KR100779693B1 - Wave selection type diffractive optical elements and optical pickup device has them - Google Patents

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Abstract

A wavelength selection type diffractive optical device and an optical pickup head device having the same are provided to diffract an incident ray with different wavelength selectively without using an additional polarization device. A wavelength selection type diffractive optical device diffracts one of a lambda 1 wavelength and a lambda 2 wavelength of an incident ray selectively. The wavelength selection type diffractive optical device includes at least one transmissive transparent substrate(10), a first diffraction grating(20) and a second diffraction grating(30). The first diffraction grating is formed on one side of the transparent substrate, and diffracts a light of the lambda 1 wavelength by structural height setting and transmits a light of the lambda 2 wavelength. The second diffraction grating is formed on the other side of the transparent substrate, and transmits the light of the lambda 1 wavelength by structure height setting and diffracts the light of the lambda 2 wavelength.

Description

파장선택형 회절소자 및 이를 갖는 광헤드장치{Wave selection type Diffractive optical elements and optical pickup device has them}Wavelength selective diffraction element and optical head device having same {Wave selection type Diffractive optical elements and optical pickup device has them}

도 1은 종래 파장선택형 회절소자의 단면도, 1 is a cross-sectional view of a conventional wavelength selective diffraction element;

도 2는 도 1의 파장선택형 회절소자를 갖는 광헤드장치의 간략한 구성도,FIG. 2 is a schematic configuration diagram of an optical head device having the wavelength selective diffraction element of FIG. 1;

도 3은 본 발명에 제1실시예에 따른 파장선택형 회절소자의 단면도, 3 is a sectional view of a wavelength selective diffraction element according to a first embodiment of the present invention;

도 4는 본 발명의 제2실시예에 따른 파장선택형 회절소자의 단면도, 4 is a cross-sectional view of a wavelength selective diffraction element according to a second embodiment of the present invention;

도 5 및 도 6은 본 발명의 제3실시예에 따른 파장선택형 회절소자의 단면도,5 and 6 are cross-sectional views of the wavelength selective diffraction element according to the third embodiment of the present invention;

도 7은 도 3 내지 도 6의 파장선택형 회절소자를 갖는 광헤드장치의 간략한 구성도.7 is a simplified block diagram of an optical head apparatus having the wavelength selective diffraction element of FIGS.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings

1 : 회절소자 10 : 투명기판  1 Diffraction Element 10 Transparent Substrate

20 : 제1회절격자 30 : 제2회절격자 20: the first lattice 30: the second lattice

50 : 접착물질 60 : 위상지연층 50: adhesive material 60: phase delay layer

100 : 광헤드장치 101 : 듀얼광원100: optical head device 101: dual light source

103 : 대물렌즈103: objective lens

본 발명은, 파장선택형 회절소자 및 이를 갖는 광헤드장치에 관한 것이다.The present invention relates to a wavelength selective diffraction element and an optical head apparatus having the same.

CD/DVD 등의 광디스크 또는 자기 디스크 등과 같은 광기록매체의 정보기록면에 정보를 기록하거나 정보기록면으로부터 정보를 읽어들이기 위한 장치로서 광헤드장치가 이용된다.An optical head apparatus is used as an apparatus for recording information on or reading information from an information recording surface of an optical recording medium such as an optical disk such as a CD / DVD or a magnetic disk.

광헤드장치에서는 레이저광을 광디스크의 정보기록면에 형성된 트랙 상에 집광시키면서 광디스크를 회전시키기 위해서, 집광된 레이저광의 빔이 트랙에서 벗어나지 않도록 해야 한다. 이를 실현하기 위해서 각종 트래킹 방법이 개발되어 있는데, 그 중 널리 사용되고 있는 방법이 레이저광을 하나의 0차 회절광인 메인빔과 ㅁ1차 회절광인 두 개의 서브빔으로 나누는 3빔법이다.In the optical head apparatus, in order to rotate the optical disk while focusing the laser light on the track formed on the information recording surface of the optical disk, the beam of the focused laser light must be kept off the track. In order to realize this, various tracking methods have been developed. Among them, a widely used method is a three-beam method in which a laser beam is divided into two sub-beams, one main-order diffracted light and a first-order diffracted light.

이때, 레이저광을 메인빔과 서브빔으로 나누기 위해 사용되는 것이 회절소자이다. 이 회절소자는 레이저광의 광로 중에 설치되며, 특징적인 구조인 회절격자 영역에서 레이저광이 하나의 메인빔과 두 개의 서브빔으로 나누어지는 회절이 발생한다.At this time, the diffraction element is used to divide the laser light into a main beam and a sub beam. The diffraction element is provided in the optical path of the laser beam, and diffraction occurs in which the laser beam is divided into one main beam and two sub beams in the diffraction grating region, which is a characteristic structure.

한편, 기술의 발달에 따라서 근래에는 CD와 DVD의 두 광디스크의 정보를 기록하거나 재생하기 위한 CD와 DVD 호환형 광헤드장치가 널리 이용되고 있다.On the other hand, with the development of technology, in recent years, CD and DVD compatible optical head apparatuses for recording or playing back information on two optical discs, CD and DVD, have been widely used.

일반적인 CD-R 등의 CD계 광디스크인 경우 약 780nm의 파장대(이하 "CD계 파장 λ2"라 함)의 레이저광을 사용하고, DVD계 광디스크인 경우 약 660nm의 파장대(이하 "DVD계 파장 λ1"라 함)의 레이저광을 사용하게 된다.In the case of a CD-based optical disc such as a general CD-R, a laser beam having a wavelength band of about 780 nm (hereinafter referred to as "CD-based wavelength λ 2 ") is used. 1 "laser light.

그런데, 이러한 CD와 DVD 호환형 광헤드장치에 있어서는, 레이저 광원으로서 DVD계 파장(λ1)의 레이저광을 발생시키는 λ1 레이저 발생기와, CD계 파장(λ2)의 레이저광을 발생시키는 λ2 레이저 발생기, 그리고, 각 레이저 발생기에 대응하는 3빔 발생용 회절소자가 각각 마련되어야 하기 때문에 광헤드장치의 대형화를 초래하는 단점이 있었다.By the way, in such a CD and DVD compatible optical head device, and λ 1 laser generator for generating laser light of a DVD-based wavelength (λ 1) as a laser light source, λ which generates the laser light of the CD-based wavelength (λ 2) Since two laser generators and three-beam generating diffraction elements corresponding to the respective laser generators must be provided, there is a disadvantage in that the optical head apparatus is enlarged.

