KR100775735B1 - 광학적 위상차 측정 장치와 그 측정 방법 및 그 측정방법이 기록된 컴퓨터로 판독가능한 기록매체 - Google Patents

광학적 위상차 측정 장치와 그 측정 방법 및 그 측정방법이 기록된 컴퓨터로 판독가능한 기록매체 Download PDF

Info

Publication number
KR100775735B1
KR100775735B1 KR1020050029038A KR20050029038A KR100775735B1 KR 100775735 B1 KR100775735 B1 KR 100775735B1 KR 1020050029038 A KR1020050029038 A KR 1020050029038A KR 20050029038 A KR20050029038 A KR 20050029038A KR 100775735 B1 KR100775735 B1 KR 100775735B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
sample
phase difference
wavelength
optical
parallel
Prior art date
Application number
KR1020050029038A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20060107058A (ko
Inventor
유제혁
세르게이 벨리아에프
전병건
말리모넨코
박문수
Original Assignee
주식회사 엘지화학
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 엘지화학 filed Critical 주식회사 엘지화학
Priority to KR1020050029038A priority Critical patent/KR100775735B1/ko
Publication of KR20060107058A publication Critical patent/KR20060107058A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100775735B1 publication Critical patent/KR100775735B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/255—Details, e.g. use of specially adapted sources, lighting or optical systems
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J4/00—Measuring polarisation of light
    • G01J4/04—Polarimeters using electric detection means
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/21—Polarisation-affecting properties
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/59—Transmissivity
    • G01N21/5907—Densitometers
    • G01N2021/5957—Densitometers using an image detector type detector, e.g. CCD

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

본 발명은 샘플의 광학적 위상차를 측정하기 위한 측정 장치와 그 측정 방법 및 그 측정 방법이 기록된 판독가능한 기록매체가 제공된다.
특히 본 발명에서는 측정되는 스펙트럼 영역의 어떠한 파장에 대하여도 필름 면상에 대한 광학 위상차 값들이 알려진 상수값을 갖는 기준 위상차 필름을 편광판들 사이에 배치시킴으로써 위상차를 직접 결정하는 장치와 방법이 제시되고, 이러한 본 발명에 의해 오차범위 0.1~0.2nm 이내의 정확한 위상차 측정이 가능해지고, 대략 150 ~250nm 정도의 비교적 낮은 위상차의 결정이 가능해지며, 생산라인에서 저가에 보다 빠른 속도로 위상차를 결정할 수 있는 효과를 가진다.
위상차 측정, 이방성, 복굴절, 편광판, 최소 투과도

