KR100687952B1 - Continuous furnace having traveling gas barrier and product carrier assembly for use with the same - Google Patents

Continuous furnace having traveling gas barrier and product carrier assembly for use with the same Download PDF

Info

Publication number
KR100687952B1
KR100687952B1 KR1020017002020A KR20017002020A KR100687952B1 KR 100687952 B1 KR100687952 B1 KR 100687952B1 KR 1020017002020 A KR1020017002020 A KR 1020017002020A KR 20017002020 A KR20017002020 A KR 20017002020A KR 100687952 B1 KR100687952 B1 KR 100687952B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
gas barrier
furnace
continuous furnace
connecting corridor
heating chamber
Prior art date
Application number
KR1020017002020A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20010072713A (en
Inventor
게리 오르벡
존 테이어
Original Assignee
비티유 인터내셔날, 인코포레이티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 비티유 인터내셔날, 인코포레이티드 filed Critical 비티유 인터내셔날, 인코포레이티드
Publication of KR20010072713A publication Critical patent/KR20010072713A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100687952B1 publication Critical patent/KR100687952B1/en

Links

Images

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27BFURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B9/00Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
    • F27B9/14Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment
    • F27B9/20Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment the charge moving in a substantially straight path tunnel furnace
    • F27B9/22Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment the charge moving in a substantially straight path tunnel furnace on rails, e.g. under the action of scrapers or pushers
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27DDETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D99/00Subject matter not provided for in other groups of this subclass
    • F27D99/007Partitions
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27BFURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B9/00Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
    • F27B9/02Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity of multiple-track type; of multiple-chamber type; Combinations of furnaces
    • F27B9/028Multi-chamber type furnaces
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27BFURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B9/00Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
    • F27B9/04Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity adapted for treating the charge in vacuum or special atmosphere
    • F27B9/045Furnaces with controlled atmosphere
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27BFURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B9/00Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
    • F27B9/14Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment
    • F27B9/20Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment the charge moving in a substantially straight path tunnel furnace
    • F27B9/26Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment the charge moving in a substantially straight path tunnel furnace on or in trucks, sleds, or containers
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27DDETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D3/00Charging; Discharging; Manipulation of charge
    • F27D3/12Travelling or movable supports or containers for the charge
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27BFURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B9/00Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
    • F27B9/14Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment
    • F27B9/20Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment the charge moving in a substantially straight path tunnel furnace
    • F27B9/26Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment the charge moving in a substantially straight path tunnel furnace on or in trucks, sleds, or containers
    • F27B9/262Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment the charge moving in a substantially straight path tunnel furnace on or in trucks, sleds, or containers on or in trucks
    • F27B2009/264Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment the charge moving in a substantially straight path tunnel furnace on or in trucks, sleds, or containers on or in trucks the truck carrying a partition
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27BFURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B9/00Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
    • F27B9/30Details, accessories, or equipment peculiar to furnaces of these types
    • F27B2009/305Particular conformation of the furnace
    • F27B2009/3055Non-uniform section through the length of the furnace
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27BFURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B9/00Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
    • F27B9/30Details, accessories, or equipment peculiar to furnaces of these types
    • F27B9/3005Details, accessories, or equipment peculiar to furnaces of these types arrangements for circulating gases
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27DDETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D3/00Charging; Discharging; Manipulation of charge
    • F27D3/12Travelling or movable supports or containers for the charge
    • F27D2003/124Sleds; Transport supports
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27DDETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D99/00Subject matter not provided for in other groups of this subclass
    • F27D99/0073Seals
    • F27D2099/0078Means to minimize the leakage of the furnace atmosphere during charging or discharging
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27DDETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D3/00Charging; Discharging; Manipulation of charge

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Furnace Details (AREA)
  • Tunnel Furnaces (AREA)
  • Furnace Charging Or Discharging (AREA)

Abstract

연속 푸셔 노(10)는 이동식 가스 배리어를 형성하는 제품 캐리어 조립체(36)를 포함한다. 제품 캐리어 조립체(36)는 제품을 수용하도록 배열된 푸셔 판(38)과 푸셔 판으로부터 상류로 연장하는 가스 배리어(46)를 포함한다. 연결 복도는 가스 유동과 반대 방향으로 연결 복도를 통한 가스 확산 속도를 충분히 극복하도록 연결 복도(22)를 통해 가스 유동 속도를 증가시키도록 선택된 채, 가스 배리어의 주변부는 간극 갭(54)을 갖는 노 내의 가열 챔버 사이의 연결 복도(22) 내에 고정되도록 크기가 정해지고 형성된다. 이러한 방식으로, 가스는 상류의 가열 챔버 내로 확산할 수 없다. 본 발명의 또다른 실시예에서, 배출구(60)는 노의 상류 및 하류 가열 챔버로부터 가스를 배출하도록 연결 복도 또는 챔버 내에 제공될 수도 있다.The continuous pusher furnace 10 includes a product carrier assembly 36 that forms a movable gas barrier. The product carrier assembly 36 includes a pusher plate 38 arranged to receive a product and a gas barrier 46 extending upstream from the pusher plate. The connecting corridor is selected to increase the gas flow rate through the connecting corridor 22 to sufficiently overcome the gas diffusion rate through the connecting corridor in the direction opposite to the gas flow, while the periphery of the gas barrier has a furnace having a gap gap 54. It is sized and shaped to be secured in the connecting corridor 22 between the heating chambers within. In this way, gas cannot diffuse into the upstream heating chamber. In another embodiment of the present invention, the outlet 60 may be provided in a connecting corridor or chamber to exhaust gas from the heating chamber upstream and downstream of the furnace.

Description

이동식 가스 배리어를 갖는 연속 노 및 그에 사용하기 위한 제품 캐리어 조립체 {CONTINUOUS FURNACE HAVING TRAVELING GAS BARRIER AND PRODUCT CARRIER ASSEMBLY FOR USE WITH THE SAME}CONTINUOUS FURNACE HAVING TRAVELING GAS BARRIER AND PRODUCT CARRIER ASSEMBLY FOR USE WITH THE SAME}

연속 노는 전자 부품의 제조와 같은 다양한 분야에 사용된다. 이러한 노는 일련의 열 또는 가열 챔버를 가지며, 각각의 챔버 내부에 있는 대기의 온도와 조성이 조절된다. 제품은 소정의 열적 및 대기 프로파일을 얻도록 소정의 속도로 각각의 챔버를 통해 연속적으로 전진된다.Continuous furnaces are used in various fields such as the manufacture of electronic components. These furnaces have a series of heat or heating chambers and the temperature and composition of the atmosphere inside each chamber are controlled. The product is continuously advanced through each chamber at a predetermined rate to achieve a desired thermal and atmospheric profile.

