KR100780734B1 - Method menufacturing thermoelectric module unit - Google Patents

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KR100780734B1
KR100780734B1 KR1020070055587A KR20070055587A KR100780734B1 KR 100780734 B1 KR100780734 B1 KR 100780734B1 KR 1020070055587 A KR1020070055587 A KR 1020070055587A KR 20070055587 A KR20070055587 A KR 20070055587A KR 100780734 B1 KR100780734 B1 KR 100780734B1
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Abstract

A method for manufacturing a thermoelectric semiconductor device is provided to remove dew condensation around the thermoelectric semiconductor device by heating a receiving room of a housing in which the thermoelectric semiconductor device is received. A heat release surface of the thermoelectric semiconductor device is press-attached to one side of a heat sink(S1). A first adhesive is applied on one of an endothermic surface and an adhesive surface of a cool block of the thermoelectric semiconductor device, and then the cool block is mounted on the endothermic surface(S2). The heat sink and a contact surface of a housing are attached by a second adhesive(S3). The housing and the heat sink are press-fixed(S4). The second adhesive is gap-filled into a gap formed between a receiving room of the housing and the cool block to attach the housing to the cool block(S5). The resultant assembly is heated and dried in a dry chamber(S6). The dried assembly is naturally cooled(S7).

Description

열전반도체소자 유니트 제조방법{Method menufacturing thermoelectric module unit}Thermoelectric semiconductor device unit manufacturing method {Method menufacturing thermoelectric module unit}

도 1은 종래 열전반도체소자 유니트의 정면도1 is a front view of a conventional thermoelectric semiconductor device unit

도 2는 본 발명에 의해 제조된 열전반도체소자 유니트의 사시도Figure 2 is a perspective view of a thermoelectric semiconductor device unit manufactured by the present invention

도 3은 본 발명에 따른 히트싱크에 열전반도체소자가 고착된 상태의 단면도3 is a cross-sectional view of a state in which a thermoelectric semiconductor device is fixed to a heat sink according to the present invention.

도 4는 도 3의 열전반도체소자에 쿨블록이 탑재된 상태의 도면4 is a diagram in which a cool block is mounted on the thermoelectric semiconductor device of FIG. 3;

도 5는 본 발명에 따른 히트싱크에 하우징이 접착된 상태의 단면도Figure 5 is a cross-sectional view of the housing is bonded to the heat sink according to the present invention

도 6은 도 5의 원내부를 확대한 상세도FIG. 6 is an enlarged detailed view of the inner part of FIG. 5; FIG.

도 7은 본 발명에 따른 하우징의 너트가 인서트된 상태를 보인 확대 단면도Figure 7 is an enlarged cross-sectional view showing a state in which the nut of the housing according to the invention is inserted

도 8은 본 발명에 따른 히트싱크와 하우징의 가압 고정상태를 보인 확대 단면도8 is an enlarged cross-sectional view showing a pressure-fixed state of the heat sink and the housing according to the present invention.

도 9는 본 발명에 따른 제2접착제가 하우징과 쿨블록 사이에 충진된 상태의 단면도9 is a cross-sectional view of the second adhesive is filled between the housing and the cool block in accordance with the present invention;

도 10은 도 9의 원내부를 확대하여 하우징과 쿨블록 조립상태를 보인 상세도FIG. 10 is a detailed view showing a housing and a cool block assembled state by expanding the inner part of FIG. 9; FIG.

도 11은 본 발명에 따른 하우징과 쿨블록의 다른 조립상태를 보인 상세도11 is a detailed view showing another assembly state of the housing and the cool block according to the present invention;

도 12는 본 발명에 따른 하우징의 평면도12 is a plan view of a housing according to the invention.

도 13은 본 발명에 따른 열전반도체소자 유니트 제조방법 순서도13 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a thermoelectric semiconductor device unit according to the present invention.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

10 : 유니트 11 : 히트싱크10: unit 11: heat sink

12 : 열전반도체소자 13 : 쿨블록12: thermoelectric semiconductor element 13: cool block

14 : 하우징 15 : 제1접착제14 housing 15 first adhesive

16 : 제2접착제 17 : 너트 16 second adhesive 17 nut

본 발명은 열전반도체소자가 수납된 하우징의 수납실을 가열하여 공기를 증발시켜 수납실 내부를 진공상태로 만듦으로써 종래의 문제점인 온도변화에 따라 수분의 응결로 열전반도체소자 주변에 이슬 맺힘 현상이 발생되는 것을 제거할 수 있을 뿐만 아니라 진공으로 인하여 열전소자 주변에 냉,온공기가 공존하는 현상을 원천적으로 차단하여 냉각성능을 높이고, 열전반도체소자의 두께에 상관없이 쿨블록을 간편하게 조립할 수 있는 열전반도체소자 유니트 제조방법에 관한 것이다.According to the present invention, dew condensation occurs around a thermoelectric semiconductor element due to condensation of moisture according to a temperature change, which is a conventional problem by heating a storage chamber of a housing in which a thermoelectric semiconductor element is stored and evaporating air to make the interior of the chamber into a vacuum state. Not only can it eliminate the occurrence of heat, but also prevents the cold and hot air coexisting around the thermoelectric element due to the vacuum to increase the cooling performance, thermoelectric that can be easily assembled cool block regardless of the thickness of the thermoelectric semiconductor element A method for manufacturing a semiconductor device unit.

열전반도체소자는 냉매를 순환시키기 위해 압축기를 가동시키는 기존의 냉각방식을 탈피한 차세대 환경친화적인 냉각방식으로서, 세라믹 재질로 이루어진 박판의 몸체 양측면이 전극전환을 통해 간단하게 냉각과 가열을 동시에 수행하여 상온 의 대상물을 -30∼+180C 까지 일정하게 유지하는 기능을 하게 된다.The thermoelectric semiconductor device is a next-generation environmentally friendly cooling method that breaks the existing cooling method that operates a compressor to circulate the refrigerant. Both sides of the body of the thin plate made of ceramic material can be simultaneously cooled and heated by switching electrodes. It keeps the object at room temperature constant from -30 ~ + 180C.

도 1은 상기 열전반도체소자를 이용한 종래의 열전반도체소자 유니트(1)를 보인 것이다. 열전반도체소자(2)의 방열면에는 히트싱크(3)가 밀착고정되어 넓은 면적으로 방열을 수행하고, 흡열면에는 쿨블록(4)이 밀착고정되어 열전반도체소자(2)에서 발생된 저온의 열을 외부로 전달하게 된다. 상기 히트싱크(3)와 쿨블록(4) 외측에는 송풍팬(미도시)이 부착되어 방열 및 냉각효율을 높이게 된다. 1 shows a conventional thermoelectric semiconductor device unit 1 using the thermoelectric semiconductor device. The heat sink 3 is tightly fixed to the heat dissipating surface of the thermoelectric semiconductor element 2 to perform heat dissipation in a large area, and the cool block 4 is tightly fixed to the heat absorbing surface, so that the low temperature generated in the thermoelectric semiconductor element 2 Heat is transferred to the outside. Blowing fans (not shown) are attached to the outside of the heat sink 3 and the cool block 4 to increase heat dissipation and cooling efficiency.

