KR100699792B1 - Plasma cleaning apparatus of magazine insert type jig structure - Google Patents
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Abstract
Description
도 1의 (a),(b)는 종래 기술에 따른 인쇄회로기판용 플라즈마 세정장치의 예시도,Figure 1 (a), (b) is an illustration of a plasma cleaning apparatus for a printed circuit board according to the prior art,
도 2는 본 발명에 따른 매거진 장입형 지그구조체의 플라즈마 세정장치의 설치상태를 보인 측면도,Figure 2 is a side view showing the installation state of the plasma cleaning apparatus of the magazine charging jig structure according to the present invention,
도 3의 (a),(b)는 본 발명에 따른 챔버의 정면과 측면에서 본 매거진 장입형 지그구조체의 개략도,Figure 3 (a), (b) is a schematic view of a magazine loaded jig structure viewed from the front and side of the chamber according to the present invention,
도 4a~d는 본 발명에 따른 매거진 장입형 지그구조체의 다양한 실시예를 보인 예시도,Figure 4a ~ d is an exemplary view showing various embodiments of the magazine jig structure according to the present invention,
도 5는 본 발명에 따른 챔버에 형성된 가스주입구와 배기포트의 구성을 보인 예시도.Figure 5 is an exemplary view showing the configuration of the gas inlet and exhaust port formed in the chamber according to the present invention.
♧ 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ♧♧ description of the symbols for the main parts of the drawing ♧
100....본체 200....챔버100 .... body 200 .... chamber
210....배기포트 220....접지소켓210 .... Exhaust
230....전극소켓 240....가스주입구230 .... electrode socket 240 .... gas inlet
300....대차 400....매거진 장입형 지그구조체300 .... bogie 400 .... magazine-loading jig structure
420....베이스플레이트 422....파워전극판420 .... base plate 422 .... power electrode plate
424....접지전극판 430....절연가이드424 .... Earth
440....접지플레이트 450....구멍440 .... ground plate 450 .... hole
462....전극봉 464....접지봉462 .... electrode 464 .... ground rod
500....표면실장 전용 매거진500 .... Surface Mount Magazine
본 발명은 표면실장기술의 생산성 향상을 위한 매거진 장입형 지그 구조의 플라즈마 세정장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 와이어본더 혼재 실장 및 플립칩 혼재 실장 등의 표면실장기술에서 품질 및 신뢰성의 향상을 위하여 표면실장소자의 본딩 전공정이나 언더필 도포 전공정에 적용되어 생산성의 향상 및 작업의 편의성에 적당하도록 개선된 매거진 장입형 지그 구조의 플라즈마 세정장치에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma cleaning device having a magazine-type jig structure for improving productivity of surface mount technology, and more particularly, to improve quality and reliability in surface mount technologies such as wire bonder and flip chip hybrid mounting. The present invention relates to a plasma cleaning apparatus of a magazine-loaded jig structure, which is applied to a bonding preprocess of a surface mount device or a prefill process of underfill, to be suitable for improvement of productivity and convenience of operation.
최근 휴대폰, DVD, 디스플레이, 디지털 가전 등 정보전자산업의 급속한 발달로 전자부품의 수요가 급증하고 있어, 신소재 개발 및 개선된 공정에 대한 연구가 끊임없이 수행되고 있다.Recently, due to the rapid development of the information and electronics industry such as mobile phones, DVDs, displays, and digital home appliances, the demand for electronic components is rapidly increasing, and researches on new material development and improved processes are continuously conducted.
특히, 인쇄회로기판의 조립기술은 인쇄회로기판 및 전자부품, 장비의 발달로 삽입실장기술(IMT)에서 표면실장기술(SMT)로 발전해 왔는데, 칩 부품, 플립 칩, 칩스케일패키지(CSP) 등 차세대 패키지 실장과 무연 솔더링 채택이 본격화 되면서 표 면실장기술의 수요가 폭발적으로 늘어나고 있다.In particular, the assembly technology of printed circuit boards has evolved from insertion mounting technology (IMT) to surface mounting technology (SMT) due to the development of printed circuit boards, electronic components, and equipments, chip components, flip chips, chip scale packages (CSP), etc. The demand for surface-mount technology is exploding as next-generation package mounting and lead-free soldering take off.
