KR100716456B1 - 플라즈마 처리장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은, 진공 상태의 챔버 내부에 플라즈마를 발생시켜 기판에 소정의 처리를 실시하는 플라즈마 처리장치에 있어서, 상기 챔버내 하측에 마련되어 기판이 적재되는 하부전극; 상기 하부전극의 하면에 접한 상태로 마련되며, 상기 하부전극을 냉각시키는 냉각판을 포함하되, 상기 냉각판에는, 유입구와 배출구가 연통되어 독립적으로 가동되는 냉각부가 다수개 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치를 제공한다.

플라즈마 처리장치, 공정챔버, 냉각부, 횡, 종방향 냉각라인, 차단블럭, 냉각효율

Description

플라즈마 처리장치{Plasma processing apparatus}

도 1은 종래의 플라즈마 처리장치인 공정챔버의 단면도이다.

도 2는 종래의 공정챔버의 전극부 구성물인 냉각판의 평단면도이다.

도 3은 본 발명의 일 실시예의 플라즈마 처리장치의 전극부에 구비된 냉각판의 평단면도이다.

도 4a 및 도 4b는 도 3의 "A" 부분에 대한 확대도 및 그 측단면도이다.

도 5는 본 발명의 다른 실시예의 플라즈마 처리장치의 전극부에 구비된 냉각판의 평단면도이다.

도 6은 도 5의 "B" 부분에 대한 확대도이다.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>

140 : 일 실시예의 냉각판

142, 144 : 횡, 종방향 냉각라인

146 : 삽입홀 148 : 밀폐부재

150 : 차단블럭 151 : 이동구멍

152 : 고정부재 O : 기밀부재

240 : 다른 실시예의 냉각판

242, 244 : 횡, 종방향 냉각라인

246 : 삽입홀 248 : 밀폐부재

250 : 차단블럭 251 : 이동구멍

252 : 고정부재

본 발명은 플라즈마 처리장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 플라즈마 처리장치인 공정챔버에 마련된 전극의 저면에 구비되어 공정 처리 과정중 온도 과열을 방지할 수 있게 냉각판이 구비된 플라즈마 처리장치에 관한 것이다.

상술한 반도체 웨이퍼 또는 액정 기판에 플라즈마 처리를 실시하는 과정을 설명하면 우선, 기판 수납 장치(이하 "카세트"라 칭함)에 다수 적재된 반도체 웨이퍼 또는 액정기판(이하 "기판"이라 칭함)을 운송 로봇에 의해 반입 또는 반출시키되 진공과 대기압을 순환하는 로드락 챔버(Load Lock Chamber) 내로 반입시키고 상기 로드락 챔버의 내부가 진공상태가 되도록 펌핑(Pumping)을 실시하여 진공으로 만들고 난 다음, 이송수단을 작동시켜 기판을 반송 챔버(Transfer Chamber)로 이동시킨다.

기판이 이송된 반송 챔버는 진공 상태를 유지하는 다수의 공정 챔버(Process Chamber)와 연통되어 있고, 상기 반송 챔버는 각각의 공정 챔버로 이송수단을 통해 반입, 반출을 실시하며, 여기서 각각의 공정 챔버로 반입된 기판은 하부 전극의 상 부에 위치된 적재대 상에 놓이게 되며, 상부 전극 하부에 형성된 미세 구멍을 통해 공정 가스가 유입되고, 유입된 가스로 외부의 전원을 인가 받은 상, 하부 전극에 의해 전기 방전을 일으켜 기판의 표면에 플라즈마 공정을 진행하는 것이다.

여기서, 상술한 공정 챔버내에서 플라즈마 공정 처리시 기판이 안착된 하부전극의 온도가 상승함에 따라 그 하부전극의 온도를 저하시켜 일정하게 유지하도록 하부에 냉각판이 마련되며, 이 냉각판의 내부에 유체를 순환시켜 하부전극을 냉각할 수 있게 냉각라인을 건드릴(Gun Drill)로 가공 형성한다.

종래의 플라즈마 처리장치는 도 1에 도시된 바와 같이 내부에서 공정 처리가 이루어지는 공정챔버(10)와, 상술한 공정챔버(10)내 상측에 마련되어 공정 가스가 유입되는 상부전극(20)과, 상기 상부전극(20)과 대향된 하측에 마련되어 기판(도면에 미도시)이 적재되며 전원이 인가되는 전극부(30)로 이루어진다.