그런데, 종래의 유니트(1)는 열전반도체소자(2) 양측에 위치한 히트싱크(3)와 쿨블록(4)을 스크류(5)나 보울트 등으로 체결하여 열전반도체소자(2)의 측면에 밀착고정하였기 때문에 열전반도체소자(2)는 공기에 노출된 상태로 사용되었다.However, in the conventional unit 1, the heat sink 3 and the cool block 4 located on both sides of the thermoelectric semiconductor element 2 are fastened with screws 5 or bolts to closely adhere to the side surfaces of the thermoelectric semiconductor element 2. Since it was fixed, the thermoelectric semiconductor element 2 was used while being exposed to air.

이와 같이 열전반도체소자(2)가 공기에 노출되면, 양측면의 온도차가 심하고 두께가 얇기 때문에 그 주변에 냉,온공기가 공존하여 저온측 표면에 수증기가 응결되어 이슬 맺힘현상이 발생하였다. 이러한 이슬맺힘 현상은 열교환기능을 저하시켜 냉각효율을 낮출 뿐만 아니라 장기적으로 유니트의 수명을 단축시키는 결과를 초래하였다.When the thermoelectric semiconductor element 2 is exposed to air as described above, since the temperature difference between both sides is severe and the thickness is thin, cold and hot air coexist around the water vapor and condensation occurs due to water vapor condensation on the low temperature side surface. This dew condensation not only lowers the heat exchange function, but also lowers the cooling efficiency, resulting in a shorter life of the unit.

뿐만 아니라, 유니트(1)의 핵심인 열전반도체소자(2)가 외부에 노출되어 있기 때문에 물리적인 충격이 가해지면 열전반도체소자(2)가 쉽게 손상되었으며, 유니트(1)를 조립하기 위해 스크류를 체결할 때 적정 토크(0.02kg-m/Bolt/cm) 이상으 로 체결하면 열전반도체소자(2)가 파손되는 문제가 있었다. In addition, since the thermoelectric semiconductor element 2, which is the core of the unit 1, is exposed to the outside, when the physical shock is applied, the thermoelectric semiconductor element 2 is easily damaged, and the screw is assembled to assemble the unit 1. When tightening at a proper torque (0.02kg-m / Bolt / cm) or more when tightening there was a problem that the thermoelectric semiconductor device (2) is broken.

이러한 문제점을 해결하기 위해 열전반도체소자를 밀폐형으로 조립하는 장치(출원번호:10-1998-31550)가 출원되었다. 이 장치는 케이스(9) 내부에 열전반도체소자(4)를 수납한 후 케이스(9)와 방열판(2)의 접면부에 오링(6)과 라바(7)를 설치하여 밀폐시켰으며, 케이스(9)와 냉열판(1) 사이는 접착제(14a)를 발라 밀폐시키는 구조였다.In order to solve this problem, an apparatus (application number: 10-1998-31550) for assembling a thermoelectric semiconductor element in a closed type has been filed. The device was housed in the case (9), and then sealed by installing an O-ring (6) and a lava (7) in the contact portion of the case (9) and the heat sink (2). Between 9) and the cooling plate 1, it was a structure which seals by apply | coating the adhesive agent 14a.

그러나, 이러한 종래 밀폐형 유니트는 케이스(9)와 방열판(2)을 오링(6)과 라바(7)로 밀폐시키는 구조이기 때문에 내부가 진공상태가 되지 않기 때문에 수분이 내부에 존재하여 근본적으로 종래의 문제점인 이슬 맺힘 현상을 해결하지 못하였다. However, the conventional hermetic unit has a structure in which the case 9 and the heat sink 2 are sealed with the O-ring 6 and the lava 7, so that the interior does not become a vacuum state, so that moisture is present in the interior, and thus the conventional Dew condensation could not be solved.

그리고 상기 유니트는 오링(6)과 라바(7)로 밀폐시키는 구조이기 때문에 구조가 복잡할 뿐만 아니라 케이스(9)와 방열판(2)의 표면 거칠기가 매끈하지 않을 경우 내부로 공기가 유입되는 문제가 있었다. In addition, the unit is not only complicated in structure because the unit is sealed by the O-ring 6 and the lava 7, but also when the surface roughness of the case 9 and the heat sink 2 is not smooth, air is introduced into the unit. there was.

또한, 오링(6)과 라바(7)가 케이스(9)와 방열판(2)에 긴밀하게 접촉하기 위해서는 스크류 등으로 케이스(9)와 방열판(2)을 체결해야 하는데 체결력이 약할 경우에도 공기가 내부로 유입되는 문제가 있어 결국 실용화되지 못하였다.In addition, in order for the O-ring 6 and the lava 7 to be in close contact with the case 9 and the heat sink 2, the case 9 and the heat sink 2 must be fastened with a screw or the like. There was a problem flowing into the interior was not practical in the end.

이에, 본 발명은 상술한 바와 같은 종래 열전반도체소자 유니트의 제반 문제 점을 해결하기 위한 것으로, 그 목적은 열전반도체소자가 수납된 하우징의 수납실을 가열하여 공기를 증발시켜 수납실 내부를 진공상태로 만듦으로써 종래의 문제점인 온도변화에 따라 수분의 응결로 열전반도체소자 주변에 이슬 맺힘 현상이 발생되는 것을 제거할 수 있는 열전소자 유니트 제조방법을 제공함에 있다.Accordingly, the present invention is to solve all the problems of the conventional thermoelectric semiconductor device unit as described above, the purpose is to heat the storage chamber of the housing in which the thermoelectric semiconductor device is housed to evaporate the air to vacuum the inside of the storage chamber The present invention provides a method of manufacturing a thermoelectric device unit capable of eliminating dew condensation phenomenon around a thermoelectric semiconductor device due to condensation of moisture according to a temperature change, which is a conventional problem.

본 발명의 다른 목적은 수납실을 진공상태로 만들어 열전소자 주변에 냉,온공기가 공존하는 현상을 원천적으로 차단하여 냉각성능을 높일 수 있는 열전소자 유니트 제조방법을 제공함에 있다.Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a thermoelectric element unit which can increase the cooling performance by blocking the phenomenon in which cold and hot air coexist around the thermoelectric element by making the storage chamber in a vacuum state.

본 발명의 또 다른 목적은 열전반도체소자의 두께에 상관없이 쿨블록을 간편하게 조립할 수 있는 열전반도체소자 유니트 제조방법을 제공함에 있다.Still another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a thermoelectric semiconductor device unit, which can easily assemble a cool block regardless of the thickness of the thermoelectric semiconductor device.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 열전소자 유니트 제조방법은, 히트싱크 일측면에 열전반도체소자의 방열면을 제1접착제로 가압 접착하여 고착시키는 단계;According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a thermoelectric device, the method comprising: attaching a heat dissipating surface of a thermoelectric semiconductor element to one side of a heat sink with a first adhesive and fixing the first surface;

상기 열전반도체소자의 흡열면과 이에 접착되는 쿨블록의 접착면 중 적어도 어느 일측면에 제1접착제를 도포한 후, 이들이 접착하여 고정될 수 있도록 상기 흡열면에 쿨블록을 탑재하는 단계;Applying a first adhesive to at least one side of an endothermic surface of the thermoelectric semiconductor element and an adhesive surface of a cool block adhered thereto, and then mounting a cool block on the endothermic surface so that they are adhered and fixed;

상기 열전반도체소자 및 쿨블록을 하우징의 수납실에 수용하여 고정할 수 있도록 히트싱크와 하우징의 접면부를 제2접착제로 접착하는 단계;Bonding a contact portion of the heat sink and the housing with a second adhesive to accommodate and fix the thermoelectric semiconductor element and the cool block in the storage compartment of the housing;

