KR100661986B1 - 진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위한장치 - Google Patents

진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위한장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치에 관한 것이다. 본 발명은 한 측에 평판부를 구비한 케이스를 포함한다. 상기 케이스 내에는 적어도 하나의 칸막이판을 구비하여, 상기 케이스 내부를 칸막이하여 쳄버를 형성하고, 상기 쳄버 외부에 적어도 하나의 완충 쳄버를 형성한다. 상기 쳄버 상하면의 칸막이판에 각각 내측 구멍을 설치하고, 상기 케이스의 상면과 하면에는 모두 외측 구멍을 설치하며, 상기 내측 구멍과 상기 외측 구멍은 동축으로 상기 평판부에 위치한다. 상기 케이스는 상기 완충 쳄버와 연통하는 배기구와 상기 쳄버에 연통하는 기체 주입구를 구비한다. 따라서, 전자현미경의 구조를 변화시키지 않으면서, 전자현미경의 표본 쳄버 내 진공 하에서 기체를 제어 및 조작하는, 기체를 포함한 관찰 환경을 제공하며, 상기 기체 환경 하에서 표본의 관찰 진행이 가능하도록 구현한다.
기체 조작, 저압 환경, 전자현미경, 표본 쳄버, 완충 쳄버, 기액 체임버, 칸막이판

Description

진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치 {A DEVICE FOR OPERATING GAS IN VACUUM OR LOW-PRESSURE ENVIRONMENT AND FOR OBSERVATION OF THE OPERATION}
도 1은 본 발명에 따른 제1 실시예의 외관을 나타내는 사시도이다.
도 2는 본 발명에 따른 제1 실시예의 단면도이다.
도 3은 본 발명에 따른 제1 실시예의 실시상태를 나타내는 단면도이다.
도 4는 본 발명에 따른 제1 실시예의 기액 쳄버가 케이스 외부에 설치된 경우를 보여주는 단면도이다.
도 5는 본 발명에 따른 제2 실시예의 단면도이다.
도 6은 본 발명에 따른 제3 실시예의 단면도이다.
도 7은 본 발명에 따른 제3 실시예의 외관을 나타내는 사시도이다.
도 8은 본 발명에 따른 제3 실시예를 위에서 내려다 볼 때의 내부구조를 나타내는 단면도이다.
도 9는 본 발명에 따른 제4 실시예의 단면도이다.
도 10은 본 발명에 따른 제9도의 부분 확대도이다.
도 11은 공지된 전자현미경의 표본 쳄버 내부를 나타내는 단면도이다.
도 12는 공지된 기술에서 환경 쳄버 설치가 변경된 후의 전자현미경 구조를 나타내는 도면이다.
도 13은 공지된 환경 쳄버의 분해 단면도이다.
[도면의 주요부분에 대한 부호의 설명]
10 진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치
11 케이스 112 외측 구멍 114 장착구
116 배기구 12 평판부 14 칸막이판
142 내측 구멍 16 쳄버 166 기체 주입구
18 완충 쳄버 21 기액 쳄버 22 가스관
24 외측관 31 표본 고정장치 32 장착대
34 개구 36 밀봉 부재 41 배기장치
50 진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치
11' 케이스 112" 외측 구멍 116', 117' 배기구
14' 칸막이판 142' 내측 구멍 144' 완충 구멍
16' 쳄버 18' 완충 쳄버
181' 상하 외부 완충 쳄버
60 진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치
11" 케이스 112" 외측 구멍 116" 배기구
142" 내측 구멍 16" 쳄버 18" 완충 쳄버
19 경사 칸막이판 192 보조 완충 쳄버 196 완충 구멍
80 진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치
81 케이스 811 외측 구멍 812 장착공
813 배기구 814 배기구 82 평판부
821 완충 쳄버 822 외부 완충 쳄버 83 칸막이판
831 완충 구멍 85 표본 고정장치 851 기체 주입관
852 수직벽 853 기체 주입구 86 가스 박스
861 개구 862 접착제 863 쳄버
864 내측 구멍 87 장착대
91 전자현미경 92 표본 쳄버 94 주입구
96 극판 99 표본
본 발명은 진공 또는 저압 환경에서 기체물질을 조작하는 기술에 관한 것으로, 더 상세하게는 진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치에 관한 것이다.
