KR100671105B1 - 전도성 광확산 필름 코팅액 조성물 및 이를 이용한 전도성광확산 필름의 제조방법 - Google Patents

전도성 광확산 필름 코팅액 조성물 및 이를 이용한 전도성광확산 필름의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 전도성 광확산 필름 코팅액 조성물 및 이를 이용한 전도성 광확산 필름의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 폴리스티렌술포네이트(PSS)로 도프된 폴리에틸렌디옥시티오펜(PEDT), 실란커플링제, 아마이드용매 및 탄소수 1~7개의 알코올 용매를 포함하는 전자파 차폐용 전도성 광확산 필름 코팅액 조성물 및 이 조성물을 광확산 필름의 전도성 전자파차폐층으로 형성하는 단계를 포함하는 전도성 광학산 필름의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 전도성 광확산 필름 코팅액 조성물을 이용하여 제조된 전도성 광확산 필름은 도전성이 우수함과 동시에 고휘도 특성을 가지므로, 평판디스플레이(flat display)용 LCD(Liquid Crystal Display) TV의 백라이트에 유용하게 사용될 수 있다.
전도성, 광확산 필름, 백라이트, 코팅액

Description

전도성 광확산 필름 코팅액 조성물 및 이를 이용한 전도성 광확산 필름의 제조방법{CONDUCTIVE LIGHT DIFFUSION FILM COATING COMPOSITION AND METHOD FOR PREPARING CONDUCTIVE LIGHT DIFFUSION FILM BY USING THE SAME}
도 1은 종래의 LCD-TV용 직하형 백라이트의 구조단면도이고,
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 광확산 필름의 층구성을 나타내는 상세 단면도이고,
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 전도성 광확산 필름을 포함하는 LCD-TV용 직하형 백라이트 단면도이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
10, 20 - 냉음극형광램프 11, 21 - 도광판
12 - 전도성 ITO 필름 13 - 광확산 필름
14, 23 - 프리즘 시트 15, 24 - DBEF
22 - 전도성 광확산 필름 31 - 광확산층
32 - 투명기재 33 - 전자파차폐층
34 - 반사방지층
본 발명은 전도성 광확산 필름 코팅액 조성물과 이를 이용한 전도성 광확산 필름의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 알코올 용매에 전도성 고분자, 바인더 및 첨가제를 분산시켜 제조된 전도성 광확산 전도성 필름 코팅액 조성물과 이 코팅액 조성물을 광확산 필름의 전도성 전자파차폐층으로 형성하는 단계를 포함하는 전도성 광학산 필름의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 의해 수득한 광확산 필름을 적용한 백라이트는 LCD-TV의 휘도, 색상 등의 광학 특성을 저하시키지 않으면서 LCD-TV 내의 전자파 영향으로 인한 스크린 불량(Waterfall)을 제거할 수 있다.
전자산업의 급속한 발전과 정보소재 및 디스플레이 산업에 대한 시대적 요구에 따라 전자파간섭(EMI; electromagnetic interference)에 의한 피해가 심각한 문제로 대두되어, 이미 선진국을 중심으로 EMI에 대한 규제가 실시되기 시작하였으며, 더 강화되는 추세에 있다. 평면브라운관에서부터 액정표시장치(Liquid Crystal Display: LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel: PDP) 등의 타 디스플레이분야에까지 EMI에 대한 규제가 점차 확대되어 가고 있다.
도 1은 종래의 LCD-TV용 직하형 백라이트 백라이트 유닛의 구조를 나타내는 단면도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 종래 사용되고 있는 LCD-TV의 백라이트 대부분은 냉음극형광램프(Cold Cathode Fluorescent Lamp : CCFL)(10)를 광원으로 사용하여, 그 발광면 방향으로 도광판(11), 전도성 필름(12), 광확산필름(13), 프리즘시트 (14) 및 DBEF(Dual Brightness Enhancement Film)(15)를 포함하는 구조를 갖는다. 이러한 구성 요소 가운데 광확산 필름(Diffusion Film)(13)은 도광판(11)을 통해 입사되는 빛을 확산 산란시켜 전체화면에서의 휘도를 균일하게 해주는 기능을 가지고 있다. 그러나, 상술한 종래의 백라이트는 대형 크기(26인치 이상)의 LCD-TV의 경우, 발광구동부에서 발생하는 전자파로 인해 전면패널 외관상에 결점(스크린 불량, Waterfall)이 생기는 문제점을 가지고 있었다. 이러한 문제점을 해결하기 위해 구동회로를 보완할 경우, 장치비와 패널 제조단가가 상승하는 단점을 가지고 있다.
또한, 종래에는 이러한 유해 전자파를 차단하기 위해 광확산 필름과 프리즘 시트 사이에 ITO(Indium tin oxide)가 스퍼터링법에 의해 코팅된 박막을 추가로 위치시켰다. 그러나, 이러한 구조의 백라이트는 전자파는 차단할 수 있지만, 휘도 및 색상 등의 광학특성이 저하되고 패널의 외관상 결점이 잔재하는 문제점을 가지고 있었다. 또한 상기 스퍼터링법은 챔버실의 용량과 기판치수가 제한되므로 1000 mm2 이상의 대형표시소자류에 적용할 경우, 고가의 비용이 들게 되어, 비용면이나 양산면에서 큰 문제가 있었다.
한편, 일본 특허 공개 평 8-86906호는 광확산 필름을 구성하는 폴리에틸렌테레프타렐이트(PET) 기재와 광확산 시트 사이에 SiO2와 같은 산화물 박막을 위치시킴 으로써 가시광선 투과율을 향상시키는 방법을 개시하고 있으나, 이러한 구조 역시 패널 외관상에 결점이 생기고, 전자파차폐 기능이 약해지는 문제점을 가지고 있다.
이에, 본 발명자들은 종래 백라이트에 사용되는 광확산 필름의 문제점을 해결하고자 예의 연구한 결과, 본 발명의 전도성 고분자를 포함하는 전도성 광확산 필름 코팅액 조성물로 전도성 전자파차폐층을 형성함으로써 광확산 필름과 전도성 필름을 일체화시켜 대형크기(26 인치 이상)의 LCD-TV의 스크린 불량을 제거할 수 있음을 발견하고 본 발명을 성안하게 되었다.