한편, 생활수준의 향상과 함께 삶의 질을 향상시키려는 인간의 욕구는 경박단소화된 친환경적인 전자부품의 제조공정이라는 숙제를 안겨주고 있다.On the other hand, the human desire to improve the quality of life along with the improvement of living standards has given the homework of the manufacturing process of eco-friendly electronic parts that are light and short.
이에 따라, 인쇄회로기판의 표면실장기술은 패키지의 소형 경량화, 다핀화, 고속화, 고 기능화를 요구하게 되었고, 이러한 요구들을 수용하기 위하여 와이어 본딩(Wire Bonding) 사이즈 감소 및 플립칩(Filp Chip) 본딩 기술이 적용되고 있다.Accordingly, the surface mount technology of the printed circuit board requires a small size, light weight, multi-pin, high speed, and high functionality of the package, and reduces the size of the wire bonding and the flip chip bonding to accommodate these requirements. Technology is being applied.
이러한 제조기술의 발달과 동시에 인쇄회로기판의 표면세정과 표면개질기술(Surface Mount Technology)의 수요가 급증하고 있는데, 이는 표면실장소자(Surface Mount Device)가 결합될 기판표면에 있는 랜드상의 각종 유기물, 산화막, 도전성 부유물, 니켈 등과 같은 이물질제거 및 언더필(Underfill)이 도포될 기판표면의 표면개질은 고밀도의 소형 경량화된 표면실장기술의 고품질, 고 신뢰성의 확보에 중요한 영향을 미치기 때문이다.With the development of this manufacturing technology, the demand for surface cleaning and surface mount technology of printed circuit boards is increasing rapidly. This is because various organic substances on land on the surface of the substrate to which surface mount devices are to be combined, This is because foreign matter removal such as oxide film, conductive float, nickel, and the like, and surface modification of the surface of the substrate on which underfill is to be applied have an important effect on securing high quality and high reliability of high density, compact and lightweight surface mount technology.
인쇄회로기판의 세정 및 표면개질은 최근 환경문제의 대두와 함께 환경친화적이면서 경제적이고 표면세정 및 표면개질능력이 우수하며 고밀도의 소형 경량화에 적합한 플라즈마를 이용한 세정기술이 활성화되고 있다.Cleaning and surface modification of printed circuit boards has recently been made environmentally friendly, economical, and excellent surface cleaning and surface modification ability, and plasma cleaning technology suitable for high-density, small size and light weight with the rise of environmental problems.
일 예로, 도 1의 (a)에서와 같은 플라즈마 세정장치의 경우, 진공 플라즈마 처리를 위한 챔버(1) 내부에 다수의 전극(3)이 마련되어 처리대상물인 인쇄회로기판(4)을 상기 전극(3) 사이에 위치시키고, 진공배기한 후 챔버(1) 내부에 가스를 투입하며, 이어 상기 전극(3) 사이에 전압을 인가하여 플라즈마를 발생시키고, 이 때 발생된 플라즈마를 이용하여 인쇄회로기판(4)의 세정 및 표면개질을 수행하였다.For example, in the case of the plasma cleaning apparatus as shown in FIG. 1A, a plurality of
그런데, 이러한 세정장치는 인쇄회로기판(4) 작업시 수작업을 통해 지그(Jig)에 장입해야 하고, 그 지그를 이용하여 상기 인쇄회로기판(4)을 챔버(1) 내부로 장입하였는데 이때 지그의 개조가 까다로워 다양한 크기의 인쇄회로기판(4)에 적극적으로 대응하기 어렵다는 단점이 있었다.However, such a cleaning device should be loaded into a jig by hand during the operation of the printed circuit board 4, and the printed circuit board 4 is loaded into the
다른 예로, 도 1의 (b)와 같이, 다양한 크기의 인쇄회로기판(4)에 대응하기 위한 랙(rack)(5)을 사용하여 지그의 단점을 보완하도록 하였다. As another example, as shown in (b) of Figure 1, by using a rack (rack) 5 to correspond to the printed circuit board 4 of various sizes to compensate for the disadvantages of the jig.
