과 같은 복수의 마스크들(40)을 장착하며, 기판 스테이지(100)의 상부에 배치된다. 마스크 스테이지(400)에 장착된 마스크들(40)은 서로 상이한 패턴을 가진다. 광원 부재(300)는 마스크(40)로 광을 조사하고, 투영 렌즈(200)는 마스크(40)를 통과한 광을 웨이퍼(10)로 투영시킨다. 광원 부재(300)는 비록 구체적으로 도시되지는 않았으나, 노광 광원, 조명 광학계, 그리고 노광 광원으로터 출사된 광이 조명 광학계로 입사되도록 배치되는 거울들(mirrors)을 가진다. 광원 부재(300)의 다양한 구조 및 투영 렌즈(200)는 당업계에 널리 알려져 있으므로 상세한 설명은 생략한다.
도 2는 기판 스테이지(100)의 사시도이다. 기판 스테이지(100)는 지지판(120), 제 1 구동부재(140), 그리고 제 2 구동부재(160)를 가진다. 웨이퍼(10)는 지지판(120) 상에 놓여진다. 제 1 구동부재(140)는 지지판(120)을 제 1 방향으로 직선 이동시키고, 제 2 구동부재(160)는 지지판(120)을 제 2 방향으로 직선 이동시킨다. 제 1 방향과 제 2 방향은 서로 수직한 방향이다. 이하, 제 1 방향을 X축 방 향이라 칭하고, 제 2 방향을 Y축 방향이라 칭한다. 제 1 구동부재(140)는 지지판(120)에 고정 결합되는 이동판(142)과 지지판(120)의 X축 방향으로의 이동을 안내하는 제 1 안내 레일(144)을 가진다. 제 1 안내 레일(144)은 X축 방향으로 길게 배치되며, 제 1 구동기(도시되지 않음)에 의해 이동판(142)은 제 1 안내 레일(144)을 따라 X축 방향으로 직선 이동된다. 제 2 구동부재(160)는 제 1 안내 레일(144)의 양단에 각각 고정 결합된 브라켓들(162)과 각각의 브라켓(162)의 Y축 방향으로의 이동을 안내하는 제 2 안내 레일들(164)을 가진다. 제 2 안내 레일들(164)은 서로 일정거리 이격되어 수평하게 Y축 방향으로 길게 배치되며, 제 2 구동기(도시되지 않음)에 의해 제 1 안내 레일(144)은 제 2 안내 레일들(164)을 따라 Y축 방향으로 직선 이동된다.
도 3은 마스크 스테이지(400)의 분해 사시도이고, 도 4는 조립된 마스크 스테이지(400)의 단면도이며, 도 5는 마스크 스테이지(400)에 마스크들(40)이 놓여진 상태를 확대하여 보여주는 도면이다. 마스크 스테이지(400)는 복수의 마스크들(40)이 장착되는 제 1 블록(first block)(420)을 가진다. 제 1 블록(420)은 대체로 중공의 원통 형상을 가진다. 제 1 블록(420)은 그 중심축(428)이 길이 방향이 X축과 평행하도록 배치된다. 제 1 블록(420)의 내측면은 마스크(40)가 지지되는 복수의 지지면들(422)을 가진다. 각각의 지지면(422)은 대체로 직사각의 평면으로 제공되며, 서로 동일한 형상 및 크기를 가진다. 지지면들(422)은 제 1 블록(420)의 중심축(428)을 감싸도록 배치된다. 따라서 제 1 블록(420)을 중심축(428)에 수직하게 절단시 제 1 블록(420)의 내측면은 정다각형의 형상을 가진다. 각각의 지지면(422) 에는 제 1 블록(420)의 외측면까지 관통되도록 제 1 블록(420)의 반경 방향으로 형성된 제 1 개구(424)가 제공된다. 제 1 개구(424)는 마스크(40)로 광이 조사될 때 마스크(40)의 패턴이 웨이퍼(10)로 전사되는 통로로 제공된다. 제 1 개구들(424)은 서로 동일한 형상을 가지며, 대체로 직사각의 형상으로 제공된다. 마스크(40)가 제 1 블록(420)의 지지면(422)에 진공에 의해 고정되도록 각각의 제 1 개구(424) 둘레에는 진공홀들(860)이 형성된다.
도 1에서 제 1 블록(420)은 원통 형상을 가지는 것으로 설명하였으나 이와 달리 제 1 블록(420)은 삼각 기둥이나 사각 기둥 등과 같이 중공을 가지는 다각 기중의 형상으로 제공될 수 있다. 또한, 도 1에서 지지면(422)은 제 1 블록(420)의 내측면에 제공되는 것으로 설명하였으나 이와 달리 지지면(422)은 제 1 블록(420)의 외측면에 제공될 수 있다. 도 1에서 제 1 블록(420)은 8개의 지지면들(422)을 가지는 것을 도시되었으나 지지면(422)의 수는 이와 다른 수로 제공될 수 있다.