본 발명의 하나의 목적은 LCD-TV의 스크린 불량(Waterfall)을 제거하는 일체형 전도성 광확산 필름의 제조에 사용되는 전자파 차폐용 전도성 광확산 필름 코팅액 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 전도성 광확산 필름의 제조방법 및 이 방법에 의해 제조된 광확산 필름을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 상기 전도성 광확산 필름을 포함하는 백라이트 유닛을 제공하는 것이다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 한 측면에 따르면, 폴리스티렌술포 네이트(PSS)로 도프된 폴리에틸렌디옥시티오펜(PEDT), 실란 커플링제, 아마이드 용매 및 탄소수 1~7개의 알코올 용매를 포함하는 전자파 차폐용 전도성 광확산 코팅액 조성물이 제공된다.
본 발명의 다른 측면에 따르면, 상기 전도성 광확산 필름 코팅액 조성물을 투명기재의 일면에 코팅하고, 열소성으로 건조하여 전도성 전자파차폐층을 형성하는 단계를 포함하는 전도성 광확산 필름의 제조방법이 제공된다.
본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 상기 전도성 광확산 필름의 제조방법에 의해 제조된 전도성 광확산 필름이 제공된다.
본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 상기 전도성 광확산 필름을 포함하는 백라이트 유닛이 제공된다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 대하여 상세히 설명하기로 한다.
I. 전자파 차폐용 전도성 광학산 코팅액 조성물
본 발명의 전자파 차폐용 전도성 광확산 코팅액 조성물은 폴리스티렌술포네이트(PSS)로 도프된 폴리에틸렌디옥시티오펜(PEDT), 실란커플링제, 아마이드 용매 및 탄소수 1~7개의 알코올 용매를 포함한다.
본 발명에 사용되는 전도성 고분자는 폴리티오펜계 고분자의 일종인 수용성 폴리에틸렌디옥시티오펜(PEDT)으로, 바람직하게는 분자량이 150,000 내지 200,000, 도펀트(dopant)인 폴리스티렌술포네이트(PSS)로 도프된 폴리에틸렌디옥시티오펜을 사용한다. 이러한 폴리에틸렌디옥시티오펜은 물에 잘 녹고, 내열성, 내습성 및 UV 안정성이 매우 우수하다(이하, PEDT란 PSS로 도프된 PEDT를 의미함).
본 발명의 코팅액 조성물 제조시 상기 PEDT는 수용액의 형태로 첨가되는데, 이때 PEDT 수용액은 물에 대한 최적의 용해도를 유지하도록 고형분 농도가 1.2 ~ 1.5 중량%로 조정되어 있다. 이러한 PEDT 수용액은 물 및/또는 알코올과 같은 유전상수가 큰 용매와 잘 혼합되기 때문에, 이러한 용매들로 희석하여 쉽게 코팅할 수 있다.
본 발명의 코팅액 조성물 내에 상기 PEDT 수용액(고형분 함량 1.2~1.5 중량%)의 함량은 15 ~ 25 중량%이다. PEDT 수용액을 15 중량% 미만으로 사용하면 도전성 박막 필름의 상업적으로 유용한 최소의 전도도값인 표면저항 104Ω/□를 넘게 되어 문제가 있으며, 25 중량%를 초과하여 사용하는 경우에는 전도도는 우수하게 되나 코팅막의 두께가 증가하여 휘도 저하를 일으키기 때문에 고균일 박막이 요구되는 필름코팅에는 적합하지 않다.
본 발명의 코팅액 조성물에는 코팅필름의 PET 기재와의 접착성 및 막경도를 개선하기 위한 바인더로서 실란 커플링제가 첨가된다. 이 실란 커플링제는 본 발명의 코팅액 조성물 제조시 상기 PEDT 수용액에 함유된 물이나 추가로 첨가된 물과 반응하여 가수분해반응 및 축합반응을 거쳐 실리카졸(-SiO2-SiO2-) 또는 알킬 실리카졸(R-SiO2-SiO2-)을 형성한 후, PEDT와 유기-무기 하이브리드를 형성한다. 이러한 실리카졸을 포함하는 코팅액 조성물을 PET 기재 위에 박막으로 코팅한 후 열경 화시키면 폴리실리케이트 결정을 형성하는데, 이러한 폴리실리케이트 결정은 PET 기재와의 접착성을 가지며, 코팅된 필름의 막경도를 증가시키는 역할을 하게 된다.
본 발명의 코팅액 조성물 내에 바인더인 상기 실란 커플링제는 0.1 ~ 0.3 중량%의 함량으로 포함된다. 그 이유는 바인더의 함량이 0.1 중량% 미만일 경우에는 충분한 막경도(1H 이상)를 달성할 수 없고, 0.3 중량%를 초과할 경우에는 막경도는 향상시키지만, 전도도에 불리한 영향을 미치는 폴리실리케이트가 과다한 양으로 존재하게 되어, 별도의 전도도 향상제를 첨가하여도 본 발명에서 목적하는 전자파차폐 수준인 104 Ω/□ 이하의 표면저항을 달성할 수 없기 때문이다.
본 발명에 사용될 수 있는 실란 커플링제의 예로는 비닐트리메톡시실란 (vinyltrimethoxysilane), 비닐트리에톡시실란(vinyltriethoxysilane), γ-클로로프로필트리메톡시실란(γ-chloropropyltrimethoxysilane), N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필메틸디메톡시실란(N-β-(aminoethyl)-γ-aminopropylmethyldimethoxysilane), N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필트리메톡시실란(N-β-(aminoethyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilane),γ-글리시독시프로필트리에톡시실란(γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane), γ-메캅토프로필트리메톡시실란(γ-mercaptopropyltrimethoxysilane), 3-글리시독시프로필트리메톡시실란(3-glycidoxypropyltrimethoxysilane) 등을 들 수 있으나, 이에 제한되지는 않는다.