이에 따라, 최근에는 광헤드장치의 소형화를 도모하기 위해서 레이저 광원으로서 DVD계 파장(λ1)의 레이저광과 CD계 파장(λ2)의 레이저광을 발생시키는 2파장 반도체 레이저(Dual LD: 이하 '듀얼광원'이라 함)가 사용되고, 또한, 이들 2파장 반도체 레이저에 대응하는 3빔 발생용 회절소자로서 DVD계 파장(λ1)의 레이저광 또는 CD계 파장(λ2)의 레이저광 중 어느 하나의 레이저광을 선택적으로 3빔(메인빔과 서브빔)으로 발생시키는 파장선택형 회절소자가 사용되고 있다.Accordingly, in recent years, in order to reduce the size of the optical head device, a two-wavelength semiconductor laser (Dual LD: below) generating laser light of a DVD wavelength λ 1 and a laser light of a CD wavelength λ 2 as a laser light source. A dual-beam semiconductor diffractive element corresponding to these two-wavelength semiconductor lasers, which is a laser beam having a DVD wavelength? 1 or a laser beam having a CD wavelength? 2 . A wavelength selective diffraction element for selectively generating one laser beam into three beams (main beam and sub beam) is used.

이중 파장선택형 회절소자는 2종의 레이저 파장에 대하여 선택된 어느 하나의 레이저 파장을 선택적으로 회절시키는 것으로서, 그 핵심 기술은 레이저광이 회절소자에 형성된 회절격자를 통과할 때 특정방향의 편광방향에 대해서만 회절 기능을 갖게 하는 것이다.The dual wavelength selective diffraction element selectively diffracts any one laser wavelength selected for two kinds of laser wavelengths. The core technique is only for a polarization direction in a specific direction when laser light passes through a diffraction grating formed in the diffraction element. It is to have a diffraction function.

종래 파장선택형 회절소자(800)는 도 1에 도시된 바와 같이, 복수의 투명기판(804,805,809)들 중 출사측 양 투명기판(805,809)의 상호 대향면에 각각 λ1과 λ2를 회절시키는 제1회절격자807a)와 제2회절격자(807b)가 접착층(806)을 사이에 두고 형성되어 있는 구조를 가지고 있다. 그리고, 입사측의 양 투명기판(804,805) 사이에는 입사광의 편광을 변환시키는 편광소자(801)가 접착층(802,803)에 의해 개재된 구조를 포함하고 있다. As shown in FIG. 1, the conventional wavelength selective diffraction element 800 includes a first diffraction of λ 1 and λ 2 on mutually opposing surfaces of the emission-side transparent substrates 805 and 809 among the plurality of transparent substrates 804, 805, and 809, respectively. The diffraction grating 807a and the second diffraction grating 807b are formed with the adhesive layer 806 interposed therebetween. The polarizing element 801 for converting the polarization of incident light is interposed between the transparent substrates 804 and 805 on the incident side by the adhesive layers 802 and 803.

제1회절격자(807a)는 투명기판(805)을 통과한 λ2에 대하여 회절광을 발생시키고 λ1에 대해서는 회절광이 발생하지 않는 상광굴절률을 갖도록 고분자액정의 배향 방향이 설정되어 있다.The orientation direction of the polymer liquid crystal is set so that the first diffraction grating 807a generates diffracted light with respect to λ 2 which has passed through the transparent substrate 805 and has an ordinary light refractive index at which λ 1 does not generate diffracted light.

그리고, 제2회절격자(807b)는 투명기판(805)을 통과한 λ1에 대하여 회절광을 발생시키고 λ2에 대해서는 회절광이 발생하지 않는 이상광굴절률을 갖도록 고분자액정의 배향 방향이 제1회절격자(807a)와 직교하도록 설정되어 있다. The second diffraction grating 807b generates diffracted light with respect to λ 1 passing through the transparent substrate 805 and has an ideal optical refractive index such that diffracted light does not occur with respect to λ 2 . It is set to be orthogonal to the diffraction grating 807a.

이러한 구성을 갖는 종래 파장선택형 회절소자(800)는 도 2에 도시된 바와 같이, CD와 DVD 호환형 광헤드장치(900)에서 레이저광을 발생시키는 듀얼광원(901)과 레이저광을 광디스크(A)로 집광하는 대물렌즈(903) 사이의 광로상에 설치되어 λ1과 λ2에 대해 0차 회절광인 메인빔과 1차 회절광인 두 개의 서브빔을 각각 독립적으로 생성함으로써, 광헤드장치(900)가 CD 또는 DVD 중 해당하는 어느 하나의 광디스크(A)에 대해 정보를 기록하거나 재생할 수 있도록 해준다.In the conventional wavelength selective diffraction element 800 having such a configuration, as shown in FIG. 2, a dual light source 901 for generating laser light and a laser light in the CD and DVD compatible optical head device 900 are provided with an optical disc A. FIG. The optical head device 900 is provided on the optical path between the objective lenses 903 for condensing into each other and independently generates two main beams, one being a zero-order diffraction light and one of the first-order diffraction light, for λ 1 and λ 2 . ) Allows recording or playback of information on the corresponding optical disc A of either CD or DVD.

그런데, 이러한 종래 파장선택형 회절소자에 있어서는 고분자액정의 복굴절 성을 일정한 방향으로 배향하는 고도의 기술을 이용하고 있기 때문에, 제조가 매우 어려우며, 제조과정에서 고분자액정의 배향을 위해서 고가의 장비인 광학적 정렬 장치를 필요로 하고 제조 공정이 복잡해지므로 광학소자와 이를 이용하는 광헤드장치의 제조비용 상승을 초래하는 문제점이 있다.However, in the conventional wavelength selective diffraction element, since the high technology of aligning the birefringence of the polymer liquid crystal in a predetermined direction is used, it is very difficult to manufacture and optical alignment, which is an expensive equipment for the alignment of the polymer liquid crystal in the manufacturing process. Since a device is required and the manufacturing process is complicated, there is a problem that the manufacturing cost of the optical device and the optical head device using the same increase.

