KR100670509B1 - 플라즈마 디스플레이 패널 제조설비 - Google Patents

플라즈마 디스플레이 패널 제조설비 Download PDF

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Abstract

본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널 제조설비는 이온 형성공간을 제공하는 공정챔버와, 공정챔버로 전자빔을 공급하는 전자빔 발생부와, 공정챔버의 내부에 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생부와, 공정챔버의 일측에 설치되어 기판을 지지하는 기판 설치부와, 기판 설치부와 대향되게 설치되어 처리물이 수용된 처리실 및 처리실의 일측에 설치되어 처리실에 처리물이 수용된 여부를 감지하는 감지부를 포함하므로, 처리실에 처리물이 없는 상태에서 전자빔에 인입되어 처리실을 파손시키는 것을 방지하는 이점이 있다.

Description

플라즈마 디스플레이 패널 제조설비 { PLASMA DISPLAY PANEL MANUFACTURING EQUIPMENT }
도 1은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 제조설비를 도시한 도면,
도 2는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 제조설비의 감지부를 도시한 도면,
도 3,4는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 제조설비의 감지부의 작동을 도시한 도면,
도 5는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 제조설비의 감지부를 도시한 상면도이다.
* 도면의 주요 부호에 대한 간단한 설명 *
100 : 공정챔버 110 : 전자빔 공급부
130 : 처리실 140 : 기판 설치부
150 : 진공펌프 151 : 진공라인
300 : 감지부 310 : 지지부재
311 : 연결부재 313 : 연결관통홀
315 : 베어링 320 : 감지부재
321 : 롤러 330 : 전자기
340 : 알람발생기
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 증착막을 성막하여 플라즈마 디스플레이 패널을 형성하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조설비에 관한 것이다.
일반적으로 플라즈마 디스플레이 패널 ( Plasma Display Panel : PDP ) 은 기체 방전에 의해 생성된 플라즈마를 이용하여 문자 또는 영상을 표시하는 평판 디스플레이 장치로서, 그 크기에 따라 수십에서 수백 만개 이상의 픽셀(Pixel)이 매트릭스(Matrix)형태로 배열되어 있다. 그리고, 플라즈마 디스플레이 패널은 인가되는 구동 전압 파형의 형태와 방전셀의 구조에 따라 직류형(DC형)과 교류형(AC형)으로 구분된다.
직류형과 교류형에 있어서, 구조적으로 가장 큰 차이는 직류형의 경우 전극이 방전 공간에 그대로 노출되어 있어서 전압이 인가되는 동안 전류가 방전공간에 그대로 흐르게 된다는 점이다. 그러므로, 직류형의 경우에는 전류 제한을 위한 저항을 외부적으로 만들어 주어야 하는 단점을 가진다. 반면, 교류형의 경우 전극을 유전체층이 덮고 있어 자연스러운 용량성 형성으로 전류가 제한되며, 방전시 이온의 충격으로부터 전극이 보호되므로 직류형에 비해 수명이 길다. 교류 플라즈마 디스플레이 패널의 중요한 특성중의 하나인 메모리 특성도 전극을 덮고 있는 유전체 층에 의한 용량성으로부터 기인한다.
교류 플라즈마 디스플레이 패널의 발광원리를 보면, 공통 전극(또는 X전극)과 스캔 전극(또는 Y전극)에 펄스 형태의 전위차가 형성되어 방전이 일어난다. 이때 방전 과정에서 생성된 자외선이 적(R), 녹(G), 청(B)의 형광체를 각각 여기시키면서 발광이 이루어진다. 각각의 화소는 이들 형광체의 발광에 의해 조합된 빛을 내고 패널 전체를 통해 화상을 구현하게 된다.
이때, 유전체층은 각 전극을 커버하여 전류를 제한할 수 있으므로, 방전이 일어날 때, 이온 충격으로부터 전극을 보호하여 수명을 연장시킬 수 있다.
이와 같은 작용을 하기 위한 플라즈마 디스플레이 패널은 많은 단위 공정들이 유기적으로 연속되어 이루어진다. 이 중에서 이온 플레이팅 증착법은 처리물을 전자빔에 의해 증발시켜 기판에 증착시킨다.
즉, 공정챔버에는 내부에 처리물이 수용된 처리실이 마련되고, 전자빔은 공정챔버의 내부로 인입되어 처리실에 수용된 처리물을 기화시켜 기판에 증착시킨다.