마스크 교체 유닛은 복수의 마스크들(40) 중 공정에 사용되는 마스크(40)를 공정 위치로 이동시킨다. 본 실시예에서 공정 위치는 제 1 블록(420)의 중공 내에 위치된 광원 부재(300)와 기판 스테이지(100)에 놓여진 웨이퍼(10) 사이에서 웨이퍼(10)와 평행하게 제공될 수 있는 제 1 블록(420) 상의 마스크(40)의 위치이다. 마스크 교체 유닛은 제 1 블록(420)의 중심축(428)을 기준으로 제 1 블록(420)을 회전시킴으로써 공정에 사용하고자 하는 마스크(40)가 공정위치로 이동되도록 한다. 마스크 교체 유닛으로는 회전 유닛(600)이 사용될 수 있으며, 이의 구체적인 구조는 후술한다.
일 예에 의하면, 노광 공정은 스캔 방식에 의해 이루어진다. 웨이퍼(10)는 대체로 직사각의 복수의 영역들로 구획된다. 각 영역에서 노광 공정 진행시, 웨이퍼(10)와 마스크(40)가 X축 방향으로 서로 반대 방향으로 계속적으로 직선 이동되면서 마스크(40)의 패턴이 영역 내로 전사된다. 하나의 영역에서 노광이 완료되면, 기판 스테이지(100)가 일정 거리 이동되어 다음 영역에서 상술한 방법으로 노광이 이루어진다.
마스크 스테이지(400)는 마스크 이동 유닛(500)(mask movement unit)에 의해 직선 이동된다. 마스크 이동 유닛(500)은 지지 블록(supporting block)(520), 제 2 블록(540)(second block), 제 1 블록 구동기(560), 그리고 제 2 블록 구동기(580)를 가진다.
제 2 블록(540)은 대체로 중공의 원통 형상의 몸체(542)를 가진다. 제 2 블록(540)은 그 중심축(428)이 X축과 평행하도록 배치된다. 제 1 블록(420)은 제 2 블록(540)의 중공 내에 위치된다. 제 2 블록(540)은 그 중심축(428)이 제 1 블록(420)의 중심축(428)과 대체로 일치하도록 배치된다. 제 2 블록(540)에는 마스크(40)에 형성된 패턴이 전사되는 통로인 제 2 개구(542a)가 형성된다. 제 2 개구(542a)는 공정 위치로 이동된 마스크(40)를 지지하는 지지면(422)에 형성된 제 1 개구(424)와 상하로 대향되는 위치에 형성된다. 제 2 블록(540)은 몸체(542)의 외측면에 고정 결합된 측판(544)을 가진다. 측판(544)은 제 2 블록(540)의 몸체(542)의 길이방향을 따라 제 2 블록(540)의 몸체(542) 양측으로부터 바깥쪽으로 돌출된다. 측판(544)은 수직면(544a), 경사면(544b), 그리고 수평면(544c)을 가진다. 지 지 블록(520)은 제 2 블록(540)의 직선 이동을 안내한다. 지지 블록(520)은 제 2 블럭(520)의 수직면(544a), 경사면(544b), 그리고 수평면(544c)과 대향되도록 형상지어진 수직면(520a), 경사면(520b), 그리고 수평면(520c)을 가진다.
공정 진행시 제 2 블록(540)은 지지 블록(520)에 비접촉된 상태에서 이동된다. 각각의 지지 블록(520)의 상면에는 제 2 블록(540)을 지지 블록(520)으로부터 부상시키도록 제 2 블록(540)을 향해 가스를 공급하는 가스 공급홀(820)이 형성된다. 가스는 공기, 질소 가스, 또는 비활성 가스가 사용될 수 있다. 가스 공급홀(820)은 슬릿 형상으로 길게 형성되거나 복수의 원형홀들로서 제공될 수 있다. 가스 공급홀(820)은 후술하는 제 2 이동용 자성 부재(584)에 제공될 수 있다. 상술한 예에서는 가스 공급홀(820)이 지지 블록(520)에 형성된 것으로 설명하였으나, 가스 공급홀(820)은 지지 블록(520)을 향해 가스를 분사하도록 측판(544)에 형성될 수 있다.