하우징에 돌출된 스톱퍼가 쿨블록의 단턱을 눌러 열전반도체소자의 흡열면에 탑재된 쿨블록을 상기 흡열면에 고착시킬 수 있도록 상기 하우징과 히트싱크를 가압 고정하는 단계;Pressing and fixing the housing and the heat sink so that the stopper protruding from the housing presses the step of the cool block to fix the cool block mounted on the heat absorbing surface of the thermoelectric semiconductor element to the heat absorbing surface;

상기 하우징의 수납실과 쿨블록 사이에 형성된 틈 사이로 제2접착제를 충진시켜 하우징과 쿨블록을 접착하는 단계;Bonding a housing and a cool block by filling a second adhesive between a gap formed between the storage compartment and the cool block of the housing;

상기 조립공정을 거친 유니트 형태의 어셈블리를 건조실에 넣고 가열 건조시켜 히트싱크와 하우징 및 하우징과 쿨블록을 접착한 각각의 제2접착제를 건조시키되, 히트싱크와 쿨블록의 열전달에 의해 하우징의 수납실에 저장된 공기가 가열되어 하우징과 쿨블록 사이에 충진된 제2접착제를 통과하여 증발토록 하고 증발 후에는 상기 제2접착제가 폐쇄된 상태로 경화되어 수납실 내부가 진공상태가 되게 건조하는 단계; 및Put the assembly of the unit form through the assembly process into a drying chamber and heat-dry to dry each of the second adhesive to which the heat sink and the housing and the housing and the cool block are adhered, and the heat sink and the cool block heat transfer to the storage compartment of the housing. Heating the air stored therein to pass through a second adhesive filled between the housing and the cool block to evaporate, and after evaporating, curing the second adhesive in a closed state to dry the interior of the storage chamber in a vacuum state; And

상기 건조된 유니트 형태의 어셈블리를 자연냉각시키는 단계;를 포함하는 것이 특징이다.And naturally cooling the assembly in the form of the dried unit.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 열전반도체소자 유니트 제조방법을 상세히 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a thermoelectric semiconductor device unit according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명에 의해 제조된 열전반도체소자 유니트의 사시도이고, 도 3은 본 발명에 따른 히트싱크에 열전반도체소자가 고착된 상태의 단면도이고, 도 4는 도 3의 열전반도체소자에 쿨블록이 탑재된 상태의 도면이며, 도 5는 본 발명에 따른 히트싱크에 하우징이 접착된 상태의 단면도이다. 도 8은 본 발명에 따른 히트싱크와 하우징의 가압 고정상태를 보인 확대 단면도이고, 도 9는 본 발명에 따른 제2접착제가 하우징과 쿨블록 사이에 충진된 상태의 단면도이며, 도 10은 도 9의 원내부를 확대하여 하우징과 쿨블록 조립상태를 보인 상세도이다. 도 11은 본 발명에 따른 하우징과 쿨블록의 다른 조립상태를 보인 상세도이고, 도 12는 본 발명에 따른 하우징의 평면도이며, 도 13은 본 발명에 따른 열전반도체소자 유니트 제조방법 순서도이다.Figure 2 is a perspective view of a thermoelectric semiconductor device unit manufactured by the present invention, Figure 3 is a cross-sectional view of the thermoelectric semiconductor device is fixed to the heat sink according to the present invention, Figure 4 is a cool block in the thermoelectric semiconductor device of Figure 3 FIG. 5 is a cross-sectional view of a state in which a housing is attached to a heat sink according to the present invention. 8 is an enlarged cross-sectional view illustrating a pressure-fixed state of the heat sink and the housing according to the present invention, FIG. 9 is a cross-sectional view of a second adhesive agent filled between the housing and the cool block according to the present invention, and FIG. This is a detailed view showing the assembly state of the housing and the cool block by expanding the inner circle. 11 is a detailed view showing another assembly state of the housing and the cool block according to the present invention, FIG. 12 is a plan view of the housing according to the present invention, and FIG. 13 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a thermoelectric semiconductor device unit according to the present invention.

상기 도면에서와 같이 본 발명에 따른 열전반도체소자 유니트(10) 제조방법은, 히트싱크(11) 일측면에 열전반도체소자(12)의 방열면을 제1접착제(15)로 가압 접착하여 고착시키는 단계(S1);In the method of manufacturing the thermoelectric semiconductor device unit 10 according to the present invention, as shown in the drawings, the heat dissipating surface of the thermoelectric semiconductor device 12 is pressed onto the one side of the heat sink 11 with the first adhesive 15 to be fixed. Step S1;

상기 열전반도체소자(12)의 흡열면과 이에 접착되는 쿨블록(13)의 접착면 중 적어도 어느 일측면에 제1접착제(15)를 도포한 후, 이들이 접착하여 고정될 수 있도록 상기 흡열면에 쿨블록(13)을 탑재하는 단계(S2);After applying the first adhesive 15 to at least one side of the heat absorbing surface of the thermoelectric semiconductor element 12 and the adhesive surface of the cool block 13 adhered thereto, and then to the heat absorbing surface so that they can be bonded and fixed Mounting a cool block 13 (S2);

상기 열전반도체소자(12) 및 쿨블록(13)을 하우징(14)의 수납실(14a)에 수용하여 고정할 수 있도록 히트싱크(11)와 하우징(14)의 접면부를 제2접착제(16)로 접착하는 단계(S3);The contact portion of the heat sink 11 and the housing 14 to receive and fix the thermoelectric semiconductor element 12 and the cool block 13 in the storage chamber 14a of the housing 14 may include a second adhesive 16. Step S3);

하우징(14)에 돌출된 스톱퍼(14b)가 쿨블록(13)의 단턱(13a)을 눌러 열전반도체소자(12)의 흡열면에 탑재된 쿨블록(13)을 상기 흡열면에 고착시킬 수 있도록 상기 하우징(14)과 히트싱크(11)를 가압 고정하는 단계(S4);The stopper 14b protruding from the housing 14 presses the step 13a of the cool block 13 to fix the cool block 13 mounted on the heat absorbing surface of the thermoelectric semiconductor element 12 to the heat absorbing surface. Pressing and fixing the housing (14) and the heat sink (11);

상기 하우징(14)의 수납실(14a)과 쿨블록(13) 사이에 형성된 틈(C) 사이로 제2접착제(16)를 충진시켜 하우징(14)과 쿨블록(13)을 접착하는 단계(S5);Bonding the housing 14 and the cool block 13 by filling the second adhesive 16 between the gaps C formed between the storage chamber 14a of the housing 14 and the cool block 13 (S5). );

상기 조립공정을 거친 유니트 형태의 어셈블리를 건조실에 넣고 가열하여 히트싱크(11)와 하우징(14) 및 하우징(14)과 쿨블록(13)을 접착한 각각의 제2접착제(16)를 건조시키되, 히트싱크(11)와 쿨블록(13)의 열전달에 의해 하우징(14)의 수납실(14a)에 저장된 공기가 가열되어 하우징(14)과 쿨블록(13) 사이에 충진된 제2접착제(16)를 통과하여 증발토록 하고 증발 후에는 상기 제2접착제(16)가 폐쇄된 상태로 경화되어 수납실(14a) 내부가 진공상태가 되게 건조하는 단계(S6); 및The assembly in the form of a unit that has undergone the assembly process is put into a drying chamber and heated to dry each of the second adhesives 16 to which the heat sink 11, the housing 14, and the housing 14 and the cool block 13 are bonded. The second adhesive is filled between the housing 14 and the cool block 13 by heating the air stored in the storage compartment 14a of the housing 14 by heat transfer between the heat sink 11 and the cool block 13. 16 to allow the evaporation to pass through, and after evaporation, the second adhesive 16 is cured in a closed state to dry the interior of the storage chamber 14a in a vacuum state (S6); And

상기 건조된 유니트 형태의 어셈블리를 자연냉각시키는 단계(S7);를 포함한다.And naturally cooling the assembly in the form of the dried unit (S7).