이 경우, 인쇄회로기판(4)의 크기에 상관없이 인쇄회로기판(4)을 거치시키고 플라즈마 챔버(1)에 장입하여 처리가능하다는 장점은 있었으나 표면실장공정에서 사용되는 전용 매거진에서 인쇄회로기판(4)들을 일일이 수작업으로 꺼내어 랙(5)에 거치(지그의 경우도 동일)시킨 후 플라즈마 세정 및 표면개질과정을 수행하며, 플라즈마 처리후 다시 수작업을 통해 전용 매거진에 장입하여 후공정인 리플로우(Reflow) 공정이나 언더필(Underfill) 도포과정에 투입되어야 하므로 시간, 인력, 경제적 낭비의 문제점은 여전히 존재하였다.In this case, regardless of the size of the printed circuit board 4, the printed circuit board (4) is mounted and placed in the
본 발명은 상술한 바와 같은 종래기술이 갖는 제반 문제점을 감안하여 이를 해결하고자 창출한 것으로, 표면실장공정의 특성을 충분히 감안하여 표면실장공정 전용 매거진에서 수작업을 통한 인쇄회로기판의 인출입 과정을 생략함으로써 이 과정에서 발생하는 사람에 의한 불량요소를 제거하고 작업의 편의성과 효율성, 생산 성 향상을 획기적으로 도모함은 물론, 표면실장공정 전용 매거진을 그대로 적용함으로써 다양한 크기의 인쇄회로기판에 적극적으로 대응하고, 그 표면처리품위도 높일 수 있도록 발명된 매거진 장입형 지그 구조의 플라즈마 세정장치를 제공함에 그 주된 목적이 있다.The present invention has been created in view of the above-described problems of the prior art, and solved this problem. In consideration of the characteristics of the surface mounting process, the drawing process of the printed circuit board through manual operation is omitted in the magazine for surface mounting process. By eliminating defects caused by humans in this process, greatly improving the convenience, efficiency and productivity of the work, and actively applying magazines for surface-mounting processes, we actively respond to printed circuit boards of various sizes. In addition, the main object of the present invention is to provide a plasma cleaning apparatus of a magazine-loaded jig structure, which is invented to enhance the surface treatment quality.
본 발명은 상기한 기술적 과제를 달성하기 위하여, 시스템 본체에 내장되고, 진공 배기용 배기포트와 가스주입구 및 외부 전원공급원과 연결된 접지소켓과 전극소켓을 구비한 챔버와; 하단면에 캐스터가 고정되어 이동가능한 사각틀 형상의 대차와; 상기 대차의 상면 및 상기 챔버의 바닥면에 배설된 가이드레일을 따라 슬라이딩되며, 상기 접지 및 전극소켓에 대응접속되는 접지 및 전극블럭을 갖는 베이스플레이트와; 상기 베이스플레이트의 상단에 그와 수평하게 접촉되고 절연된 플로팅플레이트와; 상기 베이스플레이트의 상단면에 상기 플로팅플레이트를 사이에 두고 수직하게 고정된 파워전극판과; 상기 베이스플레이트의 상단면에 그와 전기적으로 절연되며 상기 파워전극판과 간격을 두고 평행하게 설치되어 방전갭을 이루는 접지전극판과; 인쇄회로기판의 크기에 관계없이 다량 수납가능한 매거진 형태를 가지며, 상기 플로팅플레이트의 상면에 거치되는 표면실장 전용 매거진을 포함하여 구성되는 매거진 장입형 지그 구조의 플라즈마 세정장치를 제공함에 그 기술적 특징이 있다.In order to achieve the above technical problem, the present invention includes a chamber having a grounding socket and an electrode socket embedded in a system main body and connected to an exhaust port for exhausting gas, a gas inlet, and an external power supply; A bogie having a rectangular frame shape with a caster fixed to the bottom surface; A base plate sliding along a guide rail disposed on an upper surface of the bogie and a bottom of the chamber and having a ground and an electrode block connected to the ground and the electrode socket; A floating plate in contact with and insulated from an upper end of the base plate; A power electrode plate vertically fixed to the upper surface of the base plate with the floating plate therebetween; A ground electrode plate electrically insulated from the top surface of the base plate and disposed in parallel with the power electrode plate to form a discharge gap; Regardless of the size of the printed circuit board has a magazine form that can be stored in a large amount, there is a technical feature to provide a plasma cleaning device of the magazine-loaded jig structure comprising a surface-mounted magazine mounted on the upper surface of the floating plate. .
이때, 상기 파워전극판은 상기 챔버의 좌,우측 벽면쪽에 배치되고, 상기 접지전극판은 상기 챔버의 내측에 배치되는 것에도 특징이 있다.In this case, the power electrode plate is disposed on the left and right side wall of the chamber, the ground electrode plate is characterized in that it is disposed inside the chamber.