상술한 전극부(30)는 최하부에 위치된 베이스 플레이트(32)와, 상기 베이스 플레이트 상면에 적재된 절연판(34)과, 상술한 절연판 상면에 적재된 냉각판(40)과, 상술한 냉각판(40)의 상면에 적재된 하부전극(36)으로 이루어지며, 상술한 전극부(30)의 외벽과 상부 영역에 플라즈마로부터 보호하는 절연체가 각각 감싸고 있다.

여기서, 상술한 냉각판(40)은 일실시예로 전극부(30)중 하부전극(36)을 일정한 온도로 유지할 수 있게 온도를 낮추는 기능을 하며, 이러한 냉각판(40)은 도 2에 도시된 바와 같이 판상으로, 양측벽 가장자리부를 각각 관통시키는 횡방향 냉각라인(42)과, 상술한 횡방향 냉각라인(42)과 직교된 상태로 적정 간격으로 형성된 다수개의 종방향 냉각라인(44)과, 일측과 타측의 횡방향 냉각라인(42)에 각각 유입구와 배출구가 하나씩 형성되는 구조이다. 그리고, 각각 관통된 횡, 종방향 냉각라인(42, 44)의 양단에 삽입되어 그 내부의 기밀을 유지함과 동시에 밀폐시키는 밀폐부재(46)가 마련된다.

그러므로, 상술한 횡, 종방향 냉각라인(42, 44)은 그 횡방향 냉각라인(42)의 중심부에 형성된 유입구를 통해 유입되는 유체가 횡방향 냉각라인(42) 양측으로 이동되어 그 횡방향 냉각라인(42)에 적정 간격으로 직교되게 병렬 형성된 다수개의 종방향 냉각라인(44)을 따라 이동하며, 각각의 종방향 냉각라인(44)이 이격된 횡방향 냉각라인(42)에 연통되어 그 횡방향 냉각라인(42)의 중심부에 형성된 배출구를 통해 배출된다.

여기서, 상술한 유입구를 통해 유입된 유체의 유량을 1로 보고, 상술한 종방향 냉각라인(44)을 총 6개로 가정했을 때, 그 유입구와 직교된 횡방향 냉각라인(42)으로 이동하는 유량은 그 유입구를 기점으로 양측으로 이동하므로 1/2로 감소되며, 그 유량이 중심부에서 첫 번째에 마련된 종방향 냉각라인(44)에 도달하면 그 종방향 냉각라인(44)과 횡방향 냉각라인(42)의 교차부를 이동하면서 그 유량은 1/4로 감소되며, 그후, 두 번째 마련된 종방향 냉각라인(44)과 횡방향 냉각라인(42)의 교차부를 이동하면서 그 유량은 1/8로 감소되고, 가장 외측에 형성된 종방향 냉각라인(44)에 유동하는 유량은 1/16으로 감소되며, 각각의 종방향 냉각라인(44)을 통한 유체는 배출구가 형성된 횡방향 냉각라인(42)으로 합쳐지면서 배출구를 통해 1인 유량이 배출된다.

그러나, 유량이 1인 유체가 유입되어 유량이 1인 유체가 배출되지만 병렬 형성된 각각의 종방향 냉각라인(44)으로 이동하는 과정에서 유량이 분배된 상태로 감소됨으로써, 냉각 효율이 저하되는 문제점이 있었다.

또한, 다른 실시예의 냉각판은 도면에는 도시하지 않았지만 서로 접하는 냉각판을 2개로 구비하되 그 각각의 냉각판의 접촉면에 기계 가공에 의한 지그재그 형상의 직렬식 냉각라인을 형성시키고 상호 용접 등으로 부착하는 방법도 있었으나, 가공 단가가 상승되는 문제점이 있었다.

본 발명은 상기 종래의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 그 목적은 냉각판에 독립적인 냉각라인을 다수개 형성시켜 냉각 효율을 상승시킬 수 있게 한 플라즈마 처리장치를 제공함에 있다.