Description

광학적 위상차 측정 장치와 그 측정 방법 및 그 측정 방법이 기록된 컴퓨터로 판독가능한 기록매체{Equipment, Method and Computer-readible storage medium for determining the optical retardation of a sample}
도 1은 샘플의 광학적 위상차를 결정하는 종래의 첫번째 장치와 방법에 대한 구성도.
도 2는 샘플의 광학적 위상차를 결정하는 종래의 두번째 장치와 방법에 대한 구성도.
도 3은 샘플의 광학적 위상차를 결정하는 종래의 세번째 장치와 방법에 대한 구성도.
도 4는 본 발명에 따른 위상차를 결정하는 제 1 실시 태양에 따른 장치의 구성도.
도 5는 본 발명에 따른 위상차를 결정하는 제 2 실시 태양에 따른 장치의 구성도.
도 6은 기준 필름만 있을 때(1번 곡선)와 기준필름과 샘플이 수직으로 배열되어 있을 때(2번 곡선)의 파장에 따른 투과도를 나타내는 도면.
도 7은 기준 필름(1번 곡선)과 샘플(2번 곡선)의 파장에 따른 상대적 위상차를 나타내는 도면.
도 8은 본 발명에 따라 편광판이 서로 평행하게 배열되어 있고 기준필름과 샘플의 축이 평행한 경우에 대한 제 3 실시 태양에 따른 장치의 구성도.
도 9는 본 발명에 따라 편광판이 서로 수직으로 배열되어 있고 기준필름과 샘플의 축이 평행한 경우에 대한 제 4 실시 태양에 따른 구성도.
도 10은 본 발명에 따라 편광판이 서로 수직으로 배열되어 있고 기준필름과 샘플의 축이 수직인 경우에 대한 제 5 실시 태양에 따른 구성도.
*도면 부호에 대한 설명*
1, 10: 광원 2: 샘플
3: 단독 편광판 4: 렌즈
5: 도파관 6: 파장 분석기
7, 90: 컴퓨터 20: 제 1 편광판
21, 31, 32, 51, 52, 61, 71: 광축 30: 제 2 편광판
40: 광학 스펙트럼 분석기 50: 샘플
60: 바비넷-솔레일 보상판 70: 기준 위상차 필름
80: 분광계 90: 컴퓨터
100: 제 1 도파관 110: 제 2 도파관
본 발명은 일반적으로 샘플의 광 특성과 관련이 있고, 특히 광학적 이방성 샘플의 광학적 위상차를 결정하는 장치와 방법에 관한 것으로서, 본 발명에서는 측정되는 스펙트럼 영역의 어떠한 파장에 대하여도 필름 면상에 대한 광학 위상차 값들이 알려진 상수값을 갖는 기준 위상차 필름을 편광판들 사이에 배치시킴으로써 위상차를 직접 결정하는 광학적 위상차 측정장치와 그 측정방법에 관한 것이다.
이방성 샘플들은 서로 다른 축에 대해 각각 다른 물리적 특성을 보인다. 광학적으로 이방성인 물질은 전형적인 복굴절 물질이다.
다시 말해 빛의 파장(light waves)이 이방성 물질을 통과하면 다른 속도를 가진 두개의 파장으로 분리가 되고 따라서 다른 굴절율을 갖는다.
광학적 이방성 물질의 예로서, 한쪽 방향으로 연신된 폴리카보네이트(polycarbonate)와 같은 고분자 필름을 들 수 있으며, 이러한 이방성 물질의 특징은 광학적 위상차를 유발한다는 것이다.
광학적 위상차는 두께와 복굴절의 곱으로 정의되며, 그 계산식은 다음의 수학식 1과 같다.
(수학식 1)
R=d * △n = d * (nx-ny)
여기서 R은 광학적 위상, d는 샘플의 두께, △n은 샘플의 복굴절 또는 광축 방향에서 측정된 굴절율(nx)과 그에 수직인 축에서 측정된 굴절율(ny)의 차를 의미한다.
물질의 위상차를 측정하는 방법은 여러 가지가 있는데, 먼저 위상차를 간접 적으로 측정하는 방법이 있다.
굴절 계수 nx, ny는 아베 굴절계로 측정할 수 있고 샘플의 두께는 기계적이나 광학적인 장비로써 측정 가능하다.
그러나 이 방법의 단점은 측정 속도가 느리다는 것이다.
다음으로 도 1과 같이 샘플의 광학적 위상차를 측정하는 장치가 알려져 있다.
그 구성요소로는:
빛을 방출하는 광원(10);
투과된 빛의 파장을 검출하도록 고안된 광학 스펙트럼 분석기(40);
광원(10)과 샘플(50)사이의 빛의 경로에 위치한 제 1 편광판(20);
샘플(50)과 광학 스펙트럼 분석기(40) 사이의 빛의 경로에 위치한 제 2 편광판(30);으로 이루어지며, 편광판(20),(30)의 투과축(21),(31)은 대체로 서로 평행이고; 샘플(50)의 광축(51)은 편광판(20),(30)의 투과축(21),(31)과 45ㅇ로 정렬 되어 있다.
이 장치로 샘플(50)의 광학적 위상차를 결정하는 방법은:
평행한 두 편광판(20),(30) 사이에 위치한 샘플(50)의 최소 투과도를 나타내는 파장 λmin s 을 결정하는 단계;와, 아래 수학식 2을 사용하여 위상차 R을 계산하는 단계; 들로 구성된다.
(수학식 2)
R = 0.5*λmin s
이러한 장치와 측정방법의 단점은 200nm이상의 비교적 큰 위상차 값만을 측정할 수 있다는 것과 λmin s 파장에서만 측정할 수 있다는 것, 그리고 그것이 고정되지 않고 샘플의 위상차 값에 의존한다는 것 등이 있다.
또 다른 방법으로 도 2와 같은 광학적 위상차 측정 장치도 알려져 있다. 그 구성은:
빛을 방출하는 광원(10);
투과된 빛의 세기를 측정하는 광학 스펙트럼 분석기(40);
광원(10)과 샘플(50) 사이의 빛의 경로에 위치한 제 1 편광판(20);
샘플(50)과 광학 스펙트럼 분석기(40)사이의 빛의 경로에 위치한 제 2 편광판(30);
샘플(50)과 제 1 편광판(20) 또는 제 2 편광판(30) 사이에 위치한 다양한 위상차 값을 가진 바비넷-솔레일(Babinet-Soleil) 보상판(60); 으로 이루어지며, 편광판(20),(30)의 투과축(21),(31)은 대체로 서로 평행이고; 샘플(50)의 광축(51)은 편광판(20),(30)의 투과축(21),(31)과 45ㅇ로 정렬되어 있으며; 샘플(50)의 광축(51)과 바비넷-솔레일 보상판(60)의 광축(61)은 서로 수직이다.
위 장치로 샘플(50)의 광학적 위상차를 결정하는 방법은:
제 2 편광판(30)을 통과한 빛이 최소의 투과도를 갖도록 미세 조절기(미도시)를 사용하여 바바넷-솔레일 보상판(60)의 위상차 값인 RBS값을 조절(제로 투과 방법)하는 단계;
샘플(50)의 위상차값을 R=RBS로 결정하는 단계;로 구성된다.
이 장치와 측정방법의 단점은 정확도가 낮고 측정 속도가 느리다는 것이다.
마지막으로 샘플의 광학적 위상차를 측정할 수 있는 또 다른 장치의 구성은 미국 특허 US 5,936,735에서 게시되는 바와 같이,
빛을 방출하는 광원(1);
광원(1)과 샘플(2) 사이의 빛의 경로에 배열된 렌즈(4);
파장 분석기(6);
컴퓨터(7);
광원(1)으로부터의 빛을 샘플(2)로 유도하고, 샘플(2)로부터 반사된 빛을 파장 분석기(6)로 유도하는 도파관(5);
