KR100687952B1 - Continuous furnace having traveling gas barrier and product carrier assembly for use with the same - Google Patents
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Abstract
연속 푸셔 노(10)는 이동식 가스 배리어를 형성하는 제품 캐리어 조립체(36)를 포함한다. 제품 캐리어 조립체(36)는 제품을 수용하도록 배열된 푸셔 판(38)과 푸셔 판으로부터 상류로 연장하는 가스 배리어(46)를 포함한다. 연결 복도는 가스 유동과 반대 방향으로 연결 복도를 통한 가스 확산 속도를 충분히 극복하도록 연결 복도(22)를 통해 가스 유동 속도를 증가시키도록 선택된 채, 가스 배리어의 주변부는 간극 갭(54)을 갖는 노 내의 가열 챔버 사이의 연결 복도(22) 내에 고정되도록 크기가 정해지고 형성된다. 이러한 방식으로, 가스는 상류의 가열 챔버 내로 확산할 수 없다. 본 발명의 또다른 실시예에서, 배출구(60)는 노의 상류 및 하류 가열 챔버로부터 가스를 배출하도록 연결 복도 또는 챔버 내에 제공될 수도 있다.The continuous pusher furnace 10 includes a product carrier assembly 36 that forms a movable gas barrier. The product carrier assembly 36 includes a pusher plate 38 arranged to receive a product and a gas barrier 46 extending upstream from the pusher plate. The connecting corridor is selected to increase the gas flow rate through the connecting corridor 22 to sufficiently overcome the gas diffusion rate through the connecting corridor in the direction opposite to the gas flow, while the periphery of the gas barrier has a furnace having a gap gap 54. It is sized and shaped to be secured in the connecting corridor 22 between the heating chambers within. In this way, gas cannot diffuse into the upstream heating chamber. In another embodiment of the present invention, the outlet 60 may be provided in a connecting corridor or chamber to exhaust gas from the heating chamber upstream and downstream of the furnace.
Description
연속 노는 전자 부품의 제조와 같은 다양한 분야에 사용된다. 이러한 노는 일련의 열 또는 가열 챔버를 가지며, 각각의 챔버 내부에 있는 대기의 온도와 조성이 조절된다. 제품은 소정의 열적 및 대기 프로파일을 얻도록 소정의 속도로 각각의 챔버를 통해 연속적으로 전진된다.Continuous furnaces are used in various fields such as the manufacture of electronic components. These furnaces have a series of heat or heating chambers and the temperature and composition of the atmosphere inside each chamber are controlled. The product is continuously advanced through each chamber at a predetermined rate to achieve a desired thermal and atmospheric profile.
제품은 연속 노를 통해 다양한 방식으로 전진되는데, 예를 들어, 일종의 연속 노에서는 제품이 금속 메쉬 벨트 상에 놓이며, 그 벨트에 의해 노를 통과하도록 제품이 밀리게 된다. 또 다른 형태인 연속 푸셔 노에서는 제품이 판 또는 캐리어 또는 보트(boat) 상에 놓여서 제품이 노의 입구 쪽으로 밀리게 된다. 각각의 후속 판은 그 앞으로 판을 밀게 된다. 일직선의 접촉 판들은 일직선 상의 최후미 판이 밀림으로써 전진된다.The product is advanced in various ways through a continuous furnace, for example, in a continuous furnace of some kind, the product is placed on a metal mesh belt and the product is pushed through the furnace by the belt. In another form of continuous pusher furnace, the product is placed on a plate or carrier or boat so that the product is pushed towards the entrance of the furnace. Each subsequent plate pushes it forward. The straight contact plates are advanced by pushing the rearmost plates in a straight line.