상술한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 진공 상태의 챔버 내부에 플라즈마를 발생시켜 기판에 소정의 처리를 실시하는 플라즈마 처리장치에 있어서, 상기 챔버내 하측에 마련되어 기판이 적재되는 하부전극; 상기 하부전극의 하면에 접한 상태로 마련되며, 상기 하부전극을 냉각시키는 냉각판을 포함하되, 상기 냉각판에는, 유입구와 배출구가 연통되어 독립적으로 가동되는 냉각부가 다수개 형성됨으로써, 상술한 냉각판에 독립적인 냉각부를 다수개 형성시켜 그 냉각부로 유입된 유량이 그대로 순환 배출되어 냉각 효율이 상승되므로 바람직하다.

또한, 본 발명에서의 냉각부는, 상기 냉각판을 횡방향으로 관통하여 형성된 횡방향 냉각라인; 상기 횡방향 냉각라인과 직교되도록 상기 냉각판을 종방향으로 관통하여 형성되는 다수개의 종방향 냉각라인;을 포함하되, 이웃된 2개의 종방향 냉각라인과 그 종방향 냉각라인을 연결하는 횡방향 냉각라인이 하나의 냉각부를 형성하고, 각 냉각부 사이의 횡방향 냉각라인에 차단블럭이 마련됨으로써, 상술한 냉각판의 양측벽 모서리부에 횡방향으로 관통하여 형성된 횡방향 냉각라인과 그 횡방향 냉각라인과 직교된 종방향으로 다수개 관통하여 형성된 종방향 냉각라인으로 이루어진 냉각부중 일측에 형성된 종방향 냉각라인에 유입구가 구비되며, 그와 이웃한 타측에 형성된 종방향 냉각라인에 배출구가 구비되어 그 2개씩 종방향 냉각라인와 횡방향 냉각라인으로 이루어진 다수의 냉각부를 각각 독립적으로 형성될 수 있도록 중간에 차단블럭을 삽입시켜 개별적인 냉각부를 구비하므로 바람직하다.

또한, 본 발명에서의 차단블럭은, 상기 횡방향 냉각라인에 연통되는 냉각부 사이에 직교되게 삽입홀을 형성하고 그 삽입홀에 각각 삽입됨으로써, 상술한 차단블럭이 순환유체의 통과를 차단하여 개별적인 냉각부를 형성시키는 과정이 용이하므로 바람직하다.

또한, 본 발명에서의 차단블럭은, 판상으로 형성되며, 그 하단에 유체가 이동하는 다수개의 미세 이동구멍이 형성됨으로써, 유체가 유입라인인 종방향 냉각라인을 거쳐 그와 직교된 횡방향 냉각라인으로 이동하여 재차 직교된 배출라인인 종방향 냉각라인과, 그 종방향 냉각라인과 교차된 횡방향 냉각라인 도중에 구비된 차 단블럭을 향해 유체가 이동하면서 상술한 횡방향 냉각라인에 구비된 차단블럭에 의해 유동이 차단되어 그 부분에서 잔류된 유체가 정체되므로 그 정체현상에 대처하기 위하여 유체의 이동 압력으로 차단블럭에 형성된 이동구멍을 통해 그 차단블럭의 타측으로 정체된 유체를 이동시켜 그와 근접한 유입라인인 종방향 냉각라인으로 유입되는 유체와 함께 이동하여 외부로 배출되므로 바람직하다.

또한, 본 발명에서는 차단블럭과 직교된 상태로 냉각판 외측벽에 고정부재가 마련되며, 그 고정부재와 외부의 기밀을 유지하는 기밀부재가 개재되어 마련됨으로써, 상술한 기밀부재에 의해 기밀이 유지된 상태로, 고정부재를 분리한 다음 차단블럭의 장, 탈착이 용이하므로 바람직하다.

또한, 본 발명에서는 진공 상태의 챔버 내부에 플라즈마를 발생시켜 기판에 소정의 처리를 실시하는 플라즈마 처리장치에 있어서, 상기 챔버내 하측에 마련되어 기판이 적재되는 하부전극; 상기 하부전극의 하면에 접한 상태로 마련되며, 상기 하부전극을 냉각시키는 냉각판을 포함하되, 상기 냉각판에는, 유입구와 배출구가 연통되는 일체형의 냉각부가 형성됨으로써, 상술한 냉각판에 일체형의 독립적인 냉각라인을 형성시켜 그 냉각라인으로 유입된 유량이 손실없이 그대로 순환 배출되어 냉각 효율이 상승되므로 바람직하다.