그런데, 이러한 종래의 플라즈마 디스플레이 패널 제조설비는 처리실에 수용된 처리물이 기화되어 처리물의 바닥면에 인입된 전자빔이 접촉되면 전자빔에 의해 처리실이 파손되는 문제점이 있다.
따라서, 상술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 본 발명의 목적은, 처리실에 처리물의 존재유무를 감지하여 전자빔의 인입여부를 제어할 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널 제조설비를 제공하는 것이다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 이온 형성공간을 제공하는 공정챔버와, 상기 공정챔버로 전자빔을 공급하는 전자빔 발생부와, 상기 공정챔버의 내부에 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생부와, 상기 공정챔버의 일측에 설치되어 상기 기판을 지지하는 기판 설치부와, 상기 기판 설치부와 대향되게 설치되어 처리물이 수용된 처리실 및 상기 처리실의 일측에 설치되어 상기 처리실에 처리물이 수용된 여부를 감지하는 감지부를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조설비를 제공한다.
상기 감지부는 일측에 설치된 지지부재와, 일단이 상기 지지부재와 연결되는 연결부재와, 상기 연결부재와 연결되며 회동가능하게 설치되며 그 하단이 상기 처리실에 수용된 처리물과 접촉되는 감지부재 및 상기 감지부재의 일단과 접촉되어 연결되거나 단락되는 전자기가 포함된다.
상기 감지부재의 하단에는 롤러가 설치되는 것이 바람직하다.
상기 감지부재는 상기 처리실의 처리물과 접촉되도록 소정의 각도로 기울어지게 설치된 것이 바람직하다.
상기 전자기는 상기 감지부재가 상기 처리실의 바닥면과 이루는 각이 소정의 각도 이상에 이르면 상기 감지부재의 상단과 접촉되는 위치에 설치될 수 있다.
상기 감지부재는 그 상단에 상기 전자기를 단락시키거나 연결시키는 스위칭부재가 추가로 구비된 것이 좋다.
상기 감지부재에는 상기 연결부재와 연결되는 부분에 상기 감지부재의 회동 을 안내하는 베어링이 구비될 수 있다.
상기 전자기에는 상기 감지부재가 접촉되면 작동되는 알람발생기가 설치된 것이 좋다.
상기 감지부는 복수개 설치될 수 있다.
이하에서는 첨부도면을 참조하여 본 발명에 대해 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 제조설비를 도시한 도면이고, 도 2는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 제조설비의 감지부를 도시한 도면이다.
도 3,4는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 제조설비의 감지부의 작동을 도시한 도면이며, 도 5는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 제조설비의 감지부를 도시한 상면도이다.
이들 도면에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 제조설비는 공정챔버(100)와 공정챔버(100)로 전자빔을 발생시키는 전자빔 발생부(110)와, 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생부(120)와, 처리실(130) 그리고, 처리실(130)과 대향되게 설치되어 기판(S)을 지지하는 기판 설치부(140)를 포함한다.
공정챔버(100)는 이온이 형성되는 공간을 제공하는 것으로서, 일측에 진공라인(151)을 매개로 설치된 진공펌프(150)에 의해 소정의 진공도를 유지한다.
전자빔 발생부(110)는 후술될 처리실(130)에 수용되는 처리물을 기화시키기 위한 것으로서, 일실시예로는 도 1에 도시된 바와 같이, 공정챔버(100)의 일측에 설치되어 도시되지 않은 마그네틱의 자기장에 의해 곡선으로 휘면서 공정챔버(100) 로 인입되어 처리실(130)에 수용된 처리물을 기화시킨다.
처리실(130)은 내부에 처리물을 수용한 것으로서 원통형으로 형성될 수 있다. 처리실(130)에 수용된 처리물은 전자빔 발생부(110)에서 발생된 전자빔에 의해 기화된다.
처리실(130)의 일측에는 감지부(300)가 설치된다.
감지부(300)는 일측에 설치되는 지지부재(310)와, 일측은 지지부재(310)와 연결되고, 타측은 후술될 감지부재(320)와 연결되는 연결부재(311)와, 연결부재(311)와 연결되어 회동가능하며 하단이 처리실(130)에 수용된 처리물과 접촉되는 감지부재(320) 그리고, 감지부재(320)의 상단과 접촉되어 연결되거나 단락되는 전자기(330)가 포함되어 이루어진다.
여기서, 감지부재(320)에는 상단에서 소정의 간격을 두고 하측에 연결부재(311)가 관통되어 회동가능하게 연결되도록 연결관통홀(313)이 형성된다.
