KR100770260B1 - laser induced thermal imaging apparatus, laser induced thermal imaging method using the apparatus and fabrication method of OLED using the apparatus - Google Patents

laser induced thermal imaging apparatus, laser induced thermal imaging method using the apparatus and fabrication method of OLED using the apparatus Download PDF

Info

Publication number
KR100770260B1
KR100770260B1 KR1020060034265A KR20060034265A KR100770260B1 KR 100770260 B1 KR100770260 B1 KR 100770260B1 KR 1020060034265 A KR1020060034265 A KR 1020060034265A KR 20060034265 A KR20060034265 A KR 20060034265A KR 100770260 B1 KR100770260 B1 KR 100770260B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layer
lamination unit
film
donor film
laser
Prior art date
Application number
KR1020060034265A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20070102299A (en
Inventor
강태민
김진수
Original Assignee
삼성에스디아이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성에스디아이 주식회사 filed Critical 삼성에스디아이 주식회사
Priority to KR1020060034265A priority Critical patent/KR100770260B1/en
Publication of KR20070102299A publication Critical patent/KR20070102299A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100770260B1 publication Critical patent/KR100770260B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/18Deposition of organic active material using non-liquid printing techniques, e.g. thermal transfer printing from a donor sheet

Abstract

본 발명은 레이저 열 전사 장치, 상기 장치를 사용하는 레이저 열 전사 방법 및 상기 장치를 사용하는 유기전계발광표시장치의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 레이저 열 전사 장치는, 억셉터 기판을 고정시키는 척; 상기 척 상에 위치하고, 중앙에 개구부를 가지는 바디부, 상기 바디부의 하부에 위치하는 한 쌍의 패드부 및 상기 바디부의 상부에 연결되며 상기 패드부에 압력을 가하기 위한 가압수단을 구비하여, 상기 억셉터 기판 상에 도너 필름을 라미네이션하는 라미네이션 유닛; 및 상기 라미네이션 유닛 상에 위치하고, 상기 라미네이션 유닛의 개구부를 관통하여 상기 라미네이션된 도너 필름 상에 레이저 빔을 조사하는 레이저 조사 장치;를 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a laser thermal transfer apparatus, a laser thermal transfer method using the apparatus, and a method of manufacturing an organic light emitting display apparatus using the apparatus. The laser thermal transfer apparatus according to the present invention fixes an acceptor substrate. Pretend to; A body portion having an opening in the center, a pair of pad portions positioned below the body portion, and a pressurizing means connected to an upper portion of the body portion to apply pressure to the pad portion, A lamination unit for laminating a donor film on a acceptor substrate; And a laser irradiation device positioned on the lamination unit and irradiating a laser beam onto the laminated donor film through an opening of the lamination unit.

레이저 열 전사 장치, 라미네이션, 패드부, 탄성체 Laser heat transfer device, lamination, pad part, elastic body

Description

레이저 열 전사 장치, 상기 장치를 사용하는 레이저 열 전사 방법 및 상기 장치를 사용하는 유기전계발광표시장치의 제조방법{laser induced thermal imaging apparatus, laser induced thermal imaging method using the apparatus and fabrication method of OLED using the apparatus}Laser induced thermal imaging apparatus, laser induced thermal imaging method using the apparatus and fabrication method of OLED using the laser thermal transfer apparatus, laser thermal transfer method using the apparatus, and manufacturing method of the organic light emitting display apparatus using the apparatus. apparatus}

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 레이저 열 전사 장치를 개략적으로 나타낸 사시도.1 is a perspective view schematically showing a laser thermal transfer apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 레이저 열 전사 장치를 개략적으로 나타낸측면도.Figure 2 is a side view schematically showing a laser thermal transfer apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 3은 도 1의 절단선 I-I'를 따라 취해진 본 발명의 실시예에 따른 레이저 열 전사 장치 일부의 단면도.3 is a cross-sectional view of a portion of a laser thermal transfer apparatus in accordance with an embodiment of the present invention taken along cut line II ′ in FIG. 1.

도 4는 억셉터 기판인 유기전계발광소자의 구조를 설명하기 위한 단면도.4 is a cross-sectional view for explaining the structure of an organic light emitting display device that is an acceptor substrate.

도 5은 도너 필름의 구조를 설명하기 위한 단면도.5 is a cross-sectional view for explaining the structure of a donor film.

도 6은 본 발명에 따른 레이저 열 전사 장치를 사용하여 제조된 유기전계발광소자를 도시한 단면도.6 is a cross-sectional view showing an organic light emitting device manufactured using the laser thermal transfer apparatus according to the present invention.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

50 : 억셉터 기판 70 : 도너 필름50: acceptor substrate 70: donor film

115 : 척 120 : 광학 스테이지115: chuck 120: optical stage

130 : 레이저 조사 장치 143 : 필름 공급수단130: laser irradiation device 143: film supply means

144 : 필름 감기수단 150 : 라미네이션 유닛144: film winding means 150: lamination unit

151: 바디부 152: 가압수단151: body portion 152: pressing means

153: 패드부153: pad portion

본 발명은 레이저 열 전사 장치에 관한 것으로, 더욱 자세하게는 리본형 도너 필름의 효과적인 라미네이션을 수행할 수 있는 레이저 열 전사 장치 및 상기 장치를 사용하는 유기전계발광표시장치의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a laser thermal transfer apparatus, and more particularly, to a laser thermal transfer apparatus capable of performing an effective lamination of a ribbon donor film and a method of manufacturing an organic light emitting display device using the apparatus.

일반적으로 레이저 열 전사법은 적어도 레이저 및 도너 필름을 필요로 하며, 상기 도너 필름은 기재 필름, 광-열 변환층 및 전사층을 구비한다.In general, laser thermal transfer requires at least a laser and a donor film, the donor film comprising a base film, a light-to-heat conversion layer and a transfer layer.

레이저 열 전사 공정에 있어서는 상기 전사층을 억셉터 기판에 대향하도록 하여 상기 도너 필름을 상기 억셉터 기판의 전체면 상에 라미네이션한 후, 상기 기재 필름 상에 레이저 빔을 조사한다. 상기 기재 필름 상에 조사된 빔은 상기 광-열 변환층에 흡수되어 열에너지로 변환되고, 상기 열에너지에 의해 상기 전사층은 상기 억셉터 기판 상으로 전사된다. 그 결과, 상기 억셉터 기판 상에 전사층 패턴이 형성되게 된다. 이는 미국특허 제 5,998,085호, 6,214,520호 및 6,114,088호에 개시되어 있다.In the laser thermal transfer process, the donor film is laminated on the entire surface of the acceptor substrate with the transfer layer facing the acceptor substrate, and then the laser beam is irradiated onto the base film. The beam irradiated onto the base film is absorbed by the light-to-heat conversion layer and converted into thermal energy, and the transfer layer is transferred onto the acceptor substrate by the thermal energy. As a result, a transfer layer pattern is formed on the acceptor substrate. This is disclosed in US Pat. Nos. 5,998,085, 6,214,520 and 6,114,088.

그러나, 상술한 바와 같이 억셉터 기판의 전체면 상에 도너 필름을 라미네이 션하는 경우, 상기 억셉터 기판과 상기 도너 필름 사이에는 국부적으로 기포가 남아 있을 수 있다. 이러한 기포는 전사불량을 유발할 수 있다.However, when the donor film is laminated on the entire surface of the acceptor substrate as described above, bubbles may remain locally between the acceptor substrate and the donor film. These bubbles can cause transcription failure.