또한, 본 발명에서의 냉각부는, 상기 냉각판의 양측을 횡방향으로 관통하여 형성된 횡방향 냉각라인; 상기 횡방향 냉각라인과 직교되도록 상기 냉각판을 종방향으로 관통하여 형성되는 다수개의 종방향 냉각라인;을 포함하되, 상기 종방향 냉각라인중 일단에 형성된 것은 유입구이며, 타단에 형성된 것은 배출구인 일체의 냉각부를 형성하며, 횡방향 냉각라인을 각각 번갈아 가면서 종방향 냉각라인을 연통되게 하는 차단블럭이 마련됨으로써, 상술한 냉각판의 양측벽 양단 모서리부에 형성된 횡방향 냉각라인과 그 횡방향 냉각라인과 직교된 상태로 다수개 형성된 종방향 냉각라인으로 이루어진 냉각부중 일측에 형성된 종방향 냉각라인에 유입구가 구비되며, 타측에 형성된 종방향 냉각라인에 배출구가 구비되어 지그재그 형상인 냉각부를 일체형으로 형성될 수 있도록 중간에 차단블럭을 삽입시켜 개별적인 냉각부를 형성시키므로 바람직하다.

이하, 본 발명의 플라즈마 처리장치를 첨부도면을 참조하여 실시예들을 들어 설명하면 다음과 같다.

< 실시예 1 >

본 발명의 바람직한 일 실시예의 플라즈마 처리장치는 도면에는 도시하지 않았지만 종래의 그것과 동일한 공정챔버와, 상기 공정챔버내 상측에 마련되어 기판에 소정 가스를 분사하는 상부전극과, 상술한 상부전극의 대향된 하측에 마련되어 기판이 적재되는 전극부로 이루어진다. 여기서, 상술한 전극부는 최하부에 위치된 베이스 플레이트에 순차적으로 적층된 절연판과, 냉각판과, 하부전극으로 이루어지 며, 상술한 전극부의 외벽과 상부 영역에 플라즈마로부터 보호하는 절연체가 각각 감싸고 있는 구조로 상세한 설명은 생략한다.

상술한 냉각판(140)은 도 3에 도시된 바와 같이 적정 두께를 갖는 판상으로 양측벽에 횡방향으로 관통하여 형성된 횡방향 냉각라인(142)과, 상술한 횡방향 냉각라인(142)과 직교된 상태로 종방향을 갖도록 관통하여 형성된 종방향 냉각라인(144)로 이루어진 냉각부가 형성되며, 상술한 횡방향 냉각라인(142)의 양단에 각각 밀폐부재(148)가 삽입되어 그 내부를 밀폐함과 동시에 기밀을 유지하게 된다.

상술한 냉각부는 2개로 이루어진 종방향 냉각라인(144)중 어느 하나는 유입라인이고 이웃된 다른 하나는 배출라인으로, 그 한 쌍씩 독립적으로 가동될 수 있도록 연통하는 횡방향 냉각라인(142)으로 형성되며, 각각의 냉각부 사이의 횡방향 냉각라인(142)에는 외측벽으로 직교되게 연통될 수 있도록 삽입홀(146)이 형성되고 그 삽입홀(146)에 차단블럭(150)이 삽입되어 각각의 냉각부에 개별적인 공간이 형성된다.

상술한 차단블럭은 도4a 및 도 4b에 도시된 바와 같이 그 차단블럭(150)의 삽입시 횡방향 냉각라인(142)내에 위치되는 다수개의 미세 직경을 갖는 이동구멍(149)이 형성되며, 냉각판(140)의 외측벽에서 횡방향 냉각라인(142)으로 연통되는 삽입홀(146)에 그 차단블럭(150)을 삽입하고 직교된 판상의 고정부재(152)로 냉각판(140)의 외측벽에 볼트로 고정하여 차단블럭(150)의 이탈을 방지하며, 개구된 삽입홀(146)과 고정부재(152)와의 기밀을 유지할 수 있게 기밀부재(O)가 개재된다.