또한, 감지부재(320)는 처리실(130)의 바닥면을 기준으로 소정의 각도로 기울어지게 설치되고, 전자기(330)는 감지부재(320)가 바닥면과 이루는 각이 소정의 각도 이상에 이르면 감지부재(320)의 상단에 설치된 스위칭부재(323)에 의해 단락되거나 연결된다. 즉, 전자기(330)는 감지부재(320)가 처리실(130)의 바닥면과 직각에 가까운 각을 이룰 때 감지부재(320)의 상단과 접촉되게 설치된다.
더 상세히 설명하면, 감지부재(320)의 길이는 감지부재(320)가 바닥면과 접촉될 때 직각을 이루도록 접촉가능한 길이로 형성된다. 따라서, 감지부재(320)는 그 하단이 처리실(130)의 바닥면과 직각을 이룰 때에는 처리실(130)에 처리물이 존 재하지 않는다. 처리실(130)에 처리물이 존재할 경우, 감지부재(320)의 하단은 처리물과 접촉하려면 처리물의 두께에 비례하여 감지부재(320)가 회동하여 기울어지게 설치되는 것이 바람직하다.
감지부재(320)의 하단에는 롤러(321)가 설치되어 처리실(130)에 존재하는 처리물이 공정이 진행됨에 따라 줄어들면, 소정의 각도로 기울어진 감지부재(320)가 점차적으로 처리실(130)의 바닥면과 직각을 이루도록 회동될 때, 감지부재(320)의 하단과 접촉되는 부분의 마찰을 줄여준다.
또한, 연결부재(311)에는 감지부재(320)와 접촉되게 삽입되는 베어링(315)이 구비되어 감지부재(320)가 회동될 때 회동이 원활하도록 안내한다.
그리고, 전자기(330)에는 감지부재(320)가 처리실(130)의 바닥면과 직각을 이루어 그 상단이 전자기(330)에 접촉되면 작동되는 알람발생기(340)가 추가로 구비된다.
한편, 감지부(300)는 처리실(130)의 에지부와 내측에 존재하는 처리물의 양을 모두 감지하기 위해 복수개 설치된 것이 좋다.
기판 설치부(140)는 처리실(130)에서 기화된 처리물이 기판(S)에 도달할 수 있도록 처리실(130)과 대향되게 설치되어 기판(S)을 안착시킨다. 이때, 기판 설치부(140)는 도 1에 도시된 바와 같이, 처리물이 균일하게 기판(S)에 증착되도록 회전가능하게 형성되는 것이 바람직하다.
이하에서는 이러한 구성에 의한 본 발명에 따른 플라즈마 패널 디스플레이 제조설비의 작용을 상세히 설명한다.
먼저, 공정챔버(100)에는 기판(S)이 인입되고, 기판 설치부(140)에 기판(S)이 설치된다.
기판(S)이 설치되면, 공정챔버(100)의 내부는 진공라인(151)으로 연결된 진공펌프(150)가 작동되어 진공상태로 된다.
다음, 플라즈마 발생부에 전원이 인가되어 열전자를 방출시킨다.
다음, 처리실(130)의 일측에 설치된 감지부(300)가 작동된다.
감지부(300)는 처리실(130)의 내부에 처리물이 존재할 경우, 처리물의 양만큼 경사지게 설치된다. 즉, 처리실(130)에 처리물이 남아 있으면, 감지부(300)의 감지부재(320)는 처리실(130)의 바닥면과 직각을 이루도록 접촉되지 못하고 처리물 양이 많아 그 두께가 두꺼우면 두꺼울수록 경사가 완만하도록 설치된다.
다음, 전자빔 발생부(110)에서는 전자빔이 발생되고, 발생된 전자빔은 공정챔버(100)의 내부로 인입되어 처리실(130)에 수용된 처리물을 기화시킨다.
여기서, 처리실(130)의 처리물이 전자빔에 의해 기화되어 줄어들면, 처리물은 줄어드는 양만큼 그 두께가 얇아지므로 기울어진 감지부재(320)는 회동되어 그 경사가 순차적으로 급하게 된다.
즉, 감지부재(320)는 처리물이 줄어들면 줄어드는 양만큼 감지부재(320)의 상측에 형성된 연결관통홀(313)에 관통되게 삽입된 연결부재(311)를 축으로 감지부재(320)는 베어링(315)의 안내에 의해 처리실(130)의 바닥면과 직각을 이루도록 회동된다. 이때, 감지부재(320)의 하단에는 롤러(321)가 처리실(130)의 바닥면 또는 처리물과 접촉되면서 감지부재(320)의 회동이 부드럽게 되도록 한다.
다음, 처리실(130)의 처리물이 모두 기화되면, 감지부재(320)는 처리실(130)의 바닥면과 직각을 이루게되고, 감지부재(320)의 상단은 전자기(330)에 접촉된다.
감지부재(320) 상단의 스위칭부재(323)가 전자기(330)와 접촉되면, 전자빔 발생부(110)는 작동을 멈추고, 알람발생기(330)가 작동된다.
알람발생기(330)가 발생되면, 작업자는 처리실(130)에 처리물을 공급시킨다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 처리실의 일측에 감지부를 설치하여 처리실의 내부에 처리물의 수용여부를 감지함에 따라 처리실에 처리물이 없는 상태에서 전자빔에 인입되어 처리실을 파손시키는 것을 방지하는 이점이 있다.