이를 해결하기 위해, 미국특허 제 6,226,020호는 레이저 열전사법에 의하여 프린트를 생성하는 방법 및 장치(method and apparatus for producing a print by means of laser-induced thermal transfer)를 제공한다. 상기 미국특허에 따르면, 기판 실린더 상에 제공된 기판 상에 상기 기판의 폭보다 작은 폭을 갖는 전사 테입을 접촉시키고, 상기 전사 테입 상에 레이저 빔을 조사함으로써 상기 기판 상에 패턴을 형성한다. 이 때, 상기 기판 상에 상기 전사 테입을 접촉시키는 것은 상기 기판에 인접한 콘택롤을 사용하여 수행한다. 부가적으로, 상기 레이저 빔에 대해 비스듬한 방향으로 노즐을 배치시키고, 상기 노즐을 사용하여 상기 전사 테입 상에 가스를 뿜어 상기 전사 테입과 상기 기판의 콘택력을 더 향상시킨다.To solve this problem, US Pat. No. 6,226,020 provides a method and apparatus for producing a print by means of laser-induced thermal transfer. According to the U.S. patent, a transfer tape having a width smaller than the width of the substrate is brought into contact with a substrate provided on a substrate cylinder, and a pattern is formed on the substrate by irradiating a laser beam onto the transfer tape. At this time, contacting the transfer tape on the substrate is performed using a contact roll adjacent to the substrate. In addition, a nozzle is disposed in an oblique direction with respect to the laser beam, and the nozzle is used to spray a gas on the transfer tape to further improve the contact force between the transfer tape and the substrate.

자세하게는 상기 콘택롤은 상기 전사 테입이 상기 기판 실린더를 소정의 감기 각(wrap angle)을 가지면서 감싸도록 하는 역할을 하고, 상기 감기 각(wrap angle)은 상기 전사 테입과 상기 기판 실린더 상의 기판 사이에 콘택력 및 마찰력을 형성할 수 있다. 그러나, 상기 전사 테입의 전사층이 유기막인 경우 위와 같은 마찰력의 발생은 유기막을 손상시키기에 충분하다.Specifically, the contact roll serves to wrap the transfer tape to wrap the substrate cylinder with a predetermined wrap angle, and the wrap angle is between the transfer tape and the substrate on the substrate cylinder. Contact force and friction force can be formed. However, when the transfer layer of the transfer tape is an organic film, the above generation of frictional force is sufficient to damage the organic film.

또한, 상기 레이저 빔에 대해 비스듬한 방향으로 노즐을 배치시킬 경우, 상기 노즐과 상기 기판 사이의 거리가 멀어 상기 콘택롤 없이 상기 노즐만으로는 상기 전사 테입과 상기 기판 사이의 충분한 콘택력을 확보하기는 어려울 수 있다. 이 경우, 충분한 콘택력을 확보하기 위해서는 상기 노즐은 고압의 가스를 다량으로 상 기 전사 테입 상에 뿜어내어야 한다. 특히, 상기 미국특허와는 달리 기판이 실린더에 감겨있지 않고 평면 상에 놓이고, 상기 콘택롤 없이 상기 노즐이 뿜어내는 가스의 압력만으로 상기 전사 테입과 상기 기판을 밀착시켜야 하는 경우, 상기 노즐과 상기 기판 사이의 먼 거리로 인해 소정영역에 걸쳐 균일한 콘택력을 충분하게 확보하는 것은 더욱 어렵다. In addition, when the nozzles are disposed in an oblique direction with respect to the laser beam, the distance between the nozzle and the substrate may be far, and thus it may be difficult to secure sufficient contact force between the transfer tape and the substrate using only the nozzle without the contact roll. have. In this case, in order to secure sufficient contact force, the nozzle must spray a large amount of high pressure gas onto the transfer tape. In particular, unlike the U.S. patent, when the substrate is not wound around the cylinder and lies on a flat surface and the transfer tape and the substrate are to be brought into close contact with only the pressure of the gas emitted by the nozzle without the contact roll, the nozzle and the Due to the long distance between the substrates, it is more difficult to secure a sufficient uniform contact force over a predetermined area.

따라서, 본 발명은 상기한 종래기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 리본형 도너 필름과 억셉터 기판 사이의 충분한 콘택력을 얻을 수 있는 레이저 열 전사 장치 및 상기 장치를 사용한 유기전계발광표시장치의 제조방법을 제공함에 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems of the prior art, a laser thermal transfer device capable of obtaining a sufficient contact force between a ribbon donor film and an acceptor substrate, and an organic light emitting display device using the device. The purpose is to provide a method of manufacturing.

상기 기술적 과제를 이루기 위하여 본 발명의 일 측면은, 억셉터 기판을 고정시키는 척; 상기 척 상에 위치하고, 중앙에 개구부를 가지는 바디부, 상기 바디부의 하부에 위치하는 한 쌍의 패드부 및 상기 바디부의 상부에 연결되며 상기 패드부에 압력을 가하기 위한 가압수단을 구비하여, 상기 억셉터 기판 상에 도너 필름을 라미네이션하는 라미네이션 유닛; 및 상기 라미네이션 유닛 상에 위치하고, 상기 라미네이션 유닛의 개구부를 관통하여 상기 라미네이션된 도너 필름 상에 레이저 빔을 조사하는 레이저 조사 장치;를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 장치를 제공한다. One aspect of the present invention to achieve the above technical problem, the chuck for fixing the acceptor substrate; A body portion having an opening in the center, a pair of pad portions positioned below the body portion, and a pressurizing means connected to an upper portion of the body portion to apply pressure to the pad portion, A lamination unit for laminating a donor film on a acceptor substrate; And a laser irradiation device positioned on the lamination unit and irradiating a laser beam onto the laminated donor film through an opening of the lamination unit.

상기 기술적 과제를 이루기 위하여 본 발명의 다른 일 측면은, 척 상에 억셉 터 기판을 위치시키고; 적어도 광열변환층 및 전사층을 구비하는 도너 필름을 상기 전사층이 상기 억셉터 기판을 대향하도록 위치시키고; 중앙에 개구부를 가지는 바디부, 상기 바디부의 하부에 위치하는 한 쌍의 패드부 및 상기 바디부의 상부에 연결되며 상기 패드부에 압력을 가하기 위한 가압수단을 구비한 라미네이션 유닛을 사용하여 상기 도너 필름을 상기 억셉터 기판 상에 라미네이션시키고; 상기 라미네이션 유닛의 개구부를 관통하여 상기 라미네이션된 도너 필름 상에 레이저를 조사하여 상기 전사층의 적어도 일부를 상기 억셉터 기판 상으로 전사시키는 것;을 포함하는 레이저 열 전사 방법을 제공한다.Another aspect of the present invention to achieve the above technical problem, the positioning of the acceptor substrate on the chuck; Positioning a donor film having at least a photothermal conversion layer and a transfer layer such that the transfer layer faces the acceptor substrate; The donor film may be formed by using a lamination unit having a body part having an opening in the center, a pair of pad parts positioned below the body part, and a pressing unit connected to an upper part of the body part and pressing means for applying pressure to the pad part. Lamination on the acceptor substrate; And irradiating a laser onto the laminated donor film through the opening of the lamination unit to transfer at least a portion of the transfer layer onto the acceptor substrate.

