KR100764624B1 - Mask packing box and selection method of packing box material therefor - Google Patents

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남기수
차한선
양신주
양철규
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주식회사 에스앤에스텍
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Abstract

A mask packing box and a method for selecting a packing box material are provided to prevent particles from entering into the packing box from an exterior by installing a sealing bar in the packing box. A cassette(300) is formed in a rectangular shape, with an upper portion being opened to receive plural masks. A body(200) is formed in a rectangular shape so that the cassette with the masks is mounted and fixed to the body. The body has a sealing bar for completely sealing the body using a tape. A cover is engaged to the body, after a cushion is fixed to an inside of the cover. The cover, the body, the cassette and the cushion are made of a conductive polymer material.

Description

마스크 패킹 박스 및 패킹 박스 재료 선별 방법{Mask Packing Box and Selection Method of Packing Box Material Therefor}Mask Packing Box and Selection Method of Packing Box Material Therefor}

도 1은 카세트가 바디와 결합하는 모습을 나타내는 개략적인 사시도.1 is a schematic perspective view showing a state in which a cassette is coupled to a body;

도 2a 내지 2e는 블랭크 마스크 패킹 박스의 카세트(Cassette)에 대한 개략적인 사시도.2A-2E are schematic perspective views of a cassette of a blank mask packing box.

도 3a 내지 3d는 블랭크 마스크 패킹 박스의 바디(Body)에 대한 개략적인 사시도.3A-3D are schematic perspective views of the body of the blank mask packing box.

도 4a 내지 4d는 블랭크 마스크 패킹 박스의 쿠션(Cushion)에 대한 개략적인 사시도.4A-4D are schematic perspective views of a cushion of a blank mask packing box.

도 5a 내지 5d는 본 발명의 실시예에 따른 블랭크 마스크 패킹 박스의 커버의 개략적인 사시도. 5A-5D are schematic perspective views of a cover of a blank mask packing box according to an embodiment of the invention.

도 6은 본 실시예에 따른 블랭크 마스크가 카세트에 수납되어 있는 모습을 나타내는 사시도.6 is a perspective view showing a state in which a blank mask is accommodated in a cassette according to the present embodiment.

도 7은 블랭크 마스크 패킹 박스에 블랭크 마스크가 패킹되어 있는 모습을 나타내는 투영도.7 is a projection view showing a state in which a blank mask is packed in a blank mask packing box.

도 8은 블랭크 마스크를 블랭크 마스크 패킹 박스에 패킹한 후 테이프로 실링한 모습을 나타내고 있는 개략적인 사시도.FIG. 8 is a schematic perspective view showing a state in which a blank mask is sealed with a tape after packing the blank mask in a blank mask packing box. FIG.

도 9은 본 발명에 의한 ATD-GC/MS 피크 그래프와 검출된 주요 물질을 도시한 도면.Figure 9 shows the ATD-GC / MS peak graph and the main substance detected according to the present invention.

도 10a은 본 발명에 의하여 선택된 재료가 적용된 포토마스크 또는 레티클용 패킹 박스를 도시한 도면.10A illustrates a packing box for a photomask or reticle to which a material selected by the present invention is applied.

도 10b는 본 발명에 의하여 선택된 재료가 적용된 웨이퍼 패킹 박스를 도시한 도면.10b illustrates a wafer packing box to which a material selected according to the present invention is applied.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

10 : 커버가이드 11 : 커버 변형방지바10: cover guide 11: cover deformation prevention bar

12 : 커버락 13 : 쿠션 고정대12: cover lock 13: cushion holder

20 : 바디변형방지바 21 : 바디내측 가이드20: body deformation prevention bar 21: body inner guide

22 : 바디락 23 : 씰링 바22: body lock 23: sealing bar

24 : 바디외측가이드 30 : 블랭크 마스크 슬롯24: body outer guide 30: blank mask slot

31 : 카세트 가이드 32: 카세트 변형방지바31: cassette guide 32: cassette deformation prevention bar

40 : 쿠션 고정홈 41 : 마스크 옆면 지지대 42 : 마스크 옆면 고정부 43 : 쿠션 지지대 40: cushion fixing groove 41: mask side support 42: mask side fixing portion 43: cushion support

61 : 블랭크 마스크 62 : 테이프 100 : 커버 200 : 바디 61: Blank Mask 62: Tape 100: Cover 200: Body

300 : 카세트 400 : 쿠션 300: cassette 400: cushion

500 : 패킹 박스500: packing box

본 발명은 블랭크 마스크 및 포토 마스크 또는 레티클등 반도체 공정용 마스크 패킹 박스 및 그 패킹 박스 재료 선별 방법에 관한 것으로서, 보다 더 상세하게는 테이프를 이용한 패킹시 박스로부터 발생하는 공기이동분자 오염을 줄일 수 있는 구조의 패킹 박스와 그 재료 선별 방법을 제공하기 위한 것이다. The present invention relates to a mask packing box for a semiconductor process such as a blank mask and a photo mask or a reticle, and a method for screening the packing box material thereof, and more particularly, to reduce air mobile molecule contamination generated from the box during packing using a tape. It is to provide a packing box of the structure and a method for sorting the material thereof.

즉, 공기이동분자오염(AMC)의 농도를 단위 부피당 5ppm 이하로 유지하면서, 단일 또는 다수의 마스크를 안전하게 포장, 보관 및 운반을 할 수 있도록 하는 것을 특징으로 하는 마스크용 패킹 박스 및 그 패킹 박스 재료 선별 방법에 관한 것이다. That is, the mask packing box and its packing box material, characterized in that it is possible to safely package, store and transport a single or multiple masks while maintaining the concentration of air mobile molecular contamination (AMC) to 5 ppm or less per unit volume It relates to a screening method.

반도체 집적회로의 고집적화에 따라 패턴의 크기가 110nm, 90nm, 65nm, 45nm 등으로 점점 더 미세해지고 있다. As semiconductor integrated circuits have been increasingly integrated, patterns have become increasingly finer at 110 nm, 90 nm, 65 nm, and 45 nm.

이러한, 최소선폭(Critical Dimension; CD) 구현을 위해서는 고성능의 포토마스크(Photomask)가 필요하여, 고성능의 포토 마스크 제작을 위해서 그 원재료인 블랭크 마스크(Blankmask)의 중요성이 점점 커지고 있다.In order to implement such a critical dimension (CD), a high-performance photomask is required, and a blank mask, which is a raw material, is increasingly important for producing a high-performance photomask.

이러한, 상기 블랭크 마스크는 일반적으로 청정실(Cleanroom)에서 제조되어 포토 마스크 공정에 이르기까지, 보관 및 운반의 필요성에 의해 패킹 박스에 보관되어진다. Such blank masks are generally manufactured in a cleanroom and stored in a packing box due to the need for storage and transport, up to the photo mask process.

그러나, 상기 보관기간 동안 고품질의 블랭크 마스크를 지속적으로 유지하기 위해서는 외부의 충격 및 환경적 변화 즉, 차량 운송중의 흔들림, 비행기를 이용한 운송중의 압력 및 기온변화에 의한 상기 패킹 박스로의 이물질 유입이 없어야 하며, 블랭크 마스크에 치명적인 결함을 일으킬 수 있는 블랭크 마스크 패킹 박스 재료 자체의 오염물질 또한 적어야 한다.However, in order to continuously maintain a high quality blank mask during the storage period, foreign matters are introduced into the packing box due to external shocks and environmental changes, that is, shaking during vehicle transportation, pressure and temperature during transportation using an airplane. It should be free of contaminants, and there should be less contaminants in the blank mask packing box material itself that can cause fatal defects in the blank mask.

패킹 박스 재료 자체에서 발생되는 오염물질이 많으면 다음과 같이 여러가지 문제가 발생하게 된다.If a large amount of contaminants are generated from the packing box material itself, various problems occur as follows.

먼저 블랭크 마스크 측면에서 살펴보면, 패킹 박스 재료로부터 발생되는 NH4+, Cl-, F-, NO2 -, NO3 -, SO4 2 - 등과 같은 이온 불순물, 벤젠, 톨루엔, 스티렌, 에틸벤젠, 디부틸하이드록시톨루엔 등과 같은 방향족 탄화수소 화합물을 포함하는 휘발성유기화합물(Volatile Organic Compound; VOC), 각종 금속 불순물 등을 포함하는 공기이동분자오염(Airborne Molecular Contamination; AMC)이 화학증폭형 레지스트의 성분과 결합을 하게 되어 화학증폭형 레지스트의 수명 저하, 감도(sensitivity) 저하 등과 같은 화학증폭형 레지스트의 특성 변화를 일으키게 되어 블랭크 마스크의 특성 저하를 야기하게 된다. First looking at the blank mask side, NH4 + generated from the packing box materials, Cl -, F -, NO 2 -, NO 3 -, SO 4 2 - ions impurities such as benzene, toluene, styrene, ethylbenzene, dibutyl Volatile Organic Compounds (VOCs) containing aromatic hydrocarbon compounds such as hydroxytoluene, and the like, and Airborne Molecular Contamination (AMC) containing various metal impurities, may bind to components of chemically amplified resists. As a result, a change in the characteristics of the chemically amplified resist, such as a decrease in the lifetime of the chemically amplified resist, a decrease in sensitivity, and the like, may cause a decrease in the characteristics of the blank mask.

또한 블랭크 마스크 완제품이 아닌 투명기판 이나, 투명기판 위에 크롬막이 형성된 반제품을 보관한 후 투명기판 위에 크롬막을 형성하거나, 크롬막 위에 레지스트 코팅 작업을 실시할 경우에도 심각한 문제를 야기하게 된다.In addition, the storage of semi-finished substrates having a chromium film formed on the transparent substrate, not the finished blank mask, or the formation of a chromium film on the transparent substrate or a resist coating on the chromium film may cause serious problems.

투명기판을 공기이동분자 오염이 많이 발생되는 팩킹 박스에 보관하여 크롬막을 형성하는 경우 크롬막과 투명기판 간의 접착력이 떨어지거나 공기이동분자오 염이 투명기판 상에 흡착하게 되어 결함으로 작용하여 크롬막의 불량을 야기하게 된다. When the transparent substrate is stored in a packing box in which air moving molecules are contaminated, the chromium film is formed. The adhesion between the chromium film and the transparent substrate decreases or the air moving molecule is adsorbed on the transparent substrate to act as a defect. It will cause a defect.

또한 크롬막을 팩킹 박스에 보관한 후 레지스트 코팅 작업을 실시하는 경우, 크롬막의 공기이동분자오염이 크롬막 표면에 흡착하게 되어 불균일한 표면에너지 변화를 야기하게 되어 크롬막 표면 전체에 걸쳐 균일한 접착력을 얻기 힘들게 되어 결함을 야기 시키게 된다. In addition, if the chromium film is stored in a packing box and the resist coating is carried out, air movement molecular contamination of the chromium film is adsorbed on the surface of the chromium film, resulting in uneven surface energy change, thus providing uniform adhesion across the entire surface of the chromium film. It is difficult to obtain and causes defects.

특히, 화학증폭형 레지스트를 사용하여 코팅을 실시할 경우, 레지스트 패턴을 형성할 때 레지스트 잔막(Residue)가 존재하게 되어 심각한 결함을 야기시키게 된다. In particular, when the coating is performed using a chemically amplified resist, a resist residual film is present when forming a resist pattern, which causes serious defects.