본 발명에서 상기에 열거한 성분들을 분산시키기 위한 용매로서 1 종 이상의 C1~7 알코올 용매를 사용하며, 바람직하게는 이소프로필 알코올(IPA), 에탄올 (EtOH), N-부틸알콜(n-BuOH), N-프로필알콜(NPA), 에틸셀로솔브(EC), 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르(PGM) 및 디아세톤 알코올(DAA)로 이루어진 군에서 선택된 1 종 이상의 것을 혼합하여 사용할 수 있다.
본 발명의 코팅액 조성물의 알코올 용매 함량은 전체 조성물의 60 ~ 84 중량%인데, 알코올 용매의 함량이 전체 조성물의 60 중량% 미만일 경우에는 조성물의 휘발도가 낮아 균일막을 이룰 수 없고 건조시간이 느리게 되어 생산성이 저하되는 문제점이 있고, 84 중량%를 초과하여 사용할 경우에는 조성물의 휘발도가 높아 코팅얼룩이 발생할 수 있기 때문이다.
본 발명에 사용되는 아마이드 용매는 N-메틸 아세트아마이드, 포름아마이드 또는 디메틸 포름아마이드에서 선택된 것을 사용할 수 있다. 또한, 본 발명의 코팅액 조성물의 아마이드 용매의 함량은 전체 조성물의 0.5 ~ 2 중량%이다. 본 발명의 코팅액 조성물에 사용되는 아마이드 용매의 함량이 0.5 중량% 미만일 경우, 도전성 박막 필름의 상업적으로 유용한 최소의 전도도값인 표면저항 104Ω/□를 넘게 되어 문제가 있으며, 2 중량%를 초과할 경우에는 전도도는 우수하게 되지만, 건조 후에도 용매가 휘발되지 못하고 남게 되어 충분한 막경도를 낼 수 없게 되는 문제점이 있다.
본 발명의 코팅액 조성물의 제조시에는, 우선 소정 용량의 용기에 PEDT 수용액을 첨가하고 격렬하게 교반하면서, 알코올 용매, 실란 커플링제, 및 아마이드 용매를 순차적으로 첨가하고, 상온에서 3시간 정도 교반한다. 코팅액의 균일성을 부 여하기 위해 호모게나이저(Homogenizer)를 사용하여 반응기 내의 용액이 침전없이 균일한 상태를 유지하도록 한다. 코팅액이 완성된 후에는 이물 제거를 위해 10 마이크론 캡슐형 필터를 이용하여 필터링을 실시하는 것이 좋다. 또한, 가능한 별도의 압력을 가하지 않고 자중으로 코팅액이 필터를 통과할 수 있도록 하는 것이 좋다.
II. 전도성 광확산 필름의 제조방법 및 상기 제조방법에 의해 제조된 전도성 광확산 필름
본 발명의 전도성 광확산 필름 제조시에는 우선 투명기재의 일면에 광확산층을 형성한다. 이어서 전 단계에서 수득된 광확산층이 형성된 투명기재의 반대면에 상술한 본 발명의 전도성 광확산 필름 코팅액 조성물을 코팅한 후 건조시켜 전도성 전자파차폐층을 형성한다. 이 때, 건조는 120 ~ 150 ℃의 온도에서 3 내지 5분 동안 열소성으로 건조시킨다. 그 후, 상기 전도성 전자파차폐층 위에 반사방지층을 형성하는 단계를 포함하는 전도성 광확산 필름의 제조방법에 의해 제조될 수 있다.
이하에서, 본 발명의 전도성 광확산 필름의 제조방법과 이 제조방법에 의해 형성된 전도성 광확산 필름에 대해 상세히 설명하기로 한다.
본 발명의 전도성 광확산 필름은 폴리에틸렌테레프탈레이트와 같은 투명기재 (32)의 일면에 광확산 물질을 그라비아(Gravure) 롤 코팅법으로 코팅하고, 건조하 여 광확산층(31)을 형성하고, 투명기재의 반대면에 본 발명의 전자파 차폐용 전도성 코팅액 조성물을 마이크로 그라비아(Micro Gravure) 코팅법으로 코팅하고 열소성으로 건조하여 전도성 전자파차폐층(33)을 형성하고, 상기 전도성 전자파차폐층위에 고굴절층과 저굴절층으로 이루어지는 반사방지층(34)을 형성함으로써 제조된다(도 2 참조).
특히, 본 발명의 광확산 필름의 전도성 전자파차폐층의 형성을 위해 우선, 상술한 본 발명의 전자파 차폐용 전도성 광학산 코팅액 조성물을 마이크로그라비아 코팅법으로 투명 기재 상에 코팅하는데, 코터의 진행속도는 10~20 mpm이 적당하며, 사용되는 코팅 메쉬 사이즈는 150~180 정도가 바람직하다. 코팅 후 열소성 공정을 거치는데 120 ~ 150℃의 온도에서 3 ~ 5분 동안 소성하여 건조시킴으로써 광확산 필름의 전도성 코팅층을 수득하였다. 이렇게 제조된 본 발명의 코팅필름은 표면저항이 103 내지 104Ω/□, 투과도가 89%~90%, 경도가 2H~3H인 특성을 갖는다.
도 2는 본 발명의 전도성 광확산 필름의 제조방법에 의해 제조된 전도성 광확산 필름의 층 구성을 나타내는 단면도이다. 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 전도성 광확산 필름은 최상층부터 광확산층(31), 투명기재(32), 전자파차폐층 (33) 및 반사방지층(34)을 포함하여 구성된다.
본 발명에 사용되는 투명기재(32)는 투과율이 우수하고 헤이즈(Haze)가 낮으며 기계적 물성이 우수한 고투명 필름이면 충분하다. 바람직한 투명기재의 예로는, PET(Polyethylene terephthalate) 필름, PEN (Polyethylene naphthalate) 필 름, PC(poly carbonate) 필름, 폴리스티렌 필름, 폴리염화비닐 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름 등을 들 수 있다.