한편, 어느 한 냉각부를 거쳐 다른 냉각부로 유체가 이동하는 것을 차단하는 차단블럭(150)이 각각의 냉각부가 연통된 횡방향 냉각라인(142)에 각각 마련되며, 상술한 종방향 냉각라인(144)과 횡방향 냉각라인(142)이 교차되는 교차부에서 횡방향 냉각라인(142) 도중에 적정 간격만큼 이격된 차단블럭(150)과의 공간에는 이동하지 못한 소량의 유체가 정체되어 이때, 유체의 유입 압력으로 그 차단블럭(150)에 형성된 이동구멍(149)을 통해 반대쪽으로 이동시켜 다른 한 쌍의 냉각부중 유입라인인 종방향 냉각라인(144)에서 유입된 유체와 합쳐져 배출라인인 종방향 냉각라인(144)으로 배출된다.

여기서, 상술한 종방향 냉각라인(144)중 각각의 유입라인 및 각각의 배출라인을 각각 하나의 배관(도면에 미도시)에 연통한다.

그리고, 상술한 차단블럭(150)의 삽입 위치에 따라 유체의 순환라인의 길이의 변경이 가능하다.

그러므로, 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 처리장치의 하부전극 과열을 방지하기 위해 마련되는 냉각판의 냉각라인은 도 4a 및 도 4b에 도시된 바와 같이 횡방향 냉각라인(142)과 그 횡방향 냉각라인(142)과 직교된 다수개의 종방향 냉각라인(144)로 형성된 냉각부마다 각각 개별적으로 유체가 순환할 수 있게 각각의 냉각부가 연통된 횡방향 냉각라인(142)의 도중에 차단블럭(150)을 마련하여 그 차단블럭(150)에 의해 유체의 이동을 차단한다.

이때, 상술한 냉각부중 배출라인의 종방향 냉각라인(144)과 차단블럭(150)이 마련된 횡방향 냉각라인(142)까지의 공간에 차단블럭(150)쪽으로 이동하는 유체가 그 차단블럭(150)에 의해 이동하지 못하고 정체현상이 발생됨으로써, 이를 방지하 기 위하여 상술한 횡방향 냉각라인(142)내에서 노출되는 차단블럭(150)의 하단에 수평방향으로 관통 형성된 다수개의 미세 이동구멍(149)을 통해 유입된 유체의 압력으로 정체되는 유체가 타측 유입부의 종방향 냉각라인(144)으로 이동하여 그 타측 유입부의 종방향 냉각라인(144)에서 유입되는 유체와 함께 배출라인의 종방향 냉각라인(144)으로 배출된다.

그러므로, 상술한 횡방향 냉각라인(142)을 횡방향으로 관통 가공하고 상술한 종방향 냉각라인(144)도 종방향으로 관통 가공하여 그 끝단에 밀폐부재(148)를 결합하여 그 내부를 밀폐하게 되며, 이웃한 2개의 종방향 냉각라인(144)중 어느 한 종방향 냉각라인(144)은 유입라인이 되고 그와 근접한 다른 종방향 냉각라인(144)은 배출라인이 되어 그 한 쌍의 종방향 냉각라인(144)을 연통시키는 횡방향 냉각라인(142)으로 구성된 각각의 유입부 도중에 독립적으로 가동될 수 있게 유체의 유동을 차단하는 차단블럭(150)을 개입시켜 각각 개별적으로 직렬 형성된 냉각부를 통해 유입된 유량 그대로 순환하여 배출되므로 냉각 효율이 상승된다.

< 실시예 2 >

본 발명의 다른 실시예의 플라즈마 처리장치는 도면에는 도시하지 않았지만 일 실시예의 그것과 동일한 공정챔버와, 상기 공정챔버내 상측에 마련되어 기판에 소정 가스를 분사하는 상부전극과, 상술한 상부전극의 대향된 하측에 마련되어 기판이 적재되는 전극부로 이루어진다. 여기서, 상술한 전극부는 최하부에 위치된 베이스 플레이트에 순차적으로 적층된 절연판과, 냉각판과, 하부전극으로 이루어지 며, 상술한 전극부의 외벽과 상부 영역에 플라즈마로부터 보호하는 절연체가 각각 감싸고 있는 구조로 상세한 설명은 생략한다.