그리고 다음으로 포토 마스크 측면에서 살펴보면 공기이동분자 오염 물질에 의해 오염된 블랭크 마스크를 사용하여 포토 마스크 제조 공정인 노광, 현상, 세정, 식각, 수정, 펠리클 마운팅 등의 공정을 거치게 되는데, 이러한 공정에서 사용되는 각종 화학물질로 인해 포토 마스크의 오염을 증가시키게 된다. 이러한 공정상의 오염과 블랭크 마스크 자체와의 오염에 의해 오염이 증폭되게 되며 펠리클이 장착된 포토 마스크 즉, 레티클에 있어서, 반도체 공정의 포토리소그래피 공정시 원래는 존재하지 않던 결함이 발생하게 되는데, 이러한 결함은 성장성 결함 또는 헤이즈(haze) 결함으로 일컬어지고 있다. Next, in terms of the photo mask, a blank mask contaminated with airborne molecular contaminants is used to perform photo mask manufacturing processes such as exposure, development, cleaning, etching, fertilization, and pellicle mounting. Various chemicals may increase the contamination of the photo mask. Contamination is amplified by the process contamination and the contamination of the blank mask itself, and a defect that does not exist in the photolithography process of the semiconductor process occurs in the photomask, that is, the reticle, in which the pellicle is mounted. Is said to be a growth defect or a haze defect.

이러한 결함은 포토 마스크 표면에 존재하는 각종 이온불순물, 휘발성유기화합물을 포함하는 공기이동분자오염과 반도체 포토리소그래피 공정시 사용되는 193nm 또는 248nm의 노광 파장을 가지는 레이저의 에너지에 의해 결함이 생성되는 것으로 알려지고 있다. 따라서 이러한 결함이 발생함으로 인해 레티클에 치명적인 결함이 발생되게 되어 레티클의 수명이 짧아지게 되며 반도체 제조 수율을 떨어뜨리는 문제를 야기하게 된다.These defects are known to be generated by the energy of lasers having an exposure wavelength of 193 nm or 248 nm used in semiconductor photolithography processes and air moving molecular contamination including various ionic impurities and volatile organic compounds present on the surface of the photo mask. ought. As a result of such defects, fatal defects occur in the reticle, which shortens the life of the reticle and causes a problem of lowering semiconductor manufacturing yield.

이러한 공기이동분자오염에 의한 결함은 블랭크 마스크, 포토 마스크, 레티클 뿐만 아니라 웨이퍼 보관 용기, 포토리소그래피에서 사용되는 스텝퍼, 스캐너에 있어서도 심각한 문제를 발생시키고 있다.Such defects caused by air-molecule contamination cause serious problems not only in blank masks, photo masks and reticles, but also in wafer storage containers, steppers used in photolithography and scanners.

상기와 같은 문제점 외에도 상기 패킹 박스의 구조적인 문제로 인해 블랭크 마스크를 넣고 빼는데 있어 인위적인 조작의 실수에 의한 스크레치(Scratch), 파티클(Particle) 발생 등은 포토 마스크 제조상에 심각한 문제점을 일으킨다.In addition to the above problems, scratches, particles, and the like caused by artificial manipulation errors in inserting and removing a blank mask due to structural problems of the packing box cause serious problems in photomask manufacturing.

또한, 상기 패킹 박스는 블랭크 마스크를 박스에 수납 후 커버와 본체 간의 분리가 되는 부분에 테이프를 사용하여 분리가 되는 부분을 밀봉을 하는 과정을 거치고 있다.In addition, the packing box undergoes a process of sealing a part to be separated by using a tape on a part to be separated between the cover and the main body after storing the blank mask in the box.

그러나, 종래의 패킹 박스는 블랭크 마스크 박스를 테이프로 밀봉 작업을 하더라도 구조적인 문제로 인해 밀봉이 제대로 되지 않아 외부의 공기 또는 불순물이 블랭크 마스크 패킹 박스 내부로 유입되게 되어 블랭크 마스크의 오염을 야기하게 된다.However, in the conventional packing box, even if the blank mask box is sealed with a tape, due to structural problems, sealing is not performed properly, so that external air or impurities are introduced into the blank mask packing box, causing contamination of the blank mask. .

그리고 패킹 박스 밀봉시 사용되는 테이프에서 발생되는 공기이동분자오염에 의한 문제는 패킹박스의 공기이동분자오염에 의해서 야기되는 문제와 동일하게 테이프 또한 심각한 문제를 야기하게 된다.In addition, the problem caused by air moving molecular contamination in the tape used to seal the packing box is the same as the problem caused by air moving molecular contamination in the packing box, which also causes serious problems.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 다음과 같은 목적을 가지고 제안되었다.The present invention is to solve the above problems, it has been proposed with the following object.

첫째, 외부의 공기가 패킹 박스 내부로 유입되는 것을 차단할 수 있는 씰링바를 적용함으로써 외부의 파티클이 내부로 유입되는 것을 방지하여 블랭크 마스크의 이동 또는 보관시 품질 저하 없이 블랭크 마스크의 이동 또는 보관이 가능해져 결국에는 품질이 우수한 포토 마스크의 제조가 가능하도록 하는데 있다.First, by applying a sealing bar that can block the outside air from entering the inside of the packing box to prevent the particles from entering the inside, it is possible to move or store the blank mask without deterioration of quality when moving or storing the blank mask. In the end, it is possible to manufacture a high quality photo mask.

둘째, 블랭크 마스크를 패킹 박스에 수납하여 이동하는 동안 블랭크 마스크의 움직임이 없어 블랭크 마스크와 패킹박스의 마찰에 의한 파티클 발생을 최소화 할 수 있어 고품질의 블랭크 마스크를 유지하는 것이 가능하도록 하는데 있다.Second, there is no movement of the blank mask while the blank mask is accommodated in the packing box, thereby minimizing particle generation due to friction between the blank mask and the packing box, thereby maintaining a high quality blank mask.

셋째, 본 발명의 패킹 재료를 선별하는 방법으로서 ATD-GC/MS 및 IC분석방법을 이용하여 블랭크 마스크 패킹 재료 Outgas 농도를 분석할 수 있으며, 이를 통해 화학증폭형 레지스트에 적합하고 투명기판, 크롬막 표면 특성이 변하지 않는 블랭크 마스크 패킹박스 재료를 선별할 수 있도록 하는데 있다.Third, the blank mask packing material outgas concentration can be analyzed using the ATD-GC / MS and IC analysis method as a method of screening the packing material of the present invention. A blank mask packing box material can be selected that does not change its surface properties.

넷째, 상기 ATD-GC/MS, IC분석방법 및 PCD과정을 통해 선별된 화학증폭형 레지스트에 적합한 블랭크 마스크 패킹 재료로 제조되는 패킹 박스를 블랭크 마스크의 보관 및 운반 등에 사용함으로써, MAs, MBs, MCs, MDs 등의 AMC 농도가 낮은 블랭크 마스크의 패킹 박스를 제조할 수 있도록 하는데 있다.Fourth, MAs, MBs, MCs by using a packing box made of a blank mask packing material suitable for chemically amplified resists selected through the ATD-GC / MS, IC analysis method and PCD process, etc. And manufacturing a blank mask packing box having a low AMC concentration such as MDs.

마지막으로, 상기의 패킹 박스를 통하여, 블랭크 마스크의 보관 및 운반시 블랭크 마스크의 품질을 유지하고, 이를 통한 고품질의 포토 마스크를 제조할 수 있도록 하며, 포토 마스크 또는 레티클용 패킹 박스에 응용하여 성장성 결함이 발 생하지 않는 고품질의 포토 마스크를 제조할 수 있도록 하는데 있다.Finally, through the above packing box, it is possible to maintain the quality of the blank mask during storage and transportation of the blank mask, to produce a high-quality photo mask through this, and to apply to the packing box for the photo mask or reticle growth growth defects This is to enable the production of high quality photo masks which do not occur.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 마스크 패킹 박스는, 커버, 바디, 카세트, 쿠션으로 구성되어 있고, 내부로 반도체 공정용 마스크를 적재하여 수납할 수 있는 마스크 패킹 박스에 있어서, 상기 카세트는 다수개의 상기 마스크를 적재할 수 있도록 상부가 개방되어 있는 대략 사각 형상의 구조로 형성하며, 상기 바디는 다수개의 마스크가 적재된 카세트를 탑재시켜 이를 고정할 수 있도록 상부가 개방된 대략 사각 형상으로 구성하고, 테이프를 사용한 씰링 작업시 더욱 완벽한 밀봉을 위한 씰링바를 구비하며, 상기 커버는 상기 쿠션 상기 커버 내부로 고정시킨 후 상기 카세트가 고정되어 있는 상기 바디와 결합시키는 것을 특징으로 한다.The mask packing box according to the present invention for achieving the above object is composed of a cover, a body, a cassette, a cushion, in the mask packing box that can be accommodated by loading the mask for the semiconductor process, the cassette is It is formed in a substantially rectangular structure having an upper portion open to stack a plurality of the mask, and the body is configured in an approximately square shape with an upper portion open to fix a cassette loaded with a plurality of masks. And a sealing bar for a more perfect sealing in the sealing operation using a tape, and the cover is fixed to the cushion inside the cover and then coupled to the body to which the cassette is fixed.

또한, 상기 카세트는 상부가 개방된 구조로 마스크 적재를 위한 적재공간부와 내벽으로 구성되는 본체와, 상기 내벽과 일체로 연장되어 적재되는 마스크를 지지하기 위한 바닥면으로 구성하며, 상기 블랭크 마스크를 상기 적재공간부 내부로 위치시켜 이를 적재하기 위하여 일측 내벽과 이에 대향하는 타측 내벽을 따라 블랭크 마스크 슬롯을 구성하고, 상기 카세트 성형시 변형을 최소화하고 상기 카세트와 상기 바디 결합시 결합 및 고정을 용이하게 하기 위하여 상기 카세트 본체 내벽 외측 상부 측면에서 일정거리 하측 방향으로 뻗는 카세트변형방지바가 형성되어 있으며, 상기 카세트 바닥면 외측에는 상기 카세트와 상기 바디 결합시 상기 카세트의 움직임을 최소화하기 위한 카세트 가이드가 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.In addition, the cassette has an open top structure and includes a main body including a loading space portion for loading a mask and an inner wall, and a bottom surface for supporting a mask that is integrally extended with the inner wall for loading the blank mask. A blank mask slot is formed along one inner wall and the other inner wall facing the inside of the loading space to load the loading space, and minimizes deformation when forming the cassette and facilitates coupling and fixing when the cassette is coupled to the body. A cassette deformation prevention bar extending from the upper side of the inner side of the cassette body to the lower side is formed at a predetermined distance, and a cassette guide is formed at the outside of the bottom of the cassette to minimize the movement of the cassette when the cassette is coupled to the body. It is characterized by being.

또한, 상기 바디는 상부가 개방된 구조로 상기 카세트를 탑재하기 위한 탑재공간부와 내벽으로 구성되는 본체와, 상기 내벽과 일체로 연장되어 탑재되는 카세트를 지지하기 위한 바닥면으로 구성하며, 상기 바디의 성형시 변형방지를 위하여 상기 내벽 내측면에 바디변형방지바가 형성되어 있으며, 상기 바디와 상기 카세트의 결합시 결합을 용이하게 하기 위하여 상기 바닥면 상부로는 바디내측가이드가 형성되어 있으며, 상기 바디의 내벽 외측면에는 상기 패킹박스가 분리되지 않도록 커버의 커버락과 결합을 하는 바디락이 형성되어 있으며, 상기 씰링바는 박스를 결합한 후 실시하는 테이프를 사용한 씰링 작업시 완벽한 씰링이 되도록 하기 위하여 상기 내벽 외측면을 따라 수평 방향으로 형성되어 있으며, 상기 바닥면 외측에는 상기 패킹박스를 수직 방향으로 다수개 적층시 적층을 용이하게 하도록 커버 부분에 형성되어 있는 커버가이드와 결합을 할 수 있는 바디외측가이드가 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.In addition, the body has a structure in which the upper portion is open, the main body consisting of a mounting space portion for mounting the cassette and the inner wall, and the bottom surface for supporting the cassette which is integrally extended with the inner wall mounted, the body A body deformation prevention bar is formed on the inner side of the inner wall to prevent deformation during molding, and a body inner guide is formed on the bottom surface to facilitate coupling when the body and the cassette are coupled to each other. The inner wall of the inner surface of the outer body of the packing box is formed so as not to separate the cover lock of the cover is formed, the sealing bar is the inner wall in order to ensure a perfect sealing during the sealing operation using a tape carried out after combining the box It is formed in the horizontal direction along the outer surface, the packing box on the outside of the bottom surface The body outer guide which can be combined with the cover guide formed on the cover portion to facilitate the stacking when a plurality of vertical stacking is characterized in that it is formed.