또한, 이러한 종래 파장선택형 회절소자는 복굴절 특성을 이용하는 것으로서, 레이져광이 회절소자로 입사되기 전에 λ1과 λ2의 편광상태를 상이하게 변환시켜야 한다. 이에 의해, 별도의 편광소자를 함께 사용해야만 상이한 파장의 입사광을 선택적으로 회절시킬 수 있는 문제점이 있었다. In addition, such a conventional wavelength selective diffraction element uses birefringence characteristics, and the polarization states of λ 1 and λ 2 must be converted differently before laser light is incident on the diffraction element. Accordingly, there is a problem in that the incident light of different wavelengths can be selectively diffracted only by using a separate polarizer.

따라서, 본 발명의 목적은, 제조가 간단하고 제조비용을 절감할 수 있으며, 별도의 편광소자를 이용하지 않고도 상이한 파장의 입사광을 선택적으로 회절시킬 수 있는 파장선택형 회절소자 및 이를 갖는 광헤드장치를 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a wavelength selective diffraction element and an optical head device having the same, which can simplify the manufacturing process and reduce the manufacturing cost, and can selectively diffract incident light having different wavelengths without using a separate polarizing element. To provide.

상기 목적은, 본 발명에 따라, 상호 상이한 파장대 입사광의 λ1파장과 λ2파장 중 어느 하나의 파장을 선택적으로 회절시키는 파장선택형 회절소자에 있어서, 적어도 하나의 광투과성 투명기판과; 상기 투명기판의 일측에 형성되며, 구조적 높이 설정에 의해 상기 λ1파장의 광을 회절 투과시키는 한편, 상기 λ2파장의 광을 투과시키는 광량비를 갖는 제1회절격자와; 상기 투명기판의 타측에 형성되며, 구조적 높이 설정에 의해 상기 λ1파장의 광을 투과시키는 한편, 상기 λ2파장의 광 을 회절 투과시키는 광량비를 갖는 제2회절격자를 포함하는 것을 특징으로 하는 파장선택형 회절소자에 의해서 달성된다. According to the present invention, there is provided a wavelength selective diffractive element for selectively diffracting any one of lambda 1 wavelength and lambda 2 wavelength of incident light in mutually different wavelength bands, comprising: at least one transparent transparent substrate; A first diffraction grating formed on one side of the transparent substrate, the diffraction transmission of light having a wavelength of λ 1 by a structural height setting, and having a light quantity ratio of transmitting light having a wavelength of λ 2 ; Is formed on the other side of the transparent substrate, a structured by the height setting for transmitting light of said λ 1 wavelength other hand, characterized in that it comprises a second diffraction grating with the amount of light that diffracts transmitted light of the λ 2 wavelength It is achieved by the wavelength selective diffraction element.

여기서, 상기 제1회절격자와 상기 제2회절격자의 매질 굴절률은 상호 동일한 것이 바람직하다. Here, the refractive index of the medium of the first diffraction grating and the second diffraction grating is preferably the same.

이때, 상기 제1 및 제2회절격자는 자외선 경화성 레진, 열경화성 레진, 글라스, PC, 액정폴리머, PET 중 어느 하나의 재질로 형성되는 것이 효과적이다. In this case, the first and the second diffraction grating is effectively formed of any one material of ultraviolet curable resin, thermosetting resin, glass, PC, liquid crystal polymer, PET.

또한, 상기 제1 및 제2회절격자를 형성하는 재료의 열팽창 계수는 상기 투명기판의 열팽창계수보다 크거나 같은 것이 바람직하다. In addition, the thermal expansion coefficient of the material forming the first and second diffraction grating is preferably equal to or larger than the thermal expansion coefficient of the transparent substrate.

그리고, 상기 투명기판은 한 쌍으로 마련되고, 상기 제1회절격자와 상기 제2회절격자는 상기 양 투명기판의 판면에 형성되며, 상기 양 투명기판 사이에는 접착물질이 개재되는 것이 효과적이다. In addition, the transparent substrate is provided in a pair, the first diffraction grating and the second diffraction grating are formed on the plate surface of the both transparent substrates, it is effective that the adhesive material is interposed between the both transparent substrates.

이때, 입사광에 대한 상기 제1회절격자와 상기 제2회절격자의 매질굴절률과 상기 접착물질의 굴절률 차이는 0.02 내지 0.04인 것이 보다 바람직하다. In this case, the difference between the refractive index of the medium and the adhesive material between the first diffraction grating and the second diffraction grating is 0.02 to 0.04.

한편, 상기 제1회절격자와 상기 제2회절격자 사이에는 상기 λ1파장과 λ2파장 중 어느 하나의 파장을 위상지연시키는 위상지연층이 더 포함되는 것이 보다 효과적이다. On the other hand, between the first diffraction grating and the second diffraction grating, it is more effective to further include a phase delay layer for phase-delaying any one of the lambda 1 wavelength and the lambda 2 wavelength.

이때, 상기 위산지연층은 소정의 위상지연값을 갖는 위상지연 필름 또는 액정층으로 마련되는 것이 바람직하다.At this time, the acid delay layer is preferably provided with a phase delay film or a liquid crystal layer having a predetermined phase delay value.

한편, 상기 목적은 본 발명의 다른 형태에 따라, 상호 상이한 파장대의 λ1파장과 λ2파장의 광을 출사하는 듀얼광원과, 상기 λ1, λ2파장의 광을 광기록매체에 집광시키는 대물렌즈와, 상기 광원과 상기 대물렌즈 사이의 광로 중에 설치되며 상기 λ1파장과 상기 λ2파장의 광을 선택적으로 회절 투과시키는 제1 및 제2회절격자를 갖는 파장선택형 회절소자와, 상기 광기록매체에서 반사되는 상기 λ1파장과 λ2파장의 광을 검출하는 광검출기를 구비한 광헤드장치에 있어서, 상기 파장선택형 회절소자는 전술한 파장선택형 회절소자인 것을 특징으로 하는 광헤드장치에 의해서도 달성된다. On the other hand, according to another aspect of the present invention, there is provided a dual light source for emitting light having a wavelength of λ 1 and a wavelength of λ 2 , and an object for condensing light having the wavelengths of λ 1 and λ 2 on an optical recording medium. A wavelength selective diffraction element disposed in an optical path between the light source and the objective lens, the wavelength selective diffraction element having first and second diffraction gratings for diffractively transmitting light having the λ 1 wavelength and the λ 2 wavelength, and the optical recording An optical head apparatus having a photodetector for detecting light of the λ 1 wavelength and the λ 2 wavelength reflected from a medium, wherein the wavelength selective diffraction element is the above-mentioned wavelength selective diffraction element. Is achieved.