제품은 연속 노를 통해 다양한 방식으로 전진되는데, 예를 들어, 일종의 연속 노에서는 제품이 금속 메쉬 벨트 상에 놓이며, 그 벨트에 의해 노를 통과하도록 제품이 밀리게 된다. 또 다른 형태인 연속 푸셔 노에서는 제품이 판 또는 캐리어 또는 보트(boat) 상에 놓여서 제품이 노의 입구 쪽으로 밀리게 된다. 각각의 후속 판은 그 앞으로 판을 밀게 된다. 일직선의 접촉 판들은 일직선 상의 최후미 판이 밀림으로써 전진된다.The product is advanced in various ways through a continuous furnace, for example, in a continuous furnace of some kind, the product is placed on a metal mesh belt and the product is pushed through the furnace by the belt. In another form of continuous pusher furnace, the product is placed on a plate or carrier or boat so that the product is pushed towards the entrance of the furnace. Each subsequent plate pushes it forward. The straight contact plates are advanced by pushing the rearmost plates in a straight line.

종종, 분리되어 유지되어야 하는 상이한 대기에서 연속 노 내에 두 개의 챔버를 작동시키는 것이 바람직하다. 일반적으로, 챔버는 터널 또는 연결 복도(vestibule)만큼 이격된다. 입구의 도어와 챔버의 출구는 챔버 내의 대기를 유지하기 위해 제공된다. 그러나, 이러한 도어는 고가이며 복잡하다. 연속 푸셔 노 내의 도어를 닫기 위해, 접촉 라인 내의 제품 캐리어는, 예를 들어, 이동 라인에서 제거하여 정화 챔버 또는 노의 부분 내로 이동시키도록 라인의 선단에 90°로 캐리어를 밀어서 분리시켜야 한다. 도어는 고립된 캐리어 뒤에서 닫히고 챔버는 정화된다. 캐리어는 제 1 라인으로부터 파생된 라인을 따라 또다른 푸셔에 의해 다음 챔버로 전진된다. 이러한 과정은 각각의 캐리어에 대해 반복되어야 한다. 이것은 부가적인 노의 길이, 비용, 및 다중 푸셔를 요구한다.Often, it is desirable to operate the two chambers in a continuous furnace in different atmospheres that must be kept separate. In general, the chambers are spaced apart by tunnels or connecting vestibules. The door of the inlet and the outlet of the chamber are provided to maintain the atmosphere in the chamber. However, such doors are expensive and complicated. In order to close the door in the continuous pusher furnace, the product carrier in the contact line must be separated by pushing the carrier 90 ° to the tip of the line, for example, to remove it from the moving line and move it into the purge chamber or part of the furnace. The door closes behind the isolated carrier and the chamber is purged. The carrier is advanced to the next chamber by another pusher along a line derived from the first line. This process must be repeated for each carrier. This requires additional furnace length, cost, and multiple pushers.

본 발명에서, 연속 푸셔 노는 노 챔버 사이로 가스의 이동을 개시하는 배리어를 형성하도록 이동식 가스 배리어를 형성한다. 노의 작동 중에, 가스는 하나의 가열 챔버, 상류 챔버로부터 인접한 가열 챔버, 하류 챔버로 유동한다. 동시에, 가스는 하류 가열 챔버로부터 상류 가열 챔버로 가스 유동에 대향해서 확산하려고 한다. 확산 속도의 크기는 가스의 유동 속도보다 클 수 있으며, 각각의 경우에 상류 챔버 내의 대기의 조성은 확산 가스가 상류 챔버로 유입됨에 따라 변화될 수 있다. 본 발명에서, 하류 챔버로부터 상류 챔버로의 가스의 확산은 노 내에서 제품과 함께 이동하는 가스 배리어를 형성하는 제품 캐리어 조립체에 의해 방지된다. 가스 배리어는 확산을 극복하기에 충분한 하류의 가스 속도를 보장한다.In the present invention, the continuous pusher furnace forms a movable gas barrier to form a barrier that initiates the movement of gas between furnace chambers. During operation of the furnace, gas flows from one heating chamber, the upstream chamber to the adjacent heating chamber, the downstream chamber. At the same time, the gas attempts to diffuse against the gas flow from the downstream heating chamber to the upstream heating chamber. The magnitude of the diffusion rate can be greater than the flow rate of the gas, and in each case the composition of the atmosphere in the upstream chamber can change as the diffusion gas enters the upstream chamber. In the present invention, the diffusion of gas from the downstream chamber to the upstream chamber is prevented by the product carrier assembly forming a gas barrier that moves with the product in the furnace. The gas barrier ensures sufficient gas velocity downstream to overcome diffusion.

보다 구체적으로, 연속 푸셔 노는 하나 이상의 가열 챔버와 일반적으로 복수의 가열 챔버를 갖는다. 연결 복도(vestibule)는 가열 챔버를 상호 연결시킨다. 일반적으로 입구 및 출구 연결 복도가 또한 제공된다. 처리 챔버로부터 입구 및 출구 연결 복도를 통한 외측으로의 가스 억제는 챔버 대 챔버의 분리와 동일한 방식으로 작동한다.More specifically, the continuous pusher furnace has one or more heating chambers and generally a plurality of heating chambers. A connecting vestibule interconnects the heating chambers. Inlet and outlet connecting corridors are also generally provided. Gas suppression from the processing chamber to the outside through the inlet and outlet connecting corridors works in the same way as the chamber to chamber separation.

각각의 제품 캐리어 조립체는 상기 제품 캐리어 조립체 상에 배열된 제품을 수용하도록 배열된 푸셔 판과 푸셔 판으로부터 상류로 연장하는 가스 배리어를 포함한다. 가스 배리어는 가스 유동과 반대 방향인 연결 복도를 통한 가스 확산 속도를 충분히 극복하도록 연결 복도를 통한 가스 유동 속도를 증가시키는 주변부와 연결 복도 벽 사이의 간극 갭이 형성된 상태에서 연결 복도 내에 고정되도록 크기가 정해지고 형성된 주변부를 갖는다. 본 발명의 이동식 가스 배리어는 상류 챔버 내부로의 가스의 확산을 방지한다. 이동식 가스 배리어는 노의 가열 챔버가 단일 라인을 따라 정렬되도록 허용하여, 노의 크기를 최소화시킨다. 복잡한 도어와 복수의 푸셔의 필요성이 제거되고, 제품은 노를 통해서 보다 신속하고 효과적으로 이동될 수 있다.Each product carrier assembly includes a pusher plate arranged to receive a product arranged on the product carrier assembly and a gas barrier extending upstream from the pusher plate. The gas barrier is sized to fit within the connecting corridor with a gap gap between the periphery and the connecting corridor wall, which increases the gas flow rate through the connecting corridor to sufficiently overcome the rate of gas diffusion through the connecting corridor opposite the gas flow. It has a defined and formed periphery. The movable gas barrier of the present invention prevents the diffusion of gas into the upstream chamber. The movable gas barrier allows the furnace's heating chambers to be aligned along a single line, minimizing the size of the furnace. The need for complicated doors and multiple pushers is eliminated, and products can be moved more quickly and effectively through the furnace.