또한, 상기 쿠션은, 상기 쿠션을 상기 커버에 형성되어 있는 쿠션고정대와 결합/고정시키기 위한 쿠션고정홈이 양 끝에 형성되어 있으며, 상기 블랭크 마스크의 옆면의 지지 및 고정을 위한 마스크옆면지지대와 마스크옆면고정부를 구성하고, 상기 쿠션이 상기 커버에 결합된 상태에서 상기 바디와 결합할 경우 상기 쿠션에 가해지는 힘을 보강하기 위한 쿠션지지대가 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.In addition, the cushion, the cushion fixing groove for coupling / fixing the cushion to the cushion fixing base formed on the cover is formed at both ends, the mask side support and the mask side for supporting and fixing the side of the blank mask Comprising a fixing portion, when the cushion is coupled to the body in the state coupled to the cover is characterized in that the cushion support for reinforcing the force applied to the cushion is formed.

또한, 상기 커버는, 상면 외측에 상기 블랭크 마스크 박스를 다수 개 적층 하였을때 적층을 쉽게 할 수 있는 다수개의 커버가이드가 형성되어 있으며, 상기 커버의 내부에는 상기 쿠션을 고정할 수 있는 쿠션고정대가 형성되어 있으며, 상기 커버의 성형시 상기 커버의 변형을 최소화 할 수 있는 커버변형방지바가 형성되어 있으며, 상기 커버의 측면에는 상기 바디와 상기 커버를 결합하기 위한 커버락이 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 커버, 바디, 카세트, 쿠션에 적용되는 재료는 전도성 고분자 물질이거나, 표면저항이 101~1013 Ω/□사이인 것을 특징으로 한다.In addition, the cover has a plurality of cover guides that can be easily laminated when a plurality of the blank mask box is laminated on the outer surface of the upper surface, and a cushion fixing stand for fixing the cushion is formed inside the cover The cover deformation preventing bar is formed to minimize deformation of the cover when the cover is molded, and a cover lock is formed on the side of the cover to couple the body and the cover.
In addition, the material applied to the cover, the body, the cassette, the cushion is a conductive polymer material, or the surface resistance is characterized in that between 10 1 ~ 10 13 Ω / □.

이하, 본 발명에 따른 구성 및 실시예들을 첨부된 도면들을 참조하여 상세히 설명한다. 먼저, 구조적 측면에서의 특징을 기술하기로 한다. 도 1은 카세트가 바디와 결합하는 모습을 나타내는 개략적인 사시도, 도 2a 내지 2e는 블랭크 마스크 패킹박스의 카세트(Cassette)에 대한 개략적인 사시도, 도 3a 내지 3d는 블랭크 마스크 패킹박스의 바디(Body)에 대한 개략적인 사시도, 도 4a 내지 4d는 블랭크 마스크 패킹박스의 쿠션(Cushion)에 대한 개략적인 사시도, 도 5a 내지 5d는 본 발명의 실시예에 따른 블랭크 마스크 패킹박스의 커버의 개략적인 사시도이다. Hereinafter, the configuration and embodiments according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. First, the features of the structural aspects will be described. 1 is a schematic perspective view showing a cassette coupled to a body, FIGS. 2A to 2E are schematic perspective views of a cassette of a blank mask packing box, and FIGS. 3A to 3D are views of a body of a blank mask packing box. 4a to 4d are schematic perspective views of a cushion of a blank mask packing box, and FIGS. 5a to 5d are schematic perspective views of a cover of a blank mask packing box according to an embodiment of the present invention.

하지만, 본 발명의 권리 범위는 이하 기술되는 일실시예들에 국한되지 않음은 자명하다. 예를 들면, 패킹 박스에 적재되는 마스크를 블랭크 마스크에 한정하여 설명하고 있으나, 이하 기술되는 패킹 박스는 블랭크 마스크만이 아니라, 포토마스크, 레티클, 웨이퍼, 투명기판 등 오염으로 인한 보관 필요성이 큰 반도체 공정용 소자를 적재하여 보관하는데 적용될 수 있을 것이다. 물론, 이 경우 이에 따른 패킹 박스 구성물의 치수 및 모양의 다양한 변형이 가능할 것이다.However, it is obvious that the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below. For example, a mask placed on a packing box is described as a blank mask. However, the packing box described below is not only a blank mask but also a semiconductor having a high necessity of storage due to contamination such as a photomask, a reticle, a wafer, a transparent substrate, and the like. Applicable to loading and storing process devices. Of course, in this case various modifications of the dimensions and shapes of the packing box construction are thus possible.

먼저, 도 1 내지 도 3을 참조하여 본 발명에 따른 카세트와 바디에 대하여 설명한다.First, the cassette and the body according to the present invention will be described with reference to FIGS.

카세트(300)는 도 1 내지 도 2에 도시된 바와 같이, 상부가 개방된 구조로 블랭크 마스크 적재를 위한 적재공간부(311)와 내벽(312)으로 구성되는 본체(310) 와, 상기 내벽(312)과 일체로 연장되어 적재되는 블랭크 마스크를 지지하기 위한 바닥면으로 구성된다.1 and 2, the cassette 300 has an open top structure and includes a main body 310 including a loading space 311 and an inner wall 312 for loading a blank mask, and the inner wall ( And a bottom face for supporting the blank mask which is integrally extended with 312).

그리고, 다수개의 블랭크 마스크를 상기 적재공간부(311) 내부로 위치시켜 이를 적재하기 위하여 카세트(300) 일측 내벽과 이에 대향하는 타측 내벽을 따라 마스크 슬롯(30)을 구성한다. In addition, the mask slot 30 is formed along one inner wall of the cassette 300 and the other inner wall of the cassette 300 in order to position the plurality of blank masks in the loading space 311 and to load the blank masks.

아울러, 상기 카세트(300) 성형시 변형을 최소화하고 상기 카세트(300)와 바디 결합시 이의 결합 및 고정을 용이하게 하기 위하여, 상기 카세트(300) 본체 내벽(312) 상부 측면에서 일정거리 하측 방향으로 뻗는 카세트변형방지바(32)가 적어도 두 개 이상 형성함이 바람직하다. In addition, in order to minimize deformation during molding of the cassette 300 and to facilitate the coupling and fixing of the cassette 300 and the body, the cassette 300 may be disposed at a predetermined distance downward from an upper side of the inner wall 312 of the main body of the cassette 300. Preferably, at least two extending cassette deformation preventing bars 32 are formed.

또한, 상기 카세트 바닥면(320) 외측에는 상기 카세트(300)와 바디 결합시 상기 카세트(300)의 움직임을 최소화하기 위한 다수개의 카세트 가이드(31)를 구성한다. In addition, a plurality of cassette guides 31 are configured on the outside of the cassette bottom 320 to minimize the movement of the cassette 300 when the body is coupled to the cassette 300.

그리고, 도 1과 도 3a 내지 3d에 도시된 바와 같이, 바디(200)는 상부가 개방된 구조로 상기 카세트(300)를 탑재하기 위한 탑재공간부(211)와 내벽(212)으로 구성되는 본체(210)와, 상기 내벽(212)과 일체로 연장되어 탑재되는 카세트(300)를 지지하기 위한 바닥면(220)으로 구성한다.As shown in FIGS. 1 and 3A to 3D, the body 200 has an open top structure and includes a mounting space 211 and an inner wall 212 for mounting the cassette 300. 210 and a bottom surface 220 for supporting the cassette 300 which is mounted integrally with the inner wall 212.

또한, 상기 바디(200)의 성형시 변형방지를 위하여 상기 내벽(212) 내측면 수직 방향으로는 바디변형방지바(20)가 구성된다. 아울러, 상기 바디(200)와 상기 카세트(300)의 결합시 결합을 용이하게 하기 위하여 상기 바닥면 상부로는 바디내측가이드(21)가 형성되어 있으며, 상기 바디(200)의 내벽 외측면에는 상기 패킹 박스가 분리되지 않도록 커버의 커버락과 결합을 하는 바디락(22)이 형성되어 있다. 이때, 상기 커버와의 결합력을 향상시키기 위하여 바디락(22)의 수치 변경이 가능하도록 구성함이 바람직하다. In addition, the body deformation preventing bar 20 is configured in the vertical direction of the inner wall 212 to prevent deformation during molding of the body 200. In addition, in order to facilitate coupling when the body 200 and the cassette 300 are coupled to the bottom surface, an inner body guide 21 is formed on the bottom surface, and the inner wall outer surface of the body 200 is The body lock 22 is formed to engage with the cover lock of the cover so that the packing box is not separated. At this time, in order to improve the coupling force with the cover, it is preferable to configure so that the numerical change of the body lock (22).

또한, 상기 씰링바(23)는 박스를 결합한 후 실시하는 테이프를 사용한 씰링 작업시 완벽한 씰링이 되도록 하기 위하여 구성한다. 상기 씰링바의 경우 테이프 폭의 변경 및 씰링 기능을 향상 시키기 위해 씰링바의 폭을 늘이거나 줄이는 것이 가능하다.In addition, the sealing bar 23 is configured to be a perfect sealing during the sealing operation using a tape to be carried out after combining the box. In the case of the sealing bar, it is possible to increase or decrease the width of the sealing bar in order to change the tape width and improve the sealing function.

그리고, 상기 바닥면 외측에는 상기 패킹 박스를 수직 방향으로 다수개 적층시 적층을 용이하게 하도록 커버 부분에 형성되어 있는 커버가이드와 결합을 할 수 있는 바디외측가이드(24)를 구성함이 바람직하다.In addition, it is preferable to form a body outer guide 24 that can be coupled to the cover guide formed on the cover portion to facilitate lamination when the plurality of packing boxes are stacked in the vertical direction outside the bottom surface.

도 4a 내지 4d를 참조하면, 쿠션(400)은 상기 쿠션을 커버에 형성되어 있는 쿠션고정대와 결합/고정시키기 위한 쿠션고정홈(40)을 쿠션의 끝에 구성한다. 이때, 상기 쿠션고정홈(40)은 2개에만 국한하는 것이 아니라 고정 기능을 향상시키기 위해 여러개를 형성하는 것도 가능하다.4A to 4D, the cushion 400 configures a cushion fixing groove 40 for engaging / fixing the cushion with the cushion fixing stand formed on the cover. At this time, the cushion fixing groove 40 is not limited to only two, it is also possible to form a plurality to improve the fixing function.

그리고, 적재되는 상기 마스크 옆면의 지지 및 고정을 위한 마스크옆면지지대(41)와 마스크옆면고정부(42)를 더 구성함이 바람직하며, 상기 쿠션(400)이 상기 커버에 결합된 상태에서 상기 바디와 결합할 경우 상기 쿠션에 가해지는 힘을 보강하기 위한 쿠션지지대(43)가 형성되어 있다.And, it is preferable to further configure the mask side support 41 and the mask side fixing portion 42 for the support and fixing of the side of the mask to be loaded, the body in the cushion 400 is coupled to the cover When combined with a cushion support 43 for reinforcing the force applied to the cushion is formed.

도 5a 내지 5d를 참조하면, 커버(100)는 상기 마스크 박스를 다수 개 적층 하였을때 적층을 쉽게 할 수 있는 다수개의 커버가이드(10)를 상기 커버 상면부에 다수개 형성하고 있으며, 상기 커버의 내부에는 상기 쿠션을 고정할 수 있는 쿠션고정대(13)가 형성된다. 5A to 5D, the cover 100 has a plurality of cover guides 10 formed on the upper surface of the cover to facilitate stacking when a plurality of mask boxes are stacked. Inside the cushion fixing stand 13 that can fix the cushion is formed.