여기서, 상기 파장선택형 회절소자의 상기 제1회절격자와 제2회절격자의 중심간 이격간격은 상기 듀얼 광원의 양 광원 중심간의 이격간격에 대응하는 것이 바람직하다. Here, the spacing between the centers of the first diffraction grating and the second diffraction grating of the wavelength selective diffraction element preferably corresponds to the spacing between two light source centers of the dual light source.

이하에서는 첨부된 도면을 참고하여 본 발명에 대해서 상세하게 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail with respect to the present invention.

도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 파장선택형 회절소자의 단면도이다. 이 도면에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 파장선택형 회절소자(1)는 단일의 투명기판(10)과, 투명기판(10)의 양면에 형성되는 제1회절격자(20)와 및 제2회절격자(30)를 포함한다. 3 is a cross-sectional view of the wavelength selective diffraction element according to the first embodiment of the present invention. As shown in the figure, the wavelength selective diffraction element 1 according to the present embodiment includes a single transparent substrate 10, a first diffraction grating 20 formed on both surfaces of the transparent substrate 10, and It includes two times the lattice (30).

투명기판(10)은 광투과성 투명 재질로 마련되는데, 바람직하게는 강도와 내열성이 우수한 투명유리판이나 투명필름으로 마련될 수 있다. 이 투명기판(10)은 회절소자(1)의 형태를 유지함과 동시에 제1회절격자(20)와 제2회절격자(30)의 지지면 역할을 수행한다. The transparent substrate 10 may be formed of a light transmissive transparent material, preferably, a transparent glass plate or a transparent film having excellent strength and heat resistance. The transparent substrate 10 maintains the shape of the diffraction element 1 and serves as a support surface for the first diffraction grating 20 and the second diffraction grating 30.

한편, 제1회절격자(20)는 투명기판(10)의 일면에 요철형상으로 형성되어 있다. 이 제1회절격자(20)는 소정의 광학적 구조 조건인 매질굴절률과 구조적 높이(h1)에 의해서, DVD계 파장 λ1의 광을 회절 투과시키는 한편, CD계 파장 λ2의 광을 회절없이 투과시킨다. 이러한 제1회절격자(20)의 λ1 과 λ2의 광에 대한 선택적 회절투과작용은 제1회절격자(20)가 약 660nm의 파장대인 DVD계 파장 λ1에 대해 10 내지 20의 광량비를 가지고, 약 780nm의 파장대인 CD계 파장 λ2에 대해서는 50이상의 광량비를 갖도록 함으로써 가능하다. On the other hand, the first diffraction grating 20 is formed in an uneven shape on one surface of the transparent substrate 10. The first diffraction grating 20 transmits the light of the DVD wavelength λ 1 by diffraction and transmits the light of the CD wavelength λ 2 without diffraction by the medium refractive index and the structural height h1 which are predetermined optical structural conditions. Let's do it. The selective diffraction transmission of the light of λ 1 and λ 2 of the first diffraction grating 20 results in a light quantity ratio of 10 to 20 with respect to the DVD-based wavelength λ 1 of which the first diffraction grating 20 has a wavelength band of about 660 nm. In addition, it is possible by having a light quantity ratio of 50 or more with respect to the CD system wavelength (lambda) 2 which is a wavelength band of about 780 nm.

이를 위한 제1회절격자(20)의 광학적 구조 조건의 예를 들면, 제1회절격자(20)를 구성하는 매질의 굴절율이 1.51이고, 제1회절격자(20)의 높이(h1)가 1456nm일 때, 약 660nm의 파장대인 DVD계 파장 λ1에 대해 14.3의 광량비를 갖고, 약 780nm의 파장대인 CD계 파장 λ2에 대해서는 106의 광량비를 가짐으로써, DVD계 파장 λ1의 광을 회절 투과시키는 한편, CD계 파장 λ2의 광을 회절없이 투과시키는 예를 들 수 있다. For example, for the optical structural conditions of the first diffraction grating 20, the refractive index of the medium constituting the first diffraction grating 20 is 1.51, and the height h1 of the first diffraction grating 20 is 1456 nm. When the light intensity ratio is 14.3 for the DVD wavelength λ 1 in the wavelength band of about 660 nm, and the light intensity ratio is 106 for the CD wavelength λ 2 in the wavelength band of about 780 nm, the light having the DVD wavelength λ 1 is diffracted. On the other hand, an example in which light of the CD wavelength λ 2 is transmitted without diffraction is mentioned.

그리고, 제2회절격자(30)는 투명기판(10)의 이면에 역시 요철형상으로 형성되어 있다. 또한, 이 제2회절격자(30) 역시 소정의 광학적 구조 조건인 매질굴절률과 구조적 높이(h2)에 의해서, DVD계 파장 λ1의 광은 회절 투과시키지 않고, CD 계 파장 λ2의 광은 회절 투과시킨다. 이러한 제2회절격자(30)의 λ1 과 λ2의 광에 대한 선택적 회절투과작용은 제2회절격자(30)가 약 660nm의 파장대인 DVD계 파장 λ1에 대해 50 이상의 광량비를 가지고, 약 780nm의 파장대인 CD계 파장 λ2에 대해서는 10 내지 20의 광량비를 갖도록 함으로써 가능하다. In addition, the second diffraction grating 30 is also formed on the back surface of the transparent substrate 10 in an uneven shape. In addition, the second diffraction grating 30 also diffracts and transmits the light of the DVD wavelength λ 1 by the medium refractive index and the structural height h2 which are predetermined optical structural conditions, and the light of the CD wavelength λ 2 is diffracted. Permeate. The selective diffraction transmission of the light of λ 1 and λ 2 of the second diffraction grating 30 has a light quantity ratio of 50 or more with respect to the DVD-based wavelength λ 1 of which the second diffraction grating 30 has a wavelength band of about 660 nm, It is possible by having the light quantity ratio of 10-20 about CD system wavelength (lambda) 2 which is a wavelength band of about 780 nm.

