KR100671114B1 - 반사방지성을 갖는 하드마스크 조성물 - Google Patents
반사방지성을 갖는 하드마스크 조성물 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100671114B1 KR100671114B1 KR1020050068891A KR20050068891A KR100671114B1 KR 100671114 B1 KR100671114 B1 KR 100671114B1 KR 1020050068891 A KR1020050068891 A KR 1020050068891A KR 20050068891 A KR20050068891 A KR 20050068891A KR 100671114 B1 KR100671114 B1 KR 100671114B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- layer
- composition
- aromatic ring
- containing polymer
- antireflective
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0048—Photosensitive materials characterised by the solvents or agents facilitating spreading, e.g. tensio-active agents
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/091—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by antireflection means or light filtering or absorbing means, e.g. anti-halation, contrast enhancement
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/38—Treatment before imagewise removal, e.g. prebaking
Abstract
Description
Claims (9)
- 제 1항에 있어서, 상기 조성물이(a) 방향족 고리(aromatic ring) 함유 중합체 1~20 중량%,(b) 가교 성분 0.1~5 중량%,(c) 산 촉매 0.001~0.05 중량%이고,잔량으로서 유기용매를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 반사방지 하드마스크 조성물.
- 제 1항에 있어서, 상기 방향족 고리 함유 중합체가 중량 평균 분자량을 기준으로 1,000 ~ 30,000인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1항에 있어서, 상기 조성물이 추가로 용매 또는 계면활성제를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 삭제
- 제 1항에 있어서, 상기 가교 성분이 멜라민 수지, 아미노 수지, 글리콜루릴 화합물 및 비스에폭시 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 조 성물.
- 제 1항에 있어서, 산 촉매가 p-톨루엔 술폰산 모노 하이드레이트(p-toluenesulfonic acid mono hydrate), 피리딘 p-톨루엔술폰산(Pyridine p-toluenesulfonic acid), 2,4,4,6-테트라브로모시클로헥사디엔온, 벤조인 토실레이트, 2-니트로벤질 토실레이트, 및 유기 술폰산의 다른 알킬 에스테르로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
- (a) 기판 상에 재료 층을 제공하는 단계;(b) 재료 층 위로 제 1항 내지 제 4항 및 제 6항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 따른 조성물을 이용한 반사방지 하드마스크 층을 형성시키는 단계;(c) 반사방지 층 위로 방사선-민감성 이미지화 층을 형성시키는 단계;(d) 이미지화 층을 방사선에 패턴 방식으로 노출시킴으로써 이미지화 층 내에서 방사선-노출된 영역의 패턴을 생성시키는 단계;(e) 이미지화 층 및 반사방지 층의 부분을 선택적으로 제거하여 재료 층의 부분을 노출시키는 단계; 및(f) 재료 층의 노출된 부분을 에칭함으로써 패턴화된 재료 형상을 형성시키는 단계를 포함하는 기판 상에 패턴화된 재료 형상을 형성시키는 방법.
- 제 8항에 따른 방법에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 집적회로 디바이스(device).
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050068891A KR100671114B1 (ko) | 2005-07-28 | 2005-07-28 | 반사방지성을 갖는 하드마스크 조성물 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050068891A KR100671114B1 (ko) | 2005-07-28 | 2005-07-28 | 반사방지성을 갖는 하드마스크 조성물 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020050068348A Division KR100671115B1 (ko) | 2005-05-09 | 2005-07-27 | 반사방지성을 갖는 하드마스크 조성물 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR100671114B1 true KR100671114B1 (ko) | 2007-01-17 |
Family
ID=38014186
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020050068891A KR100671114B1 (ko) | 2005-07-28 | 2005-07-28 | 반사방지성을 갖는 하드마스크 조성물 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100671114B1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8415424B2 (en) | 2009-12-31 | 2013-04-09 | Cheil Industries, Inc. | Aromatic ring-containing polymer for underlayer of resist and resist underlayer composition including the same |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000204115A (ja) | 1998-12-31 | 2000-07-25 | Hyundai Electronics Ind Co Ltd | 有機反射防止膜塗布重合体およびその準備方法 |