또한, 상기 기술적 과제를 이루기 위하여 본 발명의 또 다른 일 측면은, 척 상에 화소전극이 형성된 유기전계발광소자 기판을 위치시키고; 적어도 광열변환층 및 전사층을 구비하는 도너 필름을 상기 전사층이 상기 기판에 대향되도록 위치시키고; 중앙에 개구부를 가지는 바디부, 상기 바디부의 하부에 위치하는 한 쌍의 패드부 및 상기 바디부의 상부에 연결되며 상기 패드부에 압력을 가하기 위한 가압수단을 구비하는 라미네이션 유닛을 사용하여 상기 도너 필름을 상기 억셉터 기판 상에 라미네이션시키고; 상기 라미네이션 유닛의 개구부를 통하여 상기 라미네이션된 도너 필름 상에 레이저를 조사하여 상기 전사층의 일부를 상기 기판 상으로 전사시켜 상기 화소전극 상에 유기막층을 형성하는 것;을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자 제조방법을 제공한다.In addition, another aspect of the present invention to achieve the above technical problem, the organic electroluminescent device substrate having a pixel electrode formed on the chuck is located; Placing a donor film having at least a photothermal conversion layer and a transfer layer such that the transfer layer faces the substrate; The donor film may be formed by using a lamination unit having a body part having an opening in the center, a pair of pad parts positioned below the body part, and a pressing unit connected to an upper part of the body part and pressing means for applying pressure to the pad part. Lamination on the acceptor substrate; And irradiating a laser onto the laminated donor film through an opening of the lamination unit to transfer a portion of the transfer layer onto the substrate to form an organic layer on the pixel electrode. It provides a method for manufacturing an electroluminescent device.

이하, 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명한다. 그러나 본 발명은 여기 서 설명되어지는 실시예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 도면들에 있어서, 층이 다른 층 또는 기판 "상"에 있다고 언급되어지는 경우에 그것은 다른 층 또는 기판 상에 직접 형성될 수 있거나 또는 그들 사이에 제 3의 층이 개재될 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소를 나타낸다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings in order to describe the present invention in more detail. However, the present invention is not limited to the embodiments described herein and may be embodied in other forms. In the figures, where a layer is said to be "on" another layer or substrate, it may be formed directly on the other layer or substrate, or a third layer may be interposed therebetween. Like numbers refer to like elements throughout the specification.

(실시예)(Example)

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 레이저 열 전사 장치를 개략적으로 나타낸 사시도이며, 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 레이저 열 전사 장치를 개략적으로 나타낸 측면도이고, 도 3은 도 1의 절단선 I-I'를 따라 취해진 본 발명의 실시예에 따른 레이저 열 전사 장치 일부의 단면도로서, 이를 설명하면 다음과 같다.1 is a perspective view schematically showing a laser thermal transfer apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a side view schematically showing a laser thermal transfer apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a cut line of FIG. 1. A cross-sectional view of a portion of a laser thermal transfer apparatus according to an embodiment of the present invention taken along line II ′, which will be described below.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 레이저 열 전사 장치(100)는 기판 스테이지(110)를 구비하며, 상기 기판 스테이지(110) 상에 억셉터 기판(50)을 고정시키기 위한 척(115)이 위치한다. 상기 기판 스테이지(110)는 상기 척(115)을 X 방향으로 이동시키기 위한 척 가이드 바(chuck guide bar; 113)를 구비하고, 이로써 상기 척(115)은 상기 척 가이드 바(113)를 따라 X 방향으로 이동할 수 있다. 1 to 3, the laser thermal transfer apparatus 100 includes a substrate stage 110, and a chuck 115 for fixing the acceptor substrate 50 on the substrate stage 110 is positioned. do. The substrate stage 110 has a chuck guide bar 113 for moving the chuck 115 in the X direction, whereby the chuck 115 is X along the chuck guide bar 113. Can move in the direction.

상기 척(115) 상에 상기 척(115)을 가로지르는 방향으로 배치된 광학 스테이지(120)가 위치하며, 상기 광학 스테이지(120) 상에 레이저 조사 장치(130)가 설치된다. 상기 광학 스테이지(120)는 상기 레이저 조사 장치(130)를 Y 방향으로 이동시키기 위한 레이저 가이드 바(laser guide bar; 123)를 구비하며, 나아가, 상기 레이저 조사 장치(130)는 레이저 조사 장치 베이스(125)를 통해 상기 광학 스테이 지(120) 상면, 자세하게는 상기 레이저 가이드 바(123)에 장착된다.An optical stage 120 is disposed on the chuck 115 in a direction crossing the chuck 115, and a laser irradiation device 130 is installed on the optical stage 120. The optical stage 120 includes a laser guide bar 123 for moving the laser irradiation apparatus 130 in the Y direction, and furthermore, the laser irradiation apparatus 130 includes a laser irradiation apparatus base ( 125 is mounted on the optical stage 120, the laser guide bar 123 in detail.

상기 레이저 조사 장치(130)는, 도 3에 도시한 바와 같이, 레이저 소오스(131), 빔 모양 변형장치(beam shaping element;132), 마스크(133) 및 투영렌즈(projection lens;134)를 구비할 수 있다. 상기 레이저 소오스(131)로부터 발생된 빔은 상기 빔 모양 변형장치(132)를 통과함으로써, 균질화된 플랫-탑 프로파일을 갖는 빔으로 변형되며, 상기 균질화된 빔은 상기 마스크(133)를 통과할 수 있다. 상기 마스크(133)는 적어도 하나의 광투과 패턴 또는 적어도 하나의 광반사 패턴을 구비할 수 있으며, 상기 마스크(133)를 투과한 빔은 상기 투영렌즈(134)를 통과하여 상기 억셉터 기판(50) 상에 조사될 수 있다.As shown in FIG. 3, the laser irradiation apparatus 130 includes a laser source 131, a beam shaping element 132, a mask 133, and a projection lens 134. can do. The beam generated from the laser source 131 is transformed into a beam having a homogenized flat-top profile by passing through the beam shape modifying device 132, and the homogenized beam can pass through the mask 133. have. The mask 133 may include at least one light transmission pattern or at least one light reflection pattern, and a beam passing through the mask 133 passes through the projection lens 134 to allow the acceptor substrate 50. Can be irradiated on

상기 광학 스테이지(120)의 측부 상에, 상기 레이저 조사 장치(130)의 하부에 위치하도록 라미네이션 유닛(150)이 장착된다. 상기 라미네이션 유닛(150)은 상기 광학 스테이지(120)의 측부에 위치한 라미네이션 유닛 베이스(141)에 설치된다. 이하에서는 상기 라미네이션 유닛(150)에 대하여 자세히 설명하도록 한다.On the side of the optical stage 120, the lamination unit 150 is mounted to be located below the laser irradiation device 130. The lamination unit 150 is installed in the lamination unit base 141 located on the side of the optical stage 120. Hereinafter, the lamination unit 150 will be described in detail.