종종, 분리되어 유지되어야 하는 상이한 대기에서 연속 노 내에 두 개의 챔버를 작동시키는 것이 바람직하다. 일반적으로, 챔버는 터널 또는 연결 복도(vestibule)만큼 이격된다. 입구의 도어와 챔버의 출구는 챔버 내의 대기를 유지하기 위해 제공된다. 그러나, 이러한 도어는 고가이며 복잡하다. 연속 푸셔 노 내의 도어를 닫기 위해, 접촉 라인 내의 제품 캐리어는, 예를 들어, 이동 라인에서 제거하여 정화 챔버 또는 노의 부분 내로 이동시키도록 라인의 선단에 90°로 캐리어를 밀어서 분리시켜야 한다. 도어는 고립된 캐리어 뒤에서 닫히고 챔버는 정화된다. 캐리어는 제 1 라인으로부터 파생된 라인을 따라 또다른 푸셔에 의해 다음 챔버로 전진된다. 이러한 과정은 각각의 캐리어에 대해 반복되어야 한다. 이것은 부가적인 노의 길이, 비용, 및 다중 푸셔를 요구한다.Often, it is desirable to operate the two chambers in a continuous furnace in different atmospheres that must be kept separate. In general, the chambers are spaced apart by tunnels or connecting vestibules. The door of the inlet and the outlet of the chamber are provided to maintain the atmosphere in the chamber. However, such doors are expensive and complicated. In order to close the door in the continuous pusher furnace, the product carrier in the contact line must be separated by pushing the carrier 90 ° to the tip of the line, for example, to remove it from the moving line and move it into the purge chamber or part of the furnace. The door closes behind the isolated carrier and the chamber is purged. The carrier is advanced to the next chamber by another pusher along a line derived from the first line. This process must be repeated for each carrier. This requires additional furnace length, cost, and multiple pushers.
본 발명에서, 연속 푸셔 노는 노 챔버 사이로 가스의 이동을 개시하는 배리어를 형성하도록 이동식 가스 배리어를 형성한다. 노의 작동 중에, 가스는 하나의 가열 챔버, 상류 챔버로부터 인접한 가열 챔버, 하류 챔버로 유동한다. 동시에, 가스는 하류 가열 챔버로부터 상류 가열 챔버로 가스 유동에 대향해서 확산하려고 한다. 확산 속도의 크기는 가스의 유동 속도보다 클 수 있으며, 각각의 경우에 상류 챔버 내의 대기의 조성은 확산 가스가 상류 챔버로 유입됨에 따라 변화될 수 있다. 본 발명에서, 하류 챔버로부터 상류 챔버로의 가스의 확산은 노 내에서 제품과 함께 이동하는 가스 배리어를 형성하는 제품 캐리어 조립체에 의해 방지된다. 가스 배리어는 확산을 극복하기에 충분한 하류의 가스 속도를 보장한다.In the present invention, the continuous pusher furnace forms a movable gas barrier to form a barrier that initiates the movement of gas between furnace chambers. During operation of the furnace, gas flows from one heating chamber, the upstream chamber to the adjacent heating chamber, the downstream chamber. At the same time, the gas attempts to diffuse against the gas flow from the downstream heating chamber to the upstream heating chamber. The magnitude of the diffusion rate can be greater than the flow rate of the gas, and in each case the composition of the atmosphere in the upstream chamber can change as the diffusion gas enters the upstream chamber. In the present invention, the diffusion of gas from the downstream chamber to the upstream chamber is prevented by the product carrier assembly forming a gas barrier that moves with the product in the furnace. The gas barrier ensures sufficient gas velocity downstream to overcome diffusion.
보다 구체적으로, 연속 푸셔 노는 하나 이상의 가열 챔버와 일반적으로 복수의 가열 챔버를 갖는다. 연결 복도(vestibule)는 가열 챔버를 상호 연결시킨다. 일반적으로 입구 및 출구 연결 복도가 또한 제공된다. 처리 챔버로부터 입구 및 출구 연결 복도를 통한 외측으로의 가스 억제는 챔버 대 챔버의 분리와 동일한 방식으로 작동한다.More specifically, the continuous pusher furnace has one or more heating chambers and generally a plurality of heating chambers. A connecting vestibule interconnects the heating chambers. Inlet and outlet connecting corridors are also generally provided. Gas suppression from the processing chamber to the outside through the inlet and outlet connecting corridors works in the same way as the chamber to chamber separation.