제 2 블록(540)은 제 2 블록 구동기(580)에 의해 제 2 블록(540)에 대해 X축 방향을 따라 이동된다. 제 2 블록 구동기(580)는 자력을 이용하여 제 2 블록(540)을 이동시킨다. 제 2 블록 구동기(580)는 제 1 이동용 자성 부재(582), 제 2 이동용 자성 부재(584), 그리고 제 1 제어기(586)를 가진다. 제 1 이동용 자성 부재(582)는 측판(544)의 경사면(544b)에 고정 설치된다. 제 2 이동용 자성 부재(584)는 지지 블록(520)의 경사면(520b)에 고정 설치된다. 비록 구체적으로 도시되지는 않았으나, 제 1 이동용 자성 부재(582)는 자성체 및 이의 둘레에 제공되며 전류를 인가받아 자성체의 극성 및 크기를 변화시키는 코일을 가진다. 제 2 이동용 자성 부재(584)는 상면이 동일 극성을 가지는 영구 자석을 가진다. 제 1 제어기(586)는 제 1 이동용 자성 부재(582)의 코일로 인가되는 전류의 크기 및 방향을 변화시킨다. 제 1 이동용 자성 부재(582)와 제 2 이동용 자성 부재(584) 간의 척력 또는 인력에 의해 제 2 이동용 자성 부재(584)에 대한 제 1 이동용 자성 부재(582)의 상대 위치가 변화되고, 이에 의해 제 2 블록(540)은 지지 블록(520)을 따라 이동된다. 자력을 이용하여 대상물을 이동시키는 기술은 엔코더 모터나 자기 부상 열차 등에서 널리 사용되고 있으므로 이에 대한 상세한 구조에 대한 도시 및 설명은 생략한다. 상술한 예와 달리 제 1 이동용 자성 부재(582)는 지지 블록(520)에 고정 설치되고 제 2 이동용 자성 부재(584)는 측판(544)에 고정 설치될 수 있다. 또한, 제 1 이동용 자성 부재(582)와 제 2 이동용 자성 부재(584) 모두 전자석이 사용될 수 있다.
제 2 블록(540)이 지지 블록(520)으로부터 부유한 상태에서 자력에 의해 이동되므로, 제 2 블록(540)과 지지 블록(520)의 접촉으로 인한 파티클 발생을 방지할 수 있고, 제 2 블록(540)이 지지 블록(520)을 따라 이동될 때 제 2 블록(540)의 흔들림이 적다.
제 1 블록 구동기(560)는 제 1 블록(420)이 제 2 블록(540)과 함께 이동되도록 한다. 또한, 제 1 블록 구동기(560)는 공정 진행시 제 1 블록(420)이 흔들림이나 회전 없이 일정한 속도로 이동될 수 있도록 제 2 블록(540)에 대한 제 1 블록(420)의 위치를 보정한다. 제 1 블록 구동기(560)는 제 1 보정용 자성 부재(562), 제 2 보정용 자성 부재(564), 그리고 제 2 제어기(566)를 가진다. 제 1 보정용 자성 부재(562)는 제 1 블록(420)의 외측면에 고정 설치된다. 제 1 보정용 자성 부재(562)는 제 1 블록(420)의 제 1 개구들(424) 사이에 각각 배치된다. 제 2 보정용 자성 부재(564)는 제 2 블록(540)의 내측면에 고정 설치된다. 제 2 보정용 자성 부재(564)는 제 2 블록(540)의 제 2 개구(542a)의 양측에 각각 배치된다. 제 2 보정용 자성 부재(564)는 공정 위치에 배치된 마스크(40)의 양측에 제공된 제 1 보정용 자성 부재(562)와 대향되도록 배치된다. 비록 도시되지는 않았으나, 제 1 보정용 자성 부재(562)는 자성체 및 이의 둘레에 제공되며 전류를 인가받아 자성체의 극성 및 크기를 변화시키는 코일을 가진다. 제 2 보정용 자성 부재(564)는 상면이 동일 극성을 가지는 영구 자석을 가진다. 제 2 제어기(566)는 제 1 보정용 자성 부재(562)의 코일에 인가되는 전류의 크기 및 방향을 제어한다. 제 2 블록(540)이 X축 방향으로 직선 이동될 때 제 1 블록(420)이 인력(引力)에 의해 제 2 블록(540)과 함께 이동되도록 제 1 보정용 자성 부재(562)의 코일에 인가되는 전류의 크기 및 방향이 결정된다. 공정이 진행될 때에는 제 2 보정용 자성 부재(564)와 대향되도록 위치되고 있는 제 1 보정용 자성 부재(562)의 코일에만 전류가 인가된다.
비록 제 2 블록(540)이 지지 블록(520)에 대해 자력에 의해 이동된다 할지라도 제 2 블록(540)이 이동될 때 미세 진동이 발생된다. 또한, 제 2 블록(540)을 지지 블록(520)으로부터 부상시키거나 제 1 블록(420)을 제 2 블록(540)으로부터 부상시킬 때 공급되는 가스의 압력이 일정치가 않다. 상술한 이유로 제 1 블록(420)이 이동될 때, 제 1 블록(420)이 다양한 방향으로 미세 진동하거나 다양한 각도로 미세 회전될 수 있다. 노광이 진행되는 도중 제 1 블록(420)의 이동시 마스크(40) 에 미세 진동 및 미세 회전이 발생되는 것을 방지하기 위해 각각의 제 1 보정용 자성 부재(562)의 자성체 둘레에 제공된 코일로 인가되는 전류의 크기 또는 방향은 조절된다. 즉, 상술한 바와 같이 제 1 블록(420)이 X축 방향으로 이동되면서 노광이 진행되는 동안에 각각의 제 1 보정용 자성 부재(562)들의 코일로 인가되는 전류의 크기 및 방향은 대체로 기준값으로 일정하나, 작은 범위 내에서 계속적으로 변화하여 상술한 미세 진동 및 미세 회전을 억제한다. 따라서 노광 공정 진행시, 제 1 블록(420)은 대체로 제 2 블록(540)과 함께 이동되나, 미세 범위 내에서는 계속적으로 제 2 블록(540)에 대한 상대 위치가 변화된다.