본 발명의 또다른 실시예에서, 가스를 상류 챔버 및 하류 챔버로부터 노 외부로 배출하기 위해 하나 이상의 배출구가 부가적으로 연결 복도 또는 챔버 내에 제공된다. 연결 복도의 길이는 가스가 배출구를 통해 배출되기에 충분한 기회를 허용하도록 선택된다.In another embodiment of the present invention, one or more outlets are additionally provided in the connecting corridor or chamber for discharging gas from the upstream chamber and the downstream chamber out of the furnace. The length of the connecting corridor is chosen to allow sufficient opportunity for gas to be discharged through the outlet.

본 발명은 첨부 도면과 함께 다음의 상세한 설명으로부터 보다 완전히 이해될 수 있다.The invention can be more fully understood from the following detailed description taken in conjunction with the accompanying drawings.

도 1은 노의 길이 하부로 절반을 도시한 본 발명에 따른 가스 배리어 푸셔 판을 갖는 연속 푸셔 노의 횡단면도이며,1 is a cross-sectional view of a continuous pusher furnace with a gas barrier pusher plate according to the invention showing half below the length of the furnace,

도 2는 도 1의 선 Ⅱ-Ⅱ를 따른 횡단면도이며,FIG. 2 is a cross-sectional view along the line II-II of FIG. 1,

도 3은 도 1의 선 Ⅲ-Ⅲ을 따른 횡단면도이며, 3 is a cross-sectional view along the line III-III of FIG. 1,                 

도 4는 본 발명에 따른 일렬의 가스 배리어 푸셔 판의 등각도이며,4 is an isometric view of a row of gas barrier pusher plates according to the present invention,

도 5는 본 발명에 따른 제품을 갖는 가스 배리어 푸셔 판의 등각도이며,5 is an isometric view of a gas barrier pusher plate with a product according to the invention,

도 6은 세라믹 캐패시터의 가열에 대한 프로세스 프로파일을 도시한다.6 shows a process profile for heating of a ceramic capacitor.

도 1 내지 도 5는 입구(12), 복수의 열 또는 가열 챔버(14, 16, 18), 및 출구(20)를 갖는 본 발명의 연속 푸셔 노(10)를 도시한다. 연결 복도(22, 24) 또는 터널은 가열 챔버(14, 16, 18)를 상호 연결시킨다. 입구 연결 복도(26)는 입구(12)와 제 1 가열 챔버(14) 사이에 제공되고, 출구 연결 복도(28)는 마지막 가열 챔버(18)와 출구(20) 사이에 제공된다. 세 개의 가열 챔버가 도시되지만, 하나 또는 소정 수의 가열 챔버가 적용분야에 따라 제공될 수도 있다. 연결 복도(22, 24, 26, 28)의 단면은 도 2 및 도 3에 가장 잘 도시된 것처럼, 가열 챔버(14, 16, 18)의 단면과 동일하거나 이보다 작다. 일련의 노바닥 판(32)으로부터 형성된 노바닥 표면(30)은 입구(12)로부터 출구(20)까지 노의 길이를 연장시킨다. 제품 캐리어 조립체(36) 상에 놓인 제품(34)은 노바닥 표면(30)을 따라 입구(12)로부터 출구(20)까지 가열 챔버(14, 16, 18)를 통해 당겨진다. 각각의 가열 챔버는 소정의 대기 조성에서 소정의 온도로 제품을 가열하는 본 발명의 기술 분야에서 공지된 방법으로 작동한다.1-5 show a continuous pusher furnace 10 of the present invention having an inlet 12, a plurality of thermal or heating chambers 14, 16, 18, and an outlet 20. Connecting corridors 22, 24 or tunnels interconnect the heating chambers 14, 16, 18. An inlet connection hallway 26 is provided between the inlet 12 and the first heating chamber 14, and an outlet connection hallway 28 is provided between the last heating chamber 18 and the outlet 20. Although three heating chambers are shown, one or any number of heating chambers may be provided, depending on the application. The cross section of the connecting corridors 22, 24, 26, 28 is less than or equal to the cross section of the heating chambers 14, 16, 18, as best shown in FIGS. 2 and 3. The furnace bottom surface 30 formed from the series of furnace bottom plates 32 extends the length of the furnace from the inlet 12 to the outlet 20. The product 34 lying on the product carrier assembly 36 is pulled through the heating chambers 14, 16, 18 from the inlet 12 to the outlet 20 along the furnace bottom surface 30. Each heating chamber operates in a manner known in the art of heating the product to a predetermined temperature in a predetermined atmospheric composition.

각각의 캐리어 조립체(36)는 노바닥 표면(30) 상으로 미끄러지는 가스 배리어(46)와 푸셔 판(38)을 포함한다. 제품(34)은 푸셔 판의 평탄면(40) 상에 놓인다. 푸셔 판은 일반적으로 정사각형 또는 장방형이다. 상기 판은 일반적으로 제품 이동 방향과 직면하는 정면(front) 또는 선두(leading) 에지(42)와 푸셔 또는 연속 푸셔 판에 의해 접촉되는 후미(rear) 또는 말미(trailing) 에지(44)를 갖는다. 가스 배리어(46)는 푸셔 판(38)으로부터 상부로 연장한다. 가스 배리어(46)는 제품 이동 방향에 가로지르는 면으로 연장하는 벽으로서 형성된다. 바람직하게, 가스 배리어는 푸셔 판의 말미 에지(44)에 또는 근처에 위치된다. 제품을 유지하기 위해 푸셔 판 상에 충분한 면적이 제공되는 한, 가스 배리어는 다른 위치로부터 상류로 연장할 수도 있다. 예를 들어, 가스 배리어는 선두 에지(42)에서 또는 근처로부터 상류로 연장할 수도 있다. 또다른 구성에서, 가스 배리어는 중앙 위치로부터 상류로 연장하여, 가스 배리어의 전후에 제품 영역을 남긴다. 가스 배리어는 푸셔 판에 부착되어 캐리어 조립체와 제품이 노를 통해 전진할 때 푸셔 판과 함께 이동하는 것이 가능하다.Each carrier assembly 36 includes a gas barrier 46 and a pusher plate 38 that slides onto the furnace bottom surface 30. The product 34 rests on the flat surface 40 of the pusher plate. The pusher plate is generally square or rectangular. The plate generally has a front or leading edge 42 facing the direction of product movement and a rear or trailing edge 44 contacted by the pusher or continuous pusher plate. The gas barrier 46 extends upward from the pusher plate 38. The gas barrier 46 is formed as a wall extending in the plane crossing the product moving direction. Preferably, the gas barrier is located at or near the trailing edge 44 of the pusher plate. As long as sufficient area is provided on the pusher plate to hold the product, the gas barrier may extend upstream from other locations. For example, the gas barrier may extend upstream from or near the leading edge 42. In another configuration, the gas barrier extends upstream from the central position, leaving the product region before and after the gas barrier. The gas barrier is attached to the pusher plate to enable the carrier assembly and the product to move with the pusher plate as it advances through the furnace.