종래기술에 따르면, 미시적 척도의 관찰기술에 있어서, 현재 알려진 것은 전자현미경으로 최고 배율 확대의 효과를 달성하는 것으로, 전자현미경의 초고배율 확대에 의하여 나노(nano) 구조와 관련한 과학적 연구가 진행되었다.
전자현미경의 원리는 전자빔을 이용하여 물체를 계측하는 것으로, 반드시 진공 환경 하에서 고전압 가속전자를 통과하여 전자 렌즈 집광법을 이용하여 나노 구 조의 관찰을 실현하며, 도 11에 도시된 바와 같이, 전자현미경(61)은 표본 쳄버(62)(specimen chamber)를 구비하여 표본 삽입에 이용하며, 상기 표본 쳄버(62) 내부는 진공으로 상측 극판(pole piece)(66) 및 하측 극판(66)을 형성하여 전자빔 촛점의 정확성을 확보하고, 상기 양극판(66) 사이의 거리는 일반적으로 1cm를 초과하지 않으며, 삽입하려는 표본이 반드시 고체이어야만 상술한 진공 환경에서 관측을 진행할 수 있고, 표본이 액상 또는 기상과 같은 유체 물질일 수 없으며, 그렇지 않으면 즉시 비등, 휘발, 기화 등의 문제가 생길 수 있다.
상술한 문제를 해결하기 위하여, 전자현미경 내에 삽입 가능한 표본이 기체로 존재할 수 있다는 전제 하에, Hui S. W. 등은 1976년에 수증기를 제어할 수 있는 환경 쳄버를 제시하였는데(Hui S. W. et al., Journal of Physics E 9, 69, 1976), 도 12 내지 도 13에 도시된 바와 같이, 이러한 기술은 주로 전자현미경(71)의 표본 쳄버(72)를 개량하여 더 높이고, 상기 표본 쳄버(72)의 내부에 냉각장치(74) 및 환경 쳄버(76)를 설치하고, 상기 환경 쳄버(76) 내부는 두 개의 칸막이판(762)으로 분리하여 중앙에 수기층(水氣層)(764)을 형성하고, 상기 수기층(764) 상하에 각각 완충층(766)을 형성하며, 상기 냉각장치(74)는 상기 수기층(764)에 연결하는 온도 조절이 가능한 가스관(741)을 구비하고, 이를 이용하여 환경 쳄버(76)와 동일한 온도의 수증기를 상기 수기층(764)까지 공급하여 수증기가 수기층(764)에 진입할 시 응결이 발생되지 않도록 하고, 상기 두 개의 칸막이판(762) 및 상기 환경 쳄버(76) 상하 벽면에 평행하게 각각 관통공(763)을 설치하며, 상기 관통공(763)은 동축으로 전자빔의 통과에 이용되고, 상기 환경 쳄버(76) 중간의 수기층 (764) 일측의 외부로 표본관(767)을 연장하며, 표본 고정장치(768)는 외부로부터 상기 표본관(767)을 통과하여 상기 환경 쳄버(76) 내의 수기층(764)까지 삽입되고, O링(769)으로 상기 표본 고정장치(768)와 상기 수기층(764)의 벽면을 밀봉함으로써 수기층(764)을 외부와 단절시킨다.
조작 시, 상기 냉각장치(74) 내의 수증기는 상기 수기층(764) 내부로 유입되고, 동시에 상기 두 개의 완충층(766)에서 배기됨으로써 상기 수기층(764)으로부터 산일(散逸)되어 나온 수증기를 빼내어, 수증기가 상기 두 개의 완충층(766)으로부터 외부의 관통공(763)을 통과하여 상기 환경 쳄버(76) 밖으로 유출되는 것을 막는다. 이러한 기술에 의하여, 상기 환경 쳄버(76) 내의 수기층(764)은 기체 압력을 50torr 정도로 유지한다.
상기와 같은 기술은 수기층에서 최저한도 압력의 수증기를 형성할 수 있으나, 한편으로 많은 부분에 결점이 있어 이에 대한 개진이 요구된다:
첫째, 전자현미경의 원래 설계를 바꾸고, 전자현미경을 분해해야 하는데, 이는 과정이 매우 복잡하여 전문가만이 할 수 있고, 원가가 또한 매우 높을 뿐만 아니라, 전자현미경을 쉽게 손상시키므로, 이러한 기술은 아직까지 실현될 수 없다.