상기 히트싱크(11)와 열전반도체소자(12)를 고착하는 단계(S1)는 도 3과 같이 히트싱크(11) 일측면에 열전반도체소자(12)의 방열면을 제1접착제(15)로 접착한 후 제1접착제(15)가 완전히 경화되게 하여 고착시키는 공정이다. In the fixing of the heat sink 11 and the thermoelectric semiconductor element 12 (S1), as shown in FIG. 3, the heat dissipation surface of the thermoelectric semiconductor element 12 on one side of the heat sink 11 may be the first adhesive 15. After bonding, the first adhesive 15 is completely cured and fixed.

상기 제1접착제(15)는 실제 실시예에서 열전도율이 좋은 이액형 열전도 구리스(모델명 : G-747)를 사용하였으며, 열전도는 0.85Watt/mk∼1.09Watt/mk 정도로 일액형 구리스보다 열전도가 더 좋은 것으로 알려져 있다. 상기 이액형 열전도 구리스를 히트싱크(11)와 열전반도체소자(12)의 일측면 또는 양측면에 0.1∼0.5mm 도포한 후 이들을 접착시킨 후 집게와 같은 가압수단으로 히트싱크(11)와 열전반도체소자(12)를 서로 밀착시킨 다음 60∼100℃의 건조실에서 약 1∼3시간 건조하여 제1접착제(15)를 경화시켜 히트싱크(11)와 열전반도체소자(12)를 고착시켰다. The first adhesive 15 used a two-component thermal conductive grease (model name: G-747) having good thermal conductivity in an embodiment, and the thermal conductivity of 0.85 Watt / mk to 1.09 Watt / mk is better than that of the one-component grease. It is known. Applying the two-component thermal conductive grease 0.1 to 0.5mm on one side or both sides of the heat sink 11 and the heat conducting semiconductor element 12, and after adhering them, the heat sink 11 and the heat conducting semiconductor element by pressing means such as forceps. (12) was brought into close contact with each other, and then dried in a drying chamber at 60 to 100 ° C. for about 1 to 3 hours to cure the first adhesive 15 to fix the heat sink 11 and the thermoelectric semiconductor element 12.

실제 실시예에서는 이액형 열전도 구리스를 히트싱크(11)와 열전반도체소자(12) 각 측면에 0.1mm 도포한 후 80℃에서 2시간 동안 건조하였더니 이액형 열전도 구리스가 완전히 경화되었다. In a practical example, the two-part thermal conductive grease was applied to each side of the heat sink 11 and the thermal semiconductor element 12 at 0.1 mm, and then dried at 80 ° C. for 2 hours to completely cure the two-part thermal conductive grease.

상기 제1접착제(15)는 열전반도체소자(12)에서 발생하는 열을 히트싱크(11)에 전달하여 방열효과를 높일 수 있도록 하기 위한 것으로 접착력이 우수하고 열전도율이 높을수록 좋다. 상기 제1접착제(15)는 히트싱크(11)와 하우징(14)의 접착면에 발생하는 표면 거칠기, 즉 흠집을 메워 양측 접착면이 밀접하게 면접촉되게 하여 열전달 효율을 높이게 된다. The first adhesive 15 is to improve heat dissipation effect by transferring heat generated from the thermoelectric semiconductor element 12 to the heat sink 11. The better the adhesive strength and the higher the thermal conductivity, the better. The first adhesive 15 fills surface roughness, ie, scratches, generated on the adhesive surfaces of the heat sink 11 and the housing 14, so that both adhesive surfaces are in intimate surface contact, thereby improving heat transfer efficiency.

상기 쿨블록 탑재단계(S2)는 쿨블록(13)을 열전반도체소자(12)의 흡열면에 고착시키기 전 단계로, 후술하는 하우징(14)의 스톱퍼(14b)가 쿨블록(13)의 단턱(13a)을 누를 때 고착되게 하는 것이다.The cool block mounting step (S2) is a step before the cool block 13 is fixed to the heat absorbing surface of the thermoelectric semiconductor element 12. The stopper 14b of the housing 14, which will be described later, is a step of the cool block 13. It is to be fixed when (13a) is pressed.

따라서, 열전반도체소자(12)의 흡열면과 이에 접착되는 쿨블록(13)의 접착면 중 적어도 어느 일측면에 제1접착제(15)를 도포한다. 실제 실시예에서 제1접착제(15)는 이미 언급한 이액형 열전도 구리스를 사용하였고 이를 열전반도체소자(12)와 쿨블록(13) 각 측면에 0.1mm 도포한 후 이들이 접착될 수 있도록 열전반도체소자(12) 흡열면에 쿨블록(13)을 탑재하였다.Accordingly, the first adhesive 15 is applied to at least one side of the heat absorbing surface of the thermoelectric semiconductor element 12 and the adhesive surface of the cool block 13 adhered thereto. In a practical embodiment, the first adhesive 15 uses the aforementioned two-component thermal conductive grease, and is coated with 0.1 mm on each side of the thermoconductor element 12 and the cool block 13 so that they can be bonded. (12) The cool block 13 was mounted on the heat absorbing surface.

상기 히트싱크(11)와 하우징(14) 접착단계(S3)는 수납실(14a)을 갖는 하우징(14)을 히트싱크(11)에 고착시켜 진공상태의 수납실(14a)에 열전반도체소자(12)를 수납하기 위한 전 공정이다.The heat sink 11 and the housing 14 are attached to the heat sink 11 by attaching the housing 14 having the storage chamber 14a to the heat sink 11. 12) is the entire process for storing.

이를 위해, 하우징(14) 내부 수납실(14a)에 열전반도체소자(12) 및 쿨블록(13)을 수용하여 고정할 수 있도록 하우징(14)을 히트싱크(11)에 접착 고정시킨다. 상기 하우징(14)의 접착면과 히트싱크(11)의 접착면 중 어느 일측면 또는 양측면에 제2접착제(16)를 도포한다. 바람직하게는 양측면에 제2접착제(16)를 도포하는 것이 좋다.To this end, the housing 14 is adhesively fixed to the heat sink 11 so as to accommodate and fix the thermoelectric semiconductor element 12 and the cool block 13 in the inner storage chamber 14a of the housing 14. The second adhesive 16 is applied to any one side or both sides of the adhesive face of the housing 14 and the adhesive face of the heat sink 11. Preferably, the second adhesive 16 is applied to both sides.

상기 제2접착제(16)는 열전반도체소자(12)의 리드선(12a)을 타고 공기가 유입되지 않도록 리드선(12a) 부분에 충분이 도포되게 한다.The second adhesive 16 is sufficiently coated on the lead wire 12a so that air does not enter the lead wire 12a of the thermoelectric semiconductor element 12.