각각의 제품 캐리어 조립체는 상기 제품 캐리어 조립체 상에 배열된 제품을 수용하도록 배열된 푸셔 판과 푸셔 판으로부터 상류로 연장하는 가스 배리어를 포함한다. 가스 배리어는 가스 유동과 반대 방향인 연결 복도를 통한 가스 확산 속도를 충분히 극복하도록 연결 복도를 통한 가스 유동 속도를 증가시키는 주변부와 연결 복도 벽 사이의 간극 갭이 형성된 상태에서 연결 복도 내에 고정되도록 크기가 정해지고 형성된 주변부를 갖는다. 본 발명의 이동식 가스 배리어는 상류 챔버 내부로의 가스의 확산을 방지한다. 이동식 가스 배리어는 노의 가열 챔버가 단일 라인을 따라 정렬되도록 허용하여, 노의 크기를 최소화시킨다. 복잡한 도어와 복수의 푸셔의 필요성이 제거되고, 제품은 노를 통해서 보다 신속하고 효과적으로 이동될 수 있다.Each product carrier assembly includes a pusher plate arranged to receive a product arranged on the product carrier assembly and a gas barrier extending upstream from the pusher plate. The gas barrier is sized to fit within the connecting corridor with a gap gap between the periphery and the connecting corridor wall, which increases the gas flow rate through the connecting corridor to sufficiently overcome the rate of gas diffusion through the connecting corridor opposite the gas flow. It has a defined and formed periphery. The movable gas barrier of the present invention prevents the diffusion of gas into the upstream chamber. The movable gas barrier allows the furnace's heating chambers to be aligned along a single line, minimizing the size of the furnace. The need for complicated doors and multiple pushers is eliminated, and products can be moved more quickly and effectively through the furnace.
본 발명의 또다른 실시예에서, 가스를 상류 챔버 및 하류 챔버로부터 노 외부로 배출하기 위해 하나 이상의 배출구가 부가적으로 연결 복도 또는 챔버 내에 제공된다. 연결 복도의 길이는 가스가 배출구를 통해 배출되기에 충분한 기회를 허용하도록 선택된다.In another embodiment of the present invention, one or more outlets are additionally provided in the connecting corridor or chamber for discharging gas from the upstream chamber and the downstream chamber out of the furnace. The length of the connecting corridor is chosen to allow sufficient opportunity for gas to be discharged through the outlet.
본 발명은 첨부 도면과 함께 다음의 상세한 설명으로부터 보다 완전히 이해될 수 있다.The invention can be more fully understood from the following detailed description taken in conjunction with the accompanying drawings.
도 1은 노의 길이 하부로 절반을 도시한 본 발명에 따른 가스 배리어 푸셔 판을 갖는 연속 푸셔 노의 횡단면도이며,1 is a cross-sectional view of a continuous pusher furnace with a gas barrier pusher plate according to the invention showing half below the length of the furnace,
도 2는 도 1의 선 Ⅱ-Ⅱ를 따른 횡단면도이며,FIG. 2 is a cross-sectional view along the line II-II of FIG. 1,
도 3은 도 1의 선 Ⅲ-Ⅲ을 따른 횡단면도이며, 3 is a cross-sectional view along the line III-III of FIG. 1,
도 4는 본 발명에 따른 일렬의 가스 배리어 푸셔 판의 등각도이며,4 is an isometric view of a row of gas barrier pusher plates according to the present invention,
도 5는 본 발명에 따른 제품을 갖는 가스 배리어 푸셔 판의 등각도이며,5 is an isometric view of a gas barrier pusher plate with a product according to the invention,
도 6은 세라믹 캐패시터의 가열에 대한 프로세스 프로파일을 도시한다.6 shows a process profile for heating of a ceramic capacitor.