상기 라미네이션 유닛(150)은 도너 필름(70)을 상기 억셉터 기판(50) 상에 라미네이션하기 위한 요소로서, 금속 또는 플라스틱으로 이루어진 바디부(151), 상기 바디부(151)에 연결된 가압수단(152) 및 상기 바디부(151)의 하부에 위치하는 패드부(153)로 구성된다.The lamination unit 150 is an element for laminating a donor film 70 on the acceptor substrate 50, and a body part 151 made of metal or plastic, and pressing means connected to the body part 151 ( 152 and a pad portion 153 positioned below the body portion 151.

상기 바디부(151)는 척(115)을 가로지르는 Y 방향으로 연장된 형태이며, 중앙에 개구부를 가진다. 이로써, 상기 라미네이션 유닛(150)의 하부에 위치한 도너 필름은 상기 척(115)을 가로지르는 Y 방향으로 억셉터 기판에 밀착될 수 있으며, 또한, 레이저 조사 장치(130)는 Y 방향으로 이동하면서 상기 바디부(151)의 개구부를 통하여 상기 도너 필름에 연속적으로 레이저를 조사할 수 있다. The body portion 151 extends in the Y direction across the chuck 115 and has an opening in the center thereof. As a result, the donor film positioned below the lamination unit 150 may be in close contact with the acceptor substrate in the Y direction crossing the chuck 115, and the laser irradiation apparatus 130 may move in the Y direction. The donor film may be continuously irradiated with a laser through the opening of the body part 151.

상기 가압수단(152)은 상기 바디부(151)에 연결되어 상기 패드부(153)에 소정의 압력을 가하는 것으로서, 예를 들면, 에어 실린더(air cylinder), 모터 등의 공지수단을 사용할 수 있다. 상기 가압수단(152)은 상기 라미네이션 유닛 베이스(141)의 돌출부(142)에 장착되며, 상기 개구부를 제외한 바디부(151)의 상부에 연결된다. 여기서, 상기 가압수단(152)은 상기 패드부(153)에 균일하게 압력을 가할 수 있도록 상기 바디부(151)의 네 개의 모서리부에 위치한다. 본 발명의 실시예에서는 4개의 에어 실린더를 상기 바디부(151)의 모서리부에 각각 장착하였지만, 필요에 따라, 상기 가압수단(152)의 종류, 위치 및 개수를 변화시킬 수 있다. The pressing means 152 is connected to the body portion 151 to apply a predetermined pressure to the pad portion 153, for example, a known means such as an air cylinder (motor cylinder), a motor can be used. . The pressing means 152 is mounted on the protrusion 142 of the lamination unit base 141 and is connected to the upper portion of the body 151 except for the opening. Here, the pressing means 152 is located at the four corners of the body portion 151 to apply pressure evenly to the pad portion 153. In the embodiment of the present invention, four air cylinders are mounted at the corners of the body part 151, respectively, but the type, position and number of the pressing means 152 may be changed as necessary.

상기 패드부(153)는 상기 개구부를 제외한 바디부(151)의 하부에 장착되며, 한 쌍의 선형 패드로 이루어질 수 있다. 여기서, 상기 패드부(153)는 실리콘, 고무 또는 우레탄 등과 같은 탄성체로 이루어질 수 있으며, 도 3에 도시한 바와 같이, 상기 패드부(153)의 단면은 어느 한 내각이 30 내지 60도인 평행사변형의 형상을 가질 수 있다. 따라서, 상기 패드부(153)에 상기 가압수단(152)에 의하여 수직방향으로 압력이 가해지면, 상기 패드부(153)는 상기 패드부(153)의 탄성 및 형상으로 인하여 상기 라미네이션 유닛의 하부에 위치한 도너필름(70)에 수직방향 및 수평방향으로 힘을 가할 수 있게 되며, 이는 상기 도너필름(70)을 상기 억셉터 기판(50) 상에 밀착시킴과 동시에 상기 도너 필름(70)에 소정의 장력을 갖게 하여 효과적인 라미네이션을 수행할 수 있게 된다.The pad portion 153 is mounted to the lower portion of the body portion 151 excluding the opening, and may be formed of a pair of linear pads. Here, the pad portion 153 may be made of an elastic body such as silicone, rubber, or urethane. As shown in FIG. 3, the cross section of the pad portion 153 may have a parallelogram having an internal angle of 30 to 60 degrees. It may have a shape. Therefore, when the pressure is applied in the vertical direction by the pressing means 152 to the pad portion 153, the pad portion 153 is located under the lamination unit due to the elasticity and shape of the pad portion 153. It is possible to apply a force in the vertical direction and the horizontal direction to the donor film 70 located, which is in close contact with the donor film 70 on the acceptor substrate 50 and at the same time The tension allows the effective lamination to be performed.

상기 도너 필름(70)은 리본 형태일 수 있으며, 상기 라미네이션 유닛(150)의 하부에 위치한다. 상기 라미네이션 유닛(150)의 양측부에는 리본형 도너 필름을 제공하기 위한 필름 공급수단(film supply means; 143)과 필름 감기수단(film winding means; 144)이 설치될 수 있다. 상기 필름 공급수단(143)과 상기 필름 감기수단(144)은 롤 형태인 것이 바람직하다. 상기 필름 공급수단(143)과 상기 필름 감기수단(144)은 상기 도너 필름(70)에 일정한 장력을 가할 수 있다. 상기 필름 공급수단(143)과 상기 필름 감기수단(144)은 상기 도너 필름의 공급시 상기 도너 필름이 상기 라미네이션 유닛(150)의 패드부(153)와 접촉하여 마찰이 발생하지 않도록, 상기 라미네이션 유닛(150)에 소정간격 이격하여 상기 라미네이션 유닛 베이스(141)의 소정의 위치에 각각 설치될 수 있다. The donor film 70 may be in the form of a ribbon, and is located below the lamination unit 150. Film supply means 143 and film winding means 144 for providing a ribbon donor film may be installed at both sides of the lamination unit 150. The film supply means 143 and the film winding means 144 is preferably in the form of a roll. The film supply means 143 and the film winding means 144 may apply a predetermined tension to the donor film 70. The film supply means 143 and the film winding means 144 may be the lamination unit so that the donor film does not come into contact with the pad portion 153 of the lamination unit 150 when the donor film is supplied. Each of the lamination unit bases 141 may be installed at predetermined positions spaced apart from each other at 150.

도 4는 억셉터 기판인 유기전계발광소자의 구조를 설명하기 위한 단면도이며, 도 5은 도너 필름의 구조를 설명하기 위한 단면도이다. 이하, 도 1, 도 4 및 도 5를 참조하여 상술한 레이저 열 전사 장치를 사용한 레이저 열 전사법 및 유기전계발광표시장치의 제조방법을 상세하게 설명하기로 한다.4 is a cross-sectional view for explaining the structure of an organic light emitting device which is an acceptor substrate, and FIG. 5 is a cross-sectional view for explaining the structure of a donor film. Hereinafter, a laser thermal transfer method and a method of manufacturing an organic light emitting display device using the above-described laser thermal transfer apparatus will be described in detail with reference to FIGS. 1, 4, and 5.

도 1, 도 4 및 도 5를 참조하면, 척(115) 상에 억셉터 기판(50)을 위치시킨다. 상기 억셉터 기판(50)은 유기전계발광소자 기판일 수 있다. 1, 4, and 5, the acceptor substrate 50 is positioned on the chuck 115. The acceptor substrate 50 may be an organic light emitting diode substrate.