광원(1)과 파장 분석기(6) 사이의 빛의 경로에 놓여지는 단독 편광판(3);으로 이루어진다.
이 장치를 이용한 샘플의 광학적 위상차 결정 방법은:
파장에 대해서 반사 세기가 최대와 최소인 스펙트럼의 위치를 측정하는 단계;
적절한 식을 사용하여 반사의 최대, 최소 값으로부터 샘플의 위상차를 계산 하는 단계;로 구성된다.
이 장치와 측정방법 또한 200nm 이상의 비교적 높은 값의 위상차 만을 측정할 수 있다는 단점을 가지고 있다.
본 발명의 목적은 종래 기술이 지니는 단점을 해결하고, 위상차를 직접적으로 결정하는 장치와 방법을 제공하는데 있다.
그리고, 본 발명의 다른 목적은 정확한 위상차 값을 결정하기 위한 장치와 그 방법을 제공하는데 있다.
본 발명의 또 다른 목적은 상대적으로 낮은 값의 위상차를 결정할 수 있는 장치를 제공하는 데 있다.
또한 본 발명의 또 다른 목적은 생산 라인에서 빠르게 사용될 수 있는 장치를 제공하는데 있다.
또한 본 발명의 또 다른 목적은 샘플의 광학적 위상차를 결정할 수 있는 컴퓨터 프로그램이 기록된 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록매체를 제공하는데 있다.
상기한 바와 같은 문제를 해결하기 위해 제공되는 본 발명에 따라 샘플의 위상차를 측정하기 위한 광학 위상차 측정 장치는,
빛을 방출하는 광원;
투과된 빛의 파장과 농도를 검출하는 광학 스펙트럼 분석기;
광학 스펙트럼 분석기에 연결된 컴퓨터;
광원과 샘플 사이의 빛의 경로에 위치하는 제 1 편광판;
샘플과 상기 광학 스펙트럼 분석기 사이의 빛의 경로에 위치하고, 상기 제 1 편광판과의 광축이 평행 또는 수직인 제 2 편광판; 및
측정되는 스펙트럼 영역의 어떠한 파장에 대하여도 필름 면상에 대한 광학 위상차 값들이 알려진 상수를 가지고, 제 1 편광판과 제 2 편광판 사이에 위치하며, 광축이 상기 어느 편광판의 광축과 45o ± 3 o 를 이루고 상기 샘플의 광축과는 서로 평행 또는 수직한 기준 위상차 필름;을 포함하는 것을 특징으로 한다.
그리고, 광원과 제 1 편광판의 사이와, 상기 제 2 편광판과 광학 스펙트럼 분석기의 사이에는 각각 빛을 유도하기 위한 제 1 도파관과 제 2 도파관이 더 구비될 수 있다.
이러한 광학 위상차 측정 장치에서 두 편광판의 광축들은 서로 평행하거나 수직으로 배치될 수 있으며, 상기 샘플과 기준 필름의 광축도 평행하거나 수직으로 배치될 수 있다.
그리고, 본 발명에 따라서 샘플의 광학 위상차의 산술적 값을 결정하는 방법은,
평행 또는 교차되게 배열된 편광판들 사이에 기준 필름만이 위치하고, 상기 기준 필름과 편광판의 광축이 45o ± 3 o 일 때, 파장들의 측정되는 스펙트럼 범위 내에서 최소의 투과도를 나타내는 파장 λmin R을 결정하는 단계;
평행 또는 교차되게 배열된 편광판들 사이에 서로 평행 또는 교차되는 기준 필름과 소정 샘플을 위치시켜 파장들의 측정된 스펙트럼 범위 내에서 최소의 투과도를 나타내는 파장 λmin R-S 를 결정하는 단계;
파장 λmin R 과 λmin R-S 를 이용하여 측정된 파장 범위에서 특정 파장에서의 샘플의 위상차값을 계산하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명은 샘플의 두께나 복굴절에 대한 특정값들의 측정없이 위상차를 결정할 수 있는 장치와 방법을 제공한다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예들에 대해 상세히 설명하고자 하며, 도면들에서 이용되는 관련 번호들 중에서 동일한 관련 번호들은 각각의 도면들에서 구조를 이루는 동일한 요소들을 나타내는 것이다.
본 발명에 따라 샘플의 광학적 위상차 R을 결정하도록 개발된 장치와 방법의 광학적 원리는 광축이 평행 또는 수직하는 편광판들 사이에 위치되는 위상차 샘플에 대한 최소 투과도인 스펙트럼의 위치 λmin 의 측정에 근거한다.
편광판들이 평행한 경우에 샘플의 위상차 R은 λmin 파장에서 R=λmin/2 + m* 으로 계산된다.( m = 0, 1, 2, …. 정수, 간섭 차수(interference order))
이 경우에 샘플은 λmin 파장에서 m-차수(order)의 반파(halfwave) 플레이트(plate)이다.
가시 범위의 모든 파장에서의 위상차 값들을 얻기 위해서는 복굴절 물질인 샘플에 대한 관련된 분산 곡선이 이용된다.
편광판들이 교차되는 경우에 샘플의 위상차 R은 λmin 파장에서 R= m*λmin 으로 계산된다.( m = 0, 1, 2, …. 정수, 간섭 차수(interference order))
200 nm 이하의 낮은 위상차 값을 갖는 샘플들은 가시 범위에서 최소 투과도를 가지지 않는다.
이러한 샘플들의 위상차를 측정하기 위하여 본 발명은 두가지 필름: 즉, 측정된 스펙트럼 범위(예를 들어, 요오드 편광판들에 대해서는 410~ 720nm) 내에서 최소 투과도를 갖는 제 1 위상차 필름(기준 위상차 필름)과 측정이 이루어지는 샘플 필름인 제 2 필름이 이용된다.
샘플의 광축을 기준 필름의 축에 90o로 위치시키고 나면 최소 투과도를 갖는 스펙트럼의 값이 △λ 값만큼 짧은(또는 음(-)의 위상차를 갖는 샘플의 경우에 더 긴) 파장 쪽으로 이동한다.
가장 간단한 경우로, 만약 기준 필름과 샘플 필름이 복굴절 분산을 가지고 있지 않다면, 그리고, 기준 필름이 영 차수(zero order) (m = 0) 라면, 샘플 위상차 R은 R=△λ/2 로 계산된다.
그러므로 이 방법을 사용한다면 150-250 nm의 값을 가지는 위상차 필름들(편광판을 글란-톰슨(Glan-Tompson) 프리즘을 사용하면 250 nm까지 측정가능)을 측정하는 것이 가능해진다.
어떠한 분산을 갖는 기준 필름과 샘플 필름들, 또는 더 높은 차수(m > 0)의 기준 필름의 경우에, 샘플 위상차의 계산은 좀더 복잡하다. 예를 들어, 만약 기준 필름이 1차(m=1)이면, 샘플 위상차 R은 R = 3△λ/2 로 계산된다
편광판은 어떠한 타입도 사용할 수 있는데, 요오드와 흡수 유형의 필름 편광판들로 이루어진 이색성 염료들, 3M사의 다층 DBEF 편광판, 반사 타입의 철사 격자(wire grid) 편광판, 프리즘 유형의 편광판, 글란-톰슨(Glan- Thompson) 프리즘과 같은 것들이 샘플의 광학적 위상차를 결정하기 위해 앞서 제안된 장비와 방법에 적합하다. 넓은 대역의 파장 범위, 특히 1000 nm까지의 긴 파장을 갖는 편광판들을 이용하는 것이 바람직한 선택이다.