상술한 냉각판(240)은 도 5에 도시된 바와 같이 적정 두께를 갖는 판상으로 양측 가장자리부에 횡방향으로 관통하여 형성된 횡방향 냉각라인(242)과, 상술한 횡방향 냉각라인(242)과 직교된 종방향으로 관통하여 형성된 다수개의 종방향 냉각라인(144)이 형성된 냉각부가 형성되며, 상술한 냉각부인 횡, 종방향 냉각라인(242, 244)의 양단에 각각 밀폐부재(248)가 삽입되어 그 내부를 밀폐함과 동시에 기밀을 유지하게 된다.

상술한 냉각부는 2개의 횡방향 냉각라인(242)와 다수개의 종방향 냉각라인(244)으로 형성되며, 상술한 종방향 냉각라인(244)는 그 일단이 유입라인이고 타단은 배출라인으로, 그 냉각부가 일체로 형성될 수 있게 상술한 유입, 배출라인이 되는 종방향 냉각라인(244)과 그 종방향 냉각라인(244)과 직교된 횡방향 냉각라인(242)에서 외측벽으로 직교되게 연통될 수 있도록 상술한 횡방향 냉각라인(242)의 지그재그 위치에 삽입홀(246)이 형성되어 그 삽입홀(246)에 차단블럭(250)이 삽입된다.

즉, 상술한 삽입홈(246)은 2개가 이웃된 종방향 냉각라인(244)을 일측에 형성된 횡방향 냉각라인(242)에 의해 연통시키고 타측에 연통된 횡방향 냉각라인(242)은 차단블럭(250)으로 차단하며, 그 2개의 종방향 냉각라인(244)과 또 다른 2개로 이웃한 종방향 냉각라인(242)은 그 일측에 연통된 횡방향 냉각라인(244)은 차단블럭(250)으로 차단하고 타측에 형성된 횡방향 냉각라인(242)에 의해 연통하므 로 상술한 종방향 냉각라인(244)를 2개씩 이뤄 일측은 연통 타측은 차단, 일측은 차단 타측은 연통 이렇게 반복하면 그 배열이 지그재그 형상으로 형성되게 함으로써, 상술한 횡방향 냉각라인(242)중 차단되는 부분에 삽입홈(246)을 형성하여 그 삽입홈(246)도 서로 대각의 위치에 각각 형성되는 것이다.

그러므로, 상술한 냉각부의 횡방향 냉각라인(242)에 삽입홀(246)을 지그재그의 위치에 형성하여 그 삽입홀(246)에 차단블럭(250)을 삽입함으로써, 그 차단블럭(250)이 삽입된 횡방향 냉각라인(242)는 부분적으로 폐쇄되므로 그 횡방향 냉각라인(242)에는 유체가 통과하지 못하고 그 대향된 횡방향 냉각라인(242)으로 우회하여 통과하는 것이다.

상술한 차단블럭은 도6에 도시된 바와 같이 그 차단블럭(250)의 삽입시 횡방향 냉각라인(242)내에 각각 위치될 수 있도록 다수개의 미세 직경을 갖는 이동구멍(249)이 형성되며, 냉각판(240)의 외측벽에서 횡방향 냉각라인(242)으로 연통되는 삽입홀(246)에 그 차단블럭(250)을 삽입하고 직교된 판상의 고정부재(252)로 냉각판(240)의 외측벽에 볼트로 고정하여 상술한 차단블럭(250)의 이탈을 방지하며, 개구된 삽입홀(246)과 고정부재(252)와의 기밀을 유지할 수 있게 기밀부재(O)가 개재된다.

한편, 상술한 냉각부중 종방향 냉각라인(244)과 교차되는 횡방향 냉각라인(242) 도중에서 적정 간격만큼 이격된 차단블럭(250)과의 공간에는 그 차단블럭(250)에 의해 이동하지 못한 소량의 유체가 정체하게 되며, 이때, 유체의 유입 압력으로 그 차단블럭(250)에 형성된 이동구멍(249)을 통해 상술한 차단블럭(250)의 반대쪽으로 유체를 이동시켜 그 차단블럭(250)의 반대쪽에 근접한 종방향 냉각라인(244)의 순환 유체와 각각 합쳐지게 되며, 배출라인인 종방향 냉각라인(244)으로 배출된다.