여기서, 사용되는 제2접착제(16)는 본 발명을 달성할 수 있는 조건의 것이라면 모두 적용될 수 있고, 이는 본 발명의 권리 범위에 속한다 할 것이다.Here, the second adhesive 16 to be used may be applied as long as all of the conditions that can achieve the present invention, which will belong to the scope of the present invention.

본 발명의 실제 실시예에 적용되는 제2접착제(16)는 일액형 열경화 에폭시를 사용하였다. 상기 일액형 열경화 에폭시는 점도 40,000∼45,000cps, 장력 2,100∼2,500psi, 열전도도 0.1∼0.3watt/m-k, 경도 75∼85A, 수분흡수 0.1∼0.5%인 물성을 가지며, 양측 접착면에 0.3mm 도포하였다. 그 자체에 존재하는 기포를 제거한 것을 사용하면 좋다.As the second adhesive 16 applied to the practical example of the present invention, one-component thermosetting epoxy was used. The one-component thermosetting epoxy has physical properties of 40,000 to 45,000 cps, a tension of 2,100 to 2,500 psi, a thermal conductivity of 0.1 to 0.3 watt / mk, a hardness of 75 to 85 A, and a water absorption of 0.1 to 0.5%, and 0.3 mm on both sides of the adhesive surface. Applied. It is good to use the thing which removed the bubble existing in itself.

상기 물성을 갖는 일액형 열경화 에폭시를 만들기 위해 에폭시를 포함한 많은 접착제류를 이용하여 실험하였으나 실패를 거듭한 끝에 결국 상기 물성을 갖는 일액형 열경화 에폭시를 찾아내어 성공하였다. 특히 점도와 장력의 수치는 수납 실(14a) 가열시 공기가 배출되기 위해 통공을 형성하고 공기가 팽창하여 수납실(14a)에서 배출된 후 즉시 통공이 닫히는 조건을 수행하는데 상당히 예민하게 반응하여 찾기 힘들었다.In order to make the one-component thermosetting epoxy having the above properties, experiments were carried out using many adhesives including epoxy, but after repeated failures, the one-component thermosetting epoxy having the above properties was found and succeeded. In particular, the values of the viscosity and the tension are very sensitive to the formation of a through hole for the air to be discharged when the storage chamber 14a is heated, and to perform a condition in which the air hole is immediately closed after the air expands and is discharged from the storage chamber 14a. It was hard.

한편, 상기와 같이 히트싱크(11)와 하우징(14)을 접착할 때 하우징(14)에 인서트되고 일측으로 돌출된 너트(17) 부분을 히트싱크(11)에 준비된 구멍에 삽입하게 되면 히트싱크(11)와 하우징(14)의 조립위치는 자동 설정된다. Meanwhile, when the heat sink 11 and the housing 14 are bonded as described above, when the portion of the nut 17 inserted into the housing 14 and protruding to one side is inserted into the hole prepared in the heat sink 11, the heat sink is used. The assembly position of the 11 and the housing 14 is set automatically.

상기 히트싱크와 하우징 고정단계(S4)는 (S2)단계에서 열전반도체소의 흡열면에 탑재된 쿨블록(13)을 압착시키면서, (S3)단계에서 접착된 히트싱크(11)와 하우징(14)을 가압하여 밀접하게 고착되게 하는 공정이다.The heat sink and the housing fixing step (S4) compresses the cool block 13 mounted on the heat absorbing surface of the thermoelectric semiconductor material at step S2, and the heat sink 11 and the housing 14 bonded at step S3. Pressing is a process to closely adhere.

이를 위해, 본 발명에서는 도 8과 같이 하우징(14)과 히트싱크(11)를 보울트(B)로 관통시키고, 그 관통부에 너트(N)를 체결하여 하우징(14)과 히트싱크(11)를 가압하여 고정한다. 상기 보울트(B)는 하우징(14)에 인서트된 너트(17)와 히트싱크(11)에 형성된 구멍을 관통하기 때문에 히트싱크(11)와 하우징(14)을 압착 고정할 수 있다.To this end, in the present invention, the housing 14 and the heat sink 11 are penetrated by the bolt B as shown in FIG. 8, and the nut 14 is fastened to the penetrating portion thereof so that the housing 14 and the heat sink 11 are provided. Press to fix it. Since the bolt B penetrates a hole formed in the nut 17 and the heat sink 11 inserted into the housing 14, the heat sink 11 and the housing 14 may be press-fixed.

이와 같이 보울트(B)를 이용하여 히트싱크(11)와 하우징(14)을 압착 고정하게 되면, 후술하는 건조과정을 거치면서 하우징(14)과 히트싱크(11)는 견고하게 고착되고, 이때 하우징(14)의 스톱퍼(14b)가 쿨블록(13)의 단턱(13a)을 가압하게 되므로 쿨블록(13)은 열전반도체소자(12)의 흡열면에 가압되어 견고히 고착된다.When the heat sink 11 and the housing 14 are press-bonded and fixed using the bolt B as described above, the housing 14 and the heat sink 11 are firmly fixed during the drying process described later. Since the stopper 14b of (14) presses the step 13a of the cool block 13, the cool block 13 is pressed against the heat absorbing surface of the thermoelectric semiconductor element 12 and firmly fixed.

상기 제2접착제(16) 충진단계(S5)는 하우징(14)과 쿨블록(13) 사이에 형성된 틈(C)으로 제2접착제(16)를 충진시켜 하우징(14)과 쿨블록(13)을 접착하는 공정이다.In the filling of the second adhesive 16 (S5), the second adhesive 16 is filled in the gap C formed between the housing 14 and the cool block 13 to fill the housing 14 and the cool block 13. It is a process of adhering.

여기에 사용된 제2접착제(16)는 이미 설명한 일액형 열경화 에폭시를 사용하였다.As the second adhesive 16 used herein, the one-component thermosetting epoxy described above was used.

상기 접착제 건조단계(S6)는 본 발명의 핵심적인 공정이라 할 수 있다. 이는 종래에 시도되지 않는 새로운 방법인 것이다.The adhesive drying step (S6) may be referred to as the core process of the present invention. This is a new method that has not been tried before.

다시 말해, S1∼S5 공정을 마쳐 유니트 형태를 갖는 어셈블리를 건조실에 넣고 가열하여 제1접착제(15) 및 제2접착제(16)를 건조시킬 때 수납실(14a)에 존재하는 공기가 외부로 증발되게 하는 공정이다.In other words, the air present in the storage chamber 14a evaporates to the outside when the assembly having a unit form is put into a drying chamber and heated to dry the first adhesive 15 and the second adhesive 16 after the steps S1 to S5. Process.

더 구체적으로, 상기 어셈블리를 건조실에 넣은 후 건조실 온도가 60℃∼100℃가 될 때까지 1∼3시간 동안 가열한다. 실제 실시예에서는 80℃가 될 때까지 2시간 동안 가열하였다.More specifically, the assembly is placed in a drying chamber and then heated for 1 to 3 hours until the drying chamber temperature is 60 ℃ to 100 ℃. In a practical example, it was heated for 2 hours until it reached 80 degreeC.