본 발명에서 "광학적", "빛" 등의 단어를 우리는 보다 일반적인 의미로 사용한다. 그것은 우리가 광학적 위상차를 결정하기 위해 서술하는 장치와 방법이 가시 광선뿐만 아니라 예를 들어 자외선, 적외선, 극초단파 영역들의 전자기 복사의 넓은 영역까지도 고려하고 있다는 것을 의미한다.
이러한 경우들에 대해서 적절한 편광판들, 광원들, 광학 스펙트럼 분석기들이 사용될 필요가 있다.
제안된 장치와 방법은 광선의 정면방향과 경사각에서의 위상차 측정에 사용될 수 있다. 제안된 방법에서는 광학적 위상차를 결정하는 방법에 대해 잘못된 위상차 측정을 야기할 수 있는 경사각에서 입사되는 광선에서의 위상차 필름의 표면의 영향을 예방하였다.
제안된 방법은 수직과 경사각에서 입사되는 빛에서 필름의 위상차를 연속적 으로 측정할 수 있다. 샘플 영역의 두 지점이나 그 이상의 지점에서의 위상차 측정 또한 가능하다. 광학 스펙트럼 분석기로서 다채널 분광계(multi-channel spectrometer)가 이러한 목적을 위하여 사용될 수 있다.
다양한 타입의 분광계들, 분광광도계들 및 유사한 장치들이 파장에 대한 투과도를 측정하기 위한 광학 스펙트럼 분석기로서 이용가능하다. 광학 스펙트럼 분석기의 최선의 선택은 CCD(Charge Coupled Device, 전하결합소자) 어레이(array) 또는 포토 다이오드 어레이 센서들을 갖는 분광계들이다.
빛을 방출하는 광원으로서는 다양한 백색광을 내는 것과 가시 스펙트럼 범위에서 연속적인 스펙트럼을 갖는 다양한 유형의 램프들이 사용 가능하다.
다른 적용 범위들(예로 자외선이나 적외선)에 대해서는 이 영역에서 연속적인 스펙트럼을 가진 전자기파를 방출하는 적절한 광원이 사용될 수 있다.
본 발명에 따라 위상차를 측정하는 장치와 방법의 첫번째 구조와 두번째 구조는 도 4과 도 5에 나타내고 있는데, 여기서, 샘플의 광학 위상차를 결정하는 장치는 다음과 같이 구성된다.
빛을 방출하는 광원(10);
투과된 빛의 파장을 검출하는 광학 스펙트럼 분석기(80)(예를 들어 분광계);
상기 광원(10)에서 샘플(50)로 빛을 유도하는 제 1 도파관(waveguide) (100) (예를 들어, 광섬유(Optical fiber));
샘플(50)을 통과한 빛을 광학 스펙트럼 분석기(80)로 유도하는 제 2 도파관(waveguide)(110) (예를 들어, 광섬유);
광학 스펙트럼 분석기(80)에 연결된 컴퓨터(90);
광원(10)과 샘플(50) 사이의 빛의 경로에 위치하는 제 1 편광판(20);
샘플(50)과 광학 스펙트럼 분석기(80) 사이의 빛의 경로에 위치하며, 상기 제 1 편광판(20)의 광축(21)과 평행한 광축(31)을 갖는 제 2 편광판(30);
제 1 편광판(20)과 제2 편광판(30) 사이에 위치하며, 상기 어떤 편광판(20), (30)의 광축(21),(31)과도 45o ± 3 o , 가장 바람직하게는 45o 를 이루는 광축(71)을 갖는 기준(reference) 위상차 필름(70);
위상차의 측정이 이루어지고, 상기 기준 위상차 필름(70)과 상기 어떤 편광판(20), (30)의 사이에 배치되며, 상기 기준 위상차 필름(70)의 광축(71)과 수직하는 광축(51)을 갖는 샘플(50);.
그리고, 본 발명의 장치에 따른 제 1 실시 태양과 제 2 실시 태양을 이용하여 샘플의 광학적 위상차를 산술적 값으로 결정하는 방법이 이용되는데, 이 방법의 단계들은,
광축이 평행하는 편광판들(20),(30) 사이에 오직 기준 위상차 필름(70)만이 위치하고, 상기 기준 위상차 필름(70)과 편광판(20),(30)의 광축(21),(31)이 45o ± 3 o , 가장 바람직하게는 45o 일 때, 파장들의 측정되는 스펙트럼 범위 내에서 최소의 투과도를 나타내는 파장 λmin R을 결정하는 단계;
서로 평행한 편광판(20), (30)들 사이에 서로 수직되는 광축(71),(51)을 갖 는 기준 위상차 필름(70)과 샘플(50)을 위치시켜 파장들의 측정되는 스펙트럼 범위 내에서 최소의 투과도를 나타내는 파장 λmin R-S 를 결정하는 단계; 및
파장 λmin R 과 λmin R-S 를 이용하여 측정된 파장 범위에서 특정 파장에서의 샘플(50)의 위상차 값을 계산하는 단계;로 이루어진다.
참고로 위에서 기준 위상차 필름(70)과 편광판(20),(30)의 광축 배열을 45o ± 3 o 의 범위가 바람직한 것으로 설정하였으나, 실제로는 의도에 따라 0 o 내지 360 o까지 모든 각도 범위내에서 위상차 값을 구할 수 있고, 모든 각도 범위중에서 위상차 값의 측정 에러가 가장 작은 값이 45o 이고, 45o에서 ± 3 o까지는 충분히 작은 오차 범위 이내의 값이므로 광축 배열의 바람직한 범위를 45o ± 3 o의 범위로 한정하고 있는 것이다.
그리고, 샘플(50)의 위상차 값을 계산하는 위의 마지막 단계는 아래의 부수적인 단계들로 구성된다.
파장 λmin R 에서 측정되는 기준 위상차 필름(70)의 위상차와, 기준 필름 물질에 대해 알려진 파장에 대한 상대적인 위상차(도 7의 분산 곡선 1)로부터 파장 λmin R-S 에서의 기준 위상차 필름(70)의 위상차를 계산하는 단계;와,
측정된 파장 λmin R-S와, 파장 λmin R-S에서 계산되는 기준 위상차 필름(70)의 위상차 R R(λmin R-S)로부터 파장 λmin R-S에서의 샘플 위상차 R S(λmin R-S)를 아래의 수학식 3을 이용하여 계산하는 단계;
(수학식 3)
Figure 112005018273864-pat00001
파장 λmin R-S 에서 계산되는 샘플 위상차 R S(파장 λmin R-S)와, 샘플 물질에 대해 알려진 상대적인 위상차 vs 파장(도 7의 분산 곡선 2)으로부터 어떤 특정 파장에서의 샘플 위상차 R S(λ)를 계산하는 단계;
그리고, 파장 λmin R와 파장 λmin R-S를 모두 ± 0.2 nm의 고 정밀도를 갖도록 결정하기 위한 아래의 추가적인 단계들:
최소 스펙트럼 근처의 역파장에 대한 투과도의 포물선 (parabolic) 근사하는 단계; 및
파장에 대한(vs) 투과도의 실험값과 근사된 포물선(parabola) 사이의 최소 평균 제곱근 오차를 얻음으로써 최적의 포물선(parabola) 매개변수(parameter)를 찾기 위한 핏팅(fitting)하는 단계; 가 포함된다.
제 1 편광판(20)에 대한 기준 위상차 필름(70)과 샘플(50)의 상호간의 위치는 도 4와 도 5에 나타난 바와 같이 서로 교체가 가능하다. 기준 위상차 필름(70)과 샘플(50)의 상호간 위치의 동일한 교체는 다음의 실시 태양들에 대해서도 가능하다.
보다 상세한 설명이 도 5에서 제시된다.