상기 유기전계발광소자 기판은, 도 4에 도시한 바와 같이, 기판(51) 상의 소정영역에 반도체층(52)이 위치한다. 상기 반도체층(52)은 비정질 실리콘막 또는 비정질 실리콘막을 결정화한 다결정 실리콘막일 수 있다. 상기 반도체층(52) 상에 제 1 절연막인 게이트 절연막(53)이 위치한다. 상기 게이트 절연막(53) 상에 상기 반 도체층(52)과 중첩하는 게이트 전극(54)이 위치한다. 상기 게이트 전극(54) 상에 상기 반도체층(52) 및 상기 게이트 전극(54)을 덮는 제 2 절연막(55)이 위치한다. 상기 제 2 절연막(55) 상에 상기 제 2 절연막(55) 및 상기 제 1 절연막(53)을 관통하여 상기 반도체층(52)의 양 단부와 각각 접속하는 소오스 전극(56) 및 드레인 전극(57)이 위치한다. 상기 반도체층(52), 상기 게이트 전극(54) 및 상기 소오스/드레인 전극들(56, 57)은 박막트랜지스터(T)를 구성한다. 상기 소오스/드레인 전극들(56, 57) 상에 상기 소오스/드레인 전극들(56, 57)을 덮는 제 3 절연막(58)이 위치한다. 상기 제 3 절연막(58)은 상기 박막트랜지스터(T)를 보호하기 위한 패시베이션막 및/또는 상기 박막트랜지스터로 인한 단차를 완화하기 위한 평탄화막일 수 있다. 상기 제 3 절연막(58) 상에 상기 제 3 절연막(58)을 관통하여 상기 드레인 전극(57)과 접속하는 화소전극(59)이 위치한다. 상기 화소전극(59)은 예를 들어, ITO(Indium Tin Oxide)막 또는 IZO(Indium Zinc Oxide)막일 수 있으며, 하부에 반사금속막을 구비할 수 있다. 상기 화소전극(59) 상에 상기 화소전극의 일부를 노출시키는 개구부(60a)를 갖는 화소정의막(pixel defining layer, 60)이 위치할 수 있다.In the organic electroluminescent device substrate, as shown in FIG. 4, the semiconductor layer 52 is positioned in a predetermined region on the substrate 51. The semiconductor layer 52 may be an amorphous silicon film or a polycrystalline silicon film obtained by crystallizing an amorphous silicon film. A gate insulating layer 53, which is a first insulating layer, is positioned on the semiconductor layer 52. A gate electrode 54 overlapping the semiconductor layer 52 is positioned on the gate insulating layer 53. The second insulating layer 55 covering the semiconductor layer 52 and the gate electrode 54 is disposed on the gate electrode 54. The source electrode 56 and the drain electrode 57 which pass through the second insulating film 55 and the first insulating film 53 on the second insulating film 55 and are connected to both ends of the semiconductor layer 52, respectively. ) Is located. The semiconductor layer 52, the gate electrode 54, and the source / drain electrodes 56 and 57 constitute a thin film transistor T. A third insulating layer 58 is disposed on the source / drain electrodes 56 and 57 to cover the source / drain electrodes 56 and 57. The third insulating layer 58 may be a passivation film for protecting the thin film transistor T and / or a planarization film for alleviating a step caused by the thin film transistor. The pixel electrode 59 penetrating the third insulating film 58 and connected to the drain electrode 57 is positioned on the third insulating film 58. The pixel electrode 59 may be, for example, an indium tin oxide (ITO) film or an indium zinc oxide (IZO) film, and a reflective metal film may be provided under the pixel electrode 59. A pixel defining layer 60 having an opening 60a exposing a portion of the pixel electrode may be disposed on the pixel electrode 59.

상기 억셉터 기판(50) 상에 대향되도록 상기 도너 필름(70)을 위치시킨다. 상기 도너 필름(70)은 리본형일 수 있다. 상기 도너 필름(70)은 필름 감기수단(144) 또는 필름 공급수단(143)에 여러 겹으로 감겨있으며, 상기 필름 감기수단(144) 및 필름 공급수단(143)은 상기 도너 필름이 라미네이션 유닛(150)의 하부에 위치할 수 있도록 배치된다. 이러한 리본형의 도너 필름(70)은 상기 억셉터 기 판(50)의 폭에 비해 작은 폭을 가지므로 상기 기판(50)의 폭과 비슷하거나 그보다 큰 도너 필름을 제작하는 경우에 비해 취급이 용이하며, 필름 제조시의 균일성을 확보할 수 있다. The donor film 70 is positioned to face the acceptor substrate 50. The donor film 70 may be a ribbon type. The donor film 70 is wound in multiple layers on the film winding means 144 or the film supply means 143, the film winding means 144 and the film supply means 143 is the donor film lamination unit 150 It is arranged to be located under the). Since the ribbon donor film 70 has a smaller width than the width of the acceptor substrate 50, the ribbon donor film 70 is easier to handle than a case where a donor film similar to or larger than the width of the substrate 50 is manufactured. And uniformity in film production can be ensured.

상기 도너 필름(70)은, 도 5에 도시한 바와 같이, 기재 필름(base film; 71) 및 상기 기재 필름(71)의 일면 상에 차례로 적층된 광열변환층(72)과 전사층(73)을 구비한다. As shown in FIG. 5, the donor film 70 includes a base film 71 and a light-to-heat conversion layer 72 and a transfer layer 73 sequentially stacked on one surface of the base film 71. It is provided.

상기 기재 필름(71)은 폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethyleneterephthalate, PET) 등의 투명성 고분자 유기재료로 형성될 수 있다. 상기 광열변환층(72)은 입사되는 광을 열로 변환시키는 막으로, 광흡수성 물질인 알루미늄 산화물, 알루미늄 황화물, 카본 블랙, 흑연 또는 적외선 염료를 포함할 수 있다. 상기 전사층(73)은 상기 하부기판(A)이 유기전계발광소자 기판인 경우, 유기전사층일 수 있다. 상기 유기전사층(73)은 정공주입층, 정공수송층, 전계발광층, 정공억제층, 전자수송층 및 전자주입층으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나의 막일 수 있다.The base film 71 may be formed of a transparent polymer organic material such as polyethylene terephthalate (PET). The photothermal conversion layer 72 is a film for converting incident light into heat, and may include aluminum oxide, aluminum sulfide, carbon black, graphite, or infrared dye, which are light absorbing materials. The transfer layer 73 may be an organic transfer layer when the lower substrate A is an organic light emitting diode substrate. The organic transfer layer 73 may be at least one film selected from the group consisting of a hole injection layer, a hole transport layer, an electroluminescent layer, a hole suppression layer, an electron transport layer and an electron injection layer.

이어서, 상기 척을 가로지르는 Y 방향으로 연장된 라인 형태이며, 바디부(151), 상기 바디부(151)의 하부에 위치한 패드부(153) 및 상기 패드부(153)에 압력을 가하는 가압수단(152)을 구비한 라미네이션 유닛(150)을 사용하여, 상기 도너필름(70)을 상기 기판(50) 상에 라미네이션시킨다. Subsequently, a pressure line is formed in a line shape extending in the Y direction across the chuck and exerts pressure on the body portion 151, the pad portion 153 located below the body portion 151, and the pad portion 153. The donor film 70 is laminated on the substrate 50 by using the lamination unit 150 having the 152.