가열 초기에는 온도가 점진적으로 상승하게 되므로 건조실의 온도가 80℃에 도달할 때까지 약 30분 정도가 소요되는데, 이 과정에서 무른 겔 상태의 제2접착제(16)는 점차 수분이 증발하여 말랑말랑하게 된다. 이후 건조실의 온도는 건조가 완료될 때까지 80℃ 상태를 유지하게 되는데, 알루미륨 소재로 구성된 히트싱크(11)와 쿨블록(13)은 연전달 성능이 우수하기 때문에 건조실의 공기온도보다 빨리 가열되어 상승하게 되므로 이들을 수용하거나 접하고 있는 하우징(14)의 수납 실(14a)의 온도는 급격히 상승하게 된다. In the initial stage of heating, the temperature gradually rises, so that it takes about 30 minutes until the temperature of the drying chamber reaches 80 ° C. In this process, the second adhesive 16 in the soft gel state gradually evaporates moisture, Done. After that, the temperature of the drying chamber is maintained at 80 ° C. until the drying is completed. Since the heat sink 11 and the cool block 13 made of aluminium material have excellent transfer performance, they are heated faster than the air temperature of the drying chamber. As the temperature increases, the temperature of the storage chamber 14a of the housing 14 accommodating or contacting them rises rapidly.

이러한 현상은 여름철에 대기 온도가 35℃이상이 되지 않더라도 금속재로 구성된 기차의 레일 온도가 60℃까지 상승하는 것과 같은 이치이다.This phenomenon is the same as the rail temperature of a train made of metal rises to 60 ° C even if the air temperature is not higher than 35 ° C in summer.

따라서 가열된 히트싱크(11)와 쿨블록(13)에 의해 하우징(14)의 수납실(14a) 온도는 건조실의 온도보다 더 높고 시간이 경과할 수록 온도는 더 상승하여 결국 제2접착제(16)인 일액형 열경화 에폭시는 온도의 상승으로 반죽상태가 된다. 이와 동시에 하우징(14)의 수납실(14a)에 존재하는 공기는 점차 가열되어 팽창하기 시작한다.Therefore, the temperature of the storage chamber 14a of the housing 14 by the heated heat sink 11 and the cool block 13 is higher than the temperature of the drying chamber, and as time passes, the temperature rises further and eventually the second adhesive 16 The one-component thermosetting epoxy () is kneaded with an increase in temperature. At the same time, the air present in the storage chamber 14a of the housing 14 gradually heats up and starts to expand.

수납실(14a)의 가열이 진행될수록 수납실(14a)에 존재하는 공기는 팽창하여 증발시점에 이르게 되는데, 공기의 증발이 급격히 진행되면 증발하는 공기는 상기 반죽상태의 제2접착제(16)를 뚫고 외부로 증발하기 시작한다. 이때 제2접착제(16)는 반죽상태를 유지하기 때문에 충진된 틈(C) 사이에 접착된 상태를 유지하게 된다. 이러한 현상은 경험적으로 예컨대, 밀가루 반죽상태를 뚫고 공기가 배출하는 과정을 연상하면 쉽게 이해할 수 있을 것이다.As the heating of the storage chamber 14a proceeds, the air present in the storage chamber 14a expands to reach an evaporation point. When the air evaporates rapidly, the evaporated air may form the second adhesive 16 in the dough state. It begins to pierce and evaporate to the outside. At this time, since the second adhesive 16 maintains the dough state, the second adhesive 16 maintains the bonded state between the gaps C filled. This phenomenon can be easily understood empirically, e.g., through the process of pulverizing the dough and air discharge.

수납실(14a) 공기의 증발이 완료될 시점에 이르게 되면 건조실은 더 이상 가열되지 않게 되고, 수납실(14a)에서 공기의 증발이 진행되지 않는다. 따라서 틈(C)에 충진된 제2접착제(16)에는 공기가 빠져나가는 통로가 자동으로 닫히게 되므로 수납실(14a)은 진공상태가 된다. When the evaporation of air in the storage chamber 14a is reached, the drying chamber is no longer heated, and evaporation of air does not proceed in the storage chamber 14a. Therefore, since the passage through which air escapes is automatically closed in the second adhesive 16 filled in the gap C, the storage chamber 14a is in a vacuum state.

실제, 실시예에서는 건조실을 30분동안 가열하여 80℃에 이르게 하고, 80℃ 상태를 1시간 30분동안 유지토록 하여 건조공정을 수행하였더니 수납실(14a)에서 공기가 완전히 증발하였다. In fact, in the embodiment, the drying chamber was heated for 30 minutes to reach 80 ° C., and the drying process was carried out to maintain the 80 ° C. state for 1 hour and 30 minutes. The air completely evaporated in the storage chamber 14a.

상기 실시예의 실험결과를 얻기 위해 일액형 열경화 에폭시의 물성은 중요하다. 건조실의 가열 온도가 높을수록 건조시간은 짧고, 낮을수록 건조시간이 길어진다. In order to obtain the experimental results of the above embodiment, the physical properties of the one-component thermosetting epoxy are important. The higher the heating temperature of the drying chamber, the shorter the drying time, and the lower the longer the drying time.

만약, 상기와 같이 수납실(14a)을 가열함에도 불구하고 수납실(14a)에 공기가 존재한다면, 그 공기에는 수분이 증발하기 때문에 수분이 거의 제로에 가까워 종래의 단점인 열전반도체소자(12)에 이슬 맺힘 현상은 극복할 수 있게 되어 종래 유니트 제조방법과 현저한 차별성을 가지게 된다.If the air is present in the storage chamber 14a despite heating the storage chamber 14a as described above, since the moisture is evaporated in the air, the moisture is nearly zero, which is a conventional disadvantage of the thermoelectric semiconductor element 12. Dew condensation can be overcome to have a significant difference from the conventional unit manufacturing method.

상기 접착제 건조단계(S6)는 하우징(14)의 수납실(14a)을 가열하고, 상기 가열된 열로 수납실(14a) 내부에 존재하는 공기를 증발시키는 공정이며, 가열된 공기가 틈(C) 사이에 충진된 제2접착제(16)를 통해 외부로 증발되게 하는 것이다. 이때 제2접착제(16)는 공기가 증발할될 때 손상되지 않으면서도 공기 배출 후에는 곧바로 폐쇄하여야 하는 조건을 만족해야 한다. 이는 본 발명을 실현하는데 대단히 중요한 부분이다.The adhesive drying step S6 is a process of heating the storage chamber 14a of the housing 14 and evaporating the air existing in the storage chamber 14a by the heated heat, and the heated air is a gap C. It is to be evaporated to the outside through the second adhesive 16 filled in between. At this time, the second adhesive 16 should satisfy the condition of closing immediately after the air is discharged without being damaged when the air is evaporated. This is a very important part in realizing the present invention.

본 발명을 달성하기 위해 제2접착제(16)를 적용하려고 에폭시를 포함한 많은 접착제류를 이용하여 실험하였으나 실패를 거듭한 끝에 결국 상기 물성을 갖는 일액형 열경화 에폭시를 찾아내어 성공하였다. 특히 점도와 장력의 수치는 수납실(14a) 가열시 공기가 증발되기 위해 통공을 형성하고 공기가 팽창하여 수납실(14a)에서 배출된 후 즉시 통공이 닫히는 조건을 수행하는데 상당히 예민하게 반응하여 찾기 힘들었다.In order to achieve the present invention, the experiment was performed using a large number of adhesives including epoxy to apply the second adhesive 16, but after successive failures, a one-component thermosetting epoxy having the above physical properties was found and succeeded. In particular, the values of the viscosity and the tension are very sensitive to the formation of a hole for evaporation of air when the storage chamber 14a is heated, and to react to a condition in which the air hole is immediately closed after the air is expanded and discharged from the storage chamber 14a. It was hard.