노의 작동 중에, 가스는 하나의 가열 챔버, 상류 챔버, 예를 들어, 챔버(16)로부터 인접한 연결 복도(22)를 통해 다음의 가장 근접한 가열 챔버, 예를 들어, 챔버(14)로 유동한다. 가스 유동은 제품 이동과 동일한 방향이거나 반대 방향일 수 있다. 본원에서 사용되는 상류 및 하류가란 용어는 가스의 유동 방향을 지칭하는데 사용된다. 동시에, 가스는 가스 유동과 반대 방향, 즉, 하류의 가열 챔버(14)로부터 상류의 가열 챔버(16)로 확산하려고 한다.During operation of the furnace, gas flows from one heating chamber, upstream chamber, for example chamber 16, through the adjacent connecting corridor 22 to the next nearest heating chamber, for example chamber 14. . The gas flow can be in the same direction as the product movement or in the opposite direction. The terms upstream and downstream as used herein are used to refer to the direction of flow of the gas. At the same time, the gas tries to diffuse in the direction opposite to the gas flow, ie from the downstream heating chamber 14 to the upstream heating chamber 16.

예를 들어, 본 발명의 단점인, 하류 가열 챔버(14) 내의 미량(trace) 수소 가스는 가스의 유동에 대향해서 상류로 확산할 수도 있다. 확산 속도의 크기는 또한 유동 속도의 크기보다 크다. 이 경우에, 시간에 따라, 상류의 가열 챔버(14) 내의 대기의 조성은 하류 가열 챔버(16)로부터 가스의 유입에 의해 변화될 수도 있다. 이러한 대기의 변화는 소정의 응용에 적용될 수도 있고 적용될 수 없을 수도 있다.For example, trace hydrogen gas in the downstream heating chamber 14, which is a disadvantage of the present invention, may diffuse upstream against the flow of the gas. The magnitude of the diffusion velocity is also greater than the magnitude of the flow velocity. In this case, over time, the composition of the atmosphere in the upstream heating chamber 14 may be changed by the inflow of gas from the downstream heating chamber 16. This change in atmosphere may or may not be applicable to certain applications.

본 발명의 캐리어 조립체(36)는 가스의 유동에 대향해서 가스의 확산을 방지하는 배리어를 제공한다. 가스 배리어(46)는 연결 복도의 벽 및 지붕과 가스 배리어의 주변부 사이에 작은 간극 갭(54)이 있는 상태로 연결 복도 내에 고정되도록 크기가 정해지고 형성된다. 연결 복도를 통해 유동하는 가스는 도 1의 화살표(56)에 의해 나타난 작은 갭을 통해 통과해야 한다. 감소된 단면적과 작은 갭에 의해 야기된 가스 유동 경로를 따른 가스 배리어의 길이 때문에, 가스가 가스 배리어 상으로 및 주위로 유동함에 따라 가스의 속도는 증가한다. 갭의 단면적이 작을수록, 가스 유동 속도의 증가는 더 크다. 갭의 크기는 계산된 길이에 대해 확산 속도의 크기보다 충분히 크게 가스 흐름 속도의 크기를 증가시키도록 선택된다. 이러한 방식으로, 가스는 가스 흐름에 대해 상류으로 확산할 수 없다.The carrier assembly 36 of the present invention provides a barrier to prevent the diffusion of the gas against the flow of the gas. The gas barrier 46 is sized and formed to be secured within the connecting corridor with a small gap gap 54 between the walls and roof of the connecting corridor and the periphery of the gas barrier. Gas flowing through the connecting corridor must pass through the small gap indicated by arrow 56 in FIG. 1. Because of the length of the gas barrier along the gas flow path caused by the reduced cross-sectional area and the small gap, the velocity of the gas increases as the gas flows on and around the gas barrier. The smaller the cross-sectional area of the gap, the greater the increase in gas flow rate. The size of the gap is chosen to increase the size of the gas flow rate to be sufficiently larger than the size of the diffusion rate for the calculated length. In this way, the gas cannot diffuse upstream to the gas flow.

갭(54)의 크기와 길이는 충분히 큰 가스 흐름 속도를 얻도록 다양한 고려 사항에 기초해서 선택된다. 하나의 인자는 공정에 사용된 가스 공급원의 크기이다. 더 큰 가스 공급원은 더 큰 가스 흐름 속도를 제공한다. 그러므로, 큰 가스 공급원에 대해, 더 큰 갭은 가스의 확산 속도를 충분히 극복하도록 가스 유동 속도를 증가시키는 것을 만족시킬 수도 있다. 또다른 인자는 가스 배리어가 형성되는 재료로 얻을 수 있는 허용도이다. 예를 들어, 벽돌 재료는 금속 재료에 근접한 허용도를 제공할 수 없다. 그러므로, 엄격한 허용도를 갖는 작은 갭이 필요하다면, 상기 허용도를 얻는데 적합한 재료가 선택되어야 한다. 또다른 인자는, 만약 있다면, 상류 가열 챔버 내에 허용될 수 있는 확산된 가스의 양이다.The size and length of the gap 54 is chosen based on various considerations to obtain a sufficiently large gas flow rate. One factor is the size of the gas source used in the process. Larger gas sources provide greater gas flow rates. Therefore, for large gas sources, larger gaps may satisfy increasing the gas flow rate to sufficiently overcome the diffusion rate of the gas. Another factor is the tolerance obtained with the material from which the gas barrier is formed. For example, brick materials cannot provide close tolerances to metallic materials. Therefore, if a small gap with tight tolerances is needed, a material suitable for achieving such tolerances should be selected. Another factor, if any, is the amount of diffused gas that is acceptable in the upstream heating chamber.