상기 투명기재의 두께는 50 내지 200 ㎛인 것이 바람직하다. 그 이유는 두께 50 ㎛ 미만의 얇은 투명기재를 사용하면 코팅 및 건조공정에서의 열수축과 필름에 가해지는 장력에 의하여 주름이 발생하며, 광확산층과 반사방지층의 수축율 차이로 인해 백라이트 유닛 크기로 필름을 제단할 경우 구부러짐 현상(Curl)이 발생할 수 있는 단점이 있고, 두께 200 ㎛ 초과의 투명기재를 사용할 경우에는 필름의 전체 두께가 필요 이상으로 증가하여 백라이트 유닛의 경량화, 박형화에 지장을 초래할 수 있기 때문이다.
본 발명의 광확산층(31)은 통상의 광확산 필름과 마찬가지로 광산란체의 역할을 하는 투광성 유기 폴리머 입자 또는 무기입자와 바인더(binder) 역할을 하는 투광성 수지로 구성된다.
투광성 유기 폴리머 입자로는 가교타입의 아크릴 수지 및 메타크릴 수지, 폴리스티렌 등의 고분자로부터 만들어진 것을 사용할 수 있으며, 가교타입의 아크릴 수지로는 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA)가 바람직하다.
무기입자로는 실리카, 이산화티탄 등을 사용할 수 있다.
사용되는 유기 폴리머 입자나 무기입자의 입경은 1 ㎛ 이상 30 ㎛ 이하의 것이 적합하다. 입경이 동일한 단분산 입자 또는 입경이 상이한 입자들이 혼합된 다분산 입자를 사용할 수 있는데, 단분산 입자만을 사용할 경우에는 광확산층의 헤이즈(Haze)가 낮고, 다분산 입자를 사용할 경우에는 많은 광산란으로 인해 헤이즈가 증가하게 된다.
본 발명에서 투광성 수지로는 열 경화성 수지, 자외선 경화성 수지 또는 그들의 조합에 의해 경화하는 수지를 이용할 수 있으나, 제조효율, 비용, 내스크래치성(scratch resistance)을 고려하면 자외선 경화성 수지가 보다 적합하다.
본 발명의 투광성 수지로는 아크릴산 에스테르 또는 메타크릴산 에스테르를 모노머(monomer)의 한 성분으로서 포함하는 단독 중합체 또는 공중합체와 같은 아크릴 수지 또는 메타크릴 수지, 우레탄 수지, 폴리에스테르 수지, 스티렌-아크릴로니트릴 공중합 수지, 스티렌 수지, 초산비닐수지, 염화비닐수지, 부티랄 수지, 실리콘 수지 등을 사용할 수 있는데, 투과율이 우수한 고투명의 아크릴 수지 또는 메타크릴 수지가 바람직하다.
또한, 광확산 필름의 제단 또는 백라이트 유닛에 장착시 표면에 부착된 미세한 먼지나 이물 등의 제거를 위해 이소프로필 알콜 등의 알콜류 용제로 광확산층 표면을 자주 세척해야 하기 때문에 본 발명의 광확산층에 사용되는 투광성 수지는 이들 용제에 대한 내용제성을 갖추어야 한다. 그렇지 않으면 백화현상을 일으켜 투과율이 감소하거나 광의 균일도가 저하되어 광확산 필름으로서의 역할을 할 수 없게 된다.
본 발명의 열경화성 광확산층은 투광성 유기 폴리머 입자나 무기 입자, 열경화성 수지, 경화제 및 기타 첨가제를 배합하여 바(Bar) 코팅법, 그라비어(Gravure) 롤 코팅법, 리버스(Reverse) 롤 코팅법, 다이 코팅법, 블레이드 코팅법, 콤마 코팅법 등에 의해 투명기재 상에 코팅하여 50∼150 ℃의 온도로 건조하여 형성된다.
본 발명의 열경화성 아크릴 수지에 사용되는 모노머로는 아크릴산, 메타크릴산, 아크릴레이트, 메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 부틸메타크릴레이트, 히드록시메틸아크릴레이트, 히드록시에틸아크릴레이트, 히드록시부틸아크릴레이트, 히드록시메틸메타크릴레이트, 히드록시에틸메타크릴레이트, 히드록시부틸메타크릴레이트 등을 들 수 있다. 이러한 모노머를 메틸에틸케톤과 같은 적절한 유기 용매에서 적절한 개시제를 사용하여 라디칼 중합함으로써 용이하게 열경화성 수지를 제조할 수 있다. 이러한 열경화성 아크릴 수지는 고분자 측쇄에 존재하는 수산기나 카르복실기와 같은 극성 관능기를 가지고 있어 폴리에스테르 또는 셀룰로우스아세테이트와 같은 기재와 수소결합을 형성할 수 있어 기재에 대한 코팅 피막의 밀착력을 향상시킬 수 있다.
본 발명의 열경화성 수지의 경화제로는 열경화성 아크릴 수지의 반응기인 수산기 또는 카르복실기와 쉽게 반응할 수 있는 이소시아네이트, 멜라민 포름알데히드, 우레아 포름알데히드, 폴리아지리딘, 티탄네이트, 지르코늄 복합체, 에폭시 중에서 선택된 적어도 1종 이상을 사용할 수 있다. 이러한 열경화성 수지에 대한 경화제의 첨가 비율은 고형분 기준으로 1/10 내지 10/1로 하는 것이 바람직한데, 열경화성 수지에 대한 경화제의 첨가량이 1/10 미만이면 경화반응이 불충분하여 코팅층의 내열성 및 내스크래치성이 저하되고 10 배를 초과하면 과다한 경화제의 사용으로 인하여 코팅용액의 가사시간이 짧아져 작업성에 문제가 있다.
본 발명의 자외선 경화성 광확산층의 형성을 위해 적당한 용제 속에 자외선 경화성 수지, 투광성 유기 폴리머 입자 또는 무기입자, 기타 첨가제를 각각 소정의 비율로 첨가하고 용해 또는 분산시켜서 코팅액을 조제한다. 이러한 기타 첨가제로서는 광중합 개시제, 자외선 흡수제, 광안정제, 산화방지제, 레벨링제, 소포제 등을 들 수 있다.