1) 기준 위상차 필름(70)을 샘플(50)없이 단독으로 광축(21),(31)이 평행한 편광판들(20),(30) 사이에 위치시킴.
약 350nm 값의 위상차를 가진 기준 위상차 필름(70)의 진상축(fast axis)은 편광판(20),(30)의 축들(21),(31)에 대하여 상대적으로 45o ± 3 o , 가장 바람직하게는 45o 각도를 이루게 하였으며, 이 경우에 약 700nm 파장에서 최소 투과도를 나타내는 것이 보여진다(도 6의 1번 곡선)
그러므로, 이 파장에서의 정확한 위상차 값 R은 이 최소값에서의 정확한 스펙트럼 위치 λR min로부터 구해질 수 있다.
(수학식 4)
Figure 112005018273864-pat00002
0.1~0.2nm의 정확도를 가지는 최소값의 스펙트럼 위치 λR min 을 구하기 위해서, 적절하게 개발한 컴퓨터 프로그램으로써 추가적인 단계들: 즉, 최소 스펙트럼 근처의 역파장(reciprocal wavelength)에 대한 투과도의 포물선(parabolic) 근사(approximating)하는 단계;와, 파장에 대한 실험적인 투과도 값과 근사된 포물선(parabola) 사이의 최소 평균 제곱근 오차를 얻음으로써 최적의 포물선(parabola)매개변수를 찾기 위한 핏팅(fitting) 단계;를 진행한다.
2) 평행 또는 수직되는 편광판들(20),(30) 사이에서 기준 위상차 필름(70)과 샘플(50)이 모두 수직 또는 평행하게 위치된 때, 측정된 스펙트럼 범위의 파장들에서 최소의 투과도를 나타내는 파장 λmin R-S를 결정;
샘플(50)을 삽입하면(샘플(50)의 진상축은 기준 위상차 필름(70)의 진상축에 수직이어야 한다), 수직으로 배열된 기준 위상차 필름(70)과 샘플(50)에 대한 최소 투과도의 스펙트럼 위치는 샘플(50)이 정(+)의 위상차 R= d* △n = d* (nx-ny) > 0 를 가지는 경우에 보다 짧은 파장 쪽으로 옮겨진다(도 6의 2번 곡선).
최소 투과도의 새로운 스펙트럼 위치 λmin R-S으로부터 파장 λmin R-S에서의 샘플(50)의 위상차 RS는 다음과 같이 수학식 3을 이용하여 계산될 수 있다.
(수학식 3)
Figure 112005018273864-pat00003
이 최소값의 0.1-0.2 nm 의 정확도를 가지는 스펙트럼 위치 λmin R-S 을 구하기 위해서는 적절히 개발한 컴퓨터 프로그램을 이용하여 추가적인 단계:
최소 스펙트럼 근처의 역파장에 대한 투과도의 포물선(parabolic) 근사하는 단계;
파장에 대한 실험적인 투과도값과 근사된 포물선(parabola) 사이의 최소 평균 제곱근 오차를 얻음으로써 최적의 포물선(parabola) 매개변수를 찾기 위한 핏팅(fitting)하는 단계; 가 이용된다.
3) 파장 λmin R와 파장 λmin R-S로부터 측정된 스펙트럼 범위에서의 특정 파장에서의 샘플 위상차 값 계산.
계산된 위상차 값 RS(λmin R-S)와 샘플 물질에 대한 상대적 위상 곡선을 이용하여, 400~700nm 범위에서 특정 파장의 샘플 위상차가 계산된다.
본 발명은 위에 기술된 장치나 방법에만 한정되지 않는다. 또한 특히 도 8, 9, 10에 나타난 실시 태양들 역시 본 발명에 포함된다.
본 발명의 제 3 실시 태양은 도 8에 나타난 바와 같이 서로 평행한 편광판들(20),(30)과, 서로 평행한 축(71),(52)을 갖는 기준 위상차 필름(70)과 샘플(50)을 가진다.
여기서, 기준 위상차 필름(70)과 샘플(50)의 광축(71),(52)은 평행하게 맞춰져 있다.
기준 위상차 필름(70)의 위상차는 적용 파장 범위의 최단파장에서 기준필름만 배치된 경우에 대한 최소 투과도인 λmin R만을 얻기 위한 구조의 경우에서 선택된다.
샘플(50)을 삽입한 후에(샘플의 축은 기준필름의 축과 평행하다.), 최소 투과도의 스펙트럼 위치는 더 긴 파장(더 짧은 파장쪽이 아님)쪽으로 이동한다.
새로운 최소 투과도의 위치 λmin R-S로부터, 이 파장 λmin R-S에서의 샘플(50)의 위상차 RS 가 아래와 같이 수학식 3으로 계산된다.
(수학식 3)
Figure 112005018273864-pat00004
또한 편광판들(20),(30)에 대해 평행이 아닌 수직인 구조도 사용 가능하다.
도 9는 편광판들(20), (30)의 광축(21),(32)이 서로 수직이고, 기준 위상차 필름(70)과 샘플(50)은 상호간에 평행한 축들(71),(52)을 갖는 제 4 실시 태양을 나타내고 있다. 도 10은 편광판들(20), (30)의 광축(21),(32)이 서로 수직이고, 기준 위상차 필름(70)과 샘플(50)이 서로 수직인 구조의 제 5 실시 태양을 나타내고 있다. 이 모든 구조에 대해서 기준필름과 샘플의 서로간의 위치는 교환 가능하다.
편광판의 광축이 서로 평행한 구조에 대하여, 간단하고 유용한 경우는 기준 위상차 필름이 λmin R 파장에서 기준 위상차 필름의 위상차가 반파장인 R=λmin R/2 인 경우이다. 그러나 또한 λmin R 파장에서 최소 투과도를 얻기 위해서는 R=3λmin R/2, R=5λmin R/2, R=7λmin R/2 등의 위상차를 갖는 기준 위상차 필름도 사용이 가능하다.
편광판의 광축이 수직인 구조에 대하여 간단하고 유용한 경우는 기준 위상차 필름이 λmin R 파장에서 기준필름의 위상차가 반파장인 R=λmin R 인 경우이다. 그러나 또한 λmin R 파장에서 최소 투과도를 얻기 위해서는 R= 2λmin R, R= 3λmin R, R= 4λmin R 등의 위상차를 갖는 기준 위상차 필름도 사용이 가능하다.
샘플의 광학적 위상차를 결정하기 위해 개발된 컴퓨터 프로그램은, 컴퓨터로 판독가능한 저장 매체와 상기 매체에 구현되는 컴퓨터로 판독가능한 프로그램 코드로 이루어진다. 이 컴퓨터 프로그램은 아래의 단계들:
평행 또는 수직하는 편광판들 사이에 위치하는 기준 필름에 대하여, 파장들의 측정되는 스펙트럼 범위 내에서 최소의 투과도를 나타내는 파장 λmin R을 결정하는 단계;
평행 또는 수직하는 편광판들 사이에 서로 수직 또는 평행하는 기준 필름과 소정 샘플을 모두 위치시켜 파장들의 측정되는 스펙트럼 범위 내에서 최소의 투과도를 나타내는 파장 λmin R-S 를 결정하는 단계; 및
파장 λmin R 과 λmin R-S 로부터 측정된 파장 범위에서의 특정 파장에서의 샘플의 위상차값을 계산하는 단계;로 이루어진다.
