KR100732752B1 - Frame structure for mask and pellicle - Google Patents

Frame structure for mask and pellicle Download PDF

Info

Publication number
KR100732752B1
KR100732752B1 KR1020040107384A KR20040107384A KR100732752B1 KR 100732752 B1 KR100732752 B1 KR 100732752B1 KR 1020040107384 A KR1020040107384 A KR 1020040107384A KR 20040107384 A KR20040107384 A KR 20040107384A KR 100732752 B1 KR100732752 B1 KR 100732752B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mask
pellicle
frame
guide
bending frame
Prior art date
Application number
KR1020040107384A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20060068650A (en
Inventor
원준일
Original Assignee
주식회사 하이닉스반도체
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 하이닉스반도체 filed Critical 주식회사 하이닉스반도체
Priority to KR1020040107384A priority Critical patent/KR100732752B1/en
Publication of KR20060068650A publication Critical patent/KR20060068650A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100732752B1 publication Critical patent/KR100732752B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • G03F1/64Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/66Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • H01L21/033Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising inorganic layers
    • H01L21/0334Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising inorganic layers characterised by their size, orientation, disposition, behaviour, shape, in horizontal or vertical plane
    • H01L21/0337Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising inorganic layers characterised by their size, orientation, disposition, behaviour, shape, in horizontal or vertical plane characterised by the process involved to create the mask, e.g. lift-off masks, sidewalls, or to modify the mask, e.g. pre-treatment, post-treatment

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

본 발명은 마스크로 펠리클을 위한 프레임 구조물에 관한 것으로, 내측에 상층과 하층으로 구분되는 두 가이드를 구비하며, 각각의 가이드에 삽입되는 마스크와 펠리클의 3면을 고정하는 절곡프레임과, 내측에 상층과 하층으로 구분되는 두 가이드를 구비하여, 상기 절곡프레임에 고정된 마스크와 펠리클의 돌출된 일면을 그 가이드를 이용하여 고정하며, 상기 절곡 프레임과는 나사결합되는 직선프레임으로 구성된다. 이와 같이 구성된 본 발명은 마스크와 펠리클을 용이하게 결합 또는 분리할 수 있는 효과가 있으며, 펠리클을 제거할 때 마스크에 스크래치가 발생하는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다. The present invention relates to a frame structure for a pellicle as a mask, having two guides divided into an upper layer and a lower layer inside, a bending frame for fixing three surfaces of a mask and a pellicle inserted into each guide, and an upper layer inside It is provided with two guides divided into lower and lower layers, and the protruding one surface of the mask and the pellicle fixed to the bending frame is fixed using the guide, and the bending frame is composed of a straight frame screwed. The present invention configured as described above has the effect of easily combining or separating the mask and the pellicle, there is an effect that can prevent the occurrence of scratches on the mask when removing the pellicle.

마스크, 펠리클, 프레임, 결합Mask, pellicle, frame, combine

Description

마스크와 펠리클을 위한 프레임 구조물{Frame structure for mask and pellicle}Frame structure for mask and pellicle

도 1은 본 발명에 따르는 마스크와 펠리클을 위한 프레임의 결합상태 구성도.1 is a block diagram of the combined state of the frame for the mask and pellicle according to the present invention.

도 2는 본 발명에 따르는 마스크와 펠리클을 위한 프레임의 분리상태 구성도.Figure 2 is a separated configuration of the frame for the mask and pellicle according to the present invention.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

10:절곡프레임 20:직선프레임10: bending frame 20: straight frame

30:마스크 40:펠리클
30: mask 40: pellicle

본 발명은 마스크와 펠리클을 위한 프레임 구조물에 관한 것으로, 특히 마스크와 펠리클의 결합 및 분해가 용이하도록 한 프레임 구조물에 관한 것이다.The present invention relates to a frame structure for a mask and a pellicle, and more particularly to a frame structure to facilitate the coupling and disassembly of the mask and pellicle.

일반적으로 마스크는 반도체 장치의 제조공정에서 사진식각공정의 진행을 위 해 사용된다. In general, masks are used for the progress of photolithography in the manufacturing process of semiconductor devices.

이러한 마스크는 그 마스크가 제조된 후, 보관 또는 이동 중에 표면에 이물이 흡착되거나, 손상되는 것을 방지하기 위하여 펠리클(pellicle)을 일면에 부착한다.Such a mask attaches a pellicle to one surface to prevent foreign matter from adsorbing or damaging the surface during storage or movement after the mask is manufactured.