상기 라미네이션은 상기 가압수단(152)에 의하여 상기 바디부(151)의 하부에 위치한 패드부(153)에 압력을 인가함으로써 수행된다. 상기 가압수단(152)은 에어 실린더일 수 있다. 상기 패드부(153)는 탄성을 가지는 한 쌍의 선형 패드로 이루어질 수 있으며, 상기 패드부(153)의 단면은 평행사변형의 형상을 가질 수 있다. 따라서, 상기 바디부(151)에 상기 가압수단(152)에 의하여 수직방향으로 압력이 가해지면, 상기 바디부(151)는 상기 라미네이션 유닛(150)의 하부에 위치한 도너 필름(70)과 함께, 상기 억셉터 기판(50) 상으로 이동하여 상기 패드부(153)에 의하여 상기 도너 필름(70)이 상기 억셉터 기판 상에 라미네이션된다. 이때, 상기 패드부(153)의 탄성 및 형상으로 인하여, 상기 패드부(153)는 상기 도너 필름(70)에 수직방향 및 수평방향으로 힘을 가하게 된다. 즉, 상기 도너 필름(70)을 수직방향으로 밀착시킴과 동시에 수평방향으로 상기 도너 필름(70)이 펴지면서 소정의 장력을 갖도록 밀착시킬 수 있어 효과적인 라미네이션을 수행할 수 있다.The lamination is performed by applying pressure to the pad portion 153 located under the body portion 151 by the pressing means 152. The pressurizing means 152 may be an air cylinder. The pad part 153 may be formed of a pair of linear pads having elasticity, and a cross section of the pad part 153 may have a parallelogram shape. Therefore, when pressure is applied in the vertical direction by the pressing means 152 to the body portion 151, the body portion 151 together with the donor film 70 located below the lamination unit 150, The donor film 70 is laminated on the acceptor substrate by moving onto the acceptor substrate 50 by the pad part 153. At this time, due to the elasticity and shape of the pad portion 153, the pad portion 153 is applied to the donor film 70 in the vertical and horizontal directions. That is, the donor film 70 may be brought into close contact with each other in a vertical direction and the donor film 70 may be brought into contact with a predetermined tension while being stretched in a horizontal direction, thereby enabling effective lamination.

이어서, 레이저 조사 장치(130)로부터 레이저 빔이 방출되고, 상기 레이저 빔은 상기 라미네이션 유닛(150)의 개구부를 통과하여 상기 라미네이션 된 도너 필름(70) 상에 조사된다. Subsequently, a laser beam is emitted from the laser irradiation apparatus 130, and the laser beam passes through the opening of the lamination unit 150 and is irradiated onto the laminated donor film 70.

상기 도너 필름(70)의 상기 레이저 빔이 조사된 영역에서는 상기 광열변환층이 상기 레이저 빔을 흡수하여 열을 발생시키고, 상기 열이 발생된 광열변환층하부의 상기 전사층은 상기 열에 의해 상기 광열변환층과의 접착력에 변화가 생겨 상기 억셉터 기판(50) 상으로 전사된다. 결과적으로 상기 억셉터 기판(50) 상에는 패터닝된 전사층(73a)이 형성된다.In the region where the laser beam of the donor film 70 is irradiated, the photothermal conversion layer absorbs the laser beam to generate heat, and the transfer layer under the photothermal conversion layer where the heat is generated is the optical heat by the heat. A change in the adhesion force with the conversion layer occurs and transferred onto the acceptor substrate 50. As a result, a patterned transfer layer 73a is formed on the acceptor substrate 50.

이 때, 레이저 조사 장치 베이스(125)는 레이저 가이드 바(123)를 따라 Y축으로 이동하며, 상기 레이저 조사 장치(130)는 상기 라미네이션 유닛(150)의 개구 부를 통하여 연속적으로 레이저 빔을 조사한다. 따라서, 상기 억셉터 기판(50) 상에는 전사층 패턴(73a)이 Y축을 따라 계속적으로 생성된다. In this case, the laser irradiation apparatus base 125 moves along the Y-axis along the laser guide bar 123, and the laser irradiation apparatus 130 continuously irradiates the laser beam through the opening of the lamination unit 150. . Therefore, the transfer layer pattern 73a is continuously generated along the Y axis on the acceptor substrate 50.

상기 레이저 조사 장치(130)가 상기 억셉터 기판(50)의 가장자리에 다다르면, 상기 라미네이션 유닛(150)의 가압수단(152)은 인가했던 압력을 제거하게 되고, 그 결과, 상기 패드부(153) 및 상기 라미네이션 유닛(150) 하부의 도너 필름(70)은 상기 억셉터 기판으로부터 떨어지게 된다. 이 때, 상기 필름 감기수단(144)은 패터닝에 사용된 도너 필름(70)을 감게 되고, 새로운 도너 필름(70) 부분이 상기 라미네이션 유닛(150) 하부에 위치할 수 있게 된다. When the laser irradiation device 130 reaches the edge of the acceptor substrate 50, the pressing means 152 of the lamination unit 150 removes the applied pressure, and as a result, the pad part 153 And the donor film 70 under the lamination unit 150 is separated from the acceptor substrate. At this time, the film winding means 144 is wound around the donor film 70 used for patterning, the new donor film 70 can be located below the lamination unit 150.

이어서, 상기 척(115)은 상기 척 가이드 바(113)를 따라 한 스텝 이동하고, 상술한 라미네이션 및 레이저 조사를 반복하여, 기판 전체에 전사층 패턴(73a), 즉, 유기막층을 형성한다.Subsequently, the chuck 115 moves one step along the chuck guide bar 113 and repeats the lamination and laser irradiation described above to form the transfer layer pattern 73a, that is, the organic layer on the entire substrate.

도 6은 패터닝된 전사층을 구비하는 유기전계발광소자 기판의 일부영역을 확대하여 나타낸 단면도이다.6 is an enlarged cross-sectional view of a portion of an organic light emitting diode substrate having a patterned transfer layer.

상기와 같은 공정을 수행하면, 도 6에 도시한 바와 같이, 유기전계발광소자 기판의 개구부(60a) 내에 노출된 화소전극(55) 상에 전사층 패턴(77a)이 위치한다.상기 전사층 패턴(77a)은 발광층일 수 있다. 나아가, 상기 전사층 패턴(77a)은 정공주입층, 정공수송층, 정공억제층, 전자수송층 및 전자주입층으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 한 층을 더욱 포함할 수 있다.As described above, as illustrated in FIG. 6, the transfer layer pattern 77a is positioned on the pixel electrode 55 exposed in the opening 60a of the organic light emitting diode substrate. 77a may be a light emitting layer. Furthermore, the transfer layer pattern 77a may further include at least one layer selected from the group consisting of a hole injection layer, a hole transport layer, a hole suppression layer, an electron transport layer, and an electron injection layer.

상기와 같은 레이저 열 전사공정에 의하여 적어도 발광층을 포함하는 유기막층을 형성한 다음, 상기 유기막층 상에 대향 전극을 형성함으로써 유기전계발광소 자의 제조를 완성할 수 있다.The organic electroluminescent device may be manufactured by forming an organic layer including at least a light emitting layer by a laser thermal transfer process as described above, and then forming an opposite electrode on the organic layer.