여기서, 상술한 종방향 냉각라인(244)중 각각의 유입구 및 배출구에 각각 유입배관 및 배출배관이 구비된다.

그러므로, 본 발명의 다른 실시예에 따른 플라즈마 처리장치의 하부전극 과열을 방지하기 위해 마련되는 냉각판의 냉각부는 도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이 횡방향 냉각라인(242)과 그 횡방향 냉각라인(242)과 직교된 다수개의 종방향 냉각라인(244)으로 이루어지며, 일단에 마련되어 유입라인이 되는 종방향 냉각라인(244)과 타측에 마련된 배출라인이 되는 종방향 냉각라인(244)의 도중은 일체로 형성된 지그재그 형상으로 냉각유체가 냉각판(240)에 형성된 냉각부를 따라 지그재그 방향으로 순환할 수 있게 횡방향 냉각라인(242)의 도중에 차단블럭(250)을 마련하여 그 차단블럭(250)에 의해 유체의 이동을 제한하므로 상술한 횡방향 냉각라인(242)과 종방향 냉각라인(244)의 교차부분에서의 유체 통과시 지그재그 위치에 차단블럭(250)을 마련하여 그 차단블럭(250)의 위치에서 상술한 차단블럭(250)이 존재하지 않는 횡방향 냉각라인(242)로 우회하여 유체가 지그재그 방향으로 이동하게 된다.

이때, 상술한 종방향 냉각라인(244)과 차단블럭(250)이 마련된 횡방향 냉각라인(242)과의 교차된 공간에서는 그 종방향 냉각라인(244) 방향과 차단블럭(250)이 마련된 횡방향 냉각라인(242) 방향으로 유체가 이동하다 상술한 차단블럭(250) 이 마련된 횡방향 냉각라인(242)쪽으로 이동하는 유체는 그 차단블럭(250)에 의해 이동하지 못하고 정체현상이 발생됨으로써, 이를 방지하기 위하여 상술한 횡방향 냉각라인(242)내에서 노출되는 차단블럭(250)의 하단에 수평방향으로 관통 형성된 다수개의 미세 이동구멍(249)을 형성하고, 그 이동구멍(249)를 통해 유입된 유압력으로 정체되는 유체를 타측 종방향 냉각라인(244)으로 이동하여 상술한 차단블럭(250)의 타측에 형성된 종방향 냉각라인(244)으로 유입되는 유체와 함께 종방향 냉각라인(244)으로 배출된다.

그러므로, 상술한 횡방향 냉각라인(242)은 횡방향으로 관통 가공하고, 그와 직교된 다수개의 종방향 냉각라인(244)을 종방향으로 관통 가공하여 일측에 형성된 어느 한 종방향 냉각라인(244)은 유입라인이 되고, 타측에 형성된 다른 종방향 냉각라인(244)은 배출라인이 되어 냉각부가 일체의 지그재그 형상을 갖도록 함으로써, 그 냉각부를 따라 유체를 순환되게 하며, 이때, 상술한 냉각부가 지그재그 형상을 갖을 수 있도록 일측에 형성된 횡방향 냉각라인(242)은 이웃한 2개의 종방향 냉각라인(244)의 사이에 차단블럭(250)을 각각 개입하고, 타측에 형성된 횡방향 냉각라인(242)은 2개씩 이웃한 사이에 차단블럭(250)을 각각 개입하여 지그재그 형상을 갖는 일체형의 냉각부를 통해 상술한 차단블럭(250)이 마련된 횡방향 냉각라인(242)에서는 다른 횡방향 냉각라인(242)를 통해 유체가 우회하여 순환되므로 냉각 효율이 상승된다.