마스크 스테이지(400)에는 제 1 블록(420)의 이동 상태를 감지하는 센서들(590)이 제공된다. 제 1 블록(420)의 이동 상태는 제 1 블록(420)의 이동 방향, 이동 속도, 또는 회전 방향 등을 포함한다. 센서(590)는 제 1 블록(420)의 이동 상태의 변화량 등을 감지하고, 감지된 신호를 제 2 제어기(566)로 전송한다. 센서(590)는 제 1 블록(420) 또는 제 2 블록(540)에 고정 설치되며 자력의 변화를 이용하여 대상물의 속도나 위치 변화 등을 검출하는 센서가 사용될 수 있다. 제 2 제어기(566)는 센서(590)로부터 전송받은 신호에 근거하여 각각의 제 1 보정용 자성 부재(562)의 코일로 인가되는 전류의 크기 및 방향을 제어한다.
공정 진행시 제 1 블록(420)은 제 2 블록(540)에 비접촉된 상태에서 이동된다. 제 2 블록(540)의 내측면 중 제 2 개구(542a)와 인접한 영역에는 제 1 블록(420)이 제 2 블록(540)으로부터 부상되도록 제 1 블록(420)을 향해 가스를 공급하는 가스 공급홀(840)이 형성된다. 가스는 공기, 질소 가스, 또는 비활성 가스가 사용될 수 있다. 가스 공급홀(840)은 슬릿 형상으로 길게 형성되거나 복수의 원형 홀들로서 제공될 수 있다. 가스 공급홀(840)은 제 2 보정용 자성 부재(564)에 제공될 수 있다.
전사하고자 하는 패턴을 변경하고자 할 때, 공정에 사용되는 마스크(40)의 교체가 이루어진다. 여기서 패턴 변경은 웨이퍼(10) 내 영역이 변경될 때, 웨이퍼(10)가 변경될 때, 또는 다른 그룹에 속하는 웨이퍼(10)에 대해 노광 공정을 수행할 때 등과 같은 시점에서 이루어질 수 있다. 상술한 바와 같이 마스크(40)의 교체는 제 1 블록(420)을 그 중심축(428)을 기준으로 회전시킴으로써 이루어진다.
회전 유닛(600)은 제 1 회전용 자성 부재(620)와 제 2 회전용 자성 부재(640)를 가진다. 제 1 회전용 자성 부재(620)는 제 1 블록(420)의 외측면에 제공된다. 제 2 회전용 자성 부재(640)는 제 2 모듈의 내측면에 제공된다. 제 2 회전용 자성 부재(640)는 제 2 모듈의 중심축(428)을 감싸도록 링 형상으로 제공된다. 제 1 회전용 자성 부재(620)는 자성체와 이의 둘레에 제공되며 전류가 인가되는 코일을 가진다. 제 2 회전용 자성 부재(640)는 영구자석 또는 전자석을 가질 수 있다. 제 1 회전용 자성 부재(620)와 제 2 회전용 자성 부재(640)는 서로 대향되도록 위치된다. 제 1 블록(420)의 회전각도 및 방향은 제 1 회전용 자성 부재(620)의 코일로 인가되는 전류의 크기 및 방향에 따라 결정된다. 제 1 회전용 자성 부재(620)의 코일에 인가되는 전류의 크기 및 방향은 제 3 제어기(760)에 의해 제어된다. 상술한 바와 달리 제 1 회전용 자성 부재(620)는 제 2 블록(540)에 제공되고 제 2 회전용 자성 부재(640)는 제 1 블록(420)에 제공될 수 있다.