또한, 상기 커버(100)의 성형시 상기 커버의 변형을 최소화 할 수 있는 커버변형방지바(11)를 구성함이 바람직하며, 상기 커버(100)의 측면에는 상기 바디와 상기 커버를 결합하기 위한 커버락(12)을 구성하여 그 결합력을 극대화시킴이 바람직하다. 이때 마스크 크기 변경이나 기능상의 차이에 의한 커버 전체의 크기가 마스크 크기에 따라서 변경이 가능하며 특히 커버락(12)의 경우 결합성을 더 개선하기 위해 수치의 변경은 가능하다.In addition, it is preferable to configure a cover deformation preventing bar 11 that can minimize the deformation of the cover when forming the cover 100, the side of the cover 100 for coupling the body and the cover It is preferable to configure the cover lock 12 to maximize the coupling force. In this case, the size of the entire cover may be changed according to the size of the mask due to a change in mask size or a difference in function. In particular, in the case of the cover lock 12, the numerical value may be changed in order to further improve bonding.

그리고, 상기 커버는 포토레지스트(photoresist)의 빛에 의한 노광(exposure)을 방지하면서 내부에 있는 내용물의 확인이 가능하도록 반투명한 색상이 적절하며, 이 경우, 상기 커버를 통과하는 빛의 500 nm 이하의 파장에 있어서 투과율이 10% 이하가 되는 색상을 적용시킴이 바람직하다.The cover is suitably translucent in color so that the contents of the cover can be identified while preventing exposure of the photoresist by light. In this case, 500 nm or less of light passing through the cover is appropriate. It is preferable to apply the color whose transmittance | permeability will be 10% or less in the wavelength of.

이하, 상기 구성을 가지는 본 발명에 따른 패킹박스 결합 과정을 간단하게 설명한다.Hereinafter, the packing box combining process according to the present invention having the above configuration will be described briefly.

도 6에 도시된 바와 같이, 상기 블랭크 마스크(61)가 상기 바디 내부에 고정된 카세트에 수납하여 위치하게 된다. 또한, 도 7에 도시된 바와 같이, 상기 쿠션이 부착된 상기 커버가 다수개의 마스크가 수납되어 있는 상기 바디와 결합을 하면 패킹 박스(500)에 상기 블랭크 마스크의 수납이 이루어지게 된다. 아울러, 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 블랭크 마스크의 수납이 완료된 패킹 박스에 상기 바디에 형성되어 있는 씰링바를 포함한 커버의 일정부분에 테이프(62)를 부착함으로써 마 스크의 씰링이 이루어지게 되며, 씰링 공정이 적용된 상기 패킹 박스를 보관하거나 이동함으로서 블랭크 마스크 패킹 과정이 마무리된다.As shown in FIG. 6, the blank mask 61 is placed in a cassette fixed inside the body. In addition, as shown in FIG. 7, when the cover with the cushion is coupled to the body in which a plurality of masks are stored, the blank mask is accommodated in the packing box 500. In addition, as shown in Figure 8, the sealing of the mask is made by attaching a tape 62 to a predetermined portion of the cover including a sealing bar formed on the body to the packing box of the blank mask is completed, The blank mask packing process is completed by storing or moving the packing box to which the sealing process is applied.

상술한 바와 같이, 상기 실시예에 있어서는 복수의 블랭크 마스크를 마스크 패킹 박스에 수납시 마스크의 에지(edge) 부위만 접촉하게 함으로써 블랭크 마스크와 패킹 박스간의 접촉 부위를 최소화하여 블랭크 마스크의 손상 및 파티클 발생을 최소화 할 수 있다.As described above, in the above embodiment, when the plurality of blank masks are stored in the mask packing box, only the edges of the masks are contacted, thereby minimizing the contact area between the blank mask and the packing box, thereby causing damage to the blank mask and generating particles. Can be minimized.

또한, 블랭크 마스크를 패킹 박스에 수납한 후 테이프를 사용하여 이루어지는 씰링 작업시 바디에 형성되어 있는 씰링바를 포함하여 테이핑을 함으로써 완벽한 씰링을 실시할 수 있으며, 이로 인해 외부로부터 발생되는 공기의 유입이 방지되어 외부의 파티클이 박스 내부로 유입되는 것을 차단할 수 있다.In addition, after the blank mask is stored in the packing box, the sealing may be performed by using a tape to include a sealing bar formed on the body to perform perfect sealing, thereby preventing the inflow of air from the outside. This can block external particles from entering the box.

또한, 바디에 내부에 형성되어 있는 바디변형방지바와 카세트에 형성되어 있는 카세트변형방지바로 인해 바디와 카세트의 성형시 변형을 최소화하고, 바디와 카세트의 결합시 그 결합력을 극대화하여 바디의 내부에 카세트를 고정하는 역할을 함으로써 마스크를 카세트에 수납시 카세트의 움직임을 최소화하여 블랭크 마스크의 내부 이동을 최소화 할 수 있다.In addition, the body deformation prevention bar formed in the body and the cassette deformation prevention bar formed in the cassette minimizes deformation during molding of the body and the cassette, and maximizes the coupling force when the body and the cassette are combined to draw the cassette inside the body. By fixing the to minimize the movement of the blank mask by minimizing the movement of the cassette when the mask is housed in the cassette.

또한 커버에 형성되어 있는 커버락과 커버에 부착되는 쿠션을 통해 마스크 내부에서의 이동을 최소화 함으로써 블랭크 마스크와 팩킹 박스의 마찰에 의한 파티클 발생을 최소화 할 수 있다. In addition, by minimizing the movement inside the mask through the cover lock formed on the cover and the cushion attached to the cover, it is possible to minimize the generation of particles due to the friction between the blank mask and the packing box.

이하, 상기 패킹박스 구성으로부터 야기될 수 있는 공기이동분자오염 발생을 최소화하기 위한 본 발명에 따른 패킹재료 구성 특징에 대하여 설명한다.Hereinafter, a description will be given of the features of the packing material according to the present invention for minimizing the generation of air mobile molecular contamination that can occur from the packing box configuration.

먼저, 상기 패킹박스 각각의 구성 요소인 커버, 바디, 카세트, 쿠션에 사용되는 수지는 전도성 고분자 물질이거나 표면저항이 101 내지 1013 Ω/□사이인 것을 특징으로 한다.First, the resin used in the cover, the body, the cassette, and the cushion of each of the packing boxes may be a conductive polymer material or a surface resistance of 10 1 to 10 13 Ω / □.

또한, 상기 패킹 박스에 적용되는 수지는 공기이동분자오염(airborne molecular contamination)의 농도가 5 ppmv 이하인 것을 특징으로 한다.In addition, the resin applied to the packing box is characterized in that the concentration of airborne molecular contamination (airborne molecular contamination) is 5 ppmv or less.

또한, 블랭크 마스크용 패킹 박스, 포토 마스크용 패킹 박스, 웨이퍼용 패킹 박스, 패킹 박스 실링용 테이프로부터 발생되는 공기이동분자오염(AMC)의 농도가 단위부피당 5ppm 이하인 것을 특징으로 한다.In addition, the concentration of air mobile molecular contamination (AMC) generated from the blank mask packing box, the photo mask packing box, the wafer packing box, and the packing box sealing tape is 5 ppm or less per unit volume.

또한, 상기 패킹 박스로부터 발생되는 공기이동분자오염의 물질이 산성 분자(Molecular Acids; MAs), 염기성 분자(Molecular Bases; MBs), 응축된 분자(Molecular Condensables; MCs), 불순물 분자(Molecular Dopants; MDs)를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the airborne molecular contamination material generated from the packing box is acidic molecules (MAs), basic molecules (Molecular Bases (MBs), condensed molecules (Molecular Condensables (MCs), impurity molecules (Molecular Dopants; MDs) It characterized by including).

또한, 상기 패킹 박스의 재료는, 폴리스티렌(Polystyrene), 아크릴로 니트릴 스티렌(Acrylonitrile Styrene; AS), 아크릴로 니트릴 염소화폴리에틸렌 스티렌(Acrylonitrile Chlorinated Polyethylene Styrene; ACS), 폴리프로필렌(Polypropylene; PP), 올레핀(Olefin), 폴리에틸렌(Polyethylene; PE), 폴리카보네이트(Polycarbonate; PC), 발포 폴리스티렌(Expanded Polystyrene; EPS), 발포폴리프로필렌(Expanded Polypropylene; EPP), 폴리부틸렌 테레프탈레이트(Polybutylene Terephthalate; PBT), 아크릴로니트릴-부타디엔- 스티 렌(Acrylonitrile Butadiene Styrene; ABS), 염화비닐(Polyvinyl Chloride; PVC), 폴리염화비닐리덴(Polyvinyldene Chloride; PVDC), 아크릴(Acrylic), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene Terephthalate; PET), 대전방지 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Antistatic Polyethylene Terephthalate; APET), 일본 쿠레하(KUREHA)사의 배욘(BAYON) 시리즈 중에서 선택된 어느 1종 또는 2종 이상을 혼합한 고분자 합성수지인 것을 특징으로 한다. 이때, 상기 고분자 합성수지에 산화방지 및 대전방지를 선택적으로 처리 할 수 있도록 구성함이 바람직하다.In addition, the material of the packing box is polystyrene, acrylonitrile styrene (AS), acrylonitrile chlorinated polyethylene styrene (ACS), polypropylene (PP), olefin ( Olefin, Polyethylene (PE), Polycarbonate (PC), Expanded Polystyrene (EPS), Expanded Polypropylene (EPP), Polybutylene Terephthalate (PBT), Acrylic Acrylonitrile Butadiene Styrene (ABS), Polyvinyl Chloride (PVC), Polyvinyldene Chloride (PVDC), Acrylic (Acrylic), Polyethylene Terephthalate (PET), Choose from Antistatic Polyethylene Terephthalate (APET) or Bayon Series from KUREHA, Japan It is characterized in that the polymer synthetic resin mixed with any one or two or more. In this case, it is preferable that the polymer synthetic resin is configured to selectively process the anti-oxidation and anti-static.

그리고, 상기 패킹 박스로부터 발생되는 공기이동분자오염 중에서 질소(N)가 포함된 오염물질 또는 방향족 탄화수소 화합물의 총량이 단위부피당 5ppm 이하인 것을 특징으로 한다.In addition, the total amount of the contaminants or aromatic hydrocarbon compounds containing nitrogen (N) in the air movement molecular pollution generated from the packing box is characterized in that less than 5ppm per unit volume.

이때, 상기 방향족 탄화수소 화합물은, 벤젠(Benzene), 톨루엔(Toluene), 스티렌(Styrene), 에틸벤젠(Ethylbenzene), o-크실렌(o-Xylene), m-크실렌(m-Xylene), p-크실렌(p-Xylene), n-프로필벤젠(n-Propylbenzene), 이소프로필벤젠(Isopropylbenzene), 1,2,4-트리메틸벤젠(1,2,4-Trimethylbenzene), 1,3,5-트리메틸벤젠(1,3,5-Trimethylbenzene), o-에틸톨루엔(o-ethyltoluene), m에틸톨루엔(m-ethyltoluene), o-디에틸벤젠(o-diethylbenzene), m-디에틸벤젠(mdiethylbenzene), p-디에틸벤젠(p-diethylbenzene), n-부틸벤젠(n-butylbenzene), 디부틸 하이드록시톨루엔(Butylated Hydroxy Toluene; BHT)로 구성되는 군으로부터 선택된 어느 1종 또는 2종 이상을 혼합한 것을 특징으로 한다. At this time, the aromatic hydrocarbon compound, Benzene, Toluene, Styrene, Ethylbenzene, o-Xylene, m-Xylene, p-Xylene (p-Xylene), n-Propylbenzene, Isopropylbenzene, 1,2,4-trimethylbenzene (1,2,4-Trimethylbenzene), 1,3,5-trimethylbenzene ( 1,3,5-Trimethylbenzene, o-ethyltoluene, m-ethyltoluene, o-diethylbenzene, m-diethylbenzene, p- Characterized in that any one or two or more selected from the group consisting of diethylbenzene (p-diethylbenzene), n-butylbenzene (n-butylbenzene), dibutyl hydroxytoluene (BHT) do.