또한, 상기 접지소켓 및 전극소켓에 공급되는 외부 전원공급원은 1 KHz ~ 90 MHz 주파수범위의 사인파 혹은 펄스파워인 것에도 그 특징이 있다.In addition, the external power supply to the ground and electrode socket is characterized in that the sine wave or pulse power in the frequency range of 1 KHz ~ 90 MHz.
뿐만 아니라, 상기 파워전극판과 접지전극판 사이의 방전갭은 상기 파워전극판의 위치를 조절하여 가변가능하도록 구성된 것에도 그 특징이 있다.In addition, the discharge gap between the power electrode plate and the ground electrode plate is characterized in that it is configured to be variable by adjusting the position of the power electrode plate.
나아가, 상기 파워전극판, 접지전극판, 베이스플레이트, 플로팅플레이트는 프레임, 막대, 바, 봉 형상 중에서 선택된 어느 하나의 형태로 이루어진 것에도 그 특징이 있다.Furthermore, the power electrode plate, the ground electrode plate, the base plate, and the floating plate is also characterized in that it is made of any one form selected from the shape of a frame, bar, bar, rod.
또한, 상기 파워전극판, 접지전극판 및 표면실장 전용 매거진은 한 조를 이루어 횡방향으로 다중설치되는 것에도 그 특징이 있다.In addition, the power electrode plate, the ground electrode plate and the surface-mounting magazine is characterized in that it is installed in multiple sets in the transverse direction.
아울러, 상기 파워전극판, 접지전극판 및 표면실장 전용 매거진으로 이루어진 하나의 조 사이에는 쉴드플레이트가 개재된 것에도 그 특징이 있다.In addition, the shield plate is interposed between a pair of the power electrode plate, the ground electrode plate and a surface mount magazine.
나아가, 상기 파워전극판, 접지전극판 및 표면실장 전용 매거진은 한 조를 이루어 종방향으로 이중설치되는 것에도 그 특징이 있으며, 상기 파워전극판, 접지전극판 및 표면실장 전용 매거진은 한조를 이루어 종방향으로는 이중설치됨과 동시에 횡방향으로는 다중설치되는 것에도 그 특징이 있다.Furthermore, the power electrode plate, the ground electrode plate and the surface mount magazine are formed in a pair, and are also characterized in that they are dually installed in the longitudinal direction, and the power electrode plate, the ground electrode plate and the surface mount magazine are formed in a pair. It is also characterized by being installed in a double direction in the longitudinal direction and in a multiple installation in the transverse direction.
그리고, 상기 파워전극판, 접지전극판 및 표면실장 전용 매거진이 한 조를 이룰 때 한쪽의 접지전극판을 제거하고, 제거된 접지전극판과 반대쪽의 파워전극판을 이동시켜 배열한 것에도 그 특징이 있으며, 상기 파워전극판, 접지전극판 및 표면실장 전용 매거진이 한 조를 이룰 때 플라즈마 발생을 위한 두쌍의 파워전극판과 접지전극판중 한쌍을 제거하고 파워전극판과 접지전극판의 간격을 넓게 형성한 것 에도 그 기술적 특징이 있다.In addition, when the power electrode plate, the ground electrode plate and the surface mount magazine form a pair, one of the ground electrode plates is removed, and the removed ground electrode plate and the opposite power electrode plate are arranged to be moved. When the power electrode plate, the ground electrode plate, and the surface mount magazine form a pair, two pairs of the power electrode plate and the ground electrode plate for plasma generation are removed, and the gap between the power electrode plate and the ground electrode plate is removed. The wide formation also has its technical characteristics.
덧붙여, 상기 챔버의 좌,우측에 설치된 가스주입구와 배기포트를 서로 교번 동작시키도록 구성한 것에도 그 특징이 있으며, 상기 파워전극판 및 접지전극판에는 구멍이 천공형성된 것에도 그 기술적 특징이 있다.In addition, the gas inlet and the exhaust port provided on the left and right sides of the chamber are configured to operate alternately with each other, and the power electrode plate and the ground electrode plate has a technical feature in that the hole is formed perforated.
이하에서는, 첨부도면을 참고하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment according to the present invention.
도 2는 본 발명에 따른 매거진 장입형 지그 구조의 플라즈마 세정장치의 설치상태를 보인 측면도이다.Figure 2 is a side view showing the installation state of the plasma cleaning apparatus of the magazine charging jig structure according to the present invention.