이와 같은 펠리클과 마스크의 부착은 접착제를 이용하여 접착하고 있다.Such pellicle and mask are attached using an adhesive.

그러나, 펠리클과 마스크가 접착된 상태에서 펠리클이 오염되어 세정을 할 필요가 있을 경우에는 그 펠리클을 마스크로 부터 분리하여 펠리클만을 세정해야 한다.However, when the pellicle is contaminated and needs to be cleaned while the pellicle and the mask are adhered, the pellicle must be separated from the mask to clean only the pellicle.

그러나, 종래 펠리클은 마스크에 접착제로 접착되어 있기 때문에 그 분리가 용이하지 않다.However, the conventional pellicle is not easy to separate because it is adhered to the mask with an adhesive.

또한 분리를 하더라도 마스크가 오염되거나, 그 마스크의 표면에 스크래치가 발생하는 문제점이 있었다.
In addition, there is a problem that even if the mask is contaminated, or scratches on the surface of the mask.

상기와 같은 문제점을 감안한 본 발명은 접착제를 사용하지 않고 마스크에 스크래치를 적용하여 마스크를 오염으로부터 보호할 수 있는 마스크와 펠리클을 위한 프레임 구조물을 제공함에 그 목적이 있다.It is an object of the present invention to provide a frame structure for a mask and a pellicle which can protect the mask from contamination by applying a scratch to the mask without using an adhesive.

또한, 본 발명의 다른 목적은 펠리클과 마스크를 분리할 필요가 있을 때, 마스크의 오염 또는 스크래치가 발생되지 않는 상태로 용이하게 분리할 수 있는 마스크와 펠리클을 위한 프레임 구조물을 제공함에 다른 목적이 있다.In addition, another object of the present invention is to provide a frame structure for the mask and pellicle that can be easily separated in a state that does not cause contamination or scratch of the mask when it is necessary to separate the pellicle and the mask. .

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 내측에 상층과 하층으로 구분되는 두 가이드를 구비하며, 각각의 가이드에 삽입되는 마스크와 펠리클의 3면을 고정하는 절곡프레임과, 내측에 상층과 하층으로 구분되는 두 가이드를 구비하여, 상기 절곡프레임에 고정된 마스크와 펠리클의 돌출된 일면을 그 가이드를 이용하여 고정하며, 상기 절곡 프레임과는 나사 결합되는 직선프레임으로 구성함에 그 특징이 있다.The present invention for achieving the above object is provided with two guides divided into an upper layer and a lower layer on the inside, a bending frame for fixing the three sides of the mask and pellicle inserted into each guide, and the upper and lower layers on the inside It is characterized by having two guides separated, and fixing the protruding one surface of the mask and the pellicle fixed to the bending frame by using the guide, the bending frame and the straight frame that is screwed.

또한, 상기 절곡프레임과 직선프레임의 하층 가이드에는 면적과 두께가 상대적으로 큰 마스크가 삽입될 수 있도록 가이드의 길이와 폭이 상대적으로 더 크며, 상층 가이드는 면적과 두께가 상대적으로 작은 펠리클이 삽입될 수 있도록 가이드의 길이와 폭이 상대적으로 더 작은 것이 바람직하다.
In addition, the lower guide of the bending frame and the straight frame is relatively larger in length and width of the guide so that a mask having a relatively large area and thickness can be inserted, and the upper guide can be inserted with a pellicle having a relatively small area and thickness. It is desirable that the length and width of the guides be relatively small so that the guides are relatively small.

상기와 같이 구성되는 본 발명을 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.When described in detail with reference to the accompanying drawings, the present invention configured as described above are as follows.

도 1은 본 발명에 따르는 마스크와 펠리클을 위한 프레임의 전체 구조도로서, 이에 도시한 바와 같이 하층에는 마스크를 슬라이드 방식으로 결합할 수 있는 마스크 가이드를 구비하며, 그 상층에는 그 마스크 가이드 보다 면적과 두께가 작은 펠리클 가이드를 구비하며, 사면체인 마스크와 펠리클의 3면을 고정할 수 있는 절곡프레임(10)과, 상기 절곡프레임(10)의 개방면에 착탈가능하며, 상기 절곡프레 임(10)의 마스크 가이드와 펠리클 가이드에서 연장되는 마스크 가이드와 펠리클 가이드를 구비하는 직선프레임(20)으로 구성된다.1 is an overall structural diagram of a frame for a mask and a pellicle according to the present invention, as shown in the lower layer is provided with a mask guide that can be coupled to the mask in a sliding manner, the upper layer is more area and thickness than the mask guide Is provided with a small pellicle guide, a bending frame 10 capable of fixing the three sides of the mask and the pellicle tetrahedral, and detachable to the open surface of the bending frame 10, of the bending frame 10 It consists of a straight frame 20 having a mask guide and a pellicle guide extending from the mask guide and the pellicle guide.