둘째, 전자현미경의 표본 쳄버 높이를 더 올리는 것은 전자빔 집광거리에 변화를 가져와서 위상차와 분해도의 손실을 일으킬 수 있다.
셋째, 쳄버 내부의 기체 압력을 증가시키는 것은 기체가 도 13의 가장 바깥의 관통공(763)으로부터 진공 구역까지 유출되도록 하기 때문에, 쳄버 내부가 상압(常壓) 상태에서의 조작이 불가능하고, 최대폭으로 완충 쳄버(766)의 배기 능력을 증가시켜 상기 기체의 유출 문제를 극복할지라도, 빠른 기체 추출 속도는 기체가 내부 관통공(763)의 입구 가까이에서 심각한 와류를 발생시키고, 전자 다중 난반사 문제를 일으켜 전자빔이 순조롭게 투사되거나 전자 회절 실험을 진행할 수 없도록 한다.
한편, 최근 관련 전자현미경의 개량작업에 종사한 Gai P. L.에 의해 주도된 연구팀은 2002년 전자현미경에서 기체, 고상(固相) 화학 반응을 관찰한 실험을 발표하였다(Gai P. L., Microscopy & Microanalysis 8, 21, 2002). 본 설계는 Hui와 큰 차이가 없으나, 이의 결점은 현미경 내의 모든 극판 사이의 공간(일반적으로 약 1cm 크기)을 쳄버 구역으로 사용해야 한다는 것이다. 따라서, 쳄버 구역 내의 기체 압력이 계속 증가해야만, 전자가 기체 분자와 부딪침으로 인해 발생하는 다중 난반사 효과가 상당히 변할 것이다. 따라서, 이러한 1cm 쳄버 두께의 설계에 있어서, 상기 쳄버에서의 압력 조작은 1기압의 기체에 도달하여 전자 다중 난반사 문제를 일으켜 전자빔이 순조롭게 투사되거나 전자 회절 실험을 진행할 수 없도록 할 것이다.
이 외에, Gai P. L.의 설계는 Hui S. W.의 설계와 마찬가지로, 쳄버 구역, 완충 구역과 모든 시스템의 개조 과정 중에 반드시 현미경의 주요 부분을 분해하여야 부품을 안착시킬 수 있으므로, 양산 가능성은 높지 않다.
같은 시기에 진행된 관련 작업, 예를 들면 Lee T. C.(Lee T. C. et al., Rev. Sci. Instrum. 62, 1438, 1991), Robertson I. M.(Robertson I. M. et al., Microscopy Research & Technique 42, 260, 1998) 및 Sharma R.(Sharma R., Microscopy & Microanalysis 7, 494, 2001) 등의 설계는 Gai P. L.의 설계와 거의 같고, 따라서 모두 쳄버가 대기압인 상태에서 조작 시 전자빔이 전자 다중 난반사 문제로 인하여 투사되거나 전자 회절 실험을 진행할 수 없는 문제에 직면하게 된다.
상술한 결점을 감안하여, 본 발명의 발명자는 끊임없는 시도와 실험 후에 마침내 본 발명을 완성하였다.
본 발명의 주요 목적은 진공 또는 저압 환경에서 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치를 제공하는 것으로, 이는 전자현미경의 원래 설계를 바꾸지 않는다는 전제 하에 기체 관찰의 환경을 제공할 수 있다.
본 발명의 다른 목적은 진공 또는 저압 환경에서 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치로서, 종래 기술과 비교할 때 보다 용이하게 기체 기압 계수를 제어하고 고압의 조작을 달성할 수 있는 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 진공 또는 저압 환경에서 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치로서, 전자현미경의 분해도에 영향을 주지 않는 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 진공 또는 저압 환경에서 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치로서, 조작이 간단하고 조립이 용이한 장치를 제공하는 것이다.