푸셔 판과 가스 배리어는, 본 발명의 기술 분야에서 공지된, 노 내부의 분위기를 견딜 수 있는 금속 또는 세라믹 또는 다른 내화 재료와 같은 소정의 적합한 재료로 제조될 수도 있다. 가스 배리어는 스크류, 접착제, 또는 소정의 다른 고정 장치 또는 방법으로 또는 유지 그루브 내에서의 유지에 의해 푸셔 판에 부착될 수도 있다. 가스 배리어는 요구된다면 푸셔 판으로부터 제거될 수도 있다. 가스 배리어는 푸셔 판에 견고하게 고정될 필요는 없다. 가스 배리어는 푸셔 판에 중력에 의해 장착될 수 있다(gravity-loaded). 가스 배리어와 푸셔 판은 하나의 단일 부재로 형성될 수도 있다. 또한, 배리어는, 예를 들어, 각각의 푸셔 판 사이에 삽입되는 푸셔 판으로부터 분리된 물품일 수도 있다.The pusher plate and the gas barrier may be made of any suitable material, such as metal or ceramic or other refractory materials that are capable of withstanding the atmosphere inside the furnace, as known in the art. The gas barrier may be attached to the pusher plate by screws, adhesives, or any other fixing device or method or by holding in the holding groove. The gas barrier may be removed from the pusher plate if desired. The gas barrier need not be securely fixed to the pusher plate. The gas barrier can be gravity-loaded to the pusher plate. The gas barrier and the pusher plate may be formed of one single member. The barrier may also be, for example, an article separated from the pusher plate inserted between each pusher plate.

상술된 상황에서, 상류의 챔버로부터 유동하는 가스는 하류 챔버로 유입될 수 있다. 많은 응용 분야에 있어서, 하류 챔버 내에서 대기의 혼합은 허용될 수 있다. 그러나, 소정의 응용 분야에서, 상류 가스가 하류 챔버로 유입하게 허용하는 것은 바람직하지 않다. 그러므로, 본 발명의 선택적인 실시예에서, 하나 이상의 배출구(60)가 연결 복도 또는 점화(firing) 챔버 내에 제공될 수도 있다. 도 1에서, 단일 배출구가 각각의 연결 복도(22 및 24)에 도시된다. 소정의 또는 모든 상류 가스가 이 출구를 통해 배출된다. 그러므로, 배출구가 본 발명의 이동식 가스 배리어와 함께 사용될 때, 모든 상류 가스가 하류 챔버로 유입되는 것이 방지되고 하류 가스가 상류 챔버로 유입되는 것이 방지된다. 배출구는, 본 발명의 기술 분야에서 공지된 것처럼, 대기에 개방되거나 팬 또는 진공 공급원을 형성하는 소정의 적합한 배출구일 수도 있다. 연결 복도의 길이는 연결 복도 내에 소정의 수의 가스 배리어를 따라 가스를 제거하기에 충분한 배출구를 허용하도록 선택된다.In the situation described above, gas flowing from the upstream chamber can be introduced into the downstream chamber. For many applications, mixing of the atmosphere in the downstream chambers can be tolerated. However, for certain applications, it is undesirable to allow upstream gas to enter the downstream chamber. Therefore, in alternative embodiments of the present invention, one or more outlets 60 may be provided in the connecting corridor or firing chamber. In FIG. 1, a single outlet is shown in each connecting corridor 22 and 24. Any or all upstream gas is exhausted through this outlet. Therefore, when the outlet port is used with the movable gas barrier of the present invention, all upstream gas is prevented from entering the downstream chamber and downstream gas is prevented from entering the upstream chamber. The outlet may be any suitable outlet that is open to the atmosphere or forms a fan or vacuum source, as is known in the art. The length of the connection corridor is selected to allow sufficient outlet to remove gas along a predetermined number of gas barriers within the connection corridor.

또한 본 발명은 세라믹 캐패시터의 제조와 같은 예와 함께 이해될 수도 있다. 도 6은 세라믹 캐패시터의 일반적인 점화 프로파일을 도시한다. 세 개의 가열 챔버가 사용된다. 제품은 소정의 시간 동안 800℃에서 질소와 미량 수소의 제 1 가열 챔버, 예를 들어 챔버(14) 내의 환원 대기 내에 유지된다. 이러한 챔버 내에 무시할 수 있는 양의 산소가 있다(예를 들어, 산소의 부분압이 약 10-20 기압임). 제품은 질소와 산소 대기에서 1350℃로 점화하는 동안 제 2 또는 중앙 가열 챔버, 챔버(16)로 전진한다. 이러한 챔버 내에서 산소의 부분압은 약 10-11 내지 10-12 기압이다. 이것은 1000℃의 질소와 더 많은 양의 산소의 대기에서 제 3 또는 마지막 가열 챔버, 챔버(18) 내에서의 재산화에 의해 수행된다. 산소의 부분압은 약 10-4 기압이다.The invention may also be understood with examples such as the manufacture of ceramic capacitors. 6 shows a typical ignition profile of a ceramic capacitor. Three heating chambers are used. The product is held in a reducing atmosphere in a first heating chamber of nitrogen and trace hydrogen, for example chamber 14, at 800 ° C. for a predetermined time. There is a negligible amount of oxygen in this chamber (eg, the partial pressure of oxygen is about 10-20 atmospheres). The product is advanced to a second or central heating chamber, chamber 16, while igniting at 1350 ° C. in a nitrogen and oxygen atmosphere. The partial pressure of oxygen in this chamber is about 10 −11 to 10 −12 atmospheres. This is done by reoxidation in the third or last heating chamber, chamber 18 in an atmosphere of nitrogen at 1000 ° C. and a greater amount of oxygen. The partial pressure of oxygen is about 10 −4 atmospheres.