위에서 특정 파장에서의 샘플의 위상차값을 계산하는 마지막 단계는 아래의 부수적인 단계들: 즉, 파장 λmin R 에서 측정되는 기준 필름의 위상차와, 기준 필름 물질에 대해 알려진 파장에 따른 상대적인 위상차(도 7의 분산 곡선 1)으로부터 파장 λmin에서의 위상차를 계산하는 단계;와, 측정된 파장 λmin R-S와, 파장 λmin R-S에서 계산되어진 기준 필름 위상차 R R(λmin R-S)로부터 파장 λmin R-S에서의 샘플 위상차 R S(λmin R-S)를 아래의 수학식 3을 이용하여 계산하는 단계; 및
(수학식 3)
Figure 112005018273864-pat00005
파장 λmin R-S 에서 계산되는 샘플 위상차 R S(파장 λmin R-S)와, 샘플 물질에 대해 알려진 상대적인 위상차 vs 파장(도 7의 분산 곡선 2)으로부터 특정 파장에서의 위상차 R S(λ)를 계산하는 단계;로 이루어진다.
본 발명은 아래의 비교예들과 실시예들에 의해 더욱 상세히 설명된다.
비교예 1
샘플(50)의 위상차를 측정하기 위해 앞에서 서술된 것과 유사한 첫번째 종래 장치가 도 1에 나타난다.
이 장치는 샘플(50)의 위상차를 측정하기 위하여 두개의 요요드 평행 편광판들(20),(30)과 샘플(50)로서는 폴리카보네이트 필름을 포함한다.
광원(10)으로부터의 빛은 제 1 편광판(20)을 지나서, 그 후 샘플(50)을 통과하고, 그 후 제 2 편광판(30)을 통과하여 광학 스펙트럼 분석기(40)로 들어간다.
이러한 평행한 편광판들(20),(30) 사이에 위치되는 샘플(50)의 최소 투과도에 대한 측정된 파장 λmin S 은 λmin S = 540 nm이다.
이 파장 λmin S = 540 nm에서 계산된 샘플(50)의 위상차 R은 R = 0.5*λmin s = 270 nm 이다. 측정의 정확도는 +/- 5nm이고 재현성 또한 +/- 5nm 이다.
만약 폴리카보네이트 필름인 샘플(50)이 R < 200의 위상차를 가진다면, 광투과의 최소를 보는 것과 위상차 값을 측정하는 것도 불가능하다.
비교예 2
샘플(50)의 위상차를 측정하기 위해 앞에서 서술된 것과 유사한 두번째 종래 장치가 도 2에 나타난다.
이 장치는 위상차를 측정하기 위하여 두개의 요요드 평행 편광판들(20),(30)과, 바비넷-솔레일(Babinet-Soleil) 보상판(60) 및 위상차가 측정되어질 샘플(50)로서 폴리카보네이트 필름이 포함되어 있다.
광원(10)(633nm He-Ne 레이저)으로부터의 빛은 제 1 편광판(20)을 지나서, 그 후 샘플(50)을 통과하고, 그 후 제 2 편광판(30)을 통과하여 광학 스펙트럼 분석기(40)로 들어간다.
미세 조절기(미도시)를 사용하여 바비넷-솔레일 보상판(60)의 위상차 값인 RBS값을 조절하여, RBS= 450nmd에서의 최소 투과도 얻는다. 그래서, 샘플(50)의 위상차 R = RBS = 450nm 이 된다. 측정의 정확도는 +/- 5nm이고 재현성 또한 +/- 5nm 이다.
이러한 장치와 방법의 단점은 측정의 속도가 1분 정도로 느리다는 것이다.
실시예 1
도 4에 나타난 제 1 실시 태양에서 샘플(50) 없이 기준 위상차 필름(70)만을 측정했을 때 측정된 최소 투과도를 보이는 파장은 λmin R= 706.3nm이다(도 6의 1번 곡선).
샘플(50)을 삽입하고 난 후의(샘플(50)의 광축(51)은 기준 위상차 필름(70)의 광축(71)에 대하여 수직이다.) 최소 투과도를 보이는 스펙트럼 위치는 λmin R-S= 521nm로 이동되었다(도 6의 2번 곡선).
기준 위상차 필름(70)은 연신된 폴리카보네이트로 만들어진다. 샘플(50)은 액정 단량체인 RMM108을 경화시킨 액정필름이다. 550 nm에서 계산된 샘플(50)의 위상차는 R=117.6nm이다.
실시예 2
도 8에 나타난 제 3 실시태양에서 기준 위상차 필름(70)만을 측정했을 때(샘플(50) 없이) 측정된 최소 투과도를 보이는 파장은 λmin R=450.7nm이다. 샘플(50)을 삽입하고 난 후의(샘플의 광축(52)은 기준 위상차 필름(70)의 광축(71)에 대하여 평행이다.) 최소 투과도를 보이는 스펙트럼 위치는 λmin R-S=652nm로 이동되었다.
기준 위상차 필름(70)은 연신된 폴리카보네이트로 만들어진다. 샘플(50)은 액정 단량체인 RMM108을 경화시킨 액정필름이다. 550nm에서 계산된 샘플(50)의 위상차는 R=220.1nm 이다.
실시예 3
도 9에 나타난 본 발명의 제 4 실시태양에서 기준 위상차 필름(70)만을 측정했을 때(샘플(50) 없이) 측정된 최소 투과도를 보이는 파장은 λmin R=552nm이다. 샘플(50)을 삽입하고 난 후의(샘플(50)의 광축(52)은 기준 위상차 필름(70) 축에 대하여 평행이다.) 최소 투과도를 보이는 스펙트럼 위치는 λmin R-S=670.4nm로 이동되었다. 기준 위상차 필름(70)은 연신된 폴리카보네이트로 만들어진다. 샘플(50)은 연신된 폴리 비닐알콜이다. 550nm에서 계산된 샘플(50)의 위상차는 R=150.9nm이다.
실시예 4
도 10에 나타난 다섯번째 실시 태양에서 기준 위상차 필름(70)만을 측정했을 때(샘플(50) 없이) 측정된 최소 투과도를 보이는 파장은 λmin R=650.8nm이다. 샘플(50)을 삽입하고 난 후의(샘플(50)의 광축(51)은 기준 위상차 필름(70)의 광축(71) 에 대하여 평행이다.) 최소 투과도를 보이는 스펙트럼 위치는 λmin R-S=550.2nm로 이동되었다. 기준 위상차 필름(70)은 연신된 폴리카보네이트로 만들어진다. 샘플(50)은 연신된 폴리 비닐알콜이다. 550nm에서 계산된 샘플(50)의 위상차는 R=116.1nm이다.
이상과 같은 실시예 1,2,3, 4에 따르면 550nm에서 계산되는 피측정 샘플의 위상차는 작게는 116.1nm에서부터 크게는 220nm 정도로서, 비교예 1과 2에 의해 측정되는 샘플 위상차가 대략 200nm 이하에서 측정이 어려워진다는 것을 감안하면 본 발명에 따른 실시예들은 대략 150 ~250nm 정도의 비교적 낮은 위상차를 갖는 샘플의 위상차 또한 얼마든지 결정 가능해지는 것을 알 수 있다.
상기 언급된 모든 구조에서 개발된 장치와 방법 및 적절한 컴퓨터 프로그램은 위상차 측정에 걸리는 시간이 1초 이하로 빨라지고, 0.1~0.2nm 이내 정확도를 가질 만큼 정확한 측정이 이루어지며, 저가의 장치로도 신뢰할 만한 위상차 측정을 제공하는 효과를 갖는다. 그리고, 개발된 장비와 방법 및 컴퓨터 프로그램은 정면과 경사각에 대해서 실험실에서의 다양한 위상차 측정뿐 아니라 액정표시장치에 사용되는 보상필름의 생산라인에서 위상차 값의 정확하고 빠른 측정에 쉽게 적용될 수 있다.
이상에서 본 발명의 기재된 구체적인 실시예에 대해서 상세히 설명되었지만, 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.