상기 직선프레임(20)과 절곡프레임(10)은 나사 결합을 위한 결합공이 마련된다.The straight frame 20 and the bending frame 10 is provided with a coupling hole for screw coupling.

도 2는 상기 절곡프레임(10)과 직선프레임(20)의 분리된 상태를 나타낸 구성도이며, 그 절곡프레임(10)의 단면 일부를 도시하였다.2 is a configuration diagram showing the separated state of the bending frame 10 and the straight frame 20, and shows a part of the cross section of the bending frame 10.

상기와 같이 구성된 본 발명의 구조와 작용을 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.Referring to the structure and operation of the present invention configured as described above in more detail.

먼저, 상기 절곡프레임(10)과 직선프레임(20)은 나사 결합되며, 그 절곡프레임(10)에 마스크(30)와 펠리클(40)을 장착하기 위하여 상기 절곡프레임(10)에서 직선프레임(20)을 분리한다.First, the bending frame 10 and the straight frame 20 is screwed, the linear frame 20 in the bending frame 10 to mount the mask 30 and the pellicle 40 to the bending frame 10 ).

그 다음, 상기 절곡프레임(10)의 개방된 면을 통해 상기 마스크(30)와 펠리클(40)을 슬라이드 방식으로 끼워 넣는다.Next, the mask 30 and the pellicle 40 are inserted through the open surface of the bending frame 10 in a slide manner.

상기 절곡프레임(10)은 상호 면적과 높이가 다른 두 가이드를 제공한다.The bending frame 10 provides two guides having different areas and heights.

상기 두 가이드중 높이가 높고 면적이 큰 가이드는 마스크를 가이드하여 고정하기 위한 것으로, 절곡프레임(10)의 단면에서 확인할 수 있듯이 하층에 위치한다.Of the two guides, the higher height and the larger area are guided to fix the mask, and are located in the lower layer as can be seen from the cross section of the bending frame 10.

또한, 그 상층에는 상기 하층의 가이드에 비하여 높이가 낮고 면적이 작은 펠리클의 고정을 위한 가이드가 제공된다.In addition, the upper layer is provided with a guide for fixing the pellicle having a lower height and a smaller area than the lower guide.

상기 두 가이드에 마스크(30)와 펠리클(40)을 각각 삽입한다. The mask 30 and the pellicle 40 are respectively inserted into the two guides.                     

상기 마스크(30)와 펠리클(40)을 절곡프레임(10)에 삽입한 상태에서도 상기 마스크(30)와 펠리클(40)의 일부는 그 절곡프레임(10)의 개방면측으로 돌출된 상태가 된다.Even when the mask 30 and the pellicle 40 are inserted into the bending frame 10, a part of the mask 30 and the pellicle 40 protrudes toward the open surface side of the bending frame 10.

그 다음, 상기 돌출된 마스크(30)와 펠리클(40)은 상기 절곡프레임(10)과 동일하게 상하층에 각기 다른 두께와 길이를 가지는 가이드가 마련된 직선프레임(20)의 가이드에 삽입되며, 상기 직선프레임(20)의 양단에는 상기 절곡프레임(10)의 단면이 노출된 부분에 마련된 결합공과 대향하는 다수의 결합공이 마련된다.Next, the protruding mask 30 and the pellicle 40 are inserted into the guide of the straight frame 20 having guides having different thicknesses and lengths in the upper and lower layers in the same manner as the bending frame 10. Both ends of the straight frame 20 are provided with a plurality of coupling holes facing the coupling holes provided in the exposed portion of the cross section of the bending frame 10.

상기와 같이 절곡프레임(10)과 직선프레임(20)을 결합한 후, 그 결합공에 나사를 체결하여 마스크(30)와 펠리클(40)을 고정한다.After coupling the bending frame 10 and the straight frame 20 as described above, the screw 30 is fastened to the coupling hole to fix the mask 30 and the pellicle 40.