또한, 상기 패킹 박스로부터 발생되는 공기이동분자오염 중에서 유황화합물, 알코올류, 알데히드류, 케톤류, 지방산류, 에스테르류, 아민류, 지방족포화탄화수소류, 지방족불포화탄화수소류, 염소 및 염소화합물, 방향족 탄화수소류 중에서 선택된 어느 1종 또는 2종 이상 혼합한 농도가 단위부피당 5ppm 이하인 것을 특징으로 한다.In addition, sulfur compounds, alcohols, aldehydes, ketones, fatty acids, esters, amines, aliphatic saturated hydrocarbons, aliphatic unsaturated hydrocarbons, chlorine and chlorine compounds, and aromatic hydrocarbons among the air moving molecule pollutions generated from the packing box. The concentration of any one or two or more selected from the mixture is characterized in that 5ppm or less per unit volume.

그리고, 상기 패킹 박스로부터 발생되는 공기이동분자오염 중에서 Li+, Na+, NH4 +, K+, Mg+, Ca+, F-, Cl-, NO2 -, Br-, NO3 -, PO4 2 - SO4 2 - 중에서 선택된 어느 1종 또는 2종 이상의 혼합한 물질의 농도가 단위부피당 5ppm 이하인 것을 특징으로 한다.Then, the air moves molecular contamination resulting from the packing box, Li +, Na +, NH 4 +, K +, Mg +, Ca +, F -, Cl -, NO 2 -, Br -, NO 3 -, PO It is characterized in that the concentration of any one or two or more selected materials selected from 4 2 - SO 4 2 - is 5ppm or less per unit volume.

또한, 블랭크 마스크 패킹시 블랭크 마스크를 구성하는 레지스트막은 화학증폭형 레지스트, 포토레지스트, 전자빔용 레지스트로 형성하는 것을 특징으로 한다. 또한, 전술한 바와 같이, 본 발명에 적용된 커버, 바디, 카세트, 쿠션을 형성하기 위한 수지(resin)는 일반적으로 PP, PC, PE, HDPE, LDPE, PET, Olefin, BAYON series, ABS, Acryl 등이 적절한 재료이며, 이때 적용된 수지의 공기이동분자오염(airborne molecular contamination)의 농도는 5ppmv 이하가 적절하다. In the blank mask packing, the resist film constituting the blank mask is formed of a chemically amplified resist, a photoresist, or an electron beam resist. In addition, as described above, resins for forming a cover, a body, a cassette, and a cushion applied to the present invention are generally PP, PC, PE, HDPE, LDPE, PET, Olefin, BAYON series, ABS, Acryl, or the like. This is a suitable material, and the concentration of airborne molecular contamination of the resin applied at this time is preferably 5 ppmv or less.

또한, 적용된 수지의 정전기에 의한 파티클 또는 이물질의 흡착을 방지하기 위해 전도성 고분자 재료를 적용하거나 101~1013 Ω/□사이 범위의 면저항(sheet resistance)을 가지는 수지를 적용하는 것이 바람직하다. In addition, in order to prevent adsorption of particles or foreign substances by static electricity of the applied resin, it is preferable to apply a conductive polymer material or to apply a resin having sheet resistance in a range of 10 1 to 10 13 Ω / □.

상기한 바와 같이 오염물질을 최소화하기 위하여 선별된 패킹 재료로 구성함 으로써, 적재되는 마스크의 특성을 그대로 유지할 수 있게 된다.As described above, since the packing material is selected to minimize contaminants, it is possible to maintain the characteristics of the mask to be loaded.

이하, 본 발명에 의한 블랭크 마스크 패킹박스 재료의 선별 방법을 설명한다.Hereinafter, a method for sorting blank mask packing box material according to the present invention will be described.

선별 방법으로서, 온도, 습도, 압력, 빛, 열, 파장 등 외부의 물리적·화학적 변화로부터 블랭크 마스크를 보호하는 기능을 가지는 패킹 박스의 재료를 선별하는 제1단계와; 상기 선별된 재료의 오염물질을 가스 크로마토그래피/질량 스펙트로미터(Gas Chromatograph/Mass Spectrometer; GC/MS) 및 이온 크로마토그래피(Ion Chromatograph; IC)로 분석하는 제2단계; 및 상기 가스 크로마토그래피/질량 스펙트로미터를 사용하여 분석시, 오염물질의 샘플링 방법은 퍼지 앤드 트랩(Purge and Trap; P&T), 자동열탈착(Automatic Thermal Desorption; ATD), 열탈착(Thermal Desorption; TD), 헤드스페이스(Headspace) 중에서 선택된 어느 1종 이상의 방법을 사용하는 것을 특징으로 한다.A sorting method comprising: a first step of sorting a material of a packing box having a function of protecting a blank mask from external physical and chemical changes such as temperature, humidity, pressure, light, heat, wavelength, etc .; Analyzing the contaminants of the selected material by Gas Chromatograph / Mass Spectrometer (GC / MS) and ion chromatography (Ion Chromatograph; IC); And when analyzing using the gas chromatography / mass spectrometer, sampling methods of contaminants may include purge and trap (P & T), automatic thermal desorption (ATD), thermal desorption (TD), It is characterized by using any one or more methods selected from the headspace.

상기 가스 크로마토그래피/질량 스펙트로미터를 사용하여 분석시는, 분석 대상 재료의 샘플을 밀폐된 병에 넣은 후, 상온으로 또는 300℃ 이하의 온도로 열처리하는 것을 특징으로 한다.In the analysis using the gas chromatography / mass spectrometer, a sample of the material to be analyzed is placed in a sealed bottle, and then heat-treated at room temperature or at a temperature of 300 ° C. or lower.

상기 이온 크로마토그래피를 사용하여 분석시는, 분석 대상 재료의 샘플을 초순수와 같이 밀폐된 병에 넣은 후, 23℃ ~ 300℃ 범위의 온도로 열처리하는 것을 특징으로 한다.In the analysis using the ion chromatography, a sample of the material to be analyzed is placed in a sealed bottle such as ultrapure water, and then heat-treated at a temperature in the range of 23 ° C to 300 ° C.

이하, 본 발명에 의한 블랭크 마스크 패킹 재료의 선별 방법을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the screening method of the blank mask packing material according to the present invention will be described in more detail.

먼저, 커버(100), 바디(200), 카세트(300), 쿠션(400)으로 구성하고, 레지스트막(미도시)를 포함하는 블랭크 마스크를 수납할 수 있는 패킹 박스 재료를 준비 한다.First, a packing box material including a cover 100, a body 200, a cassette 300, and a cushion 400, and capable of storing a blank mask including a resist film (not shown) is prepared.

여기서, 상기 패킹 박스(500)의 재료로는 고분자 합성수지가 주로 사용되며, 상기 고분자 합성수지로는 폴리스티렌(Polystyrene), 아크릴로니트릴 스티렌(Acrylonitrile Styrene; AS), 아크릴로니트릴 염소화폴리에틸렌 스티렌(Acrylonitrile Chlorinated Polyethylene Styrene; ACS), 폴리프로필렌(Polypropylene; PP), 올레핀(Olefin), 폴리에틸렌(Polyethylene; PE), 폴리카보네이트(Polycarbonate; PC), 발포 폴리스티렌(Expanded Polystyrene; EPS), 발포폴리프로필렌(Expanded Polypropylene; EPP), 폴리부틸렌 테레프탈레이트(Polybutylene Terephthalate; PBT), 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌(Acrylonitrile Butadiene Styrene; ABS), 염화비닐(Polyvinyl Chloride; PVC), 폴리염화비닐리덴(Polyvinyldene Chloride; PVDC), 아크릴(Acrylic), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene Terephthalate; PET), 대전방지 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Antistatic Polyethylene Terephthalate; APET), 일본 쿠레하(KUREHA)사의 배욘(BAYON) 시리즈 등이 사용될 수 있다. 이때, 상기 고분자 합성수지에 산화방지 및 대전방지를 선택적으로 처리 할 수 있다.Here, a polymer synthetic resin is mainly used as the material of the packing box 500, and polystyrene, acrylonitrile styrene (AS), and acrylonitrile chlorinated polyethylene styrene are used as the polymer synthetic resin. Styrene (ACS), Polypropylene (PP), Olefin, Polyethylene (PE), Polycarbonate (PC), Expanded Polystyrene (EPS), Expanded Polypropylene (EPP) ), Polybutylene Terephthalate (PBT), Acrylonitrile Butadiene Styrene (ABS), Polyvinyl Chloride (PVC), Polyvinyldene Chloride (PVDC), Acryl (Acrylic), Polyethylene Terephthalate (PET), Antistatic Polyethylene Terephthalate (Antistatic Polyethylene Tere) phthalate (APET), the Bayon series of KUREHA, Japan, and the like can be used. At this time, the polymer synthetic resin can be selectively treated with anti-oxidation and antistatic.

여기서, 상기 패킹 박스는 온도, 습도, 압력, 빛, 열, 파장 등 외부의 물리적·화학적 변화로부터 블랭크 마스크를 보호하는 기능을 가지는 재료를 선별한다. 보다 정확하게 패킹 재료는 블랭크 마스크를 포장할 수 있는 기능을 가지는 비닐, 금속, 합성수지 등으로 한다. 또한, 상기 패킹 재료는 블랭크 마스크가 수납되는 내부와 그 외부의 공기의 유동이 없도록 결합형의 성형 사출이 된다. 아울러, 상기 패킹 재료는 포토레지스트(Photoresist)가 영향을 받을 수 있는 파장을 반사, 흡수한다.Here, the packing box selects a material having a function of protecting the blank mask from external physical and chemical changes such as temperature, humidity, pressure, light, heat, and wavelength. More precisely, the packing material is made of vinyl, metal, synthetic resin, or the like having the function of packaging the blank mask. In addition, the packing material is combined injection molding so that there is no flow of air inside and outside the blank mask is received. In addition, the packing material reflects and absorbs wavelengths to which a photoresist can be affected.

이어서, 상기 선별된 재료의 오염물질을 가스 크로마토그래피/질량 스펙트로미터(Gas Chromatograph/Mass Spectrometer; GC/MS) 및 이온 크로마토그래피(Ion Chromatograph; IC)로 분석한다.Contaminants of the selected materials are then analyzed by Gas Chromatograph / Mass Spectrometer (GC / MS) and Ion Chromatograph (IC).

이때, 상기 크로마토그래피/질량 스펙트로미터를 사용하여 분석시는, 오염물질의 샘플링 방법이 퍼지 앤드 트랩(Purge and Trap; P&T), 자동열탈착(Automatic Thermal Desorption; ATD), 열탈착(Thermal Desorption; TD), 헤드스페이스(headspace) 중에서 선택된 어느 1종 또는 2종 이상의 방법으로 한다.At this time, when analyzing using the chromatography / mass spectrometer, the sampling method of the contaminants is purge and trap (P & T), Automatic Thermal Desorption (ATD), Thermal Desorption (TD) Or one or two or more methods selected from the headspace.