이와 같은 본 발명의 플라즈마 처리장치는, 상술한 냉각판의 양측벽 가장자 리에 형성된 관통식 횡방향 냉각라인과, 상술한 횡방향 냉각라인과 직교된 상태로 다수개 마련된 횡방향 냉각라인중 어느 하나는 유입구이며, 다른 하나는 배출구인 한 쌍씩 분리되도록 연통되는 횡방향 냉각라인 각각에 차단블럭을 삽입하여 독립적인 냉각라인을 다수개 마련하여 유체를 순환시키거나, 상술한 냉각판의 냉각라인을 일체형으로 연통되게 형성하며, 일단은 유입구이고 타단은 배출구로 그 사이에는 지그재그 형상으로 연통될 수 있게 양측에 형성된 횡방향 냉각라인중 이웃한 종방향 냉각라인과 또 다른 이웃한 종방향 냉각라인 사이의 지그재그 위치에 각각에 차단블럭을 삽입하여 직렬식 냉각라인을 순환하는 유체에 의해 냉각 효율이 상승되는 효과가 있다.

Claims (10)

1. 진공 상태의 챔버 내부에 플라즈마를 발생시켜 기판에 소정의 처리를 실시하는 플라즈마 처리장치에 있어서,

   상기 챔버내 하측에 마련되어 기판이 적재되는 하부전극;

   상기 하부전극의 하면에 접한 상태로 마련되며, 상기 하부전극을 냉각시키는 냉각판을 포함하되,

   상기 냉각판에는, 유입구와 배출구가 연통되어 독립적으로 가동되는 냉각부가 다수개 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
2. 제 1항에 있어서, 상기 냉각부는,

   상기 냉각판을 횡방향으로 관통하여 형성된 횡방향 냉각라인;

   상기 횡방향 냉각라인과 직교되도록 상기 냉각판을 종방향으로 관통하여 형성되는 다수개의 종방향 냉각라인;을 포함하되,

   이웃된 2개의 종방향 냉각라인과 그 종방향 냉각라인을 연결하는 횡방향 냉각라인이 하나의 냉각부를 형성하고, 각 냉각부 사이의 횡방향 냉각라인에 차단블럭이 마련되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
3. 제 2항에 있어서, 상기 차단블럭은,

   상기 횡방향 냉각라인에 연통되는 냉각부 사이에 직교되게 삽입홀을 형성하 고 그 삽입홀에 각각 삽입되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
4. 제 3항에 있어서, 상기 차단블럭은,

   판상으로 형성되며, 그 하단에 유체가 이동하는 다수개의 미세 이동구멍이 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
5. 제 4항에 있어서,

   상기 차단블럭과 직교된 상태로 냉각판 외측벽에 고정부재가 마련되며, 그 고정부재와 외부의 기밀을 유지하는 기밀부재가 개재되어 마련되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
6. 진공 상태의 챔버 내부에 플라즈마를 발생시켜 기판에 소정의 처리를 실시하는 플라즈마 처리장치에 있어서,

   상기 챔버내 하측에 마련되어 기판이 적재되는 하부전극;

   상기 하부전극의 하면에 접한 상태로 마련되며, 상기 하부전극을 냉각시키는 냉각판을 포함하되,

   상기 냉각판에는, 유입구와 배출구가 연통되는 일체형의 냉각부가 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
7. 제 6항에 있어서, 상기 냉각부는,

   상기 냉각판의 양측을 횡방향으로 관통하여 형성된 횡방향 냉각라인;

   상기 횡방향 냉각라인과 직교되도록 상기 냉각판을 종방향으로 관통하여 형성되는 다수개의 종방향 냉각라인;을 포함하되,

   상기 종방향 냉각라인중 일단에 형성된 것은 유입구이며, 타단에 형성된 것은 배출구인 일체의 냉각부를 형성하며, 횡방향 냉각라인을 각각 번갈아 가면서 종방향 냉각라인을 연통되게 하는 차단블럭이 마련되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
8. 제 7항에 있어서, 상기 차단블럭은,

   상기 냉각판 양측에 형성된 횡방향 냉각라인을 부분적으로 폐쇄할 수 있도록 그 횡방향 냉각라인에 각각 직교된 삽입홀을 지그재그 위치에 형성시켜 그 삽입홀에 각각 삽입되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
9. 제 8항에 있어서, 상기 차단블럭은,

   판상으로 형성되며, 그 하단에 유체가 이동하는 다수개의 미세 이동구멍이 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
10. 제 9항에 있어서,

    상기 차단블럭과 직교된 상태로 냉각판 외측벽에 고정부재가 마련되며, 그 고정부재와 외부의 기밀을 유지하는 기밀부재가 개재되어 마련되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.

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