공정에 사용되는 마스크(40) 변경시, 제 1 블록(420)은 정확한 각도로 회전되어야 한다. 회전 감지 부재(700)는 마스크(40)의 회전이 정상적으로 이루어졌는지 여부를 검출하기 위해 마스크(40)의 회전각을 측정한다. 도 6은 회전 감지 부재(700)의 일 예를 보여준다. 도 6을 참조하면, 회전 감지 부재(700)는 센서부(sensor part)(720)와 스케일부(scale part)(740)를 가진다. 스케일부(740)는 제 1 블록(420)의 내측면에 링 형상으로 배치되며, 등간격으로 제공된 룰러들(rulers)(742)을 가진다. 스케일부(740)에는 기준 마크(standard mark)(744)가 제공된다. 센서부(720)는 제 2 블록(580)에 고정 설치되는 카운팅 센서(counting sensor)(722)와 기준 센서(standard sensor)(724)를 가진다. 카운팅 센서(722)는 제 1 블록(420)의 회전에 따라 카운팅 센서(722)를 지나가는 룰러들(742)의 수를 카운팅한다. 기준 센서(724)는 제 1 블록(420)의 초기 위치를 결정하기 위해 기준마크(744)를 감지한다. 카운팅 센서(722) 및 기준 센서(724)로는 광신호 또는 자기력선의 변화 등을 이용하여 대상물을 감지하는 센서가 사용될 수 있다. 카운팅 센서(722)와 기준 센서(724)에 의해 감지된 신호는 제 3 제어기(760)로 전송된다. 제 3 제어기(760)는 카운팅 센서(722) 및 기준 센서(724)로부터 전송받은 신호에 근거하여 제 1 회전용 자성 부재(620)로 인가되는 전류의 크기 및 방향을 제어한다.
다음에는 상술한 노광 장치(1)를 사용하여 노광 공정을 수행하는 방법을 설명한다. 처음에 서로 상이한 패턴이 형성된 마스크들(40)이 제 1 블록(420)의 지지면들(422)로 로딩된다. 각각의 마스크(40)는 진공에 의해 제 1 블록(420)의 지지면(422)에 고정 흡착된다. 제 2 블록(540)의 제 2 개구(542a)와 대향되는 위치(공 정 위치)에 제 1 마스크(40)가 위치되도록 제 1 블록(420)이 회전된다. 웨이퍼(10)가 기판 스테이지(100)에 놓여진다. 웨이퍼(10) 내 복수의 영역들 중 제 1 영역이 기설정된 영역에 위치되도록 기판 스테이지(100)가 이동된다. 제 1 마스크(40)로 광이 조사되고, 웨이퍼(10)와 제 1 마스크(40)가 서로 반대 방향으로 직선 이동되면서 제 1마스크(40) 내 패턴이 웨이퍼(10) 내 제 1 영역으로 전사된다. 웨이퍼(10) 내 복수의 영역들 중 제 2 영역이 노광이 이루어지는 위치에 배치되도록 웨이퍼(10)가 이동되고, 제 1 마스크(40)는 초기 위치로 이동된다. 이후 제 1 마스크(40)로 광이 조사되고, 웨이퍼(10)와 제 1 마스크(40)가 서로 반대 방향으로 직선 이동되면서 제 1 마스크(40) 내 패턴이 웨이퍼(10) 내 제 2 영역으로 전사된다. 상술한 과정은 반복된다. 웨이퍼(10)에 전사하고자 하는 패턴을 변경하고자 하는 경우, 제 2 마스크(40)가 공정 위치로 이동되도록 제 1 블록(420)이 회전된다. 상술한 방법과 동일하게 노광 공정이 수행된다. 마스크(40)의 교체는 하나의 웨이퍼(10)에 대해 공정이 수행되는 동안 이루어질 수 있다. 이와 달리 마스크(40)의 교체는 공정을 수행하고자 하는 웨이퍼(10)가 변경되는 경우 이루어질 수 있다.
또한, 상술한 실시예에서는 스캔 방식에 의해 노광 공정이 수행되는 경우를 예로 들어 설명하였다. 즉, 웨이퍼(10) 내 하나의 영역에서 노광이 진행될 때 웨이퍼(10)와 마스크(40)가 이동되었다. 그러나 이와 달리 노광 공정은 스텝 앤 리피이트(step and repeat) 방식에 의해 수행될 수 있다. 이 경우, 웨이퍼(10) 내 하나의 영역에서 노광이 진행될 때 웨이퍼(10)와 마스크(40)가 고정된 상태에서 마스크(40) 내 패턴이 웨이퍼(10) 내 영역으로 전사된다. 도 7은 스텝 앤 리피이트 방 식에 의해 노광 공정이 수행되는 노광 장치(1)에 사용되는 마스크 스테이지(400′)를 보여준다. 마스크 스테이지(400′)는 복수개의 지지면들(422)을 가지는 제 1 블록(420)과 마스크 교체 유닛을 가진다. 제 1 블록(420)은 상술한 예와 동일하게 대체로 원통 형상을 가지고, 내측면에 복수의 지지면들(422)이 제공된다. 마스크 교체 유닛은 제 1 블록(420)을 회전시키는 회전 유닛(600)을 가진다. 마스크(40) 회전을 위해 제 1 블록(420)을 감싸도록 배치된 제 2 블록(540)이 제공되고, 회전 유닛(600)은 도 6에 도시된 바와 같이 제 1 블록(420)에 고정 설치된 제 1 회전용 자성 부재와 제 2 블록에 설치된 제 2 회전용 자성 부재를 가질 수 있다. 이와 달리 회전 유닛(600)은 모터를 이용한 기계적 메커니즘에 의해 제 1 블록(420)을 회전시킬 수 있다. 본 실시예의 경우, 제 1 블록(420)이 고정된 상태에서 웨이퍼(10) 내 하나의 영역에 대해 노광이 수행되므로 마스크 이동 유닛(500)이 제공될 필요는 없다.