상술한 바와 같이, 본 발명은 바디부(151), 가압수단(152) 및 패드부(153)를 구비한 라미네이션 유닛(150)을 포함하는 레이저 열 전사 장치를 제공함으로써, 리본형 도너 필름의 효과적인 라미네이션을 수행할 수 있다. 또한 상기 라미네이션 유닛(150)은 탄성을 지니며 평행사변형의 단면을 가지는 패드부(153)를 구비하여, 상기 도너 필름에 수직 방향 및 수평방향의 압력을 가할 수 있다. 즉, 상기 도너 필름을 수직방향으로 밀착시킴과 동시에 수평 방향으로 소정의 장력을 갖게 함으로써, 후속하는 레이저 조사시 전사효율을 극대화할 수 있으며, 레이저 열 전사법에 의한 전사층 패턴의 품질을 향상시킬 수 있다.As described above, the present invention provides a laser thermal transfer apparatus including a lamination unit 150 having a body portion 151, a pressing means 152, and a pad portion 153, whereby Lamination can be performed. In addition, the lamination unit 150 may be elastic and have a pad portion 153 having a parallelogram cross section to apply pressure in the vertical direction and the horizontal direction to the donor film. That is, by closely adhering the donor film in the vertical direction and having a predetermined tension in the horizontal direction, it is possible to maximize the transfer efficiency during subsequent laser irradiation, and improve the quality of the transfer layer pattern by the laser thermal transfer method. Can be.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 억셉터 기판 상에 리본형 도너 필름을 효과적으로 라미네이션시킬 수 있으며, 이로써, 레이저 열 전사법에 의한 유기막층 형성시 전사효율을 극대화하며, 우수한 전사 패턴 프로파일을 얻을 수 있다.As described above, according to the present invention, it is possible to effectively laminate the ribbon-type donor film on the acceptor substrate, thereby maximizing the transfer efficiency when forming the organic film layer by the laser thermal transfer method, and obtaining an excellent transfer pattern profile. Can be.

Claims (16)

억셉터 기판을 고정시키는 척;A chuck holding the acceptor substrate; 상기 척 상에 위치하고, 중앙에 개구부를 가지는 바디부, 상기 바디부의 하부에 위치하는 한 쌍의 패드부 및 상기 바디부의 상부에 연결되며 상기 패드부에 압력을 가하기 위한 가압수단을 구비하여, 상기 억셉터 기판 상에 도너 필름을 라미네이션하는 라미네이션 유닛; 및A body portion having an opening in the center, a pair of pad portions positioned below the body portion, and a pressurizing means connected to an upper portion of the body portion to apply pressure to the pad portion, A lamination unit for laminating a donor film on a acceptor substrate; And 상기 라미네이션 유닛 상에 위치하고, 상기 라미네이션 유닛의 개구부를 관통하여 상기 라미네이션된 도너 필름 상에 레이저 빔을 조사하는 레이저 조사 장치;를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 장치.And a laser irradiation device positioned on the lamination unit and irradiating a laser beam onto the laminated donor film through an opening of the lamination unit. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 패드부는 탄성체로 이루어진 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 장치.And the pad portion is made of an elastic body. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 패드부의 단면은 평행사변형의 형상인 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 장치.Cross section of the pad portion is a laser thermal transfer apparatus, characterized in that the parallelogram shape. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 라미네이션 유닛은 상기 척을 가로지르는 Y 방향으로 연장된 라인 형태 인 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 장치.And the lamination unit is in the form of a line extending in the Y direction across the chuck. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 척을 Y 방향으로 가로지르는 광학 스테이지를 더 포함하고,An optical stage traversing the chuck in the Y direction, 상기 레이저 조사 장치는 레이저 조사 장치 베이스를 통해 상기 광학 스테이지 상면에 위치되고, 상기 라미네이션 유닛은 라미네이션 유닛 베이스를 통해 상기 레이저 조사 장치의 하부에 위치하도록 상기 광학 스테이지의 측부에 설치되는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 장치.The laser irradiation apparatus is positioned on the upper surface of the optical stage through a laser irradiation apparatus base, the lamination unit is installed on the side of the optical stage to be positioned below the laser irradiation apparatus through a lamination unit base Heat transfer device. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 도너 필름은 리본형인 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 장치.And said donor film is ribbon-shaped. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 라미네이션 유닛의 양측부에 상기 도너 필름을 제공하기 위한 필름 공급수단(film supply means)과 필름 감기수단(film winding means)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 장치.And film supply means and film winding means for providing the donor film on both sides of the lamination unit. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 척을 Y 방향으로 가로지르는 광학 스테이지를 더 포함하고,An optical stage traversing the chuck in the Y direction, 상기 레이저 조사 장치는 레이저 조사 장치 베이스를 통해 상기 광학 스테이지 상면에 위치되고, 상기 라미네이션 유닛은 라미네이션 유닛 베이스를 통해 상기 레이저 조사 장치의 하부에 위치하도록 상기 광학 스테이지의 측부에 설치되고, 상기 필름 공급수단 및 상기 필름 감기수단은 상기 라미네이션 유닛에 이격되어 상기 라미네이션 유닛 베이스에 각각 설치되는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 장치.The laser irradiation apparatus is located on the upper surface of the optical stage through a laser irradiation apparatus base, the lamination unit is installed on the side of the optical stage to be positioned below the laser irradiation apparatus through a lamination unit base, the film supply means And the film winding means is spaced apart from the lamination unit and installed in the lamination unit base, respectively. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 도너 필름은 기재 필름, 상기 기재 필름 상에 위치하는 광열변환층 및 상기 광열변환층 상에 위치하는 전사층을 구비하는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 장치.And said donor film comprises a base film, a photothermal conversion layer positioned on said base film and a transfer layer located on said photothermal conversion layer. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 전사층은 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 정공억제층, 전자수송층 및 전자주입층으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 한 층인 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 장치.And the transfer layer is any one selected from the group consisting of a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, a hole suppression layer, an electron transport layer and an electron injection layer. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 억셉터 기판은 유기전계발광소자 기판인 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 장치.The acceptor substrate is a laser thermal transfer apparatus, characterized in that the organic light emitting element substrate. 척 상에 억셉터 기판을 위치시키고;Positioning the acceptor substrate on the chuck; 광열변환층 및 전사층을 구비하는 도너 필름을 상기 전사층이 상기 억셉터 기판을 대향하도록 위치시키고;Placing a donor film having a photothermal conversion layer and a transfer layer such that the transfer layer faces the acceptor substrate; 중앙에 개구부를 가지는 바디부, 상기 바디부의 하부에 위치하는 한 쌍의 패드부 및 상기 바디부의 상부에 연결되며 상기 패드부에 압력을 가하기 위한 가압수단을 구비한 라미네이션 유닛을 사용하여 상기 도너 필름을 상기 억셉터 기판 상에 라미네이션시키고;The donor film may be formed by using a lamination unit having a body part having an opening in the center, a pair of pad parts positioned below the body part, and a pressing unit connected to an upper part of the body part and pressing means for applying pressure to the pad part. Lamination on the acceptor substrate; 상기 라미네이션 유닛의 개구부를 관통하여 상기 라미네이션된 도너 필름 상에 레이저를 조사하여 상기 전사층의 일부를 상기 억셉터 기판 상으로 전사시키는 것;을 포함하는 레이저 열 전사 방법.Irradiating a laser onto the laminated donor film through an opening of the lamination unit to transfer a portion of the transfer layer onto the acceptor substrate. 제 12 항에 있어서,The method of claim 12, 상기 레이저는 Y 방향으로 라미네이션된 도너 필름을 따라 조사되는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 방법.And the laser is irradiated along the donor film laminated in the Y direction. 척 상에 화소전극이 형성된 유기전계발광소자 기판을 위치시키고;Positioning an organic light emitting element substrate on which the pixel electrode is formed; 광열변환층 및 전사층을 구비하는 도너 필름을 상기 전사층이 상기 기판에 대향되도록 위치시키고;Placing a donor film having a photothermal conversion layer and a transfer layer such that the transfer layer faces the substrate; 중앙에 개구부를 가지는 바디부, 상기 바디부의 하부에 위치하는 한 쌍의 패드부 및 상기 바디부의 상부에 연결되며 상기 패드부에 압력을 가하기 위한 가압수단을 구비하는 라미네이션 유닛을 사용하여 상기 도너 필름을 상기 유기전계발광소자 기판 상에 라미네이션시키고;The donor film is formed using a lamination unit having a body part having an opening in the center, a pair of pad parts positioned below the body part, and a pressing unit connected to an upper part of the body part and pressing means for applying pressure to the pad part. Lamination on the organic light emitting device substrate; 상기 라미네이션 유닛의 개구부를 통하여 상기 라미네이션된 도너 필름 상에 레이저를 조사하여 상기 전사층의 일부를 상기 기판 상으로 전사시켜 상기 화소전극 상에 유기막층을 형성하는 것;을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자의 제조방법.And irradiating a laser onto the laminated donor film through an opening of the lamination unit to transfer a portion of the transfer layer onto the substrate to form an organic layer on the pixel electrode. Method of manufacturing an electroluminescent device. 제 14 항에 있어서, The method of claim 14, 상기 유기막층은 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 정공억제층, 전자수송층 및 전자주입층으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 한 층인 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자의 제조방법.The organic layer is a method of manufacturing an organic light emitting display device, characterized in that any one selected from the group consisting of a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, a hole suppression layer, an electron transport layer and an electron injection layer. 제 14 항에 있어서, The method of claim 14, 상기 유기막층 상에 대향전극을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자의 제조방법.A method of manufacturing an organic light emitting display device, the method comprising: forming a counter electrode on the organic layer.
KR1020060034265A 2006-04-14 2006-04-14 laser induced thermal imaging apparatus, laser induced thermal imaging method using the apparatus and fabrication method of OLED using the apparatus KR100770260B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060034265A KR100770260B1 (en) 2006-04-14 2006-04-14 laser induced thermal imaging apparatus, laser induced thermal imaging method using the apparatus and fabrication method of OLED using the apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060034265A KR100770260B1 (en) 2006-04-14 2006-04-14 laser induced thermal imaging apparatus, laser induced thermal imaging method using the apparatus and fabrication method of OLED using the apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20070102299A KR20070102299A (en) 2007-10-18
KR100770260B1 true KR100770260B1 (en) 2007-10-25