Claims (10)

  1. 이온 형성공간을 제공하는 공정챔버;
    상기 공정챔버로 전자빔을 공급하는 전자빔 발생부;
    상기 공정챔버의 내부에 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생부;
    상기 공정챔버의 일측에 설치되어 상기 기판을 지지하는 기판 설치부;
    상기 기판 설치부와 대향되게 설치되어 처리물이 수용된 처리실; 및
    상기 처리실의 일측에 설치되어 상기 처리실에 처리물이 수용된 여부를 감지하기 위해, 일측에 설치된 지지부재, 일단이 상기 지지부재와 연결되는 연결부재, 회동가능하도록 상기 연결부재가 삽입될 연결관통홀이 형성되고, 그 하단이 상기 처리실에 수용된 처리물과 접촉되는 감지부재로 구성되는 감지부를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조설비.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 감지부는 상기 감지부재의 일단과 접촉되어 연결되거나 단락되는 전자기가 더 포함된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조설비.
  3. 삭제
  4. 제 2항에 있어서,
    상기 감지부재의 길이는 상기 감지부재의 하단이 상기 처리실의 바닥면과 직각을 이루며 접촉될 수 있는 길이로 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조설비.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 감지부재의 하단에는 롤러가 설치된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조설비.
  6. 제 5항에 있어서,
    상기 전자기는 상기 감지부재가 상기 처리실의 바닥면과 이루는 각이 소정의 각도 이상에 이르면 상기 감지부재의 상단과 접촉되는 위치에 설치된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조설비.
  7. 제 6항에 있어서,
    상기 연결부재에는 상기 감지부재와 접촉되게 삽입되는 베어링이 추가로 구비된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조설비.
  8. 제 6항에 있어서,
    상기 감지부재에는 그 상단에 상기 전자기를 단락시키거나 연결시키는 스위칭부재가 추가로 구비된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조설비.
  9. 제 2항에 있어서,
    상기 전자기에는 상기 감지부재가 접촉되면 작동되는 알람발생기가 추가로 구비된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조설비.
  10. 제 1항에 있어서,
    상기 감지부는 복수개 설치된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조설비.
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