이러한 공정에서, 가스는 중앙 챔버(16) 외측으로 제 1 가열 챔버(14)와 마지막 가열 챔버(18)를 향해 유동하는 경향이 있다. 수소는 제 1 챔버(14)로부터 중앙 챔버(16)로 확산하는 경향이 있다. 본 발명의 이동식 가스 배리어(46)는 중앙 챔버(16)를 향한 수소의 확산을 방지한다. 중앙 챔버(16)로부터의 대기와 제 1 및 마지막 챔버(14, 18)의 소정의 희석이 이러한 공정에서 허용될 수 있지만, 제 1 챔버와 중앙 챔버 사이와 중앙 챔버와 마지막 챔버 사이의 연결 복도 내의 배출구(60)는 이러한 희석을 최소화한다.In this process, the gas tends to flow out of the central chamber 16 towards the first heating chamber 14 and the last heating chamber 18. Hydrogen tends to diffuse from the first chamber 14 into the central chamber 16. The movable gas barrier 46 of the present invention prevents the diffusion of hydrogen towards the central chamber 16. Some dilution of the atmosphere from the central chamber 16 and the first and last chambers 14, 18 may be acceptable in this process, but within the connecting corridor between the first and central chambers and between the central and last chambers. Outlet 60 minimizes this dilution.

본 발명의 이동식 가스 배리어는 상온의 대기가 입구 연결 복도(26)를 통해 제 1 가열 챔버(14)로 유입되는 것을 방지하고 상온의 대기가 출구 연결 복도(28)를 통해 마지막 가열 챔버(18)로 유입되는 것을 방지하는데 사용될 수도 있다.The movable gas barrier of the present invention prevents ambient air from entering the first heating chamber 14 through the inlet connection corridor 26 and the atmosphere at ambient temperature through the outlet connection corridor 28 to the final heating chamber 18. It can also be used to prevent ingress.

본 발명은 청구된 청구항에 의해 기술된 것을 제외하고, 특히 도시되고 설명된 것에 한정되지 않는다.The invention is not particularly limited to those shown and described, except as described by the claimed claims.

Claims (21)

이동식 가스 배리어를 갖는 연속 노로서,As a continuous furnace with a movable gas barrier, 하나 이상의 가열 챔버와 상기 가열 챔버에 인접한 하나 이상의 연결 복도, 및 상기 가열 챔버와 상기 연결 복도를 통해 제품 경로를 형성하는 노바닥 표면, 및At least one heating chamber and at least one connecting corridor adjacent to the heating chamber, and a furnace floor surface forming a product path through the heating chamber and the connecting corridor, and 제품을 수용하도록 배열된 판과, 제품 경로를 가로질러 횡방향으로 연장하고 주변부를 가지며 상기 주변부와 상기 연결 복도 사이에 간극 갭이 있는 상태로 상기 연결 복도 내에 끼워 맞춤될 수 있는 크기 및 형태를 갖는 가스 배리어를 갖춘 제품 캐리어 조립체를 포함하며,A plate arranged to receive the product, and having a size and shape that can extend in the transverse direction across the product path and have a periphery and fit within the connecting corridor with a gap gap between the peripheral portion and the connecting corridor A product carrier assembly with a gas barrier, 상기 가스 배리어 주변부의 국부적인 가스 유동과 반대 방향인 상기 연결 복도를 통한 가스 확산 속도를 극복할 수 있도록 상기 연결 복도를 통한 가스 유동 속도를 증가시키도록 상기 간극 갭과 길이가 선택되는,Wherein the gap gap and length are selected to increase the gas flow rate through the connecting corridor to overcome the gas diffusion rate through the connecting corridor that is opposite the local gas flow around the gas barrier perimeter. 이동식 가스 배리어를 갖는 연속 노.Continuous furnace with a movable gas barrier. 삭제delete 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 복수의 제품 캐리어 조립체를 더 포함하는,Further comprising a plurality of product carrier assemblies, 이동식 가스 배리어를 갖는 연속 노.Continuous furnace with a movable gas barrier. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 연결 복도의 단면적이 상기 가열 챔버의 단면적과 동일하거나 이보다 작은,The cross-sectional area of the connecting corridor is less than or equal to the cross-sectional area of the heating chamber, 이동식 가스 배리어를 갖는 연속 노.Continuous furnace with a movable gas barrier. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제품 경로가 상기 노의 입구로부터 상기 로의 출구까지 직선을 따라 놓이는,Wherein the product path lies along a straight line from the inlet of the furnace to the outlet of the furnace, 이동식 가스 배리어를 갖는 연속 노.Continuous furnace with a movable gas barrier. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 하나 이상의 제 2 가열 챔버를 더 포함하며,One or more second heating chambers, 상기 연결 복도가 상기 하나 이상의 가열 챔버와 상기 제 2 가열 챔버를 상호 연결시키는,The connecting corridor interconnecting the at least one heating chamber and the second heating chamber, 이동식 가스 배리어를 갖는 연속 노.Continuous furnace with a movable gas barrier. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 제품 경로가 상기 하나의 가열 챔버로부터 상기 제 2 가열 챔버까지 직선을 따라 놓이는,Wherein the product path lies along a straight line from the one heating chamber to the second heating chamber, 이동식 가스 배리어를 갖는 연속 노.Continuous furnace with a movable gas barrier. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 연결 복도가 상기 가열 챔버 내의 제품 입구에 인접하게 위치된 입구 연결 복도를 포함하는,The connecting corridor comprising an inlet connecting corridor positioned adjacent to a product inlet in the heating chamber; 이동식 가스 배리어를 갖는 연속 노.Continuous furnace with a movable gas barrier. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 연결 복도가 상기 가열 챔버 내의 제품 출구에 인접하게 위치된 출구 연결 복도를 포함하는,Wherein said connecting corridor comprises an outlet connecting corridor located adjacent to a product outlet in said heating chamber; 이동식 가스 배리어를 갖는 연속 노.Continuous furnace with a movable gas barrier. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 연결 복도 또는 노 챔버 내에 하나 이상의 배출구를 더 포함하는,Further comprising one or more outlets in the connecting corridor or furnace chamber, 이동식 가스 배리어를 갖는 연속 노.Continuous furnace with a movable gas barrier. 제 10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 연결 복도는 모든 가스가 상기 하나 이상의 배출구를 통해 배출될 수 있도록 충분히 긴,The connecting corridor is long enough to allow all gas to exit through the one or more outlets, 이동식 가스 배리어를 갖는 연속 노.Continuous furnace with a movable gas barrier. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제품 캐리어 조립체가 상기 노 내의 가열된 분위기를 견딜 수 있는 재료로 형성되는,Wherein the product carrier assembly is formed of a material capable of withstanding a heated atmosphere in the furnace, 이동식 가스 배리어를 갖는 연속 노.Continuous furnace with a movable gas barrier. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제품 캐리어 조립체가 내화 재료로 형성되는,Wherein the product carrier assembly is formed of a refractory material, 이동식 가스 배리어를 갖는 연속 노.Continuous furnace with a movable gas barrier. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 가스 배리어가 상기 판으로부터 상류로 연장하는,The gas barrier extending upstream from the plate, 이동식 가스 배리어를 갖는 연속 노.Continuous furnace with a movable gas barrier. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 가스 배리어가 상기 판에 견고하게 부착되는,The gas barrier is firmly attached to the plate, 이동식 가스 배리어를 갖는 연속 노.Continuous furnace with a movable gas barrier. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 가스 배리어가 상기 판에 중력에 의해 장착되는,The gas barrier is mounted to the plate by gravity, 이동식 가스 배리어를 갖는 연속 노.Continuous furnace with a movable gas barrier. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 가스 배리어가 상기 판과 일체로 형성되는,The gas barrier is integrally formed with the plate, 이동식 가스 배리어를 갖는 연속 노.Continuous furnace with a movable gas barrier. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 가스 배리어가 상기 판과 분리되는,The gas barrier is separated from the plate, 이동식 가스 배리어를 갖는 연속 노.Continuous furnace with a movable gas barrier. 하나 이상의 가열 챔버, 상기 가열 챔버와 인접한 하나 이상의 연결 복도, 및 상기 가열 챔버와 상기 연결 복도를 통해 제품 경로를 한정하는 노바닥 표면을 갖는 연속 푸셔 노와 함께 사용되는 제품 캐리어 조립체로서,A product carrier assembly for use with a continuous pusher furnace having at least one heating chamber, at least one connecting corridor adjacent the heating chamber, and a furnace bottom surface defining a product path through the heating chamber and the connecting corridor, 제품을 수용하도록 형성된 표면을 갖는 판, 및A plate having a surface formed to receive a product, and 상기 판으로부터 상류로 연장하고 직립한 측면 에지와 상부 에지를 갖는 가스 배리어를 포함하며,A gas barrier extending upstream from the plate and having an upright side edge and an upper edge, 상기 가스 배리어는 상기 측면 에지와 상기 상부 에지 사이에 간극 갭이 있는 상태로 상기 연결 복도 내에 끼워 맞춤될 수 있는 크기 및 형태를 가지며, 가스 유동과 반대 방향인 상기 연결 복도를 통한 가스 확산 속도를 극복할 수 있도록 상기 연결 복도를 통한 가스 유동 속도를 증가시키도록 상기 간극 갭이 선택되며,The gas barrier has a size and shape that can be fitted into the connecting corridor with a gap gap between the side edge and the upper edge, and overcomes the rate of gas diffusion through the connecting corridor opposite the gas flow. The gap gap is selected to increase the gas flow rate through the connecting corridor, 상기 판과 상기 가스 배리어는 상기 노 내의 가열된 분위기를 견딜 수 있는 재료로 형성되는,The plate and the gas barrier are formed of a material capable of withstanding a heated atmosphere in the furnace, 제품 캐리어 조립체.Product carrier assembly. 제 16 항에 있어서,The method of claim 16, 상기 가스 배리어가 상기 판에 견고하게 부착되거나 중력에 의해 장착되는,The gas barrier is firmly attached to the plate or mounted by gravity, 이동식 가스 배리어를 갖는 연속 노.Continuous furnace with a movable gas barrier. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 연속 노가 연속 푸셔 노를 포함하는,Wherein the continuous furnace comprises a continuous pusher furnace, 이동식 가스 배리어를 갖는 연속 노.Continuous furnace with a movable gas barrier.
KR1020017002020A 1999-06-17 2000-06-09 Continuous furnace having traveling gas barrier and product carrier assembly for use with the same KR100687952B1 (en)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US13961299P 1999-06-17 1999-06-17
US60/139,612 1999-06-17
US09/438,073 1999-11-10
US09/438,073 US6283748B1 (en) 1999-06-17 1999-11-10 Continuous pusher furnace having traveling gas barrier