본 발명의 자외선 경화성 수지로는, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기 등의 중합성 불포화결합을 갖는 모노머, 올리고머, 프리폴리머(prepolymer)를 사용용도에 맞게 적당히 혼합한 조성물이 사용된다. 이러한 모노머의 예로는 아크릴산 메틸, 메틸메타크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌메타크릴레이트, 사이클로헥실메타크릴레이트, 페녹시에틸메타크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥산아크릴레이트, 스티렌 등을 들 수 있다. 이러한 올리고머 또는 프리폴리머의 예로는 폴리에스테르아크릴레이트, 폴리우레탄아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트, 폴리에틸아크릴레이트, 알키드아크릴레이트, 멜라민아크릴레이트, 실리콘아크릴레이트 등의 아크릴레이트, 불포화 폴리에스테르, 에폭시계 화합물 등을 들 수 있다. 한편, 경화막에 내열성, 내마모성, 내용제성 등 가혹한 환경에서 내구성이 요구되는 경우에는 모노머의 양을 늘리고 3관능 이상의 아크릴레이트계 모노머를 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명의 자외선 경화성 수지를 경화하기 위한 광중합 개시제의 예로는 디에톡시아세트페논, 벤질디메킬케탈, 1-하이드록시사이클로헥실-페닐케톤 등의 아세트 페논류, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등의 벤조인에테르류, 벤조페논, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-N, N- 디메틸-N-[2-(1-옥소-2-프로페닐옥시)에틸] 벤젠메타나미늄블로미드, (4-벤조일벤질) 트리메틸암모늄클로라이드 등의 벤조페논류, 2,4-디에틸티옥산톤, 1-클로로-4-디클로로티옥산톤 등의 티옥산톤류, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐벤조일옥사이드 등을 들 수 있는데, 이들 중 1종 또는 2 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 또한, 촉진제(증감제)로서, N,N-디메틸파라톨루이진 등 아민계 화합물을 사용할 수도 있다. 본 발명의 광중합 개시제는 고형분 기준으로 자외선 경화형 수지에 대해서 0.1∼10 중량%의 범위로 첨가하는 것이 바람직하다.
본 발명의 자외선 경화에 의한 도막 형성에 있어서, ① 자외선 경화시 산소의 방해가 적어야 하며(N2 Purging 장치), ② 경화수축이 적어야 하며, ③ 기재와의 밀착성이 양호해야 한다는 특성을 충족시키도록 상기의 물질들을 적절히 배합하거나 장치를 구비해야 한다.
본 발명의 전도성 전자파차폐층(33)은 상술한 바와 같이 상기 투명기재의 광확산층(32)이 형성된 반대면에 상술한 본 발명의 전자파 차폐용 전도성 필름 코팅액 조성물을 마이크로그라비아 코팅법으로 코팅하고, 120 ~ 150 ℃의 온도에서 3 ~ 5분 동안 열소성으로 건조하여 형성시킬 수 있다.
통상적으로 반사방지층(34)은 고굴절층 상부에 저굴절층을 적층함으로써 형성할 수 있다.
본 발명의 고굴절층은 열 경화성 또는 자외선 경화성의 투광성 수지와 고굴절율의 단량체 또는 무기 미립자 중에서 하나 이상을 함유한다.
고굴절층의 굴절율은 1.6 내지 2.9의 범위이다. 상기 굴절율이 1.6 미만일 경우에는 반사방지능이 뛰어난 광학용 필름을 얻기 어렵고, 굴절율 2.9를 초과하는 층의 형성은 현재의 기술과 물질로서는 불가능하기 때문이다.
고굴절 무기 미립자는 굴절율이 1.6 내지 2.9의 범위에 있는 층을 제공할 수 있는 것이면 되고 특별히 제한되지 않으나, TiO2(굴절율 2.3∼2.9), ITO(Indium Tin Oxide, 굴절율 1.95), ATO(Antimony Tin Oxide), SnO2(굴절율 2.0∼2.1), ZnOx(굴절율 1.9∼2.1), ZrO2(굴절율 2.05), Sb2O3(굴절율 1.7), Y2O 2(굴절율 1.87), La2O3(굴절율 1.95) 등을 예로 들 수 있으며, 이들 무기 미립자는 1종 단독, 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
고굴절 무기 미립자의 함유량은 특별히 제한되지는 않으나, 통상 투광성 수지 100 중량부에 대하여 200 내지 2,000 중량부인데, 고굴절층이 무기 미립자를 200 중량부 미만으로 함유할 경우, 고굴절율이 얻어지지 않고, 2,000 중량부를 초과하여 함유될 경우, 수지 내에서 무기 미립자의 분산성의 저하가 발생하여 입자들간에 응집 현상(aggregation)이 나타날 수 있기 때문이다.
본 발명의 자외선 경화성 고굴절층의 형성을 위해 적당한 용제 속에 자외선 경화성 수지, 고굴절 단량체나 무기 미립자, 기타 각종 첨가제를 각각 소정의 비율로 첨가하고 용해 또는 분산시켜서 코팅액을 조제한다. 이러한 기타 첨가제로서는 광중합 개시제, 자외선 흡수제, 광안정제, 산화방지제, 레벨링제, 소포제 등을 들 수 있으며, 광확산층 부분에서 상술한 바와 같은 자외선 경화형 수지와 광중합 개 시제 등을 적용할 수 있다.
본 발명의 저굴절층은 자외선 경화성 또는 열경화성 수지, 저굴절율의 미립자 및 기타 첨가제로 구성된다.
저굴절층의 굴절율이 고굴절층의 굴절율 이하이면 반사방지층의 역할을 충분히 할 수 있으나, 1.2∼1.45의 굴절율을 갖는 것이 바람직하다.
저굴절층의 두께는 고굴절층과 저굴절층의 굴절율을 고려한 1/4 파장 두께를 갖는 것이 바람직하다.