도 1 내지 도 5는 입구(12), 복수의 열 또는 가열 챔버(14, 16, 18), 및 출구(20)를 갖는 본 발명의 연속 푸셔 노(10)를 도시한다. 연결 복도(22, 24) 또는 터널은 가열 챔버(14, 16, 18)를 상호 연결시킨다. 입구 연결 복도(26)는 입구(12)와 제 1 가열 챔버(14) 사이에 제공되고, 출구 연결 복도(28)는 마지막 가열 챔버(18)와 출구(20) 사이에 제공된다. 세 개의 가열 챔버가 도시되지만, 하나 또는 소정 수의 가열 챔버가 적용분야에 따라 제공될 수도 있다. 연결 복도(22, 24, 26, 28)의 단면은 도 2 및 도 3에 가장 잘 도시된 것처럼, 가열 챔버(14, 16, 18)의 단면과 동일하거나 이보다 작다. 일련의 노바닥 판(32)으로부터 형성된 노바닥 표면(30)은 입구(12)로부터 출구(20)까지 노의 길이를 연장시킨다. 제품 캐리어 조립체(36) 상에 놓인 제품(34)은 노바닥 표면(30)을 따라 입구(12)로부터 출구(20)까지 가열 챔버(14, 16, 18)를 통해 당겨진다. 각각의 가열 챔버는 소정의 대기 조성에서 소정의 온도로 제품을 가열하는 본 발명의 기술 분야에서 공지된 방법으로 작동한다.1-5 show a
각각의 캐리어 조립체(36)는 노바닥 표면(30) 상으로 미끄러지는 가스 배리어(46)와 푸셔 판(38)을 포함한다. 제품(34)은 푸셔 판의 평탄면(40) 상에 놓인다. 푸셔 판은 일반적으로 정사각형 또는 장방형이다. 상기 판은 일반적으로 제품 이동 방향과 직면하는 정면(front) 또는 선두(leading) 에지(42)와 푸셔 또는 연속 푸셔 판에 의해 접촉되는 후미(rear) 또는 말미(trailing) 에지(44)를 갖는다. 가스 배리어(46)는 푸셔 판(38)으로부터 상부로 연장한다. 가스 배리어(46)는 제품 이동 방향에 가로지르는 면으로 연장하는 벽으로서 형성된다. 바람직하게, 가스 배리어는 푸셔 판의 말미 에지(44)에 또는 근처에 위치된다. 제품을 유지하기 위해 푸셔 판 상에 충분한 면적이 제공되는 한, 가스 배리어는 다른 위치로부터 상류로 연장할 수도 있다. 예를 들어, 가스 배리어는 선두 에지(42)에서 또는 근처로부터 상류로 연장할 수도 있다. 또다른 구성에서, 가스 배리어는 중앙 위치로부터 상류로 연장하여, 가스 배리어의 전후에 제품 영역을 남긴다. 가스 배리어는 푸셔 판에 부착되어 캐리어 조립체와 제품이 노를 통해 전진할 때 푸셔 판과 함께 이동하는 것이 가능하다.Each
노의 작동 중에, 가스는 하나의 가열 챔버, 상류 챔버, 예를 들어, 챔버(16)로부터 인접한 연결 복도(22)를 통해 다음의 가장 근접한 가열 챔버, 예를 들어, 챔버(14)로 유동한다. 가스 유동은 제품 이동과 동일한 방향이거나 반대 방향일 수 있다. 본원에서 사용되는 상류 및 하류가란 용어는 가스의 유동 방향을 지칭하는데 사용된다. 동시에, 가스는 가스 유동과 반대 방향, 즉, 하류의 가열 챔버(14)로부터 상류의 가열 챔버(16)로 확산하려고 한다.During operation of the furnace, gas flows from one heating chamber, upstream chamber, for
예를 들어, 본 발명의 단점인, 하류 가열 챔버(14) 내의 미량(trace) 수소 가스는 가스의 유동에 대향해서 상류로 확산할 수도 있다. 확산 속도의 크기는 또한 유동 속도의 크기보다 크다. 이 경우에, 시간에 따라, 상류의 가열 챔버(14) 내의 대기의 조성은 하류 가열 챔버(16)로부터 가스의 유입에 의해 변화될 수도 있다. 이러한 대기의 변화는 소정의 응용에 적용될 수도 있고 적용될 수 없을 수도 있다.For example, trace hydrogen gas in the