이에 따라, 상술한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 진공 또는 저압 환경에서 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치는 한 측에 평판부(平板)을 형성하는 케이스를 포함한다. 상기 케이스 내부는 적어도 하나의 칸막이판을 구비하여, 상기 케이스 내부를 칸막이하여 쳄버를 형성하고, 상기 쳄버 외부에 적어도 하나의 완충 쳄버를 형성한다. 상기 쳄버 상하면의 칸막이판에 각각 내측 구멍을 설치하고, 상기 케이스의 꼭대기면과 밑면에는 각각 외측 구멍을 설치하며, 상기 내측 구멍과 상기 외측 구멍은 동축(同軸)으로 상기 평판부에 위치한다. 상기 케이스는 상기 완충 쳄버와 연통하는 배기구와 상기 쳄버에 연통하는 기체 주입구를 구비한다. 이에 따라, 전자현미경의 구조를 변화시키지 않는 전제 하에, 기체를 포함한 관찰 환경을 제공하고, 동시에 조립이 간편하고 조작이 용이한 등의 기능을 구비한다.
본 발명의 구조 및 특징을 상세히 설명하기 위하여, 아래 도면과 결부시켜 본 발명의 바람직한 실시예를 들어 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명에 따른 제1 실시예의 외관을 나타내는 사시도이다.
도 2는 본 발명에 따른 제1 실시예의 단면도이다.
도 3은 본 발명에 따른 제1 실시예의 실시상태를 나타내는 단면도이다.
도 4는 본 발명에 따른 제1 실시예의 기액 쳄버가 케이스 외부에 설치된 경우를 보여주는 단면도이다.
도 5는 본 발명에 따른 제2 실시예의 단면도이다.
도 6은 본 발명에 따른 제3 실시예의 단면도이다.
도 7은 본 발명에 따른 제3 실시예의 외관을 나타내는 사시도이다.
도 8은 본 발명에 따른 제3 실시예를 위에서 내려다 볼 때의 내부구조를 나타내는 단면도이다.
도 9는 본 발명에 따른 제4 실시예의 단면도이다.
도 10은 본 발명에 따른 제9도의 부분 확대도이다.
도 1 내지 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 제1 실시예가 제공하는 진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치(10)에 있어서, 케이스(11), 온도 조절이 가능한 기액 쳄버(21), 표본 고정장치(31) 및 배기장치(41)를 주요 구성 요소로서 포함한다.
상기 케이스(11)는 한 측에 평판부(12)을 형성하고, 상기 평판부(12)의 두께는 대략 전자현미경(91)의 표본 쳄버(92)(도 3에 도시됨) 내의 상하 양극판 간의 간격보다 작으며, 일반적으로 이 간격은 1cm 이하이고, 상기 케이스(11) 내부는 몇 개의 칸막이판(14)이 있어 상기 케이스(11) 내부를 칸막이하여 쳄버(16)를 형성하고, 상기 쳄버(16) 외부의 위쪽과 아래쪽에 각각 완충 쳄버(18)를 형성하며, 상기 쳄버(16) 상하면의 칸막이판(14)에 각각 내측 구멍(142)을 설치하고, 상기 케이스(11)의 상면과 저면에 각각 외측 구멍(112)을 설치하며, 상기 내측 구멍(142)와 상기 외측 구멍(112)은 동축으로 상기 평판부(12)에 위치하고, 상기 내측 구멍(142)의 직경은 10∼200㎛, 상기 외측 구멍의 직경은 20∼800㎛이며, 본 실시예의 상기 내측 구멍(142)의 직경은 100㎛, 상기 외측 구멍(112)의 직경은 200㎛이며, 상기 내측 구멍(142)의 직경은 상기 외측 구멍(112)의 직경보다 작고, 상기 케이스(11)는 장착구(114)를 구비하고 있어 상기 쳄버(16)에 대응하여 상기 쳄버(16)가 상기 케이스(11)의 외부와 연통되도록 하고, 또한 상기 케이스(11)는 각각의 상기 완충 쳄버(18)와 각각 연통하는 두 개의 배기구(116)와 상기 쳄버(16)와 연통하는 기체 주입구(166)를 구비한다;