이와 같은 상태에서는 펠리클(40)에 의하여 마스크(30)가 오염되는 것을 방지할 수 있게 된다.In this state, the mask 30 can be prevented from being contaminated by the pellicle 40.

또한, 상기 펠리클(40)이 오염되거나 손상되어 세정 또는 교체해야 할 필요가 있을 때에는 상기 나사를 풀고, 직선프레임(20)을 절곡프레임(10)으로부터 분리한다.In addition, when the pellicle 40 is contaminated or damaged and needs to be cleaned or replaced, the screw is loosened and the straight frame 20 is separated from the bending frame 10.

그 다음, 상기 오염된 펠리클(40)을 잡아 슬라이드 방식으로 당겨 그 절곡프레임(10)으로부터 분리한다.Then, the contaminated pellicle 40 is grabbed and pulled in a slide manner to separate it from the bending frame 10.

이와 같은 분리과정에서 접착제 등에 의해 마스크(30)와 펠리클(40)이 접합된 상태가 아니기 때문에 용이하게 분리가 가능하며, 그 분리과정에서 마스크(30)에 스크래치가 발생하는 것을 방지할 수 있게 된다. In this separation process, since the mask 30 and the pellicle 40 are not bonded to each other by an adhesive or the like, they can be easily separated, and the mask 30 can be prevented from occurring in the separation process. .

이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시 예들을 들어 도시하고 설명하였 으나, 본 발명은 상기한 실시 예들에 한정되지 않으며 본 발명의 개념을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능하다.
Although the present invention has been shown and described with reference to certain preferred embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments, and the general knowledge in the technical field to which the present invention belongs without departing from the concept of the present invention. Various changes and modifications are possible by the person having it.

상기한 바와 같이 본 발명은 서로 두께와 면적이 다른 사면체형상인 마스크와 펠리클을 하층과 상층에 슬라이드 방식으로 끼워 3면을 고정할 수 있는 절곡프레임과, 그 절곡프레임의 개방면에서 상기 마스크와 펠리클의 돌출된 부분을 끼워 고정할 수 있으며, 그 절곡프레임과 나사결합에 의해 고정되어지는 직선프레임으로 구성되어, 마스크와 펠리클을 용이하게 결합 또는 분리할 수 있는 효과가 있다.As described above, the present invention provides a bending frame capable of fixing three surfaces by inserting a mask and a pellicle having a tetrahedral shape having different thicknesses and areas from each other in a lower layer and an upper layer, and the mask and pellicle on an open surface of the bending frame The protruding portion of the can be fitted and fixed, it is composed of a straight frame that is fixed by the bending frame and screw coupling, there is an effect that can easily combine or separate the mask and pellicle.

특히 종래와 같이 접착제를 사용하지 않음으로써, 펠리클을 제거할 때 마스크에 스크래치가 발생하는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다. In particular, by not using the adhesive as in the prior art, there is an effect that can prevent the scratch on the mask when removing the pellicle.

Claims (2)

내측에 상층과 하층으로 구분되는 두 가이드를 구비하며, 각각의 가이드에 삽입되는 마스크와 펠리클의 3면을 고정하는 절곡프레임과,It is provided with two guides divided into an upper layer and a lower layer inside, a bending frame for fixing the three sides of the mask and pellicle inserted into each guide, 내측에 상층과 하층으로 구분되는 두 가이드를 구비하여, 상기 절곡프레임에 고정된 마스크와 펠리클의 돌출된 일면을 그 가이드를 이용하여 고정하며, 상기 절곡 프레임과는 나사결합되는 직선프레임으로 구성하여 된 것을 특징으로 하는 마스크와 펠리클을 위한 프레임 구조물.It is provided with two guides divided into an upper layer and a lower layer on the inside, and the protruding one surface of the mask and the pellicle fixed to the bending frame is fixed using the guide, and the bending frame is composed of a straight frame screwed Frame structure for a mask and pellicle, characterized in that. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 절곡프레임과 직선프레임의 하층 가이드에는 면적과 두께가 상대적으로 큰 마스크가 삽입될 수 있도록 가이드의 길이와 폭이 상대적으로 더 크며, 상층 가이드는 면적과 두께가 상대적으로 작은 펠리클이 삽입될 수 있도록 가이드의 길이와 폭이 상대적으로 더 작은 것을 특징으로 하는 마스크와 펠리클을 위한 프레임 구조물.The lower and lower guides of the bending frame and the straight frame have a larger length and width of the guide so that a mask having a relatively large area and thickness can be inserted, and the upper guide can have a pellicle having a relatively small area and thickness. Frame structure for a mask and pellicle, characterized in that the length and width of the guide is relatively smaller.
KR1020040107384A 2004-12-16 2004-12-16 Frame structure for mask and pellicle KR100732752B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040107384A KR100732752B1 (en) 2004-12-16 2004-12-16 Frame structure for mask and pellicle