이를 위한 제2회절격자(30)의 광학적 구조 조건의 예를 들면, 제2회절격자(30)를 구성하는 매질의 굴절율이 제1회절격자(20)와 동일한 1.51(물론, 제1회절격자(20)의 굴절율과 상이한 굴절율을 가질 수도 있다)이고, 제2회절격자(30)의 높이(h2)가 1339nm일 때, 약 660nm의 파장대인 DVD계 파장 λ1에 대해 206의 광량비를 갖고, 약 780nm의 파장대인 CD계 파장 λ2에 대해서는 14.5의 광량비를 가짐으로써, DVD계 파장 λ1의 광은 회절없이 투과시키는 한편, CD계 파장 λ2의 광은 회절 투과시키는 예를 들 수 있다.For example, the optical structural conditions of the second diffraction grating 30 may be 1.51 (of course, the first diffraction grating having the same refractive index of the medium constituting the second diffraction grating 30 as the first diffraction grating 20). It may have a refractive index different from the refractive index of 20), and when the height h2 of the second diffraction grating 30 is 1339 nm, it has a light quantity ratio of 206 with respect to the DVD system wavelength lambda 1 which is a wavelength band of about 660 nm, For example, the CD wavelength λ 2 having a wavelength range of about 780 nm has a light quantity ratio of 14.5. Thus, the DVD wavelength λ 1 can be transmitted without diffraction while the CD wavelength λ 2 is diffracted. .

전술한 제1회절격자(20) 및 제2회절격자(30)의 광량비는 다음과 같은 원리로 결정된다. The light quantity ratio of the first diffraction grating 20 and the second diffraction grating 30 described above is determined based on the following principle.

각 회절격자의 높이를 d, 각 회절격자를 구성하는 매질과 공기와의 굴절률차이를 n, 사용하는 파장을 λ 라고 할 때, 1차 회절광과 0차 투과광은 다음의 수식으로 결정된다.When the height of each diffraction grating is d, the difference in refractive index between the medium constituting each diffraction grating and air is n, and the wavelength used is λ, the first-order diffracted light and the zero-th order transmitted light are determined by the following equation.

1차 회절광 =

Figure 112006057006716-pat00001
1st order diffracted light
Figure 112006057006716-pat00001

0차 투과광 =

Figure 112006057006716-pat00002
0th transmitted light =
Figure 112006057006716-pat00002

따라서, 회절격자에서의 광량비는 "0차 투과광/1차 회절광" 으로 정의되며, 회절격자를 구성하는 매질의 굴절률이 1.51일때, 660nm, 780nm 의 두 파장에 대해 격자 높이에 대한 광량비 곡선을 아래 그림-1에 나타내었다. 아래 그림에서 보면 격자높이가 1339nm 일때, 780nm 에서는 약 14.5 의 광량비를 갖지만, 660nm에 대해서는 약 206 의 광량비를 갖는 특성을 볼 수 있다. 또한, 격자높이가 1456nm 일때는 이와는 반대로 780nm 에서는 106의 광량비를 갖으며, 660nm에서는 14.3의 광량비 특성을 갖는다. 따라서, 1339nm 높이의 회절격자는 780nm 용 회절격자로 동작하고, 1456nm 높이의 회절격자는 660nm 용 회절격자로 동작할 수 있다.Therefore, the light quantity ratio in the diffraction grating is defined as "0th order transmitted light / 1st diffraction light", and when the refractive index of the medium constituting the diffraction grating is 1.51, the light intensity ratio curve with respect to the grating height for two wavelengths of 660 nm and 780 nm Is shown in Figure 1 below. In the figure below, when the lattice height is 1339nm, the light intensity ratio is about 14.5 at 780nm, but the light intensity ratio is about 206 at 660nm. On the contrary, when the lattice height is 1456 nm, it has a light quantity ratio of 106 at 780 nm and a light quantity ratio characteristic of 14.3 at 660 nm. Accordingly, the 1339 nm high diffraction grating may operate as a 780 nm diffraction grating, and the 1456 nm high diffraction grating may operate as a 660 nm diffraction grating.

Figure 112006057006716-pat00003
Figure 112006057006716-pat00003

그림-1Figure-1

이러한, 회절소자(1)의 제1회절격자(20) 및 제2회절격자(30)는 각각 수지상의 폴리머를 이용하여 스핀코팅 등의 방법으로 투명기판(10)의 양 표면에 격자형성 층으로 도포된 후, 포토리 소그라피 혹은 자외선 경화 성형(UV embossing), 열 경화 성형(HOT embossing) 등의 방법으로 투명기판(10)의 표면에 소정의 간격을 갖는 요철형상의 회절격자로 형성된다.The first diffraction grating 20 and the second diffraction grating 30 of the diffraction element 1 each have lattice forming layers on both surfaces of the transparent substrate 10 by spin coating or the like using dendritic polymer. After the coating, the diffraction grating is formed in a concave-convex diffraction grating having a predetermined interval on the surface of the transparent substrate 10 by photolithography, UV embossing, hot embossing, or the like.

이때, 각 회절격자의 중심간의 이격간격(w1)은 듀얼광원(101)에서 λ1 및 λ2의 각각의 광을 출사하는 양 광원(101a,101b)의 중심간의 이격간격(w2)에 대응하는 간격으로 이격됨으로써, λ1 및 λ2의 광이 각각 제1회절격자(20)와 제2회절격자(30)로 정확하게 출사되도록 한다. 물론, 각 회절격자의 중심간 이격간격(w1)은 상기 듀얼 광원의 양 광원 중심간의 이격간격(w2)을 포함하여 광원과 회절소자의 거리에 따라 조절될 수 있다. At this time, the spacing interval w1 between the centers of the diffraction gratings corresponds to the spacing interval w2 between the centers of both light sources 101a and 101b for emitting the respective light of λ 1 and λ 2 from the dual light source 101. By being spaced apart at intervals, the light of λ 1 and λ 2 is accurately emitted to the first diffraction grating 20 and the second diffraction grating 30, respectively. Of course, the spacing interval w1 between the centers of the diffraction gratings may be adjusted according to the distance between the light source and the diffraction element, including the spacing w2 between the centers of both light sources of the dual light sources.

또한, 각 회절격자는 자외선 경화성 레진, 열경화성 레진, 글라스, PC, 액정폴리머, PET 등의 재질로 형성될 수 있으며, 각 회절격자를 구성하는 재료의 열팽창 계수는 투명기판보다 크거나 같은 것이 바람직하다. In addition, each diffraction grating may be formed of a material such as ultraviolet curable resin, thermosetting resin, glass, PC, liquid crystal polymer, PET, and the like, and the coefficient of thermal expansion of the material constituting each diffraction grating is greater than or equal to that of the transparent substrate. .