굴절율이 낮은 투명 수지(굴절율 1.5 이하)의 예로는 열경화성 폴리실록산 수지(예, 신에츠화학(주) 제조의 KP-854, KP-85)나 열경화형 불소함유 폴리실록산 수지, 기타 자외선 경화성 수지를 들 수 있다. 이러한 굴절율이 낮은 자외선 경화성 수지로는, 예를 들어 트리플루오르아크릴레이트(굴절율 1.32)와 같은 저굴절율 아크릴레이트를 사용하는 것이 바람직하다. 또한 자외선 경화성의 실리콘계 수지, 예를 들어 X-12-2400(상품명, 신에츠화학(주))도 적합하다.
굴절율이 낮은 투명 수지와 병용되는 일반적인 자외선 경화성 수지(통상 저굴절율의 수지보다 굴절율이 높다.)는 내스크래치성, 내용제성, 표면경도 등 주로 피막의 강도를 높이기 위해서 함께 사용되며, 예를 들어 불포화기를 2개 이상 갖는 다관능 아크릴레이트가 바람직하다. 이 다관능 아크릴레이트의 첨가량은 굴절율의 관점에서는 적은 편이 좋지만, 내스크래치성을 향상시키기 위해서는 굴절율이 낮은 자외선 경화형 수지 100 중량부에 대하여 통상 5 중량부 이상, 보다 바람직하게는 10 중량부 이상 60 중량부 이하이다.
또한, 저굴절층의 굴절율을 줄이기 위해, 통상 불소함유 올리고머 또는 모노머나 저굴절율의 미립자를 병용하는 것이 바람직하다. 이러한 미립자를 병용하는 경우, 저굴절층의 미립자 함량은 저굴절층의 수지 100 중량부에 대해 100∼1000 중량부 정도이다.
한편, 경도향상의 목적으로 일반적인 자외선 경화성 수지(굴절율이 저굴절율 수지보다 높은 수지)를 병용하는 경우, 통상 상기 저굴절율의 미립자나 올리고머도 병용하는 것이 바람직하다. 이러한 미립자는 통상 입경이 5 ㎚ 이상 500 ㎚ 이하, 굴절율 1.45 이하의 미립자로, 이러한 미립자의 예로는 CaF2(굴절율 1.23), NaF(굴절율 1.29), Na3AlF6(굴절율 1.33), SiOx(실리카졸, 굴절율 1.35∼1.48), AlF3(굴절율 1.38), LiF(굴절율 1.4), MgF2(굴절율 1.4), 3NaFㆍAlF3(굴절율 1.4) 등을 들 수 있다.
본 발명의 저굴절층에는 표면의 오염을 방지하기 위한 방오염성 계면활성제를 함유시키는 것이 바람직한데, 방오염성 계면활성제의 예로는 불소계 계면활성제나 실리콘계 계면활성제 등을 들 수 있으며, 이러한 방오염성 계면활성제의 첨가량은 수지의 총량에 대해 10 중량% 이하이다.
III. 백라이트 유닛의 제작
도 3은 본 발명의 전도성 광확산 필름을 포함하는 LCD-TV용 백라이트 단면도이다. 도 2와 도 3을 참조하면, 본 발명의 백라이트 유닛은 본 발명의 전도성 광확산 필름을 순방향, 즉, 도광판(21) 전도성 광확산 필름(22)(반사방지층(34)/전자파차폐층(33)/투명기재(32)/광확산층(31)), 프리즘시트(23), DBEF(24)의 차례로 채용하여 제작할 수 있다. 본 발명의 전도성 광확산 필름을 백라이트 유닛에 채용함으로써 추가적으로 전도성 필름을 사용하지 않으면서도 LCD-TV의 휘도, 색상 등의 광학 특성을 저하시키지 않으면서 LCD-TV 내의 전자파의 영향으로 인한 스크린 불량(Waterfall)을 제거할 수 있다.
이하 실시예 및 비교예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명하기로 한다. 단, 이하의 실시예는 단지 본 발명의 바람직한 구현예를 설명하기 위한 것으로 본 발명의 범위가 하기 실시예에 의하여 제한되는 것은 아니다.
<실시예>
실시예 1. 전도성 광확산 필름 코팅액 조성물의 제조 및 전도성 광확산 필름의 제작
투명기재로 제막시 우레탄계 코팅제로 프라이머 처리한 100 ㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트(이하, 'PET'라 칭함) 필름을 사용하였다. 열경화형 아크릴계 수지 A811(애경화학) 100 중량부를 에틸아세테이트(EA) 150 중량부와 톨루엔(Toluene) 150 중량부의 혼합용매에 충분히 교반하여 희석한 후, 폴리메틸메타크릴레이트 (PMMA) 가교입자인 MBX-12(Sekisui) 30 중량부와 MBX-20(Sekisui) 90 중량부 각각을 상기 희석 용매에 첨가하고, 충분히 교반하여 수지 내에 분산시켰다. 코팅하기 1시간 전에 이소시아네이트 경화제 10 중량부를 상기 분산액에 첨가하여 최종적으로 코팅액을 제조하였다. 제조된 코팅액을 상기 PET 필름의 일면에 그라비어 롤 코팅법으로 코팅하고, 건조하여 20 ㎛의 광확산층을 형성하였다.
전자파차폐층은 상기 표 1에 기재된 조성에 따라, 소정용량의 용기에 먼저 PEDT 전도성 고분자 수용액(BAYER 사의 Baytron PH : 고형분 1.3 중량%) 15 중량%를 첨가하고 격렬하게 교반하면서, 이소프로필알콜 26.8 중량%, 에탄올 50 중량%, N-프로필알콜 5 중량%, N-부틸알콜 2 중량%, N-메틸아세트아마이드 1 중량%, 바인더로서 γ-글리시독시프로필 트리메톡시 실란(GE-TOSHIBA 실리콘사) 0.2 중량%를 첨가하여 상온에서 3시간 동안 고속 교반한 후 10 마이크론 필터로 필터링하여 광확산 필름 코팅액 조성물을 완성하였다. 완성된 코팅액 조성물을 상기 광확산층이 형성된 PET 필름(100 ㎛)의 반대면에 마이크로그라비아 코팅법으로 코팅하여 전도성 전자파차폐층을 형성시킨다. 이때 마이크로그라비아 코팅시 진행속도는 20 mpm으로 조절하였고, 사용되는 코팅 메쉬바 사이즈는 180 mesh 인 것을 사용하였다. 코팅 후 소성 공정을 거치는데 150 ℃에서 5 분 동안 소성하여 전도성 전자파차폐층을 수득하였다.