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040107384A KR100732752B1 (en) 2004-12-16 2004-12-16 Frame structure for mask and pellicle

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20060068650A KR20060068650A (en) 2006-06-21
KR100732752B1 true KR100732752B1 (en) 2007-06-27

Family

ID=37162920

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040107384A KR100732752B1 (en) 2004-12-16 2004-12-16 Frame structure for mask and pellicle

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100732752B1 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101918687B1 (en) 2014-01-28 2018-11-14 삼성전자주식회사 Pellicle
KR102395197B1 (en) * 2015-09-04 2022-05-06 삼성전자주식회사 Pellicle for reflective mask, and reflective mask assembly including the same

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05216214A (en) * 1992-02-05 1993-08-27 Seiko Epson Corp Photomask and pellicle
JPH0621048U (en) * 1992-08-20 1994-03-18 富士通株式会社 Removable pellicle
KR20010084145A (en) * 2000-02-24 2001-09-06 황인길 Pellicle for protecting a photo mask
KR20050070434A (en) * 2003-12-30 2005-07-07 동부아남반도체 주식회사 Non-adhesive type pellicle assembling device for protecting photomask

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05216214A (en) * 1992-02-05 1993-08-27 Seiko Epson Corp Photomask and pellicle
JPH0621048U (en) * 1992-08-20 1994-03-18 富士通株式会社 Removable pellicle
KR20010084145A (en) * 2000-02-24 2001-09-06 황인길 Pellicle for protecting a photo mask
KR20050070434A (en) * 2003-12-30 2005-07-07 동부아남반도체 주식회사 Non-adhesive type pellicle assembling device for protecting photomask

Also Published As

Publication number Publication date
KR20060068650A (en) 2006-06-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102233579B1 (en) Pellicle for an extreme ultraviolet(euv) lithography
DE60218874D1 (en) QUICK INVOICE OF THE COEFFICIENTS OF A DECISION RECYCLED ENTGERER
FR2850390B1 (en) METHOD FOR REMOVING A PERIPHERAL GLUE ZONE WHEN MANUFACTURING A COMPOSITE SUBSTRATE
US20210276835A1 (en) Cleaning pad and cleaning implement
JP2015099919A (en) Substrate cleaning device
KR100732752B1 (en) Frame structure for mask and pellicle
JP2016031412A (en) Apparatus and method for washing off adhesive of pellicle of photomask
KR101918687B1 (en) Pellicle
TW200602702A (en) Lightwave circuit chip and the manufacturing method of the same
JP4354434B2 (en) Inhalation unit assembly
US20080169068A1 (en) Covering bracket for blinds
KR101564115B1 (en) Jig for peeling pellicle and peeling method
CN103240806A (en) Wafer cutting method
JP5028029B2 (en) Passenger conveyor
JP5619436B2 (en) Large pellicle frame and large pellicle
US20090107525A1 (en) String cleaning system
KR100926259B1 (en) Cutting method for protecting optical glass surface
KR20110045961A (en) Dust removal apparatus of circuit board
KR20110094618A (en) Display device and its manufacturing method
ITTO20020648A0 (en) PROCESSING METHOD OF A TAPE LAMINATE TO CARRY OUT THE REMOVAL OF SURFACE DEFECTS AND RELATED SYSTEM.
JP7020183B2 (en) Detachment jig, removal method, installation method and attachment / detachment method for skirt guard of passenger conveyor
BR9901222A (en) Process and apparatus for performing cryogenic rectification of feed air.
TWM643810U (en) Guards for furniture
CN217753840U (en) Metal mask plate transfer device with protection function
CN208161295U (en) A kind of dedicated refrigeration filter core of air-conditioning

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20110526

Year of fee payment: 5

LAPS Lapse due to unpaid annual fee