상기와 같이 유니트 어셈블리의 건조가 완료되면, 어셈블리를 자연 냉각시켜(S7) 본 발명의 제조방법을 완료한다.When the drying of the unit assembly is completed as described above, the assembly is naturally cooled (S7) to complete the manufacturing method of the present invention.

여기서, 본 발명의 구성요소들을 내부에 수용하여 고정시키는 하우징(14)은 열전반도체소자(12)를 수용할 수 있도록 수납실(14a)이 관통되고, 상기 수납실(14a) 내측벽에는 상기 쿨블록(13)이 걸림고정될 수 있도록 스톱퍼(14b)가 돌출된다. 상기 스톱퍼(14b)는 내측벽 전체 둘레에 형성되는 것이 바람직하며, 규격화된 열전반도체소자(12)의 두께를 모두 수용할 수 있는 위치에 형성되는 것이 좋다. 예컨대, 도 11과 같이 열전반도체소자(12)의 두께가 얇아 쿨블록(13)의 단턱(13a)과 수납실(14a)의 스톱퍼(14b) 사이에 틈(S)이 발생 되어도 본 발명은 전혀 문제가 되지 않는다. 이는 열전반도체소자(12)와 접촉하는 쿨블록(13)이 일액형 열경화 에폭시로 이루어진 제2접착제(16)에 의해 강력하게 고착되므로 상기 틈(S)의 발생은 전혀 문제가 되지 않는다.Here, the housing 14 for accommodating and fixing the components of the present invention therein is a storage chamber 14a penetrates to accommodate the thermoelectric semiconductor element 12, and the coolant is provided on an inner wall of the storage chamber 14a. The stopper 14b protrudes so that the block 13 can be locked. The stopper 14b is preferably formed around the entire inner wall, and may be formed at a position that can accommodate all the thicknesses of the standardized thermoelectric semiconductor element 12. For example, as shown in FIG. 11, even when a gap S is generated between the step 13a of the cool block 13 and the stopper 14b of the storage chamber 14a because the thickness of the thermoelectric semiconductor element 12 is thin, the present invention is completely absent. It doesn't matter. Since the cool block 13 in contact with the thermoelectric semiconductor element 12 is strongly fixed by the second adhesive 16 made of a one-component thermosetting epoxy, the generation of the gap S is not a problem at all.

상기 하우징(14)은 쿨블록(13)을 고착시키는 제2접착제(16)를 충진할 수 있도록 수납실(14a) 상부 테두리에 안내부재(14c)가 연장되고, 상기 안내부재(14c)의 외벽에는 보강용 리브(14d)가 형성된다.The housing 14 has a guide member 14c extended to an upper edge of the storage chamber 14a to fill the second adhesive 16 fixing the cool block 13, and an outer wall of the guide member 14c. The reinforcing rib 14d is formed in this.

상기 하우징(14)은 ABS 80중량%와 그라스 20중량%가 혼합된 것을 사용하는 것이 바람직하다. 상기 하우징(14)에 그라스를 혼합한 이유는 그라스가 제2접착제(16)와 잘 접착하고 열에 의한 사출물의 변형에 강하기 때문이다.The housing 14 is preferably a mixture of 80% by weight ABS and 20% by weight glass. The reason why the glass is mixed in the housing 14 is that the glass adheres well to the second adhesive 16 and is resistant to deformation of the injection by heat.

또한, 상기 하우징(14)은 사출방식으로 제조될 때 그 테두리에 너트(17)가 인서트된다. 상기 너트(17)는 유니트(10)에 다른 물체가 체결조립되거나 또는 유니트(10)를 다른 물체에 고정시킬 때 체결용으로 사용하게 된다.In addition, when the housing 14 is manufactured by the injection method, the nut 17 is inserted into the rim thereof. The nut 17 is used for fastening when another object is fastened and assembled to the unit 10 or when the unit 10 is fixed to another object.

한편, 본 발명에 의해 제조된 열전반도체소자(12) 유니트의 구성은, 열전반도체소자(12)를 진공상태의 수납실(14a)에 수용하는 하우징(14), 상기 하우징(14)에 수용된 열전반도체소자(12)의 일측면과 면접촉한 상태로 상기 하우징(14)에 고정되어 열전반도체소자(12)에서 발생되는 고열을 방열시키는 히트싱크(11), 상기 하우징(14)의 수납실(14a)에 수용된 열전반도체소자(12)의 타측면과 면접촉한 상태로 고정되어 열전반도체소자(12)에서 발생하는 저열을 외부로 전달하는 쿨블록(13), 상기 열전반도체소자(12)의 일측면에 히트싱크(11)를 타측면에 쿨블록(13)을 고착시키는 제1접착제(15), 히트싱크(11) 일측면과 하우징(14)을 접착하고 하우징(14)과 쿨블록(13) 사이에 충진되어 이들을 고착시키는 제2접착제(16), 상기 하우징(14)의 테두리에 인서트 사출방식으로 삽입되는 너트(17);를 포함한다.On the other hand, the configuration of the thermoelectric semiconductor element 12 unit manufactured by the present invention includes a housing 14 accommodating the thermoelectric semiconductor element 12 in a vacuum accommodating chamber 14a, and a thermoelectric housed in the housing 14. The heat sink 11 is fixed to the housing 14 in surface contact with one side surface of the semiconductor element 12 to dissipate high heat generated by the thermoelectric semiconductor element 12, and the storage chamber 14a of the housing 14. Cool block 13, which is fixed in surface contact with the other side surface of the thermoelectric semiconductor element 12 accommodated in the heat transfer semiconductor element 12 to the outside, one side surface of the thermoelectric semiconductor element 12 The first adhesive 15 for fixing the cool block 13 to the other side of the heat sink 11, the one side surface of the heat sink 11 and the housing 14, and the housing 14 and the cool block 13. The second adhesive 16, which is filled in between and secures them, is inserted into the edge of the housing 14 by insert injection. And nut 17.

상기 히트싱크(11)는 열전반도체소자(12)의 방열면에 밀착되어 방열기능을 하는 것으로, 알루미늄소재를 사용한다. The heat sink 11 is in close contact with the heat dissipation surface of the thermoelectric semiconductor element 12 to perform a heat dissipation function, and an aluminum material is used.

상기 쿨블록(13)은 열전반도체소자(12)의 흡열면에 밀착되어 열전반도체소자(12)에서 발생하는 저열을 목적물이나 목적공간에 전달하여 냉각시키는 것으로, 열전달이 우수한 재질을 사용하며, 바람직하게는 알루미늄소재가 좋다. 상기 쿨블록(13)은 상기 수납실(14a)에 돌출된 스톱퍼(14b)에 걸림 고정될 수 있도록 몸체 일단부에 단턱(13a)이 형성된다. The cool block 13 is in close contact with the heat absorbing surface of the thermoconductor element 12 and transmits and cools the low heat generated in the thermoconductor element 12 to a target object or a target space, and uses a material having excellent heat transfer. Aluminum material is good. The cool block 13 has a step 13a formed at one end of the body so that the cool block 13 can be fixed to the stopper 14b protruding from the storage chamber 14a.