본 발명의 캐리어 조립체(36)는 가스의 유동에 대향해서 가스의 확산을 방지하는 배리어를 제공한다. 가스 배리어(46)는 연결 복도의 벽 및 지붕과 가스 배리어의 주변부 사이에 작은 간극 갭(54)이 있는 상태로 연결 복도 내에 고정되도록 크기가 정해지고 형성된다. 연결 복도를 통해 유동하는 가스는 도 1의 화살표(56)에 의해 나타난 작은 갭을 통해 통과해야 한다. 감소된 단면적과 작은 갭에 의해 야기된 가스 유동 경로를 따른 가스 배리어의 길이 때문에, 가스가 가스 배리어 상으로 및 주위로 유동함에 따라 가스의 속도는 증가한다. 갭의 단면적이 작을수록, 가스 유동 속도의 증가는 더 크다. 갭의 크기는 계산된 길이에 대해 확산 속도의 크기보다 충분히 크게 가스 흐름 속도의 크기를 증가시키도록 선택된다. 이러한 방식으로, 가스는 가스 흐름에 대해 상류으로 확산할 수 없다.The
갭(54)의 크기와 길이는 충분히 큰 가스 흐름 속도를 얻도록 다양한 고려 사항에 기초해서 선택된다. 하나의 인자는 공정에 사용된 가스 공급원의 크기이다. 더 큰 가스 공급원은 더 큰 가스 흐름 속도를 제공한다. 그러므로, 큰 가스 공급원에 대해, 더 큰 갭은 가스의 확산 속도를 충분히 극복하도록 가스 유동 속도를 증가시키는 것을 만족시킬 수도 있다. 또다른 인자는 가스 배리어가 형성되는 재료로 얻을 수 있는 허용도이다. 예를 들어, 벽돌 재료는 금속 재료에 근접한 허용도를 제공할 수 없다. 그러므로, 엄격한 허용도를 갖는 작은 갭이 필요하다면, 상기 허용도를 얻는데 적합한 재료가 선택되어야 한다. 또다른 인자는, 만약 있다면, 상류 가열 챔버 내에 허용될 수 있는 확산된 가스의 양이다.The size and length of the
푸셔 판과 가스 배리어는, 본 발명의 기술 분야에서 공지된, 노 내부의 분위기를 견딜 수 있는 금속 또는 세라믹 또는 다른 내화 재료와 같은 소정의 적합한 재료로 제조될 수도 있다. 가스 배리어는 스크류, 접착제, 또는 소정의 다른 고정 장치 또는 방법으로 또는 유지 그루브 내에서의 유지에 의해 푸셔 판에 부착될 수도 있다. 가스 배리어는 요구된다면 푸셔 판으로부터 제거될 수도 있다. 가스 배리어는 푸셔 판에 견고하게 고정될 필요는 없다. 가스 배리어는 푸셔 판에 중력에 의해 장착될 수 있다(gravity-loaded). 가스 배리어와 푸셔 판은 하나의 단일 부재로 형성될 수도 있다. 또한, 배리어는, 예를 들어, 각각의 푸셔 판 사이에 삽입되는 푸셔 판으로부터 분리된 물품일 수도 있다.The pusher plate and the gas barrier may be made of any suitable material, such as metal or ceramic or other refractory materials that are capable of withstanding the atmosphere inside the furnace, as known in the art. The gas barrier may be attached to the pusher plate by screws, adhesives, or any other fixing device or method or by holding in the holding groove. The gas barrier may be removed from the pusher plate if desired. The gas barrier need not be securely fixed to the pusher plate. The gas barrier can be gravity-loaded to the pusher plate. The gas barrier and the pusher plate may be formed of one single member. The barrier may also be, for example, an article separated from the pusher plate inserted between each pusher plate.