도 2에 도시된 바와 같이, 시스템 본체(100)의 적소에는 플라즈마 처리실인 챔버(200)가 구비되고, 상기 챔버(200)의 좌,우측 벽면에는 챔버(200) 내부를 진공처리하거나 혹은 배기시키기 위한 배기포트(210)가 각각 설치된다.As shown in FIG. 2, the
또한, 상기 챔버(200)의 후벽면에는 외부의 전원공급원과 연결된 소켓(220,230)이 설치된다.In addition, the rear wall of the
그리고, 상기 챔버(200)의 전방에는 대차(300)에 의해 이동가능한 매거진 장입형 지그구조체(400)가 구비된다.In addition, the front of the
이러한 대차형 구조는 본 출원인에 의해 선출원되고 선등록된 실용신안등록 제384218호(2005.5.4) "플라즈마를 이용한 피씨비 수평세정창치" 에 개시된 것과 동일/유사하다.This bogie structure is the same / similar to that disclosed in Utility Model Registration No. 384218 (2005.5.4) “PCB Horizontal Wash Window Using Plasma”, filed and filed by the applicant.
따라서, 대차형 구조를 위한 구성요소, 이를테면 가이드레일(410), 가이드롤(412), 전극블럭(414), 접지블럭(416), 스토퍼(418) 등에 대한 구체적인 설명은 여 기에서 생략하기로 한다.Therefore, a detailed description of the components for the bogie-type structure, such as the
도 3의 (a)와 (b)는 각각 본 발명에 따른 챔버의 정면과 측면에서 본 매거진 장입형 지그구조체의 개략도이다. 3 (a) and 3 (b) are schematic views of a magazine-loaded jig structure viewed from the front and side of the chamber according to the present invention, respectively.
도 3의 (a),(b)에 도시된 바와 같이, 외부 전원공급원과 연결된 전극소켓(230)에 접촉되는 전극블럭(414)과, 가이드레일(410)을 따라 이동하는 가이드롤(412)이 부착된 베이스플레이트(420)가 구비되고; 상기 베이스플레이트(420)의 상면에는 표면실장 전용 매거진(500)을 전원으로부터 전기적으로 독립시키기 위한 적절한 크기의 플로팅플레이트(510)가 설치된다.As shown in (a) and (b) of FIG. 3, an
이때, 상기 플로팅플레이트(510)의 재질은 일반적으로 절연체인 것이 바람직하나 도전성 표면실장 전용매거진을 사용하여 바이어스전원 공급과 같은 특수한 처리를 목적으로 하는 경우 도전체도 적용가능하다.In this case, the material of the floating
아울러, 상기 외부 전원공급원으로는 일반적으로 인쇄회로기판의 플라즈마 처리에 이용되는 40 KHz 의 LF(Low Frequency)Power와 13.56 MHz 의 RF(Radio Frequency)Power가 적용되나 본 시스템의 경우 1 KHz ~ 90 MHz 주파수 범위의 사인파 혹은 펄스파워의 적용이 가능하다.In addition, as the external power supply, 40 KHz low frequency (LF) power and 13.56 MHz RF (Radio Frequency) power, which are generally used for plasma processing of a printed circuit board, are applied, but in this system, 1 KHz to 90 MHz It is possible to apply sine wave or pulse power in the frequency range.