또한, 상술한 예에서는 제 1 블록(420)이 원통형으로 제공되고, 마스크(40)의 교체는 제 1 블록(420)의 회전에 의해 이루어진 것으로 설명하였다. 그러나 이와 달리 도 8에 도시된 마스크 스테이지(400″)바와 같이, 제 1 블록(420)은 평판 형상으로 제공되고, 마스크(40)의 교체는 제 1 블록(420)의 직선 이동에 의해 이루어질 수 있다. 그러나 도 1에 기재된 바와 같이 제 1 블록(420)이 원통형으로 제공된 경우, 제 1 블록(420)이 점유하는 면적을 줄일 수 있고, 마스크(40)의 교체 방법 또한 더욱 간단하므로 평판으로 제공된 경우에 비해 더욱 바람직하다.
또한, 상술한 예에서 노광 장치(1)의 기판 스테이지(100), 투영 렌즈(200), 그리고 마스크 스테이지(400)가 아래에서부터 위를 향하는 방향으로 순차적으로 배치된 것으로 설명하였다. 그러나 이와 달리, 도 9에 도시된 바와 같이, 노광 장치(2)의 기판 스테이지(100), 투영 렌즈(200), 그리고 마스크 스테이지(400)는 측방향으로 나란하게 배치될 수 있다. 이 경우, 웨이퍼(10)로부터 이격된 파티클이 다시 웨이퍼(10)에 부착되는 것을 최소화할 수 있다.
본 발명에 의하면, 마스크 스테이지에 복수의 마스크들이 장착되므로 노광 공정 수행시 마스크 교체에 소요되는 시간을 줄일 수 있다.
또한, 본 발명에 의하면, 복수의 마스크들을 장착하는 제 1 모듈이 통 형상으로 제공되고, 마스크의 교체는 제 1 모듈의 회전에 의해 이루어지므로 마스크 스테이지가 점유하는 체적을 줄이고 마스크의 교체를 용이하게 수행할 수 있다.
또한, 본 발명에 의하면, 제 1 모듈의 회전 또는 이동이 기계적 접촉 없이 자력에 의해 이루어지므로 파티클 발생을 줄일 수 있고, 제 1 모듈의 이동시 진동을 줄일 수 있다.

Claims (25)

  1. 기판이 놓여지는 기판 스테이지와;
    서로 상이한 패턴이 형성된 마스크들이 장착되는 마스크 스테이지와;
    상기 마스크들 중 공정 위치에 위치된 마스크로 광을 조사하는 광원 부재와; 그리고
    상기 마스크를 통과한 광을 상기 기판으로 투영하는 투영 렌즈를 포함하되,
    상기 마스크 스테이지는,
    마스크가 안착되는 지지면을 복수개 구비하는 제 1 블록과; 그리고
    상기 지지면들에 안착된 마스크들 중 공정에 사용하고자 하는 마스크가 상기 공정 위치로 이동되도록 상기 제 1 블록의 위치를 변경하는 마스크 교체 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 제 1 블록은 내부에 공간이 제공된 통 형상을 가지며, 상기 지지면들은 상기 제 1 블록의 측면에 제공되고,
    상기 마스크 교체 유닛은 상기 제 1 블록을 회전시키는 회전 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 지지면들은 상기 제 1 블록의 내측면에 상기 제 1 블록의 중심축을 감싸도록 배치되고,
    상기 마스크의 패턴이 기판으로 전사되는 통로를 제공하기 위해 각각의 상기 지지면에는 상기 제 1 블록을 관통하는 제 1 개구들이 형성되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  4. 제 3항에 있어서,
    상기 마스크 스테이지는 공정 진행 중 상기 제 1 블록을 직선 이동시키는 마스크 이동 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 마스크 이동 유닛은,
    상기 제 1 블록을 삽입하는 공간이 제공된 통 형상의 몸체를 가지며, 그리고 상기 공정 위치로 이동된 마스크의 패턴이 기판으로 전사되는 통로를 제공하는 제 2 개구가 형성된 제 2 블록과;
    상기 제 2 블록을 지지하는 지지 블록과;
    상기 제 2 블록이 상기 지지 블록을 따라 직선 이동되도록 구동력을 제공하는 제 2 블록 구동기와; 그리고
    상기 제 1 블록을 상기 제 2 블록과 함께 이동시키고, 상기 제 2 블록에 대한 상기 제 1 블록의 상대 위치를 변화시켜 상기 제 1 블록의 위치를 보정하는 제 1 블록 구동기를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  6. 제 5항에 있어서,
    상기 제 2 블록 구동기는,
    상기 제 2 블록에 고정 설치되는 제 1 이동용 자성 부재와;
    상기 지지 블록에 고정 설치되는 제 2 이동용 자성 부재와; 그리고
    상기 제 1 이동용 자성 부재와 상기 제 2 이동용 자성 부재 간의 자력에 의해 상기 제 2 블록이 상기 지지 블록에 대해 직선 이동되도록 상기 제 1 이동용 자성 부재 또는 상기 제 2 이동용 자성 부재로 인가되는 전류를 제어하는 제 1 제어기를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  7. 제 5항에 있어서,