여기서, 상기 오염물질은 세계반도체장비재료협회(Semiconductor Equipment and Materials International; SEMI)의 SEMI F21-951에서 정의하고 있는 공기분자오염(Airborne Molecular Contamination; AMC)를 의미하며, AMC의 분류로는 산성 분자(Molecular Acids; MAs), 염기성 분자(Molecular Bases; MBs), 응축된 분자(Molecular Condensables; MCs), 불순물 분자(Molecular Dopants;MDs)을 포함한다. 상기 분석대상재료를 상기 IC를 통해 분석을 하는 경우, 샘플이 들어갈 수 있는 밀폐된 병에 넣고 초순수를 넣은 후 23℃ ~ 300℃ 범위의 온도로 열처리를 실시하여 오염물을 초순수에 추출한다. 이러한 과정을 통해 이온 불순물이 추출된 초순수를 IC 분석 장비를 통해 이온불순물에 대한 분석을 실시한다. 이때 밀폐된 병에 샘플을 넣을 경우 샘플 전체를 넣거나 샘플을 원하는 크기로 자른 후 밀폐된 병에 넣는 것이 가능하다.Herein, the pollutant refers to Airborne Molecular Contamination (AMC) as defined in SEMI F21-951 of the Semiconductor Equipment and Materials International (SME). (Molecular Acids (MAs), basic molecules (Molecular Bases; MBs), condensed molecules (Molecular Condensables (MCs), impurity molecules (Molecular Dopants (MDs)). When the analysis material is analyzed through the IC, the sample is placed in a sealed bottle into which ultrapure water is put and heat treatment is performed at a temperature ranging from 23 ° C. to 300 ° C. to extract contaminants into the ultra pure water. Through this process, the ultrapure water from which ionic impurities have been extracted is analyzed for ionic impurities using IC analysis equipment. In this case, when the sample is put in a sealed bottle, it is possible to put the whole sample or cut the sample to a desired size and put it in the sealed bottle.

또한, 상기 크로마토그래피/질량 스펙트로미터를 사용하여 분석시는, 분석 대상 재료의 샘플을 밀폐된 병에 넣은 후, 23℃ ~ 300℃ 범위의 온도로 열처리한다. 열처리를 실시한 후 밀폐된 병에 있는 휘발성 유기화합물을 흡착이 가능한 흡착 Tube 등을 통해 흡착시킨다. 휘발성 유기화합물이 흡착된 흡착 Tube를 열탈착 장치를 통해 휘발성 유기화합물을 탈착시켜 GC/MS 장비를 통해 휘발성 유기화합물에 대한 분석을 실시한다. 이때 IC 샘플 준비와 마찬가지로 밀폐된 병에 샘플 전체를 넣거나 샘플을 원하는 크기로 자른 후 넣는 것이 가능하다.In addition, when analyzing using the said chromatography / mass spectrometer, the sample of the material to be analyzed is placed in a sealed bottle, and then heat-treated at a temperature in the range of 23 ° C to 300 ° C. After heat treatment, volatile organic compounds in sealed bottles are adsorbed through adsorption tubes that can adsorb them. The adsorption tube adsorbed volatile organic compounds is desorbed through the thermal desorption system, and the volatile organic compounds are analyzed through GC / MS equipment. At this time, as in preparing an IC sample, it is possible to put the whole sample in a sealed bottle or cut the sample to a desired size and then put it.

상기와 같은 과정을 통해 패킹 박스에 적용될 수 있는 재료를 선별하는 것이 가능해진다.Through the above process, it becomes possible to select a material that can be applied to the packing box.

이하 블랭크 마스크 패킹 박스 재료 선별 방법의 일실시예에 대해 자세히 설명한다.Hereinafter, an embodiment of the blank mask packing box material sorting method will be described in detail.

본 실시예에서 분석된 재료는 PP, PC, ABS, PVC, Olefin, PE, PET, EPP, Acrylic을 준비하여 분석을 실시하였다.The material analyzed in this example was prepared by analyzing PP, PC, ABS, PVC, Olefin, PE, PET, EPP, Acrylic.

먼저 이온 불순물 분석을 실시하기 위해 전처리를 다음과 같이 실시하였다. 각각의 샘플을 1cm x 1cm x 1 mm의 크기를 가지는 사각형의 모양으로 여러 개를 절단하여 총 5g의 분석 샘플을 250ml의 용량을 가지는 분석용 병에 넣은 후 20ml의 초순수를 분석용 병에 채웠다. 20ml의 초순수가 채워진 분석용 병을 오토클레이브를 사용하여 120℃/20분간 가열을 실시하였다. 가열을 실시하여 이온이 추출된 초 순수를 IC 기기를 사용하여 분석하였다.First, pretreatment was performed as follows to conduct ion impurity analysis. Each sample was cut into several pieces in the shape of a rectangle having a size of 1 cm x 1 cm x 1 mm, and a total of 5 g of analytical sample was placed in an analytical bottle having a capacity of 250 ml, and 20 ml of ultrapure water was charged into the analytical bottle. An analysis bottle filled with 20 ml of ultrapure water was heated at 120 ° C./20 minutes using an autoclave. Super pure water from which ions were extracted by heating was analyzed using an IC device.

그리고 휘발성 유기화합물 분석을 실시하기 위해 IC 분석과 동일하게 샘플을 1cm x 1cm x 1 mm의 크기를 가지는 사각형의 모양으로 여러 개를 절단하여 총 5g의 분석 샘플을 250ml의 용량을 가지는 분석용 병에 넣은 후 오븐을 사용하여 85℃/60분간 가열을 실시하였다.In order to conduct volatile organic compound analysis, the samples were cut in a rectangular shape having a size of 1 cm x 1 cm x 1 mm in the same manner as the IC analysis. After the addition, heating was performed at 85 ° C./60 minutes using an oven.

그리고 가열된 병에 있는 휘발성 유기화합물을 진공 펌프를 사용하여 흡착 Tube에 흡착을 시켰다. 휘발성 유기화합물이 흡착된 흡착 Tube를 열탈착장치를 사용하여 열탈착을 통해 GC/MS 장비를 사용하여 휘발성 유기화합물에 대한 분석을 실시하였다. 그리고 이때 헥사데칸(hexadecane)을 표준으로 하여 정량을 실시하였다.The volatile organic compounds in the heated bottles were adsorbed onto the adsorption tube using a vacuum pump. The adsorption tube adsorbed volatile organic compounds was thermally desorbed using a thermal desorption system and analyzed for volatile organic compounds using GC / MS equipment. At this time, hexadecane was used as the standard for quantification.

(단위 : ppmv)(Unit: ppmv) Li+ Li + Na+ Na + NH4+ NH4 + K+ K + Mg+ Mg + Ca+ Ca + TotalTotal PPPP 0.5 0.5 1.2 1.2 2.6 2.6 0.8 0.8 0.7 0.7 0.6 0.6 6.4 6.4 PCPC 0.2 0.2 0.3 0.3 0.2 0.2 0.3 0.3 0.7 0.7 0.2 0.2 1.9 1.9 ABSABS 0.7 0.7 1.3 1.3 3.4 3.4 0.7 0.7 1.3 1.3 1.3 1.3 8.7 8.7 PVCPVC 1.3 1.3 0.7 0.7 0.6 0.6 0.7 0.7 0.8 0.8 2.4 2.4 6.5 6.5 OlefinOlefin 0.3 0.3 0.4 0.4 0.5 0.5 0.3 0.3 0.3 0.3 0.1 0.1 1.9 1.9 PEPE 0.2 0.2 0.4 0.4 0.3 0.3 0.4 0.4 0.2 0.2 0.5 0.5 2.0 2.0 PETPET 0.2 0.2 0.1 0.1 0.3 0.3 0.3 0.3 0.6 0.6 0.4 0.4 1.9 1.9

(표 1) 양이온 분석 결과Table 1 cation analysis results

(단위 : ppmv)(Unit: ppmv) 　 F- F - Cl- Cl - NO2 - NO 2 - NO3 - NO 3 - Br- Br - PO4 2 - PO 4 2 - SO4 2 - SO 4 2 - TotalTotal PPPP 0.8 0.8 1.2 1.2 0.0 0.0 0.6 0.6 0.2 0.2 0.7 0.7 1.7 1.7 5.2 5.2 PCPC 0.0 0.0 0.4 0.4 0.2 0.2 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.3 0.3 0.9 0.9 ABSABS 0.7 0.7 1.3 1.3 0.2 0.2 0.4 0.4 0.0 0.0 0.0 0.0 0.9 0.9 3.5 3.5 PVCPVC 0.5 0.5 0.8 0.8 0.4 0.4 0.0 0.0 0.2 0.2 0.4 0.4 0.7 0.7 3.0 3.0 OlefinOlefin 0.1 0.1 0.6 0.6 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.4 0.4 0.3 0.3 1.4 1.4 PEPE 0.7 0.7 0.3 0.3 0.4 0.4 0.1 0.1 0.0 0.0 0.2 0.2 0.7 0.7 2.4 2.4 PETPET 0.1 0.1 0.0 0.0 0.0 0.0 0.1 0.1 0.0 0.0 0.0 0.0 0.2 0.2 0.4 0.4

(표 2) 음이온 분석 결과Table 2 Anion Analysis Results

(단위 : ppmv)(Unit: ppmv) Aromatic HydrocarbonAromatic Hydrocarbon 기타Etc 총 VOCTotal VOC PPPP 1.51.5 2.32.3 3.83.8 PCPC 0.30.3 0.50.5 0.80.8 ABSABS 2.72.7 3.53.5 6.26.2 PVCPVC 1.51.5 1One 2.52.5 OlefinOlefin 0.50.5 0.90.9 1.41.4 PEPE 0.70.7 1.41.4 2.12.1 PETPET 0.80.8 1.51.5 2.32.3

(표 3) 휘발성 유기화합물 분석 결과Table 3 Analysis results of volatile organic compounds

(단위 : ppmv)(Unit: ppmv) 공기이동 분자오염 농도Airborne Molecular Pollution Concentration PPPP 15.415.4 PCPC 3.63.6 ABSABS 18.418.4 PVCPVC 12.012.0 OlefinOlefin 4.74.7 PEPE 6.56.5 PETPET 4.64.6

(표 4) 공기이동 분자오염 농도(Table 4) Airborne Molecular Contamination

상기의 표 1, 2, 3은 양이온, 음이온, 휘발성 유기화합물에 대한 분석 결과를 나타내고 있으며, 도 9는 ABS에 대한 휘발성 유기화합물 분석 Peak Data를 나타내고 있다. 표 4는 표 1, 2, 3의 결과를 합한 공기이동 분자오염 농도를 각각 나타내고 있다.Tables 1, 2, and 3 show analysis results for cations, anions, and volatile organic compounds, and FIG. 9 shows volatile organic compound analysis peak data for ABS. Table 4 shows the airborne molecular contamination concentrations, which are the sum of the results of Tables 1, 2, and 3, respectively.

상기와 같이 분석을 실시한 재료를 사용하여 전술한 본 발명의 실시예와 동일한 7종의 블랭크 마스크 패킹 박스를 제조하였다. 이때 재료의 정확한 성능을 평가하기 위해 박스 제작시 각각 커버, 바디, 카세트, 쿠션 모두 동일한 재질이 사용된 7종의 박스가 제조되었다.Using the material analyzed as above, the same seven kinds of blank mask packing boxes as in the above-described embodiment of the present invention were prepared. In order to evaluate the exact performance of the material, seven types of boxes were manufactured using the same materials for the cover, the body, the cassette, and the cushion, respectively.

그리고 화학증폭형 레지스트를 블랭크 마스크 패킹 박스에 3개월간 보관을 실시한 후 화학증폭형 레지스트의 성능 평가를 실시하였다.The chemically amplified resist was stored in a blank mask packing box for 3 months, and then the performance of the chemically amplified resist was evaluated.

성능 평가를 실시한 결과 공기이동 분자오염의 농도가 5ppmv 이하로 측정된 PC, Olefin, PET로 제작된 블랭크 마스크 패킹 박스의 경우 화학증폭형 레지스트의 성능 저하가 발생하지 않았다.As a result of the performance evaluation, the performance of the chemically amplified resist did not occur in the case of the blank mask packing box made of PC, Olefin, and PET with the concentration of airborne molecular contamination of 5ppmv or less.