US6165684A (en) | 1996-12-24 | 2000-12-26 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Bottom anti-reflective coating material composition and method for forming resist pattern using the same |
JP2002333717A (ja) | 2001-05-07 | 2002-11-22 | Nissan Chem Ind Ltd | リソグラフィー用反射防止膜形成組成物 |
-
2005
- 2005-07-28 KR KR1020050068891A patent/KR100671114B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6165684A (en) | 1996-12-24 | 2000-12-26 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Bottom anti-reflective coating material composition and method for forming resist pattern using the same |
JP2000204115A (ja) | 1998-12-31 | 2000-07-25 | Hyundai Electronics Ind Co Ltd | 有機反射防止膜塗布重合体およびその準備方法 |
JP2002333717A (ja) | 2001-05-07 | 2002-11-22 | Nissan Chem Ind Ltd | リソグラフィー用反射防止膜形成組成物 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8415424B2 (en) | 2009-12-31 | 2013-04-09 | Cheil Industries, Inc. | Aromatic ring-containing polymer for underlayer of resist and resist underlayer composition including the same |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100671115B1 (ko) | 반사방지성을 갖는 하드마스크 조성물 | |
KR100655064B1 (ko) | 반사방지성을 갖는 하드마스크 조성물 | |
KR100665758B1 (ko) | 반사방지성을 갖는 하드마스크 조성물 | |
KR100662542B1 (ko) | 반사방지 하드마스크 조성물 및 이를 이용하여 기판 상에패턴화된 재료 형상을 형성시키는 방법 | |
KR100697979B1 (ko) | 반사방지 하드마스크 조성물 | |
KR100671120B1 (ko) | 신규 플루오렌 중합체 및 이를 이용한 반사방지성을 갖는하드마스크 조성물 | |
KR100896451B1 (ko) | 카본 함량이 개선된 고 내에칭성 반사방지 하드마스크조성물, 이를 이용한 패턴화된 재료 형상의 제조방법 | |
KR100888611B1 (ko) | 반사방지 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 기판상재료의 패턴화 방법 | |
KR100908601B1 (ko) | 반사방지 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 기판상 재료의패턴화 방법 | |
KR100950318B1 (ko) | 방향족 고리 함유 중합체, 이를 포함하는 반사방지하드마스크 조성물 및 이를 이용한 재료의 패턴화 방법 | |
KR100930673B1 (ko) | 반사방지 하드마스크 조성물 및 이를 이용한재료의 패턴화 방법 | |
KR100816735B1 (ko) | 반사방지 하드마스크 조성물, 이를 이용한 패턴화된 재료형상의 제조방법 및 반도체 집적회로 디바이스 | |
KR100826104B1 (ko) | 고 내에칭성 반사방지 하드마스크 조성물 및 이를 이용한패턴화된 재료 형상의 제조방법 | |
KR101257697B1 (ko) | 고탄소 함량을 가지는 방향족 고리 함유 중합체, 이를 포함하는 레지스트 하층막용 조성물 및 이를 이용한 재료의패턴화 방법 | |
KR100866015B1 (ko) | 반사방지 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 재료의 패턴화방법 | |
KR100833212B1 (ko) | 반사방지 하드마스크 조성물 | |
KR101174086B1 (ko) | 고분자, 고분자 조성물, 이를 포함하는 레지스트 하층막 조성물 및 이를 이용하는 재료의 패턴화 방법 | |
KR101225945B1 (ko) | 고 내에칭성 방향족 고리 함유 중합체, 이를 포함하는 레지스트 하층막용 조성물 및 이를 이용한 재료의 패턴화 방법 | |
KR100819162B1 (ko) | 반사방지성을 갖는 하드마스크 조성물 및 이를 이용한재료의 패턴화 방법 | |
KR101156489B1 (ko) | 반사방지 하드마스크 조성물 | |
KR100844019B1 (ko) | 카본 함량이 개선된 고 내에칭성 반사방지 하드마스크조성물, 이를 이용한 패턴화된 재료 형상의 제조방법 | |
KR100826103B1 (ko) | 반사방지 하드마스크 조성물 | |
KR100673625B1 (ko) | 반사방지 하드마스크 조성물 및 이를 이용하여 기판 상에패턴화된 재료 형상을 형성시키는 방법 | |
KR101212676B1 (ko) | 고분자, 고분자 조성물, 이를 포함하는 레지스트 하층막 조성물 및 이를 이용하는 재료의 패턴화 방법 | |
KR100865684B1 (ko) | 고 내에칭성 반사방지 하드마스크 조성물, 패턴화된 재료형상의 제조방법 및 그 제조방법으로 제조되는 반도체집적회로 디바이스 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A107 | Divisional application of patent | ||
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130103 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20131217 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20141223 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20151218 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20161223 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20171219 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20181220 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20200103 Year of fee payment: 14 |