Claims (11)

  1. 샘플의 위상차를 측정하기 위한 광학적 위상차 측정 장치에 있어서,
    빛을 방출하는 광원;
    투과된 빛의 파장과 농도를 검출하는 광학 스펙트럼 분석기;
    광학 스펙트럼 분석기에 연결된 컴퓨터;
    광원과 샘플 사이의 빛의 경로에 위치하는 제 1 편광판;
    샘플과 상기 광학 스펙트럼 분석기 사이의 빛의 경로에 위치하고, 상기 제 1 편광판과의 광축이 평행 또는 수직인 제 2 편광판; 및
    측정되는 스펙트럼 영역의 어떠한 파장에 대하여도 필름 면상에 대한 광학 위상차 값들이 알려진 상수를 가지고, 제 1 편광판과 제 2 편광판 사이에 위치하며, 광축이 상기 어느 편광판의 광축과도 45o ± 3 o를 이루고 상기 샘플의 광축과는 서로 평행 또는 수직한 기준 위상차 필름;을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학적 위상차 측정장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 광원과 제 1 편광판의 사이와, 상기 제 2 편광판과 광학 스펙트럼 분석기의 사이에는 각각 빛을 유도하기 위한 제 1 도파관과 제 2 도파관이 더 구비되는 것을 특징으로 하는 광학적 위상차 측정장치.
  3. 제 1항에 있어서,
    편광판들의 광축들이 서로간에 평행하며, 샘플의 광축과 위상차를 가진 기준 위상차 필름의 광축이 수직인 것을 특징으로 하는 광학적 위상차 측정장치.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 두 편광판의 광축이 서로간에 평행하며, 샘플의 광축과 위상차를 가진 기준 위상차 필름의 광축이 평행인 것을 특징으로 하는 광학적 위상차 측정장치.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 두 편광판의 광축은 서로 수직이며, 샘플의 광축과 위상차를 가진 기준 위상차 필름의 광축이 평행인 것을 특징으로 하는 광학적 위상차 측정장치.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 두 편광판의 서로 수직이며, 샘플의 광축과 위상차를 가진 기준 위상차 필름의 광축이 수직인 것을 특징으로 하는 광학적 위상차 측정장치.
  7. 제 3항 또는 제 4항에 있어서,
    기준 위상차 필름의 위상차 값은 측정되는 스펙트럼 범위의 최장 파장 또는 최단 파장보다 두 배 작은 값을 갖는 것이 선택되는 것을 특징으로 하는 광학적 위 상차 측정장치.
  8. 제 5항 또는 제 6항에 있어서,
    기준 위상차 필름의 위상차 값은 측정되는 스펙트럼 범위의 최장 파장 또는 최단 파장과 동일한 값을 갖는 것이 선택되는 것을 특징으로 하는 광학적 위상차 측정장치.
  9. 샘플의 광학적 위상차의 산술적 값을 결정하기 위한 방법에 있어서,
    평행 또는 교차되어 배열된 편광판 사이에 기준 위상차 필름만이 위치할 때 파장의 측정되는 스펙트럼 범위에서 최소 투과도를 나타내는 파장 λmin R을 결정하는 단계;
    평행 또는 교차되어 배열된 편광판 사이에 위치한 기준 위상차 필름과 샘플이 평행 또는 교차되어 배열되어 있을 때 파장의 측정되는 범위에서 최소 투과도를 나타내는 파장 λmin R-S 를 결정하는 단계; 및
    파장 λmin R 과 λmin R-S로부터 파장의 측정되는 범위에서 특정 파장에서의 샘플의 위상차를 계산하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학적 위상차 측정 방법.
  10. 제 9항에 있어서,
    상기 파장 λmin R 과 λmin R-S를 결정하는 단계는,
    최소 스펙트럼 근처의 역파장에 대한 투과도의 포물선(parabolic) 근사를 수행하는 단계; 와,
    파장에 대한 실험적인 투과도값과 근사된 포물선(parabola) 사이의 최소 평균 제곱근 오차를 얻음으로써 최적의 포물선(parabola)매개변수를 찾기 위한 핏팅 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학적 위상차 측정 방법.
  11. 평행 또는 교차되어 배열된 편광판 사이에 기준 위상차 필름만이 위치할 때 파장의 측정되는 스펙트럼 범위에서 최소 투과도를 나타내는 파장 λmin R을 결정하는 단계;
    평행 또는 교차되어 배열된 편광판 사이에 위치한 기준 위상차 필름과 샘플이 평행 또는 교차되어 배열되어 있을 때 파장의 측정되는 범위에서 최소 투과도를 나타내는 파장 λmin R-S 를 결정하는 단계; 및
    파장 λmin R 과 λmin R-S로부터 파장의 측정되는 범위에서 특정 파장에서의 샘플의 위상차를 계산하는 단계;에 의해 광학적 위상차를 측정하는 방법을 실행시키기 위한 프로그램이 기록된 컴퓨터로 읽을 수 잇는 기록 매체.
KR1020050029038A 2005-04-07 2005-04-07 광학적 위상차 측정 장치와 그 측정 방법 및 그 측정방법이 기록된 컴퓨터로 판독가능한 기록매체 KR100775735B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050029038A KR100775735B1 (ko) 2005-04-07 2005-04-07 광학적 위상차 측정 장치와 그 측정 방법 및 그 측정방법이 기록된 컴퓨터로 판독가능한 기록매체