한편, 상기 베이스플레이트(420)의 상단면에는 플라즈마 형성을 위한 파워전극판(422)과 접지전극판(424)이 수직하게 설치되며, 이때 상기 파워전극판(422)과 접지전극판(424)은 서로 적절한 거리를 두고 평형하게 배치되어 방전갭(G)을 형성하며, 또한 플라즈마 발생을 위해 쌍을 이룬 전극구조를 갖는다.On the other hand, a
이러한 전극구조는 상기 베이스플레이트(420)의 좌,우 측면에 구성되어 도 2 및 도 4a,b,d에 도시된 표면실장 전용 매거진(500)이 장입될 공간을 형성하게 된다.The electrode structure is formed on the left and right sides of the
이때, 상기 파워전극판(422)은 베이스플레이트(420)와 전기적으로 연결되어 있으며, 상기 접지전극판(424)은 절연가이드(430)에 의해 베이스플레이트(420)와 전기적으로 차단된다.In this case, the
또한, 좌, 우측의 접지전극판(424)은 접지블럭(416)이 형성된 상부의 접지플레이트(440)에 전기적, 기계적으로 연결되어 외부 전원공급원과 연결된 접지소켓(220)과 접촉하게 된다.In addition, the left and right
여기에서, 상기 방전갭(G)은 상기 파워전극판(422)과 접지전극판(424)의 거리에 의해 구성되며 적절한 처리효과를 위하여 갭 간격이 가변될 수 있음은 당연하다.Here, the discharge gap (G) is configured by the distance between the
이때, 상기 갭 간격의 조절은 상기 파워전극판(422)의 위치를 조절하여 가변가능하며, 수~수십mm 범위내에서 가변하는 것이 바람직하다.At this time, the gap spacing is variable by adjusting the position of the
또한, 상기 파워전극판(422)과 접지전극판(424)의 배치는 챔버(200)의 좌,우측 벽면 쪽으로 파워전극판(422)을 위치시키고 내측으로 접지전극판(424)을 위치시키도록 하여 원하지 않는 전자의 작용을 억제시켜 고품위 처리가 가능하도록 함이 특히 바람직하다.In addition, the arrangement of the
뿐만 아니라, 상기 파워전극판(422)과 접지전극판(424)에는 방전가스 및 이온 등의 라디칼의 유동이 용이하도록 다수의 구멍(450)을 천공하여 형성함이 바람직하다.In addition, the
이러한 매거진 장입형 지그구조체(400)는 작업의 효율성 및 생산성을 보다 향상시키기 위해 다양한 응용이 가능하다.The magazine charged
예컨대, 도 4a,b,c,d는 이러한 매거진 장입형 지그구조체(400)의 다양한 실시 예를 보여준다.For example, Figures 4a, b, c, d shows various embodiments of such a magazine-
이 중 도 4a는 본 발명에 따른 매거진 장입형 지그구조체(400) 두 개를 횡방향으로 이중 설치한 예를 보여 주며, 도 4b는 종방향으로 이중 설치한 예를 보여 준다.4A shows an example in which two magazine-loaded
이때, 횡방향 설치의 경우 각 지그구조체(400)에서 발생하는 플라즈마의 상호교란을 방지하기 위하여 접지전극판(424)의 외측에 구비된 파워전극판(422)들 사이에 쉴드플레이트(P)를 설치함이 바람직하다.At this time, the shield plate (P) between the
아울러, 도 4a와 도 4b를 혼합한 형태의 실시도 가능할 것이며, 뿐만 아니라 매거진 장입형 지그구조체(400)에서 플라즈마 발생을 위한 두 쌍의 파워전극판(422)과 접지전극판(424)중 한쌍을 제거하고 파워전극판(422)과 접지전극판(424)의 간격을 충분히 증가시키거나 아니면 한쪽의 접지전극판(424)을 제거하고 제거된 접지전극판(424)과 반대쪽의 파워전극판(422)을 이동시켜 도 4c와 같은 형태로도 적용 가능하다.4A and 4B may also be implemented, as well as a pair of two pairs of
여기에서, 상기 파워전극판(422)과 접지전극판(424)은 반드시 구멍(450)이 천공된 판상의 도전성 부재로 국한되는 것은 아니고, 동일한 기능을 수행할 수 있는 프레임(틀)형상이나 바(막대), 또는 도 4d와 같이 전극봉(462), 접지봉(464)의 형상이어도 무방하다.Herein, the
아울러, 도 5는 본 발명에 따른 챔버에 형성된 가스주입구와 배기포트의 구 성을 나타낸 개략도이다.In addition, Figure 5 is a schematic diagram showing the configuration of the gas inlet and exhaust port formed in the chamber according to the present invention.
도 5에 도시된 바와 같이, 배기포트(210)는 챔버(200)의 좌,우측 벽면의 중앙부에 위치되며, 가스주입구(240)는 챔버(200) 좌,우측 벽면에 평행하게 구성된다.As shown in FIG. 5, the
또한, 좌,우측에 구성된 가스주입구(240) 및 배기포트(210)는 플라즈마 세정 및 표면개질 작업 수행시 발생된 이온 및 각종 라디칼을 효과적으로 인쇄회로기판에 유입되어 균일성 및 품질의 향상을 위하여 서로 교번 되며 동작하도록 제어함이 바람직하다.In addition, the
즉, 우측의 가스주입구(240)를 통하여 방전가스 주입시에는 좌측의 배기포트(210)로 배기가 이루어지면서 자연스럽게 입자의 이동이 우측에서 좌측으로 이동하도록 하며 적정시간(수~수십초) 이후 가역적으로 작동되도록 할 수 있다.That is, when the discharge gas is injected through the
이러한 구성으로 이루어진 본 발명의 작동관계는 다음과 같다.The operating relationship of the present invention made of such a configuration is as follows.