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20010072713A KR20010072713A (en) 2001-07-31
KR100687952B1 true KR100687952B1 (en) 2007-02-27

Family

ID=26837395

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020017002020A KR100687952B1 (en) 1999-06-17 2000-06-09 Continuous furnace having traveling gas barrier and product carrier assembly for use with the same

Country Status (10)

Country Link
US (1) US6283748B1 (en)
EP (1) EP1114290B1 (en)
JP (1) JP2003524744A (en)
KR (1) KR100687952B1 (en)
CN (1) CN1218156C (en)
CA (1) CA2340758C (en)
DE (1) DE60045835D1 (en)
HK (1) HK1041042B (en)
TW (1) TW448285B (en)
WO (1) WO2000079197A1 (en)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6457971B2 (en) * 1999-06-17 2002-10-01 Btu International, Inc. Continuous furnace having traveling gas barrier
US6780225B2 (en) 2002-05-24 2004-08-24 Vitronics Soltec, Inc. Reflow oven gas management system and method
US7150627B2 (en) * 2005-04-30 2006-12-19 Siddhartha Gaur Transported material heating with controlled atmosphere
DE102005027216A1 (en) * 2005-06-13 2006-12-21 Basf Ag Apparatus and method for continuous catalytic debinding with improved flow conditions
US7745764B2 (en) 2005-12-07 2010-06-29 Ajax Tocco Magnethermic Corporation Method and apparatus for controlling furnace position in response to thermal expansion
ATE553344T1 (en) * 2006-03-03 2012-04-15 Schwartz Eva MULTI-CHAMBER CONTINUOUS FURNACE WITH PROTECTIVE GAS OPERATION AND METHOD FOR OXIDE-FREE HEATING OF GALVANIZED WORKPIECES
JP4245177B2 (en) * 2006-07-10 2009-03-25 日立プラズマディスプレイ株式会社 Heat treatment equipment
JP5092104B2 (en) 2010-08-30 2012-12-05 ナノフォトン株式会社 Spectrometer and spectroscopic method
US9310132B1 (en) 2012-02-08 2016-04-12 Carbonyx, Inc. Replaceable insulation roof for industrial oven
JP2014122720A (en) * 2012-12-20 2014-07-03 Tokai Konetsu Kogyo Co Ltd Method and device for adjusting atmosphere of pusher type continuous calcination furnace
TWI498511B (en) * 2013-03-08 2015-09-01 Ihi Corp Continuous furnace
JP5985576B2 (en) * 2014-10-21 2016-09-06 光洋サーモシステム株式会社 Continuous diffusion processing equipment