이와 같이, 본 실시예에 따른 파장선택형 회절소자(1)는 제1회절격자(20)와 제2회절격자(30)의 격자 높이(h1,h2)를 상이하게 조절하여 λ1 및 λ2파장에 대한 회절투과 또는 투과 조건을 만족하는 각각의 광량비를 갖도록 함으로써, 제1회절격자(20)와 제2회절격자(30)에서 각각 λ1 및 λ2파장을 선택적으로 회절시킬 수 있다. As described above, the wavelength selective diffraction element 1 according to the present embodiment adjusts the grating heights h1 and h2 of the first diffraction grating 20 and the second diffraction grating 30 to different wavelengths λ 1 and λ 2. By having the respective light quantity ratios satisfying the diffraction transmission or transmission conditions with respect to, the λ 1 and λ 2 wavelengths can be selectively diffracted in the first diffraction grating 20 and the second diffraction grating 30, respectively.

특히, 제1회절격자(20)와 제2회절격자(30)가 동일한 매질 굴절률을 갖더라도 회절격자의 높이(h1,h2)를 조절하는 것만으로도 λ1 및 λ2파장의 선택적 회절이 가능하기 때문에, 고도의 고분자 액정 배향 등의 기술을 이용하지 않고도 파장선택형 회절소자(1)를 제작할 수 있다. 이에 의해, 회절소자(1)의 제조 공정이 매우 간단하게 이루어지고 제조비용을 현격하게 절감할 수 있다.In particular, even if the first diffraction grating 20 and the second diffraction grating 30 have the same medium refractive index, selective diffraction of λ 1 and λ 2 wavelengths is possible only by adjusting the heights h1 and h2 of the diffraction gratings. Therefore, the wavelength selective diffraction element 1 can be manufactured without using a technique such as highly polymer liquid crystal alignment. Thereby, the manufacturing process of the diffraction element 1 is made very simple, and manufacturing cost can be reduced significantly.

또한, 본 발명에 따른 파장선택형 회절소자(1)는 제1회절격자(20)와 제2회절격자(30)의 높이(h1,h2)를 조절하여 λ1 및 λ2파장에 대한 회절투과 또는 투과 조건을 만족하는 각각의 광량비를 갖도록 하기 때문에, 별도의 편광소자를 이용하지 않고도 λ1 및 λ2파장의 편광 상태에 상관없이 각각의 λ1 및 λ2파장을 선택적으로 회절시킬 수 있다. In addition, the wavelength selective diffraction element 1 according to the present invention adjusts the heights h1 and h2 of the first diffraction grating 20 and the second diffraction grating 30 to transmit diffraction at wavelengths λ 1 and λ 2 , or Since the respective light quantity ratios satisfy the transmission conditions, the respective λ 1 and λ 2 wavelengths can be selectively diffracted regardless of the polarization state of the λ 1 and λ 2 wavelengths without using a separate polarizing element.

이러한 광학적 구조 조건을 갖는 본 발명에 따른 회절소자(1)는 도 7에 도시된 바와 같이, CD와 DVD 호환형 광헤드장치(100)에서 레이저광을 발생시키는 듀얼광원(101)과 레이저광을 광디스크(a)로 집광하는 대물렌즈(103) 사이의 광로상에 설치되어 제1회절격자(20)와 제2회절격자(30)에서 λ1과 λ2에 대해 각각 0차 회절광인 메인빔과 1차 회절광인 두 개의 서브빔을 각각 독립적으로 생성함으로써, 광헤드장치(100)가 CD 또는 DVD 중 해당하는 어느 하나의 광디스크(a)에 대해 정보를 기록하거나 재생할 수 있도록 해준다.As shown in FIG. 7, the diffraction element 1 according to the present invention having such an optical structural condition uses a dual light source 101 and a laser light to generate a laser light in the CD and DVD compatible optical head device 100. A main beam which is provided on an optical path between the objective lens 103 focused on the optical disk a, and which is zero order diffracted light for λ 1 and λ 2 in the first diffraction grating 20 and the second diffraction grating 30, respectively; By independently generating the two sub-beams, which are the first diffracted light, the optical head device 100 can record or reproduce information on any one of the corresponding optical disks a of CD or DVD.

한편, 도 4는 본 발명의 제2실시예에 따른 파장선택형 회절소자(1)의 단면도이다. 이 도면에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 파장선택형 회절소자(1)는 상호 이격된 한 쌍의 투명기판(10)에 각각 제1회절격자(20)와 제2회절격자(30)가 형성되어 있고, 양 투명기판(10) 사이에 접착물질(50)이 충전되어 있는 구조를 가지고 있다. 이에 의해 회절소자(1)의 구조적 안정성을 확보할 수 있다. 4 is a cross-sectional view of the wavelength selective diffraction element 1 according to the second embodiment of the present invention. As shown in this figure, the wavelength selective diffraction element 1 according to the present embodiment has a first diffraction grating 20 and a second diffraction grating 30 disposed on a pair of transparent substrates 10 spaced apart from each other. It is formed and has a structure in which the adhesive material 50 is filled between both transparent substrates (10). Thereby, the structural stability of the diffraction element 1 can be ensured.

이때, 제1회절격자(20)와 제2회절격자(30) 중 어느 하나는 양 투명기판(10) 사이에서 일측 투명기판(10)의 판면에 형성되고, 다른 하나는 타측 투명기판(10)의 외측면에 형성될 수 있다. 물론 제1회절격자(20)와 제2회절격자(30)는 양 투명기판(10)의 대향면에 형성될 수도 있다. At this time, any one of the first diffraction grating 20 and the second diffraction grating 30 is formed on the plate surface of one transparent substrate 10 between the two transparent substrate 10, the other is the other transparent substrate 10 It may be formed on the outer side of the. Of course, the first diffraction grating 20 and the second diffraction grating 30 may be formed on opposite surfaces of both transparent substrates 10.

여기서, 제1회절격자(20)와 제2회절격자(30)의 광학적 구조조건은 전술한 제1실시예의 회절소자(1)와 동일하므로 그 설명은 생략한다. Here, the optical structural conditions of the first diffraction grating 20 and the second diffraction grating 30 are the same as those of the diffraction element 1 of the first embodiment described above, and thus description thereof is omitted.