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050029038A KR100775735B1 (ko) 2005-04-07 2005-04-07 광학적 위상차 측정 장치와 그 측정 방법 및 그 측정방법이 기록된 컴퓨터로 판독가능한 기록매체

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20060107058A KR20060107058A (ko) 2006-10-13
KR100775735B1 true KR100775735B1 (ko) 2007-11-09

Family

ID=37627438

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020050029038A KR100775735B1 (ko) 2005-04-07 2005-04-07 광학적 위상차 측정 장치와 그 측정 방법 및 그 측정방법이 기록된 컴퓨터로 판독가능한 기록매체

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100775735B1 (ko)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05203408A (ja) * 1991-11-26 1993-08-10 Olympus Optical Co Ltd 位相差検出器
KR950014106B1 (ko) * 1992-07-08 1995-11-21 삼성전관주식회사 액정 디스플레이에 사용되는 위상차 필름의 위상차 값 측정장치
US5604591A (en) 1994-04-11 1997-02-18 Olympus Optical Co., Ltd. Method of measuring phase difference and apparatus for carrying out the same
JPH1062253A (ja) 1996-06-07 1998-03-06 Nikon Corp 位相差測定装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05203408A (ja) * 1991-11-26 1993-08-10 Olympus Optical Co Ltd 位相差検出器
KR950014106B1 (ko) * 1992-07-08 1995-11-21 삼성전관주식회사 액정 디스플레이에 사용되는 위상차 필름의 위상차 값 측정장치
US5604591A (en) 1994-04-11 1997-02-18 Olympus Optical Co., Ltd. Method of measuring phase difference and apparatus for carrying out the same
JPH1062253A (ja) 1996-06-07 1998-03-06 Nikon Corp 位相差測定装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR20060107058A (ko) 2006-10-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Kasarova et al. Analysis of the dispersion of optical plastic materials
US8854623B2 (en) Systems and methods for measuring a profile characteristic of a glass sample
JP5116345B2 (ja) 位相差測定方法及び装置
JP3177104B2 (ja) フレア防止光学系、フレア防止方法、浮上量測定装置
KR20080091002A (ko) 분광기를 이용한 위상차 측정 장치
KR20100099662A (ko) 반사형 액정 셀의 틸트각 측정 방법 및 측정 장치
JP2007514164A (ja) 光学材料における複屈折を測定するシステム及び方法
KR100612173B1 (ko) 수직 배향 액정 패널의 셀 갭 측정 방법 및 장치
JP5287489B2 (ja) ３次元屈折率測定方法及び３次元屈折率測定装置
King et al. A comparison of thin film measurement by guided waves, ellipsometry and reflectometry
RU2590344C1 (ru) Устройство для калибровки дихрографов кругового дихроизма
US20010050771A1 (en) Method and Device for measuring thickness of liquid crystal layer
KR20040067469A (ko) 광섬유의 잔류 응력 측정 장치
JP3520379B2 (ja) 光学定数測定方法およびその装置
KR100775735B1 (ko) 광학적 위상차 측정 장치와 그 측정 방법 및 그 측정방법이 기록된 컴퓨터로 판독가능한 기록매체
JP2012052998A (ja) 粗面を有する固体の屈折率を測定する光学測定方法及び光学測定装置
JP2898298B2 (ja) 液晶層厚測定装置およびこの液晶層厚測定装置を用いた液晶層厚の測定方法
JPS60122333A (ja) 偏光解析装置
US2995060A (en) Apparatus for the optical determination of stresses
KR100870132B1 (ko) 음향광학 변조 필터를 이용한 분광타원해석기 및 이를이용한 타원 해석방법
JPH02118406A (ja) 液晶セルギャップ測定装置
KR102557955B1 (ko) 코노스코피 기반 복굴절률을 측정하는 방법
RU2629660C1 (ru) Устройство для калибровки дихрографов кругового дихроизма
SU1486777A2 (ru) Устройство доя измерения толщины и показателя преломления пленки
JPH05158084A (ja) 線形及び非線形光学感受率測定装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20111007

Year of fee payment: 5

LAPS Lapse due to unpaid annual fee