온도 조절이 가능한 기액 쳄버(21)에 있어서, 상기 케이스(11) 내의 상기 완충 쳄버(18) 안에 위치하며, 상기 기액 쳄버는 상기 기체 주입구(166)와 연결되는 온도 조절이 가능한 가스관(22)를 구비하여, 상기 기액 쳄버(21) 내부가 쳄버(16)와 같은 온도의 기체를 상기 쳄버(16) 내에까지 제공하고, 상기 기체는 필요에 따라 질소, 산소, 헬륨, 이산화탄소, 그 밖의 기체이거나, 또는 상술한 단일 또는 복수의 혼합기체와 상기 기액 쳄버(21) 내 액체 증기의 혼합기체이며, 상기 가스관(22)은 상기 기액 쳄버(21)에 삽입되고 튜브 선단을 상기 기액 쳄버(21) 내의 상단에 위치시키며, 도 2에서 알 수 있는 바와 같이, 상기 기액 쳄버(21) 내에 액체를 담을 때에 상기 가스관(22)의 튜브 선단은 상기 기액 쳄버(21) 내 액체의 액면보다 높아서 상기 액체 증기를 제공할 수 있으며, 상기 기액 쳄버(21)는 상기 케이스(11) 외부와 연통하는 온도 조절이 가능한 외측관(24)을 구비하여, 외부에서 기체를 제공하거나 그 밖의 기체를 직접 제공하는 데 사용할 수 있고(예를 들면, 헬륨, 질소 등), 상기 외부에서 제공되는 기체는 미리 가열시켜 반드시 기액 쳄버(21)와 같은 온도로 조절하여 기액 쳄버(21) 내 상기 액체 증기가 냉각 기체를 만나서 응결되는 것을 피하도록 하며, 상기 본 실시예에서, 상기 기액 쳄버(21) 내에 쳄버(16)와 같은 온도의 물을 담아 상기 온도에서의 포화수증기압을 상기 쳄버(16) 내부로 제공한다;
표본 고정장치(31)에 있어서, 표본 적재에 사용하는 장착대(32)를 포함하며, 상기 장착대(32)에는 개구(34)가 형성되어 있고, 상기 표본 고정장치(31)는 외부로부터 상기 장착구(114)를 통하여 삽입되어 상기 쳄버(16) 내에 설치되고, 상기 내측 구멍(142) 및 상기 외측 구멍(112)의 동축 중심이 상기 개구(34)를 통과하며, 상기 표본 고정장치(31)는 밀봉 부재(36)를 구비하고 있어 상기 표본 고정장치(31)와 상기 쳄버(16) 사이의 틈을 밀봉한다;
배기장치(41)는 상기 두 개의 배기구(116)에 연결되어 상기 두 개의 완충 쳄버(18)의 배기에 사용된다.
도 2 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 상술 구조에 따른 본 발명에 있어서, 조작 시에 전자현미경(91)과 조합하여 설치하는 표본 쳄버(92)는 상기 표본 쳄버(92) 측면에 제조자로부터 출하되어 나올 때 미리 설치된 주입구(94)로부터 직접 삽입할 수 있고, 상기 평판부(12)의 높이는 전자현미경(91)의 두 극판(96)의 간격보다 작으므로, 상기 평판부(12)은 상기 두 극판(96) 사이에 놓일 수 있고, 상기 내측 구멍(142) 및 상기 외측 구멍(112)이 전자현미경(91)의 전자빔이 통과하는 통로에서 마주 보게 하며, 또한 표본(99)이 적재된 상기 표본 고정장치(31)를 상기 장착구(114)로부터 상기 쳄버(16)로 삽입하여 상기 표본(99)이 상기 내측 구멍(142)과 상기 외측 구멍(112)에서 마주 보도록 한다.