그러나 공기이동분자오염의 농도가 5ppmv 이상 측정된 PP, ABS, PVC, PE로 제작된 패킹 박스에 보관 되었던 화학증폭형 레지스트의 경우 감도저하와 레지스트 잔막 같은 성능저하를 보였으며 특히 NH4 +, Cl-, F-, NO2 -, SO4 2 - 의 이온불순물과 Aromatic Hydrocarbon Compound가 많이 검출된 PP, PVC, ABS 패킹 박스의 심각한 성능 저하를 보였다.However, the chemically amplified resists stored in packing boxes made of PP, ABS, PVC, and PE with concentrations of airborne molecular contaminations of 5ppmv or more exhibited deterioration in sensitivity, such as resist residual film, especially NH 4 + , Cl. -, F -, NO 2 - , SO 4 2 - ions of impurities and showed a severe degradation of the Compound Aromatic Hydrocarbon lot detected PP, PVC, ABS packing box.

상기 결과와 같이 공기이동분자 오염의 농도가 5ppmv 이하를 가지는 재료로 제작된 블랭크 마스크 패킹 박스의 경우 3개월 간의 보관기간에도 블랭크 마스크의 품질유지 보관이 가능하였지만 공기이동 분자오염의 농도가 5ppmv를 초과하는 블랭크 마스크 패킹 박스의 경우 심각한 블랭크 마스크의 품질저하를 야기 하였다.As described above, in the case of the blank mask packing box made of a material having a concentration of air mobile molecule contamination of 5ppmv or less, the quality of the blank mask was maintained even during the storage period of 3 months, but the concentration of airborne molecular contamination exceeded 5ppmv. In the case of the blank mask packing box, the quality of the blank mask was severely reduced.

본 실시예에서는 5매가 수납되는 블랭크 마스크 패킹 박스에 관해서만 실시예를 제시하였지만, 본 발명은 블랭크 마스크 매수에 상관 없이 블랭크 마스크를 포장하는 패킹 박스에도 적용이 가능함은 당연하다. In the present embodiment, the embodiment is described only with respect to the blank mask packing box in which five sheets are accommodated. However, the present invention can be applied to a packing box for packing the blank mask regardless of the number of blank mask sheets.

또한 블랭크 마스크 패킹 박스 뿐만 아니라, 도 10a 내지 10b와 같이, 포토마스크 또는 레티클용 보관/포장/운반 용기에도 상기와 같은 분석 방법을 통해 성장성 결함이 발생하지 않는 재질이 적용된 재질 선택이 가능하며, 웨이퍼를 보관하는 패킹 박스에도 동일하게 적용될 수 있다.In addition to the blank mask packing box, as shown in Figs. 10a to 10b, it is possible to select a material to which no growth defects are applied to the photomask or the storage / packaging / carrying container for the reticle through the analysis method as described above. The same may be applied to a packing box for storing the same.

또한, 블랭크 마스크, 포토 마스크, 웨이퍼 패킹 박스를 실링할 때 사용되는 테이프에도 동일하게 적용될 수 있다.The same may also be applied to the tape used when sealing the blank mask, the photo mask, and the wafer packing box.

이상과 같이, 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 이것에 의해 한정되지 않으며 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 본 발명의 기술사상과 아래에 기재될 특허청구범위의 균등 범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능함은 물론이다.As described above, although the present invention has been described by way of limited embodiments and drawings, the present invention is not limited thereto and is intended by those skilled in the art to which the present invention pertains. Of course, various modifications and variations are possible within the scope of equivalents of the claims to be described.

상기한 바와 같이, 본 발명에 따른 패킹 박스에 의하면, 외부의 공기가 패킹박스 내부로 유입되는 것을 차단할 수 있는 씰링바를 적용함으로써 외부의 파티클이 내부로 유입되는 것을 방지하여 블랭크 마스크의 이동 또는 보관시 품질 저하 없이 블랭크 마스크의 이동 또는 보관이 가능해져 결국에는 품질이 우수한 포토마스크의 제조가 가능해진다.As described above, according to the packing box according to the present invention, by applying a sealing bar that can block the outside air from entering the inside of the packing box to prevent the particles from entering the inside when moving or storing the blank mask It is possible to move or store the blank mask without degrading the quality, and thus to manufacture a high quality photomask.

또한 블랭크 마스크를 패킹 박스에 수납하여 이동하는 동안 블랭크 마스크의 움직임이 없어 블랭크 마스크와 패킹 박스의 마찰에 의한 파티클 발생을 최소화 할 수 있어 고품질의 블랭크 마스크를 유지하는 것이 가능하다.In addition, there is no movement of the blank mask while the blank mask is stored in the packing box, so that particle generation due to friction between the blank mask and the packing box can be minimized, thereby maintaining a high quality blank mask.

또한 본 발명의 패킹 재료를 선별하는 방법으로서 ATD-GC/MS 및 IC분석방법을 이용하여 블랭크 마스크 패킹 재료 Outgas 농도를 분석할 수 있으며, 이를 통해 화학증폭형 레지스트에 적합하고 투명기판, 크롬막 표면 특성이 변하지 않는 블랭크 마스크 패킹 박스 재료를 선별할 수 있다.In addition, as a method of screening the packing material of the present invention, it is possible to analyze the concentration of the blank mask packing material outgas by using the ATD-GC / MS and IC analysis method, which is suitable for chemically amplified resist and the surface of the transparent substrate and the chromium film. Blank mask packing box materials may be selected that do not change properties.

또한, 상기 ATD-GC/MS, IC 분석방법 및 PCD 과정을 통해 선별된 화학증폭형 레지스트에 적합한 블랭크 마스크 패킹 재료로 제조되는 패킹 박스를 블랭크 마스 크의 보관 및 운반 등에 사용함으로써, MAs, MBs, MCs, MDs 등의 AMC 농도가 낮은 블랭크 마스크의 패킹 박스를 제조할 수 있다.In addition, by using a packing box made of a blank mask packing material suitable for the chemically amplified resist selected through the ATD-GC / MS, IC analysis method and PCD process, the MASK, MBs, The packing box of a blank mask with low AMC density | concentrations, such as MCs and MDs, can be manufactured.

또한, 상기의 패킹 박스를 통하여, 블랭크 마스크의 보관 및 운반시 블랭크 마스크의 품질을 유지하고, 이를 통한 고품질의 포토 마스크를 제조할 수 있다.In addition, through the above packing box, it is possible to maintain the quality of the blank mask during storage and transportation of the blank mask, thereby manufacturing a high quality photo mask.

또한, 포토 마스크 또는 레티클용 패킹 박스에 응용함으로써, 성장성 결함이 발생하지 않는 고품질의 포토 마스크를 제조할 수 있다.Further, by applying to a packing box for a photo mask or a reticle, a high quality photo mask which does not generate a growth defect can be produced.

Claims (19)