상기의 전도성 전자파차폐층 위에 고굴절층을 다음과 같이 적층하였다. 열경화형 아크릴계 수지 100 중량부를 에틸아세테이트 100 중량부와 톨루엔 50 중량부에 희석한 후 이소시아네이트 경화제 10 중량부, 멜라민 경화제 3 중량부를 추가하였다. 메탄올(Methanol) 50 중량부와 이소프로필알콜(Isopropyl Alcohol) 50 중 량부에 SnO2와 ATO(Antimony Tin Oxide)가 각각 300 중량부씩 분산된 졸(Sol)을 상기의 수지와 경화제의 희석액에 첨가하여 충분한 분산과정을 거쳐 고굴절 코팅액을 조제하였다. 이렇게 제조된 코팅액을 상기 전도성 코팅층 위에 그라비어 롤 코팅법으로 코팅하고 건조하여 100 nm의 고굴절 층을 형성하였다.
상기 고굴절층 상에 3 중량%의 고형분을 가지는 불소함유 실록산계 코팅액(신에츠화학, X-12-2138)을 그라비어 롤 코팅법으로 코팅하고 건조하여 두께 100 nm, 굴절율 1.4의 저굴절층을 수득하여 전도성 광확산 필름을 제조하였다.
실시예 2
전도성 코팅액 조성물의 제조에 PEDT 전도성 고분자 수용액(고형분 1.3 중량%) 18 중량%, 이소프로필알콜 26.8 중량%, 에탄올 47 중량%, N-프로필알콜 5 중량%, N-부틸알콜 2 중량%, N-메틸아세트아마이드 1 중량%, 및 γ-글리시독시프로필 트리메톡시 실란 0.2 중량%가 첨가되는 것을 제외하고는 실시예 1의 방법과 동일한 방법으로 전도성 코팅액 조성물을 제조하고, 제조된 조성물을 이용하여 실시예 1의 방법으로 전도성 광확산 필름을 제조하였다.
실시예 3
전도성 코팅액 조성물의 제조에 PEDT 전도성 고분자 수용액(고형분 1.3중량%) 21 중량%, 이소프로필알콜 26.8 중량%, 에탄올 44 중량%, N-프로필알콜 5 중량%, N-부틸알콜 2 중량%, N-메틸아세트아마이드 1 중량%, 및 γ-글리시독시프로필 트리메톡시 실란 0.2 중량%가 첨가되는 것을 제외하고는 실시예 1의 방법과 동일한 방법으로 전도성 코팅액 조성물을 제조하고, 제조된 조성물을 이용하여 실시예 1의 방법으로 전도성 광확산 필름을 제조하였다.
실시예 4
전도성 코팅액 조성물의 제조에 PEDT 전도성 고분자 수용액(고형분 1.3중량%) 25 중량%, 이소프로필알콜 26.8 중량%, 에탄올 40 중량%, N-프로필알콜 5 중량%, N-부틸알콜 2 중량%, N-메틸아세트아마이드 1 중량%, 및 γ-글리시독시프로필 트리메톡시 실란 0.2 중량%가 첨가되는 것을 제외하고는 실시예 1의 방법과 동일한 방법으로 전도성 코팅액 조성물을 제조하고, 제조된 조성물을 이용하여 실시예 1의 방법으로 전도성 광확산 필름을 제조하였다.
실시예 5
실시예 4에서 제조된 일체형 전도성 광확산 필름, DBEF 필름(3M 사)과 프리즘 시트(3M 사)를 이용하여, 도 3에 도시된 바와 같은 백라이트 유닛을 제작하였다.
비교예 1
일본 오치토비사(社)의 ITO필름(230BT3)과 SKC사(社)의 광학산필름(CH-27)을 포함하는 백라이트와 그 필름을 사용하였다.
비교예 2
시판되고 있는 광확산필름(SKC 사(社): CH-27), 전도성 ITO 필름 (오치토비사(社): 230BT3), DBEF 필름(3M 사(社))과 프리즘 시트(3M 사(社))를 이용하여, 도 1에 도시된 바와 같은 백라이트 유닛을 제작하였다.
상기 실시예 1 내지 4에 의해 형성된 전도성 광확산 필름과 비교예 1의 광확산 필름의 물성평가를 다음의 방법에 의해 실시하고, 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
(1) 표면저항
미쯔비시 케미칼(MITSUBISHI CHEMICAL)사의 Loresta(4-point probe)를 사용하여 단위 면적당 표면저항을 평가하였다.
(2) 투과도
UV-가시광선 스펙트로미터를 사용하여 550 nm에서의 투과도를 평가하였다.
(3) 반사율
PSI사의 반사율 계측기(DARSA PRO-5000)를 사용하여 측정하였다.
(4) 막경도
연필경도계를 이용하여 측정하였다.
(5) 스크래치
샘플의 코팅면을 #0000의 강철솜에 200 g의 하중을 걸쳐, 25 ㎜, 속도 30 ㎜/초로 10회 왕복 마찰한 뒤, 그 표면을 육안으로 관찰해, 하기 기준에 따라서 A 내지 C로 평가하였다.
A：상처가 0~10개
B：상처가 11~20개
C：상처가 20개 이상
한편, 실시예 5와 비교예 2의 백라이트 유닛에 대해 BM-7 LUMINANCE COLORIMETER(Topcon 사)를 이용하여 측정각을 법선으로부터 2도, 측정 높이를 백라이트 유닛의 표면으로부터 50 ㎝로 설정하여 측정하고, 그 결과를 표 2에 나타내었다.
또한, 실시예 5와 비교예 2의 백락이트 유닛의 waterfall 불량 정도를 육안으로 검사하고, 그 결과를 표 3에 나타내었다.