상술된 상황에서, 상류의 챔버로부터 유동하는 가스는 하류 챔버로 유입될 수 있다. 많은 응용 분야에 있어서, 하류 챔버 내에서 대기의 혼합은 허용될 수 있다. 그러나, 소정의 응용 분야에서, 상류 가스가 하류 챔버로 유입하게 허용하는 것은 바람직하지 않다. 그러므로, 본 발명의 선택적인 실시예에서, 하나 이상의 배출구(60)가 연결 복도 또는 점화(firing) 챔버 내에 제공될 수도 있다. 도 1에서, 단일 배출구가 각각의 연결 복도(22 및 24)에 도시된다. 소정의 또는 모든 상류 가스가 이 출구를 통해 배출된다. 그러므로, 배출구가 본 발명의 이동식 가스 배리어와 함께 사용될 때, 모든 상류 가스가 하류 챔버로 유입되는 것이 방지되고 하류 가스가 상류 챔버로 유입되는 것이 방지된다. 배출구는, 본 발명의 기술 분야에서 공지된 것처럼, 대기에 개방되거나 팬 또는 진공 공급원을 형성하는 소정의 적합한 배출구일 수도 있다. 연결 복도의 길이는 연결 복도 내에 소정의 수의 가스 배리어를 따라 가스를 제거하기에 충분한 배출구를 허용하도록 선택된다.In the situation described above, gas flowing from the upstream chamber can be introduced into the downstream chamber. For many applications, mixing of the atmosphere in the downstream chambers can be tolerated. However, for certain applications, it is undesirable to allow upstream gas to enter the downstream chamber. Therefore, in alternative embodiments of the present invention, one or
또한 본 발명은 세라믹 캐패시터의 제조와 같은 예와 함께 이해될 수도 있다. 도 6은 세라믹 캐패시터의 일반적인 점화 프로파일을 도시한다. 세 개의 가열 챔버가 사용된다. 제품은 소정의 시간 동안 800℃에서 질소와 미량 수소의 제 1 가열 챔버, 예를 들어 챔버(14) 내의 환원 대기 내에 유지된다. 이러한 챔버 내에 무시할 수 있는 양의 산소가 있다(예를 들어, 산소의 부분압이 약 10-20 기압임). 제품은 질소와 산소 대기에서 1350℃로 점화하는 동안 제 2 또는 중앙 가열 챔버, 챔버(16)로 전진한다. 이러한 챔버 내에서 산소의 부분압은 약 10-11 내지 10-12 기압이다. 이것은 1000℃의 질소와 더 많은 양의 산소의 대기에서 제 3 또는 마지막 가열 챔버, 챔버(18) 내에서의 재산화에 의해 수행된다. 산소의 부분압은 약 10-4 기압이다.The invention may also be understood with examples such as the manufacture of ceramic capacitors. 6 shows a typical ignition profile of a ceramic capacitor. Three heating chambers are used. The product is held in a reducing atmosphere in a first heating chamber of nitrogen and trace hydrogen, for
이러한 공정에서, 가스는 중앙 챔버(16) 외측으로 제 1 가열 챔버(14)와 마지막 가열 챔버(18)를 향해 유동하는 경향이 있다. 수소는 제 1 챔버(14)로부터 중앙 챔버(16)로 확산하는 경향이 있다. 본 발명의 이동식 가스 배리어(46)는 중앙 챔버(16)를 향한 수소의 확산을 방지한다. 중앙 챔버(16)로부터의 대기와 제 1 및 마지막 챔버(14, 18)의 소정의 희석이 이러한 공정에서 허용될 수 있지만, 제 1 챔버와 중앙 챔버 사이와 중앙 챔버와 마지막 챔버 사이의 연결 복도 내의 배출구(60)는 이러한 희석을 최소화한다.In this process, the gas tends to flow out of the
본 발명의 이동식 가스 배리어는 상온의 대기가 입구 연결 복도(26)를 통해 제 1 가열 챔버(14)로 유입되는 것을 방지하고 상온의 대기가 출구 연결 복도(28)를 통해 마지막 가열 챔버(18)로 유입되는 것을 방지하는데 사용될 수도 있다.The movable gas barrier of the present invention prevents ambient air from entering the
본 발명은 청구된 청구항에 의해 기술된 것을 제외하고, 특히 도시되고 설명된 것에 한정되지 않는다.The invention is not particularly limited to those shown and described, except as described by the claimed claims.
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