커버, 바디, 카세트, 쿠션으로 구성되어 있고, 내부로 반도체 공정용 마스크를 적재하여 수납할 수 있는 마스크 패킹 박스에 있어서,In the mask packing box consisting of a cover, a body, a cassette, a cushion, which can accommodate a semiconductor processing mask inside and store it, 상기 카세트는 다수개의 상기 마스크를 적재할 수 있도록 상부가 개방되어 있는 사각 형상의 구조로 형성하며, 상기 바디는 다수개의 마스크가 적재된 카세트를 탑재시켜 이를 고정할 수 있도록 상부가 개방된 사각 형상으로 구성하고, 테이프를 사용한 씰링 작업시 더욱 완벽한 밀봉을 위한 씰링바를 구비하며, 상기 커버는 상기 쿠션을 상기 커버 내부로 고정시킨 후 상기 카세트가 고정되어 있는 상기 바디와 결합시키되, 상기 커버, 바디, 카세트, 쿠션에 적용되는 재료는 전도성 고분자 물질이거나, 표면저항이 101~1013 Ω/□사이인 것을 특징으로 하는 마스크 패킹 박스. The cassette has a rectangular structure having an upper portion open to stack a plurality of the masks, and the body has a rectangular shape with an upper portion open to fix a cassette on which a plurality of masks are loaded. And a sealing bar for a more complete sealing in the sealing operation using a tape, wherein the cover is fixed to the inside of the cover and then coupled with the body to which the cassette is fixed. , The material applied to the cushion is a conductive polymer material, or a mask packing box, characterized in that the surface resistance is between 10 1 ~ 10 13 Ω / □. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 카세트는 상부가 개방된 구조로 마스크 적재를 위한 적재공간부와 내벽으로 구성되는 본체와, 상기 내벽과 일체로 연장되어 적재되는 마스크를 지지하기 위한 바닥면으로 구성되고,The cassette has an open top structure and includes a main body including a loading space portion for loading a mask and an inner wall, and a bottom surface for supporting a mask that is integrally extended with the inner wall for loading. 상기 블랭크 마스크를 상기 적재공간부 내부로 위치시켜 적재하기 위하여 일측 내벽과 이에 대향하는 타측 내벽을 따라 블랭크 마스크 슬롯을 구성하며, A blank mask slot is formed along one inner wall and the other inner wall facing the blank mask to position and load the blank mask into the loading space. 상기 카세트 성형시 변형을 최소화하고 상기 카세트와 상기 바디 결합시 결합 및 고정을 용이하게 하기 위하여, 상기 카세트 본체 내벽 외측 상부 측면에서 일정거리 하측 방향으로 뻗는 카세트변형방지바가 형성되어 있으며, In order to minimize deformation during the molding of the cassette and to facilitate coupling and fixing when the cassette and the body are coupled, a cassette deformation prevention bar extending from the upper side of the inner side of the cassette body in a downward direction is formed, 상기 카세트 바닥면 외측에는 상기 카세트와 상기 바디 결합시 상기 카세트의 움직임을 최소화하기 위한 카세트 가이드가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 마스크 패킹 박스.Mask packing box, characterized in that the cassette guide is formed outside the bottom of the cassette for minimizing the movement of the cassette when the cassette and the body is coupled. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, The method according to claim 1 or 2, 상기 바디는 상부가 개방된 구조로 상기 카세트를 탑재하기 위한 탑재공간부와 내벽으로 구성되는 본체와, 상기 내벽과 일체로 연장되어 탑재되는 카세트를 지지하기 위한 바닥면으로 구성되고,The body has an open top structure and includes a main body including a mounting space portion for mounting the cassette and an inner wall, and a bottom surface for supporting the cassette mounted integrally with the inner wall. 상기 바디의 성형시 변형방지를 위하여 상기 내벽 내측면에는 바디변형방지바가 형성되어 있으며, Body deformation prevention bar is formed on the inner surface of the inner wall to prevent deformation during the molding of the body, 상기 바디와 상기 카세트의 결합시 결합을 용이하게 하기 위하여 상기 바닥면 상부로는 바디내측가이드가 형성되어 있으며, In order to facilitate the coupling when the body and the cassette is coupled to the upper surface of the body inner body guide is formed, 상기 바디의 내벽 외측면에는 상기 패킹박스가 분리되지 않도록 커버의 커버락과 결합을 하는 바디락이 형성되어 있으며, The inner wall outer surface of the body is formed with a body lock coupled to the cover lock of the cover so that the packing box is not separated, 상기 씰링바는 박스를 결합한 후 실시하는 테이프를 사용한 씰링 작업시 완벽한 씰링이 되도록 하기 위하여 상기 내벽 외측면을 따라 수평 방향으로 형성되어 있으며, The sealing bar is formed in the horizontal direction along the outer surface of the inner wall in order to ensure a perfect sealing during the sealing operation using a tape carried out after bonding the box, 상기 바닥면 외측에는 상기 패킹박스를 수직 방향으로 다수개 적층시 적층을 용이하게 하도록 커버 부분에 형성되어 있는 커버가이드와 결합을 할 수 있는 바디외측가이드가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 마스크 패킹 박스.A mask packing box, characterized in that the outer side of the bottom surface is formed with a body outer guide that can be coupled to the cover guide formed on the cover portion to facilitate the stacking when a plurality of the packing box in the vertical direction. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 쿠션은, 상기 쿠션을 상기 커버에 형성되어 있는 쿠션고정대와 결합/고정시키기 위한 쿠션고정홈을 양 끝 부분으로 형성하며, The cushion has a cushion fixing groove for coupling / fixing the cushion with the cushion fixing stand formed on the cover at both ends, 상기 블랭크 마스크 옆면의 지지 및 고정을 위한 마스크옆면지지대와 마스크옆면고정부를 구성하고, And a mask side support and a mask side fixing part for supporting and fixing the side of the blank mask, 상기 쿠션이 상기 커버에 결합된 상태에서 상기 바디와 결합할 경우 상기 쿠션에 가해지는 힘을 보강하기 위한 쿠션지지대가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 마스크 패킹 박스.Mask packing box, characterized in that the cushion support for reinforcing the force applied to the cushion when the cushion is coupled to the body in a state coupled to the cover. 제 1항 또는 제 4항에 있어서,The method according to claim 1 or 4, 상기 커버는, 커버 상면 외측에 상기 패킹 박스를 다수 개 적층 하였을때 적층을 쉽게 할 수 있는 커버가이드가 형성되어 있으며,The cover has a cover guide that can be easily laminated when a plurality of packing boxes are stacked on the outer surface of the cover, 상기 커버의 내부로는 상기 쿠션을 고정할 수 있는 쿠션고정대가 구성되어 있고,The inside of the cover is composed of a cushion fixing stand for fixing the cushion, 상기 커버의 성형시 상기 커버의 변형을 최소화 할 수 있는 커버변형방지바가 형성되어 있으며, The cover deformation prevention bar is formed to minimize the deformation of the cover when the cover is molded, 상기 커버의 측면에는 상기 바디와 상기 커버를 결합하기 위하여 상기 바디락과 결합하는 커버락이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 마스크 패킹 박스.Mask packing box, characterized in that the cover lock is formed on the side of the cover to engage with the body lock to couple the body and the cover. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 커버는, 커버를 통과하는 빛의 500 nm 이하의 파장에 있어서 투과율이 10% 이하가 되는 색상이 적용된 것을 특징으로 하는 마스크 패킹 박스.The cover is a mask packing box, characterized in that the color is applied to the transmittance of 10% or less at a wavelength of 500 nm or less of light passing through the cover. 삭제delete 삭제delete 블랭크 마스크용 패킹 박스 실링테이프로부터 발생되는 공기이동분자오염(AMC)의 농도가 단위부피당 5ppm 이하인 재료를 사용하는 것을 특징으로 하는 마스크 패킹 박스.Blanking mask packing box A mask packing box characterized by using a material having a concentration of air mobile molecular contamination (AMC) generated from the sealing tape of 5 ppm or less per unit volume. 제 1항 또는 제 9항에 있어서,The method according to claim 1 or 9, 상기 패킹 박스로부터 발생되는 공기이동분자오염의 물질이 산성 분 자(Molecular Acids; MAs), 염기성 분자(Molecular Bases; MBs), 응축된 분자(Molecular Condensables; MCs), 불순물 분자(Molecular Dopants; MDs)를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 패킹 박스.The air-molecular pollutants generated from the packing box include acidic molecules (Molecular Acids; MAs), basic molecules (MBs), condensed molecules (Molecular Condensables (MCs), and impurity molecules (Molecular Dopants; MDs). Mask packing box comprising a. 제 1항 또는 제 9항에 있어서,The method according to claim 1 or 9, 상기 패킹 박스의 재료는, 폴리스티렌(Polystyrene), 아크릴로 니트릴 스티렌(Acrylonitrile Styrene; AS), 아크릴로 니트릴 염소화폴리에틸렌 스티렌(Acrylonitrile Chlorinated Polyethylene Styrene; ACS), 폴리프로필렌(Polypropylene; PP), 올레핀(Olefin), 폴리에틸렌(Polyethylene; PE), 폴리카보네이트(Polycarbonate; PC), 발포 폴리스티렌(Expanded Polystyrene; EPS), 발포폴리프로필렌(Expanded Polypropylene; EPP), 폴리부틸렌 테레프탈레이트(Polybutylene Terephthalate; PBT), 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌(Acrylonitrile Butadiene Styrene; ABS), 염화비닐(Polyvinyl Chloride; PVC), 폴리염화비닐리덴(Polyvinyldene Chloride; PVDC), 아크릴(Acrylic), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene Terephthalate; PET), 대전방지 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Antistatic Polyethylene Terephthalate; APET), 중에서 선택된 어느 1종 또는 2종 이상을 혼합한 고분자 합성수지인 것을 특징으로 하는 마스크 패킹 박스.The material of the packing box is polystyrene, acrylonitrile styrene (AS), acrylonitrile chlorinated polyethylene styrene (ACS), polypropylene (PP), olefin (Olefin). , Polyethylene (PE), Polycarbonate (PC), Expanded Polystyrene (EPS), Expanded Polypropylene (EPP), Polybutylene Terephthalate (PBT), Acrylonitrile Butadiene-styrene (Arylonitrile Butadiene Styrene (ABS), Polyvinyl Chloride (PVC), Polyvinyldene Chloride (PVDC), Acrylic (Acrylic), Polyethylene Terephthalate (PET), Antistatic Polyethylene Terephthalate (Antistatic Polyethylene Terephthalate; APET), polymer synthesis of any one or two or more selected from Mask packing box wherein acquaintances. 제 1항 또는 제 9항에 있어서,The method according to claim 1 or 9, 상기 패킹 박스로부터 발생되는 공기이동분자오염 중에서 질소(N)가 포함된 오염물질 또는 방향족 탄화수소 화합물의 총량이 단위부피당 5ppm 이하인 것을 특징으로 하는 마스크 패킹 박스.Mask packing box, characterized in that the total amount of contaminants or aromatic hydrocarbon compound containing nitrogen (N) in the air moving molecule pollution generated from the packing box is 5ppm or less per unit volume. 제 12항에 있어서,The method of claim 12, 상기 방향족 탄화수소 화합물은, 벤젠(Benzene), 톨루엔(Toluene), 스티렌(Styrene), 에틸벤젠(Ethylbenzene), o-크실렌(o-Xylene), m-크실렌(m-Xylene), p-크실렌(p-Xylene), n-프로필벤젠(n-Propylbenzene), 이소프로필벤젠(Isopropylbenzene), 1,2,4-트리메틸벤젠(1,2,4-Trimethylbenzene), 1,3,5-트리메틸벤젠(1,3,5-Trimethylbenzene), o-에틸톨루엔(o-ethyltoluene), m에틸톨루엔(m-ethyltoluene), o-디에틸벤젠(o-diethylbenzene), m-디에틸벤젠(mdiethylbenzene), p-디에틸벤젠(p-diethylbenzene), n-부틸벤젠(n-butylbenzene), 디부틸 하이드록시톨루엔(Butylated Hydroxy Toluene; BHT)로 구성되는 군으로부터 선택된 어느 1종 또는 2종 이상을 혼합하는 것을 특징으로 하는 마스크 패킹 박스.The aromatic hydrocarbon compound is benzene (Benzene), toluene (Toluene), styrene (Styrene), ethylbenzene (Ethylbenzene), o-xylene (o-Xylene), m-xylene (m-Xylene), p-xylene (p -Xylene), n-Propylbenzene, Isopropylbenzene, 1,2,4-trimethylbenzene (1,2,4-Trimethylbenzene), 1,3,5-trimethylbenzene (1, 3,5-Trimethylbenzene, o-ethyltoluene, m-ethyltoluene, o-diethylbenzene, m-diethylbenzene, p-diethyl Mask, characterized in that any one or two or more selected from the group consisting of benzene (p-diethylbenzene), n-butylbenzene (n-butylbenzene), dibutyl hydroxy toluene (BHT) Packing box. 제 1항 또는 제 9항에 있어서,The method according to claim 1 or 9, 상기 패킹 박스로부터 발생되는 공기이동분자오염 중에서 유황화합물, 알코올류, 알데히드류, 케톤류, 지방산류, 에스테르류, 아민류, 지방족포화탄화수소류, 지방족불포화탄화수소류, 염소 및 염소화합물, 방향족 탄화수소류 중에서 선택된 어느 1종 또는 2종 이상을 혼합한 농도가 단위부피당 5ppm 이하인 것을 특징으로 하는 마스크 패킹 박스.Among the air moving molecule pollution generated from the packing box, sulfur compounds, alcohols, aldehydes, ketones, fatty acids, esters, amines, aliphatic saturated hydrocarbons, aliphatic unsaturated hydrocarbons, chlorine and chlorine compounds, and aromatic hydrocarbons are selected. A mask packing box, wherein the concentration of any one or two or more thereof is 5 ppm or less per unit volume. 제 1항 또는 제 9항에 있어서,The method according to claim 1 or 9, 상기 패킹 박스로부터 발생되는 공기이동분자오염 중 Li+, Na+, NH4 +, K+, Mg+, Ca+, F-, Cl-, NO2 -, Br-, NO3 -, PO4 2 -, SO4 2 - 중에서 선택된 어느 1종 또는 2종 이상을 혼합한 물질의 농도가 단위부피당 5ppm 이하인 것을 특징으로 하는 마스크 패킹 박스.Li +, Na + in the air movement molecular contamination resulting from the packing box, NH 4 +, K +, Mg +, Ca +, F -, Cl -, NO 2 -, Br -, NO 3 -, PO 4 2 -, SO 4 2 - mask packing box according to any one or characterized in that the concentration per unit volume is not more than 5ppm of a material mixture of at least one selected from the. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 패킹 박스에 적재되는 마스크가 블랭크 마스크인 경우, 상기 블랭크 마스크를 구성하는 레지스트막은 화학증폭형 레지스트, 포토레지스트, 전자빔용 레지스트로 형성하는 것을 특징으로 하는 마스크 패킹 박스.And when the mask placed on the packing box is a blank mask, the resist film constituting the blank mask is formed of a chemically amplified resist, a photoresist, or an electron beam resist. 온도, 습도, 압력, 빛, 열, 파장 등 외부의 물리적·화학적 변화로부터 블랭크 마스크 또는 포토 마스크를 보호하는 기능을 가지는 패킹 박스의 재료를 선별하는 제 1단계와;A first step of selecting a material of a packing box having a function of protecting a blank mask or a photo mask from external physical and chemical changes such as temperature, humidity, pressure, light, heat, wavelength, etc .; 상기 선별된 재료의 오염물질을 가스 크로마토그래피/질량 스펙트로미터(Gas Chromatograph/Mass Spectrometer; GC/MS) 및 이온 크로마토그래피(Ion Chromatograph; IC)로 분석하는 제 2단계;를 포함하되,A second step of analyzing the contaminants of the selected material by gas chromatography / mass spectrometer (GC / MS) and ion chromatography (Ion Chromatograph; IC); 상기 가스 크로마토그래피/질량 스펙트로미터(GC/MS)를 사용하여 분석시, 오염 물질의 샘플링 방법은 퍼지 앤드 트랩(Purge and Trap; P&T), 자동열탈착(Automatic Thermal Desorption; ATD), 열탈착(Thermal Desorption; TD), 헤드스페이스(Headspace) 중에서 선택된 어느 1종 이상의 방법을 사용하며, 분석 대상 재료의 샘플을 밀폐된 병에 넣은 후, 23℃ ~ 300℃ 범위의 온도로 열처리하는 것을 특징으로 하는 마스크 패킹 박스 재료 선별 방법.When analyzing using the gas chromatography / mass spectrometer (GC / MS), the sampling method of contaminants is purge and trap (P & T), automatic thermal desorption (ATD), thermal desorption Mask packing, characterized in that at least one method selected from TD) and headspace is used, and the sample of the material to be analyzed is placed in a sealed bottle and then heat-treated at a temperature in the range of 23 ° C to 300 ° C. Box material sorting method. 삭제delete 삭제delete
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