한편, 양 투명기판(10) 사이에 충전되는 접착물질(50)의 굴절률(n2)과 제1회절격자(20) 및 제2회절격자(30)의 굴절률(n1)의 차이는 0.02 내지 0.04인 것이 바람직하다. 이는 접착물질(50)의 굴절률(n2)과 제1회절격자(20) 및 제2회절격자(30)의 굴절률(n1)의 차이가 0.02 이하인 경우에 회절격자의 형성 공정이 매우 어려울 뿐만 아니라, 회절격자의 구조적 형상에 대한 정확도가 떨어지는 문제점을 발생시키기 때문이다. On the other hand, the difference between the refractive index (n2) of the adhesive material 50 is filled between the two transparent substrate 10 and the refractive index (n1) of the first diffraction grating 20 and the second diffraction grating 30 is 0.02 to 0.04 It is preferable. This is not only difficult to form the diffraction grating when the difference between the refractive index n2 of the adhesive material 50 and the refractive index n1 of the first diffraction grating 20 and the second diffraction grating 30 is 0.02 or less, This is because the problem of the accuracy of the structural shape of the diffraction grating is reduced.

한편, 도 5 및 도 6은 본 발명의 제3실시예에 따른 파장선택형 회절소자(1)의 단면도이다. 이 도면에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 파장선택형 회절 소자(1)는 상호 이격된 한 쌍의 투명기판(10)에 각각 제1회절격자(20)와 제2회절격자(30)가 형성되어 있고, 양 투명기판(10) 사이에 위상지연층(60)이 형성되어 있는 구조를 가지고 있다. 5 and 6 are cross-sectional views of the wavelength selective diffraction element 1 according to the third embodiment of the present invention. As shown in the figure, the wavelength selective diffraction element 1 according to the present embodiment has a first diffraction grating 20 and a second diffraction grating 30 disposed on a pair of transparent substrates 10 spaced apart from each other. And a phase delay layer 60 is formed between the two transparent substrates 10.

여기서, 제1회절격자(20)와 제2회절격자(30)의 광학적 구조조건은 전술한 실시예들의 회절소자(1)와 동일하므로 그 설명은 생략한다. Here, since the optical structural conditions of the first diffraction grating 20 and the second diffraction grating 30 are the same as those of the diffraction element 1 of the above-described embodiments, description thereof will be omitted.

한편, 위상지연층(60)은 적절한 위상지연값(Optical Pass Difference : OPD)값을 가지면서, 도 5와 같이 필름형태로 마련되어 양 투명기판(10)사이에 접착물질(50)에 의해 개재되거나, 도 6과 같이, 액정폴리머(LCP: Liquid crystal polymer)에 의한 액정층으로 마련되어 양 투명기판(10)사이에 개재될 수 있다. On the other hand, the phase delay layer 60 is provided in the form of a film, as shown in Figure 5, having an appropriate phase delay value (OPD) value, it is interposed between the transparent substrate 10 by the adhesive material 50 or As shown in FIG. 6, the liquid crystal layer is formed of a liquid crystal polymer (LCP) and may be interposed between both transparent substrates 10.

이 위상지연층(60)은 미리 조절된 위상지연값에 의해 상이한 파장으로 입사되는 λ1 및 λ2의 편광을 변화시킬 수 있다. 예컨대 파장이 660nm인 λ1파장에 대해서는 편광방향을 90도로 회전시키고, 파장이 780nm인 λ2파장에 대해서는 위상지연 없이 그대로 통과하는 위상지연값(OPD)을 선택할 수 있다. 물론, λ1파장과 λ2파장에 대한 편광방향 회전을 위한 위상지연은 반대일 수도 있다.The phase delay layer 60 can change the polarization of λ 1 and λ 2 incident at different wavelengths by a pre-adjusted phase delay value. For example, the polarization direction can be rotated by 90 degrees with respect to the λ 1 wavelength having a wavelength of 660 nm, and the phase delay value OPD can be selected for the λ 2 wavelength having a wavelength of 780 nm without any phase delay. Of course, the phase delay for polarization rotation about the λ 1 wavelength and the λ 2 wavelength may be reversed.

이러한 위상지연층(60)을 갖는 파장선택형 회절소자(1)는 동일한 편광방향으로 입사되는 λ1파장과 λ2파장이 위상지연층(60)을을 통과할 때, λ1와 λ2파장에 중 어느 하나의 편광을 변화시키는 것으로서, λ1과λ2의 편광방향이 동일하게 발생되는 2파장 듀얼광원(101)을 사용하는 CD와 DVD 호환형 광헤드장치(100)의 광로상 에 설치될 수 있다.The wavelength selective diffraction element 1 having such a phase delay layer 60 has a wavelength of λ 1 and λ 2 when λ 1 and λ 2 wavelengths incident in the same polarization direction pass through the phase delay layer 60. By changing the polarization of any one of the, the polarization direction of λ 1 and λ 2 to be installed on the optical path of the CD and DVD compatible optical head device 100 using the two-wavelength dual light source 101 is generated Can be.

이와 같이, 본 발명에 따른 파장선택형 회절소자는 제1회절격자와 제2회절격자의 격자 높이를 상이하게 조절하는 것으로 상이한 파장의 입사광을 선택적으로 회절시킬 수 있기 때문에, 고도의 고분자 액정 배향 등의 기술을 이용하지 않고도 파장선택형 회절소자 및 이를 갖는 광헤드장치를 제작할 수 있다. As described above, the wavelength selective diffraction element according to the present invention can selectively diffract incident light having different wavelengths by differently adjusting the lattice heights of the first diffraction grating and the second diffraction grating. A wavelength selective diffraction element and an optical head device having the same can be manufactured without using a technique.

이에 의해, 회절소자의 제조 공정이 매우 간단하게 이루어지고 제조비용을 현격하게 절감할 수 있다. Thereby, the manufacturing process of a diffraction element becomes very simple, and manufacturing cost can be reduced significantly.

또한, 제1회절격자와 제2회절격자의 높이를 조절하여 λ1 및 λ2파장에 대한 회절투과 또는 투과 조건을 만족하는 각각의 광량비를 갖도록 하기 때문에, 별도의 편광소자를 이용하지 않고도 λ1 및 λ2파장의 편광 상태에 상관없이 각각의 λ1 및 λ2파장을 선택적으로 회절시킬 수 있다. In addition, since the heights of the first diffraction grating and the second diffraction grating are adjusted to have respective light quantity ratios satisfying the diffraction transmission or transmission conditions with respect to the λ 1 and λ 2 wavelengths, λ is not required without using a separate polarizing element. 1 and there regardless of the polarization state of the wavelength λ 2 can be selectively diffract each wavelength λ 1 and λ 2.