이상과 같이 열전반도체소자 유니트를 제조하는 본 발명은 열전반도체소자가 수납된 하우징의 수납실을 가열하여 공기를 증발시켜 수납실 내부를 진공상태로 만듬으로서 종래의 문제점인 온도변화에 따라 수분의 응결로 열전반도체소자 주변에 이슬 맺힘 현상이 발생되는 것을 제거할 수 있는 장점을 가진다.As described above, the present invention for manufacturing a thermoelectric semiconductor device unit heats a storage chamber of a housing in which a thermoelectric semiconductor device is stored, and evaporates air to make the interior of the storage chamber into a vacuum state, thereby condensing moisture according to a conventional temperature change. The dew condensation phenomenon around the thermoelectric semiconductor device can be eliminated.

또한, 수납실을 진공상태로 만들어 열전소자 주변에 냉,온공기가 공존하는 현상을 원천적으로 차단하여 냉각성능을 높이고, 열전반도체소자의 두께에 상관없이 쿨블록을 간편하게 조립할 수 있는 장점이 있다.In addition, by making the storage chamber in a vacuum state, the phenomenon of cold and hot air coexisting around the thermoelectric element is basically blocked to increase the cooling performance, and the cool block can be easily assembled regardless of the thickness of the thermoelectric semiconductor element.

Claims (6)

히트싱크 일측면에 열전반도체소자의 방열면을 제1접착제로 가압 접착하여 고착시키는 단계(S1);Pressing and bonding the heat dissipating surface of the thermoelectric semiconductor element to one side of the heat sink with a first adhesive (S1); 상기 열전반도체소자의 흡열면과 이에 접착되는 쿨블록의 접착면 중 적어도 어느 일측면에 제1접착제를 도포한 후, 이들이 접착하여 고정될 수 있도록 상기 흡열면에 쿨블록을 탑재하는 단계(S2);After applying the first adhesive to at least one side of the heat absorbing surface of the thermoelectric semiconductor element and the adhesive surface of the cool block adhered thereto, mounting a cool block on the heat absorbing surface so that they can be fixed by bonding (S2) ; 상기 열전반도체소자 및 쿨블록을 하우징의 수납실에 수용하여 고정할 수 있도록 히트싱크와 하우징의 접면부를 제2접착제로 접착하는 단계(S3);Attaching a contact portion of the heat sink and the housing with a second adhesive to accommodate and fix the thermoelectric semiconductor element and the cool block in the storage compartment of the housing (S3); 하우징에 돌출된 스톱퍼가 쿨블록의 단턱을 눌러 열전반도체소자의 흡열면에 탑재된 쿨블록을 상기 흡열면에 고착시킬 수 있도록 상기 하우징과 히트싱크를 가압 고정하는 단계(S4);Pressing and fixing the housing and the heat sink so that the stopper protruding from the housing presses the step of the cool block to fix the cool block mounted on the heat absorbing surface of the thermoelectric semiconductor element to the heat absorbing surface (S4); 상기 하우징의 수납실과 쿨블록 사이에 형성된 틈 사이로 제2접착제를 충진시켜 하우징과 쿨블록을 접착하는 단계(S5);Bonding a housing and a cool block by filling a second adhesive between a gap formed between the storage compartment and the cool block of the housing (S5); 상기 조립공정을 거친 유니트 형태의 어셈블리를 건조실에 넣고 가열 건조시켜 히트싱크와 하우징 및 하우징과 쿨블록을 접착한 각각의 제2접착제를 건조시키되, 히트싱크와 쿨블록의 열전달에 의해 하우징의 수납실에 저장된 공기가 가열되어 하우징과 쿨블록 사이에 충진된 제2접착제를 통과하여 증발토록 하고 증발 후에는 상기 제2접착제가 폐쇄된 상태로 경화되어 수납실 내부가 진공상태가 되게 건조하는 단계(S6); 및Put the assembly of the unit form through the assembly process into a drying chamber and heat-dry to dry each of the second adhesive to which the heat sink and the housing and the housing and the cool block are adhered, and the heat sink and the cool block heat transfer to the storage compartment of the housing. The air stored in the heating is heated to pass through the second adhesive filled between the housing and the cool block to evaporate, and after evaporation, the second adhesive is cured in a closed state to dry the interior of the storage chamber to a vacuum state (S6). ); And 상기 건조된 유니트 형태의 어셈블리를 자연냉각시키는 단계(S7);를 포함하는 것을 특징으로 하는 열전반도체소자 유니트 제조방법.Natural cooling step (S7) of the dried unit type assembly; thermoelectric semiconductor device unit manufacturing method comprising a. 제 1항에 있어서, 상기 히트싱크에 열전반도체소자를 고착시키는 단계(S1)는 사용된 제1접착제는 열전도가 0.85Watt/mk∼1.09Watt/mk를 갖는 이액형 열전도 구리스이고, 접착면에 0.1∼0.5mm 도포된 후 60∼100℃에서 1∼3시간 건조되는 것을 특징으로 하는 열전반도체소자 유니트 제조방법.The method of claim 1, wherein the fixing of the heat conducting semiconductor element to the heat sink (S1) comprises using the first adhesive is a two-component heat conducting grease having a thermal conductivity of 0.85 Watt / mk to 1.09 Watt / mk, and having an adhesive surface of 0.1. A method of manufacturing a thermoelectric semiconductor device unit, which is dried for 1 to 3 hours at 60 to 100 ° C. after being coated with 0.5 mm. 제 1항에 있어서, 상기 하우징과 히트싱크를 가압고정하는 단계(S4)는 하우징과 히트싱크를 보울트로 관통시키고, 그 관통부에 너트를 체결하여 하우징과 히트싱크를 가압고정하는 것을 특징으로 하는 열전반도체소자 유니트 제조방법.According to claim 1, wherein the step of pressing and fixing the housing and the heat sink (S4) through the housing and the heat sink with a bolt, and fastening the housing and the heat sink by fastening the nut to the through portion Method for manufacturing a thermoelectric semiconductor device unit. 제 1항에 있어서, 상기 제2접착제는 일액형 열경화 에폭시이며, 그 물성은 점도 40,000∼45,000cps, 장력 2,000∼2,600psi, 열전도도 0.1∼0.3watt/mk, 경도 75∼85A, 수분흡수 0.1∼0.5%인 것을 특징으로 하는 열전반도체소자 유니트 제조방법.The method of claim 1, wherein the second adhesive is a one-component thermosetting epoxy, the physical properties of the viscosity 40,000 ~ 45,000cps, tension 2,000 ~ 2,600psi, thermal conductivity 0.1 ~ 0.3watt / mk, hardness 75 ~ 85A, water absorption 0.1 A method of manufacturing a thermoelectric semiconductor device unit, characterized in that-0.5%. 제 1항에 있어서, 제2접착제를 건조시키는 단계(S6)는, 60℃∼100℃의 건조실에서 1∼3시간 동안 가열하는 것을 특징으로 하는 열전반도체소자 유니트 제조방법. The method of claim 1, wherein the drying of the second adhesive (S6) is performed in a drying chamber at 60 ° C. to 100 ° C. for 1 to 3 hours. 제 1항에 있어서, 상기 하우징은 ABS 80중량%와 그라스 20중량%가 혼합된 사출성형품이고, 사출시 테두리에 너트가 인서트 되는 것을 특징으로 하는 열전반도체소자 유니트 제조방법.The method of claim 1, wherein the housing is an injection-molded product in which 80% by weight of ABS and 20% by weight of glass are mixed, and a nut is inserted into an edge of the housing.
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