Family

ID=38817336

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060034265A KR100770260B1 (en) 2006-04-14 2006-04-14 laser induced thermal imaging apparatus, laser induced thermal imaging method using the apparatus and fabrication method of OLED using the apparatus

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100770260B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100908726B1 (en) * 2007-12-28 2009-07-22 삼성모바일디스플레이주식회사 Apparatus for laser induced thermal imaging

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20120119089A (en) 2011-04-20 2012-10-30 삼성디스플레이 주식회사 Method for manufacturing organic luminescent display apparatus
KR101813548B1 (en) 2011-06-30 2018-01-02 삼성디스플레이 주식회사 Laser induced thermal imaging apparatus and method for manufacturing organic light emitting display device using the same
KR101423557B1 (en) * 2012-11-21 2014-08-01 참엔지니어링(주) Apparatus and method for repairing an organic light emitting device
JP6221667B2 (en) * 2013-11-15 2017-11-01 大日本印刷株式会社 Element manufacturing method and element manufacturing apparatus
KR102191997B1 (en) * 2014-06-19 2020-12-17 삼성디스플레이 주식회사 Thermal treatment device for display apparatus and thermal treatment method using the same

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6226020B1 (en) * 1998-03-13 2001-05-01 Man Roland Druckmaschinen Ag Method and apparatus for producing a print, especially a proof, by means of laser-induced thermal transfer
KR20050020574A (en) * 2003-08-20 2005-03-04 레자 텍쿠 가부시키가이샤 Pattern Substrate Defect Correction Method and Apparatus and Pattern Substrate Manufacturing Method
KR20060020049A (en) * 2004-08-30 2006-03-06 삼성에스디아이 주식회사 Liti for fabricating of oled

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6226020B1 (en) * 1998-03-13 2001-05-01 Man Roland Druckmaschinen Ag Method and apparatus for producing a print, especially a proof, by means of laser-induced thermal transfer
KR20050020574A (en) * 2003-08-20 2005-03-04 레자 텍쿠 가부시키가이샤 Pattern Substrate Defect Correction Method and Apparatus and Pattern Substrate Manufacturing Method
KR20060020049A (en) * 2004-08-30 2006-03-06 삼성에스디아이 주식회사 Liti for fabricating of oled

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100908726B1 (en) * 2007-12-28 2009-07-22 삼성모바일디스플레이주식회사 Apparatus for laser induced thermal imaging

Also Published As

Publication number Publication date
KR20070102299A (en) 2007-10-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100712289B1 (en) Flat Panel Display and Fabrication Method of the Same
KR100770260B1 (en) laser induced thermal imaging apparatus, laser induced thermal imaging method using the apparatus and fabrication method of OLED using the apparatus
CN100462240C (en) Method of fabricating organic light emitting display using a laser induced thermal imaging apparatus
JP6046388B2 (en) Laser thermal transfer device and method for manufacturing organic light emitting display device using the same
KR101156437B1 (en) Organic Laser induced thermal imaging apparatus and method for manufacturing organic light emitting display device using the same
JP4656570B2 (en) Laser thermal transfer device, laminator, and laser thermal transfer method using laser thermal transfer device
US8741535B2 (en) Laser irradiation device and method of fabricating organic light emitting display device using the same
KR100770261B1 (en) laser induced thermal imaging apparatus, laser induced thermal imaging method using the apparatus and fabrication method of OLED using the apparatus
KR100793359B1 (en) Laser irridation apparatus, laser induced thermal imaging apparatus comprising the apparatus and fabrication method of OLED array substrate using the apparatus
KR100667088B1 (en) Tape-like donor film, tape-like donor film roll and laser induced thermal imaging apparatus having the tape-like donor film roll
KR100624125B1 (en) Laser induced thermal imaging and fabrication method of oled
KR100685410B1 (en) OLED and fabricating method of the same
KR100699992B1 (en) Laser induced thermal imaging apparatus and fabricating method of OLED
KR100624124B1 (en) Laser induced thermal imaging method and laser induced thermal imaging apparatus applied to the same
KR100721563B1 (en) Donor device and LITI method using the donor device
KR100761073B1 (en) Laser induced thermal imaging method
KR100793360B1 (en) Mask for laser irradiation device

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121008

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130930

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141001

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150930

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170928

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181001

Year of fee payment: 12

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191001

Year of fee payment: 13