이에 의해, 회절소자 및 이를 갖는 광헤드장치의 제조 공정 및 제조 비용이 더욱 절감된다. Thereby, the manufacturing process and manufacturing cost of the diffraction element and the optical head apparatus having the same are further reduced.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 제조가 간단하고 제조비용을 절감할 수 있으며, 별도의 편광소자를 이용하지 않고도 상이한 파장의 입사광을 선택적으로 회절시킬 수 있는 파장선택형 회절소자 및 이를 갖는 광헤드장치가 제공된 다.As described above, according to the present invention, a wavelength selective diffraction element and an optical head having the same can be easily manufactured and reduce the manufacturing cost, and can selectively diffract incident light of different wavelengths without using a separate polarizing element. The device is provided.

Claims (10)

상호 상이한 파장대 입사광의 λ1파장과 λ2파장 중 어느 하나의 파장을 선택적으로 회절시키는 파장선택형 회절소자에 있어서,A wavelength selective diffraction element for selectively diffracting any one of lambda 1 wavelength and lambda 2 wavelength of incident light in mutually different wavelength bands, 적어도 하나의 광투과성 투명기판과;At least one transparent transparent substrate; 상기 투명기판의 일측에 형성되며, 구조적 높이 설정에 의해 상기 λ1파장의 광은 회절 투과시키는 한편, 상기 λ2파장의 광은 투과시키는 광량비를 갖는 제1회절격자와;It is formed at one side of the transparent substrate, and the first grating by a structural height setting with the amount of light which the other hand, the light transmission of the wavelength λ 2 of light is transmitted through a diffraction of the wavelength λ 1; 상기 투명기판의 타측에 형성되며, 구조적 높이 설정에 의해 상기 λ1파장의 광을 투과시키는 한편, 상기 λ2파장의 광을 회절 투과시키는 광량비를 갖는 제2회절격자를 포함하는 것을 특징으로 하는 파장선택형 회절소자. Is formed on the other side of the transparent substrate, a structured by the height setting for transmitting light of said λ 1 wavelength other hand, characterized in that it comprises a second diffraction grating with the amount of light that diffracts transmitted light of the λ 2 wavelength Wavelength selective diffraction element. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 제1회절격자와 상기 제2회절격자의 매질 굴절률은 상호 동일한 것을 특징으로 하는 파장선택형 회절소자. And the refractive index of the medium of the first diffraction grating and the second diffraction grating is the same. 제2항에 있어서, The method of claim 2, 상기 제1 및 제2회절격자는 자외선 경화성 레진, 열경화성 레진, 글라스, PC, 액정폴리머, PET 중 어느 하나의 재질로 형성되는 것을 특징으로 하는 파장선택형 회절소자. The first and second diffraction grating is a wavelength selective diffraction element, characterized in that formed of any one material of ultraviolet curable resin, thermosetting resin, glass, PC, liquid crystal polymer, PET. 제3항에 있어서, The method of claim 3, 상기 제1 및 제2회절격자를 형성하는 재료의 열팽창 계수는 상기 투명기판의 열팽창계수보다 크거나 같은 것을 특징으로 하는 파장선택형 회절소자. And the thermal expansion coefficient of the material forming the first and second diffraction gratings is greater than or equal to the thermal expansion coefficient of the transparent substrate. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 투명기판은 한 쌍으로 마련되고, 상기 제1회절격자와 상기 제2회절격자는 상기 양 투명기판의 판면에 형성되며, The transparent substrate is provided in a pair, the first diffraction grating and the second diffraction grating are formed on the plate surface of the both transparent substrates, 상기 양 투명기판 사이에는 접착물질이 개재되는 것을 특징으로 하는 파장선택형 회절소자. A wavelength selective diffraction element characterized in that an adhesive material is interposed between the two transparent substrates. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 입사광에 대한 상기 제1회절격자와 상기 제2회절격자의 매질굴절률과 상기 접착물질의 굴절률 차이는 0.02 내지 0.04인 것을 특징으로 하는 파장선택형 회절소자. The wavelength selective diffraction element of claim 1, wherein the difference between the refractive index of the medium and the adhesive material of the first diffraction grating and the second diffraction grating is 0.02 to 0.04. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 제1회절격자와 상기 제2회절격자 사이에는 상기 λ1파장과 λ2파장 중 어느 하나의 파장을 위상지연시키는 위상지연층이 더 포함되는 것을 특징으로 하는 파장선택형 회절소자.And a phase delay layer between the first diffraction grating and the second diffraction grating to delay a phase of any one of the wavelengths λ 1 and λ 2 . 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 위산지연층은 소정의 위상지연값을 갖는 위상지연 필름 또는 액정층으로 마련되는 것을 특징으로 하는 파장선택형 회절소자. The gas acid delay layer is a wavelength selective diffraction element, characterized in that provided with a phase delay film or a liquid crystal layer having a predetermined phase delay value. 상호 상이한 파장대의 λ1파장과 λ2파장의 광을 출사하는 듀얼광원과, 상기 λ1, λ2파장의 광을 광기록매체에 집광시키는 대물렌즈와, 상기 광원과 상기 대물렌즈 사이의 광로 중에 설치되며 상기 λ1파장과 상기 λ2파장의 광을 선택적으로 회절 투과시키는 제1 및 제2회절격자를 갖는 파장선택형 회절소자와, 상기 광기록매체에서 반사되는 상기 λ1파장과 λ2파장의 광을 검출하는 광검출기를 구비한 광헤드장치에 있어서,A dual light source that emits light having a wavelength of λ 1 and a wavelength of λ 2 , and an objective lens for condensing light of the λ 1 and λ 2 wavelengths on an optical recording medium, and an optical path between the light source and the objective lens. the installation, the first and second said λ 1 wavelength and λ 2 wavelengths and a wavelength-selectable diffraction element having a diffraction grating, reflected by the optical recording medium, for selectively diffracting transmitted by the λ 1 wavelength and the light of said λ 2 wavelength In the optical head device having a photodetector for detecting light, 상기 파장선택형 회절소자는 상기 제1항 내지 제8항 중 어느 하나의 파장선택형 회절소자인 것을 특징으로 하는 광헤드장치.The wavelength selective diffraction element is an optical head device, characterized in that the wavelength selective diffraction element of any one of the first to eighth. 제9항에 있어서, The method of claim 9, 상기 파장선택형 회절소자의 상기 제1회절격자와 제2회절격자의 중심간 이격간격은 상기 듀얼 광원의 양 광원 중심간의 이격 간격에 대응하는 것을 특징으로 하는 광헤드장치. And an interval between the centers of the first diffraction grating and the second diffraction grating of the wavelength selective diffraction element corresponds to a spacing between two light source centers of the dual light sources.
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