표면실장 공정에서 리플로우 공정이나 언더필 도포공정 이전에 인쇄회로기판이 장입되어진 표면실장 전용 매거진(500)을 그대로 지그의 플로팅플레이트(510)위에 거치시키고, 대차(300)를 이용하여 챔버(200) 내부로 장착한다.In the surface mounting process, the
이어, 진공 및 반응가스 공급을 마친 후 전원을 인가하게 되면 전극소켓(230)과 접지소켓(220)을 통하여 파워전극판(422)과 접지전극판(424)에 전원이 인가된다.Subsequently, when power is applied after the vacuum and the reaction gas are supplied, power is applied to the
이때, 베이스플레이트(420)와 접지플레이트(440)도 전원이 공급되지만 구조적으로 플라즈마의 형성이 용이한 거리에 있는 파워전극판(422)과 접지전극판(424) 사이의 방전갭(G)에 플라즈마를 형성시켜 에너지 효율을 높이게 된다.At this time, the
상기 방전갭(G)에 집중적으로 형성된 플라즈마는 전자, 이온 및 각종 라디칼을 생성시키고 교번 동작되도록 제어되는 가스주입구(240)와 배기포트(210)의 작용으로 상기 입자들은 가스입자와 함께 매거진 쪽으로 유도되어 세정 및 표면개질이 수행된다.Plasma that is concentrated in the discharge gap G generates electrons, ions and various radicals, and the particles are guided to the magazine together with the gas particles by the action of the
이 과정에서, 내측에 설치된 접지전극판(424)은 전자를 유입하여 원하지 않는 전자의 작용을 억제한다.In this process, the
플라즈마 처리가 완료되면 매거진 장입형 지그구조체(400)를 챔버(200)에서 꺼내어 매거진 그대로 후속공정인 리플로우 공정이나 언더필 도포공정에 투입하고 대기중인 또다른 매거진을 동일한 방식으로 처리함으로써 획기적인 생산성의 향상 및 작업의 편의성을 가능하게 한다.When the plasma treatment is completed, the magazine charging
이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명은 표면실장 전용 매거진에서 별도의 수작업에 의한 인쇄회로기판의 인출입없이 표면실장 전용 매거진을 그대로 적용할 수 있는 구조를 갖추고 있어 인쇄회로기판의 크기에 무관하게 적용가능하다.As described in detail above, the present invention has a structure that can be applied to the surface-mounted magazine as it is without the withdrawal of the printed circuit board by a separate manual in the surface-mounted magazine only applied regardless of the size of the printed circuit board It is possible.
또한, 인쇄회로기판을 인출입하는 수작업의 생략으로 수작업 과정에서 발생하는 사람에 의한 불량을 제거하여 최종 제품의 고신뢰성을 확보할 수 있다.In addition, it is possible to secure high reliability of the final product by eliminating the defect caused by the human hand by eliminating the manual operation of drawing out the printed circuit board.
뿐만 아니라, 고품위의 표면세정 및 표면개질을 수행하면서도 매우 효율적이고, 작업이 간단 용이할 뿐만 아니라 획기적인 생산성의 향상이 가능하다.In addition, while performing a high-quality surface cleaning and surface modification, it is very efficient, simple and easy to work, it is possible to improve the productivity dramatically.
Claims (13)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050130415A KR100699792B1 (en) | 2005-12-27 | 2005-12-27 | Plasma cleaning apparatus of magazine insert type jig structure |
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KR1020050130415A KR100699792B1 (en) | 2005-12-27 | 2005-12-27 | Plasma cleaning apparatus of magazine insert type jig structure |
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Family
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KR (1) | KR100699792B1 (en) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR101949306B1 (en) * | 2017-11-21 | 2019-02-18 | 주식회사제4기한국 | Electrode assembly for plasma cleaning |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100267617B1 (en) | 1993-04-23 | 2000-10-16 | 히가시 데쓰로 | Vacuum process apparatus and vacuum processing method |
-
2005
- 2005-12-27 KR KR1020050130415A patent/KR100699792B1/en active IP Right Grant
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