    상기 지지 블록 또는 상기 제 2 블록에는 상기 지지 블록에 대해 상기 제 2 블록을 부상시키는 가스가 공급되는 가스 공급홀이 형성된 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  8. 제 6항에 있어서,
    상기 제 1 블록 구동기는,
    상기 제 1 블록의 이동 상태를 감지하는 이동 감지 센서와;
    상기 제 1 개구들 사이에 각각 위치되며 상기 제 1 블록에 고정 설치된 제 1 보정용 자성 부재들과;
    상기 공정 위치에 위치된 마스크의 양측에 위치된 제 1 보정용 자성 부재들과 대향되도록 상기 제 2 블록에 고정 설치되는 제 2 보정용 자성 부재들과; 그리고
    상기 이동 감지 센서로부터 감지된 신호를 전송받고, 상기 제 1 보정용 자성 부재와 상기 제 2 보정용 자성 부재 간의 자력에 의해 상기 제 1 블록이 상기 제 2 블록과 함께 이동되고 상기 제 2 블록에 대한 상대위치가 변화가능하도록 상기 제 1 보정용 자성 부재 또는 상기 제 2 보정용 자성 부재로 인가되는 전류를 제어하는 제 2 제어기를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  9. 제 8항에 있어서,
    상기 제 1 블록 또는 상기 제 2 블록에는 상기 제 1 블록을 상기 제 2 블록에 대해 부상시키는 가스가 공급되는 가스 공급홀이 형성된 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  10. 제 5항에 있어서,
    상기 회전 유닛은 상기 제 1 블록에 고정설치되는 제 1 회전용 자성 부재와 상기 제 2 블록에 고정설치되는 제 2 회전용 자성 부재를 가지고,
    상기 노광 장치는 상기 제 1 회전용 자성 부재와 상기 제 2 회전용 자성 부재 간의 자력에 의해 상기 제 1 블록이 회전되도록 상기 제 1 회전용 자성 부재 또는 상기 제 2 회전용 자성 부재로 인가되는 전류를 제어하는 제 3 제어기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  11. 제 5항에 있어서,
    상기 마스크 스테이지는 상기 제 1 블록의 회전 위치를 감지하는 회전 감지 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  12. 제 11항에 있어서,
    상기 감지 부재는,
    상기 제 1 블록 또는 상기 제 2 블록 중 어느 하나에 링 형상으로 배치된 스케일부와;
    상기 제 1 블록 또는 상기 제 2 블록 중 다른 하나에 고정설치되며 상기 스케일부에 제공된 눈금들을 감지하는 센서를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  13. 제 1 항 내지 제 12항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판 스테이지는 공정 진행시 기판이 세워진 상태로 고정되도록 배치되고, 상기 투영 렌즈와 상기 마스크 스테이지는 측방향으로 나란히 배치되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  14. 서로 상이한 패턴이 형성된 마스크들을 동시에 지지할 수 있도록 상기 마스크가 놓여지는 지지면들을 복수개 가지는 제 1 블록과;
    상기 마스크들 중 공정에 사용되는 마스크가 공정 위치로 이동되도록 상기 제 1 블록을 직선 이동 또는 회전 이동시키는 마스크 교체 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 스테이지.
  15. 제 14항에 있어서,
    상기 제 1 블록은 통 형상을 가지며, 상기 지지면들은 상기 제 1 블록의 측면에 제공되고,
    상기 마스크 교체 유닛은 상기 제 1 블록을 회전시키는 회전 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 스테이지.
  16. 제 15항에 있어서,
    상기 제 1 블록은 중앙에 공간이 형성되며, 상기 지지면들은 상기 제 1 블록의 내측면에 제공되는 것을 특징으로 하는 마스크 스테이지.
  17. 제 15항에 있어서,
    상기 마스크 스테이지는 상기 제 1 블록의 회전 위치를 감지하는 회전 감지 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 스테이지.
  18. 제 15항에 있어서,
    상기 마스크 스테이지는 공정 진행 중 상기 제 1 블록을 직선 이동시키는 마스크 이동 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 스테이지.