Family Cites Families (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR505035A (en) 1919-10-18 1920-07-21 Henri Breuille Muffle tunnel oven system for cooking, protected from flames, of various products
DE906071C (en) 1948-12-28 1954-03-08 Dr Gottfried Cremer Process for the operation of directly heated tunnel ovens for burning ceramic goods, such as in particular bricks, roof tiles and stoneware, and tunnel ovens for carrying out the process
DE1931858U (en) 1961-06-22 1966-01-27 Philips Nv PASS-THROUGH FURNACE FOR HEATING CERAMIC MATERIALS.
DE1758132A1 (en) 1968-04-08 1970-12-23 Friedhelm Helmhold Slide arrangement for tunnel ovens
US3584847A (en) * 1968-05-31 1971-06-15 Western Electric Co Advancing workpieces through a sputtering chamber
DE2045776B1 (en) * 1970-09-16 1972-03-16 Werner Koschel TUNNEL OVEN
DE2254769C3 (en) 1972-11-09 1985-06-05 Vereinigte Aluminium-Werke AG, 1000 Berlin und 5300 Bonn Continuous furnace for flux-free soldering of aluminum materials under protective gas
US4073874A (en) 1973-04-28 1978-02-14 Mitsubishi Kinzoku K.K. Recovery of chlorine from iron chloride
US4029489A (en) 1976-02-17 1977-06-14 Owens-Corning Fiberglas Corporation Method of and apparatus for melting of glass
US4022570A (en) * 1976-05-05 1977-05-10 Caterpillar Tractor Co. Warm form cooling and heat recovery tunnel
US4194990A (en) 1977-02-11 1980-03-25 Allied Chemical Corporation Catalyst and process for the production of chlorofluorinated hydrocarbons
US4389332A (en) 1977-04-14 1983-06-21 Ross Donald R Apparatus and a process for heating material
US4496477A (en) 1977-04-14 1985-01-29 Ross Donald R Apparatus and a process for heating a material
US4457703A (en) 1977-04-14 1984-07-03 Ross Donald R Apparatus and a process for heating a material
US4263163A (en) 1977-04-14 1981-04-21 Ross Donald R Process for calcining a material
DE2804338C2 (en) 1978-02-02 1986-02-13 Ipsen Industries International Gmbh, 4190 Kleve Continuous furnace for the heat treatment of small parts
DE3132373A1 (en) * 1981-01-16 1982-07-29 Didier Engineering Gmbh, 4300 Essen OVEN FOR HEATING SLABS, BLOBS AND BLANKS
AT372977B (en) 1982-01-19 1983-12-12 Voest Alpine Ag METHOD AND DEVICE FOR REDUCING OXIDE-CONTAINING FINE-PARTED ORES
US4416623A (en) 1982-02-01 1983-11-22 Kanto Yakin Kogyo Kabushiki Kaisha Muffle furnace
FR2536160A1 (en) 1982-11-17 1984-05-18 Piezo Ceram Electronique CONTINUOUS BURNER OF ELECTRONIC COMPONENTS
JPS6127485A (en) 1984-07-17 1986-02-06 中外炉工業株式会社 Continuous type atmosphere heat treatment furnace
US4586898A (en) 1984-12-14 1986-05-06 Btu Engineering Corporation Multi-zone furnace system
JPH0773790B2 (en) * 1985-10-11 1995-08-09 ソニー株式会社 Reflow soldering equipment
JPH01252886A (en) * 1988-03-31 1989-10-09 Central Glass Co Ltd Heat working furnace and heat treatment effected thereby
JPH0714353Y2 (en) * 1988-07-08 1995-04-05 中外炉工業株式会社 Roller hearth type heat treatment furnace
US5078368A (en) * 1990-05-07 1992-01-07 Indugas, Inc. Gas fired melting furnace
DE4034653A1 (en) * 1990-10-31 1992-05-07 Loi Ind Ofenanlagen Pusher-type furnace - divides row of containers into separate blocks at end of each push cycle for insertion of treatment zone dividing doors
JPH0739483Y2 (en) * 1990-11-15 1995-09-13 千住金属工業株式会社 Reflow furnace
GB9024931D0 (en) 1990-11-16 1991-01-02 Nubal Electronics Ltd Mobile oven doors
US5314330A (en) * 1992-10-01 1994-05-24 Btu International Walking hearth furnace
US5440101A (en) * 1993-04-19 1995-08-08 Research, Incorporated Continuous oven with a plurality of heating zones
US5379943A (en) * 1993-10-19 1995-01-10 Ncr Corporation Hot air circulation apparatus and method for wave soldering machines
US5714113A (en) * 1994-08-29 1998-02-03 American Combustion, Inc. Apparatus for electric steelmaking

Also Published As

Publication number Publication date
CN1313946A (en) 2001-09-19
HK1041042A1 (en) 2002-06-28
EP1114290B1 (en) 2011-04-13
CA2340758A1 (en) 2000-12-28
DE60045835D1 (en) 2011-05-26
EP1114290A1 (en) 2001-07-11
TW448285B (en) 2001-08-01
KR20010072713A (en) 2001-07-31
HK1041042B (en) 2006-04-21
CN1218156C (en) 2005-09-07
JP2003524744A (en) 2003-08-19
US6283748B1 (en) 2001-09-04
CA2340758C (en) 2008-07-22
WO2000079197A1 (en) 2000-12-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100687952B1 (en) Continuous furnace having traveling gas barrier and product carrier assembly for use with the same
EP1430264B1 (en) Continuous furnace having traveling gas barrier
JP6133631B2 (en) Reflow device
JPS6050270B2 (en) Sealing device
JPH0235232B2 (en) RENZOKUSHIKIROORAHAASUGATASHOSEIRO
JP5256655B2 (en) Continuous firing furnace
EP1802931B1 (en) Thermal processing system having slot eductors
JP2011007462A (en) Heat treatment furnace
JP5318373B2 (en) Continuous firing equipment
JP2000208053A (en) Baking furnace for plasma display panel
JPH11281259A (en) Continuous atmospheric furnace
JP2590966Y2 (en) Roller hearth atmosphere furnace with air intrusion prevention device
JPH0682162A (en) Continuous baking furnace
JPH06323738A (en) Roller hearth kiln
JPH08274459A (en) Inert gas atmospheric furnace
US4809643A (en) Gas distribution system for muffle-type furnaces
JP2004207225A (en) Burning furnace of plasma display panel, and manufacturing method of plasma display panel
JP2022081450A (en) Treatment device for flexible belt-like material passing through the inside of treatment furnace, in particular, resin thin film
JPH04121588A (en) In-furnace monitoring device for continuous electrical furnace
JPH06323750A (en) Baking box

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120302

Year of fee payment: 6

LAPS Lapse due to unpaid annual fee