구분 코팅막 물성
표면저항 (Ω/□ ) 전광선투과율 (%) 분광선 투과율 (at 550nm) 막경도 스크래치
실시예 1 3.0×104 90.1 91.2 2H A
실시예 2 1.2×104 89.9 91.0 2H A
실시예 3 8.5×103 89.3 90.8 2H A
실시예 4 5.0×103 88.8 90.6 2H A
비교예 1 1.0×103 88.7 90.8 HB B
비교예 2 실시예 5 Spec.
x y x y x y
White 0.272 0.277 0.269 0.278 0.272±0.025 0.277±0.025
Red 0.634 0.332 0.632 0.331 0.634±0.03 0.332±0.03
Green 0.268 0.585 0.267 0.584 0.270±0.03 0.587±0.03
Blue 0.143 0.066 0.144 0.063 0.143±0.03 0.063±0.03
Tc(K) 12038 14516 >12000
Rep.(%) 70.0 69.9 72(min. 70)
Waterfall 불량 : 목시검사(육안관찰)
비교예 2 실시예 5
Warterfall 불량정도 중 미약
상기 표 2 내지 3에서 알 수 있듯이, 본 발명에 따른 전도성 광확산 필름은 종래의 광확산 필름에 비해 투과율, 표면저항, 막경도 등이 우수하고, 본 발명의 전도성 광확산 필름을 포함하는 백라이트는 색좌표와 색재현성에 있어서도 Spec.을 만족하며 특히 대형크기의 LCD-TV 패널의 외관상 결점인 워터폴(waterfall) 스크린 불량 개선효과가 있음을 알 수 있다.
본 발명의 전도성 광확산 필름 코팅액 조성물을 이용하여 제조된 전도성 광확산 필름은 도전성이 우수함과 동시에 고투과, 전자파차폐 효율 특성을 가지며, 특히 대형 LCD-TV의 스크린 불량(Waterfall)을 개선하기 위해 LCD-TV 백라이트에 유용하게 사용되어질 수 있다.

Claims (11)

  1. 폴리스티렌술포네이트(PSS)로 도프된 폴리에틸렌디옥시티오펜(PEDT) 수용액 15 ~ 25 중량%, 실란 커플링제 0.1 ~ 0.3 중량%, 아마이드 용매 0.5 ~ 2 중량% 및 탄소수 1 ~ 7개의 알코올 용매 60 ~ 84 중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자파 차폐용 전도성 광확산 필름 코팅액 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 폴리에틸렌디옥시티오펜의 분자량이 150,000 내지 200,000인 것을 특징으로 하는 전자파 차폐용 전도성 광확산 필름 코팅액 조성물.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 폴리스티렌술포네이트로 도프된 폴리에틸렌디옥시티오펜 수용액의 고형분 농도가 1.2 ~ 1.5 중량%인 것을 특징으로 하는 전자파 차폐용 전도성 광확산 필름 코팅액 조성물.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 실란 커플링제가 비닐트리메톡시실란 (vinyltrimethoxysilane), 비닐트리에톡시실란(vinyltriethoxysilane), γ-클로로프로필트리메톡시실란(γ-chloropropyltrimethoxysilane), N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필메틸디메톡시실란(N-β-(aminoethly)-γ-aminopropylmethyldimethoxysilane), N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필트리메톡시실란(N-β-(aminoethyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilane), γ-글리시독시프로필 트리에톡시실란(γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane), γ-메캅토프로필트리메톡시실란(γ-mercaptopropyltrimethoxysilane), 3-글리시독시프로필트리메톡시실란(3-glycidoxypropyltrimethoxysilane)으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 것이고, 상기 아마이드 용매가 N-메틸 아세트아마이드, 포름아마이드 또는 디메틸 포름아마이드에서 선택되며, 상기 알코올 용매가 이소프로필 알코올(IPA), 에탄올 (EtOH), N-부틸알콜(n-BuOH), N-프로필알콜(NPA), 에틸셀로솔브(EC), 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르(PGM) 및 디아세톤 알코올(DAA)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 것임을 특징으로 하는 전자파 차폐용 전도성 광확산 필름 코팅액 조성물.
  5. 광확산 필름의 제조방법에 있어서,
    (i) 투명기재의 일면에 광확산층을 형성하는 단계;
    (ii) 상기 광확산층이 형성된 투명기재의 반대면에 제 1 항 내지 제 4항 중 어느 한 항의 전도성 광확산 필름 코팅액 조성물을 코팅한 후, 건조하여 전도성 전자파차폐층을 형성하는 단계; 및
    (iii) 상기 전도성 전자파차폐층 위에 반사방지층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 광확산 필름의 제조방법.
  6. 제 5 항에 있어서, 상기 전도성 광확산 필름 코팅액 조성물의 코팅이 마이크로 그라비아(Micro Gravure) 코팅인 것을 특징으로 하는 전도성 광확산 필름의 제 조방법.
  7. 제 5 항 또는 제 6 항에 있어서, 상기 전도성 광확산 필름 코팅액 조성물의 코팅 후 건조가 120 ~ 150 ℃의 온도에서 3 내지 5분 동안 열소성하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 전도성 광확산 필름의 제조방법.
  8. 제 5 항 또는 제 6 항의 방법에 의해 제조된 전도성 광확산 필름.
  9. 제 8 항에 있어서, 상기 전도성 광확산 필름이 (i) 투명기재; (ii) 상기 투명기재의 일면에 형성되는 광확산층; (iii) 상기 투명기재의 반대면에 형성되는 전도성 전자파차폐층; 및 (iv) 상기 전도성 전자파차폐층 상에 형성되는 반사방지층을 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 광확산 필름.
  10. 제 8 항에 있어서, 상기 전도성 광확산 필름이 표면저항 103 내지 104Ω/□이고, 투과도가 89%~90%이며 경도가 2H~3H인 특성을 갖는 것을 특징으로 하는 전도성 광확산 필름.
  11. 제 8 항의 전도성 광확산 필름을 포함하는 백라이트.
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