  19. 제 18항에 있어서,
    상기 마스크 이동 유닛은,
    상기 제 1 블록을 삽입하는 공간이 제공된 통 형상의 몸체를 가지며, 그리고 상기 공정 위치로 이동된 마스크의 패턴이 기판으로 전사되는 통로를 제공하는 제 2 개구가 형성된 제 2 블록과;
    상기 제 2 블록을 지지하는 지지 블록과;
    상기 제 2 블록이 상기 지지 블록을 따라 직선 이동되도록 구동력을 제공하는 제 2 블록 구동기와; 그리고
    상기 제 1 블록을 상기 제 2 블록과 함께 이동시키고, 상기 제 2 블록에 대한 상기 제 1 블록의 상대 위치를 변화시켜 상기 제 1 블록의 위치를 보정하는 제 1 블록 구동기를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 스테이지.
  20. 제 19항에 있어서,
    상기 지지 블록 또는 상기 제 2 블록에는 상기 제 2 블록을 상기 지지 블록에 대해 부상시키는 가스가 공급되는 제 1 가스 공급홀이 형성되며, 상기 제 1 블록 또는 상기 제 2 블록에는 상기 제 1 블록을 상기 제 2 블록에 대해 부상시키는 가스가 공급되는 제 2 가스 공급홀이 형성되고,
    상기 지지면들은 상기 제 1 블록의 내측면에 상기 제 1 블록의 중심축을 감싸도록 배치되고, 상기 마스크의 패턴이 기판으로 전사되는 통로를 제공하기 위해 각각의 상기 지지면에는 상기 제 1 블록을 관통하는 제 1 개구들이 형성되며,
    상기 제 2 블록 구동기는,
    상기 제 1 블록에 고정 설치되는 제 1 이동용 자성 부재와;
    상기 제 2 블록에 고정 설치되는 제 2 이동용 자성 부재와; 그리고
    상기 제 1 이동용 자성 부재와 상기 제 2 이동용 자성 부재 간의 자력에 의해 상기 제 1 블록이 상기 제 2 블록에 대해 직선 이동되도록 상기 제 1 이동용 자성 부재 또는 상기 제 2 이동용 자성 부재로 인가되는 전류를 제어하는 제 1 제어기를 포함하고,
    상기 제 1 블록 구동기는,
    상기 제 1 블록의 이동 상태를 감지하는 이동 감지 센서와;
    상기 제 1 개구들 사이에 각각 위치되며 상기 제 1 블록에 고정 설치된 제 1 보정용 자성 부재들과;
    상기 공정 위치에 위치된 마스크의 양측에 위치된 제 1 보정용 자성 부재들과 대향되도록 상기 제 2 블록에 고정 설치되는 제 2 보정용 자성 부재들과; 그리고
    상기 이동 감지 센서로부터 감지된 신호를 전송받고, 상기 제 1 보정용 자성 부재와 상기 제 2 보정용 자성 부재 간의 자력에 의해 상기 제 1 블록이 상기 제 2 블록과 함께 이동되고 상기 제 2 블록에 대한 상대위치가 변화가능하도록 상기 제 1 보정용 자성 부재 또는 상기 제 2 보정용 자성 부재로 인가되는 전류를 제어하는 제 2 제어기를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 스테이지.
  21. 공정 위치에 위치된 마스크로 광을 조사하여 상기 마스크에 형성된 패턴을 기판으로 전사함으로써 노광 공정을 수행하되, 마스크의 교체는 복수개의 마스크들을 마스크 스테이지에 장착한 후, 상기 마스크 스테이지의 위치를 변화시켜 이루어지는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  22. 제 21항에 있어서,
    상기 마스크들은 통 형상으로 제공된 제 1 블록의 측면을 따라 고정되도록 배치되며, 상기 마스크 스테이지의 위치 변화는 상기 제 1 블록의 회전에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  23. 제 22항에 있어서,
    공정 진행시 상기 마스크를 직선 이동하여 스캔 방식에 의해 노광 공정을 수행하되, 상기 마스크의 직선 이동은 자력에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  24. 제 23항에 있어서,
    상기 제 1 블록은 통 형상의 제 2 블록 내 공간에 위치되고, 상기 제 2 블록은 자력에 의해 지지블록을 따라 직선 이동되며, 상기 제 1 블록은 자력에 의해 상기 제 2 블록과 함께 이동되며, 상기 제 1 블록이 상기 제 2 블록과 함께 이동되는 동안 상기 제 2 블록에 대한 상기 제 1 블록의 상대 위치가 변화되어 상기 제 1 블록의 위치가 보정되는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  25. 제 24항에 있어서,
    공정 진행시 상기 제 2 블록은 가스에 의해 상기 지지블록으로부터 부상되고, 공정 진행시 상기 제 1 블록은 가스에 의해 상기 제 2 블록으로부터 부상되는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
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