상기 케이스(11), 상기 칸막이판(14), 상기 기액 쳄버(21), 가스관(22) 및 상기 표본 고정장치(31)를 조절하는 온도는 가스관(22)로부터 주입된 기체온도가 상기 쳄버(16), 상기 표본 고정장치(31) 및 이의 전단(前端)의 장착대(32)의 온도 와 같도록 한다. 또한, 상기 기액 쳄버(21)를 통과하여 미리 형성된 압력의 기체를 상기 쳄버(16) 내까지 제공하고, 이로써 상기 배기장치(41)는 상기 두 개의 완충 쳄버(18)를 배기하고, 상기 쳄버(16) 내에서 상기 내측 구멍(142)을 통과하여 상기 두 개의 완충 쳄버(18)까지 산일되는 기체가 즉시 추출될 수 있으나, 상기 외측 구멍(112)을 거쳐 상기 케이스(11) 바깥으로 산일될 수 없으며, 이에 따라 공기 추출속도 및 상기 기액 쳄버(21) 기체의 주입속도를 제어하여, 상기 쳄버(16) 내의 기체를 미리 설정한 압력으로 유지할 수 있어, 진공 환경에서 상기 쳄버(16) 중 기체 조작의 효과를 달성하고, 전자현미경(91) 자체의 전자빔이 상기 내측 구멍(142) 및 상기 외측 구멍(112)를 통과하여 상기 표본(99)을 관찰할 수 있어, 이로써 관찰의 효과를 실현할 수 있다.
본 제1 실시예에 있어서, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 기액 쳄버(21)가 상기 케이스(11)의 바깥에 설치될 수 있고, 상기 가스관(22)을 이용하여 상기 케이스(11) 내로 삽입되어 상기 기체 주입구(166)에 연결되며, 본 구조는 기액 쳄버(21)를 상기 케이스(11) 내에 설치할 때의 기능을 구비할 뿐 아니라, 동시에 미포화 증기의 기체 압력 범위를 제공할 수 있고, 기액 쳄버(21)가 케이스(11) 바깥에 설치될 경우, 상기 기액 쳄버(21)의 온도가 쳄버(16)와 표본 고정장치(31)의 전단 장착대(32) 보다 낮은 온도로 조절될 수 있고, 케이스(11) 내 쳄버(16), 표본 장착대(32)와 동일한 온도를 유지하면 안되므로, 이에 따라 장착대(32) 위에 적재한 표본 가까이에서 포화증기압보다 낮은 증기 압력 환경을 형성할 수 있고, 상기 케이스(11) 외부에 설치하여 조작자의 조작을 편리하게 할 수 있으며, 언제라도 기체 주입동작을 개폐할 수 있는 동시에 정확하게 수위와 공급 수량(水量)을 판단할 수 있어서, 큰 편리함을 가진다.
도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2 실시예에 따른 진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치(50)에 있어서, 주요 사항은 대체로 전술한 실시예와 같고, 차이점은 아래와 같다:
상기 케이스(11') 내부가 복수의 칸막이판(14')에 의해 상기 쳄버(16') 위쪽의 상기 완충 쳄버(18') 위에 다시 상부 외측 완충 쳄버(181')를 형성하고, 상기 쳄버(16') 아래쪽의 상기 완충 쳄버(18') 아래에 다시 하부 외측 완충 쳄버(181')를 형성하며, 상기 두 개의 완충 쳄버(18')는 각각 배기구(116')에 대응하고, 상기 상하 바깥 완충 쳄버(181')는 각각 또 다른 배기구(117')에 대응하며, 상기 배기구(116', 117')는 상기 케이스(11')에 설치되고, 상기 두 개의 완충 쳄버(18')와 상기 상하 바깥 완충 쳄버(181') 간의 칸막이판(14')에는 각각 완충 구멍(144')이 형성되어 있고, 상기 내측 구멍(142') 및 상기 외측 구멍(112')과 동축을 이룬다;
그 중, 상기 완충 구멍(144")의 직경은 10∼400㎛ 범위이고, 상기 내측 구멍(142')과 상기 외측 구멍(112')의 직경 사이이다. 이로써, 더 많은 층으로 이루어진 완충 쳄버(18', 181')에 의해 층마다 감압하는 효과를 가져오고, 상기 쳄버(16') 내의 기체 압력은 이에 따라 더 높은 압력 범위를 실현할 수 있다. 이러한 상태에서, 상부 외측 완충 쳄버(181') 및 상기 하부 외측 완충 쳄버(181')에 대한 배기 속도는 반드시 상기 두 개의 완충 쳄버(18')에 대한 배기 속도보다 커야 한다.
본 발명의 제2 실시예에 따른 조작 방식은 대체적으로 상술한 제1 실시예와 같다. 케이스(11) 내부 완충 쳄버 수량이 제1 실시예와 비교하여 2배 증가되므로 상기 완충 쳄버의 기체 배기 속도 조작 범위가 크고 더욱 탄력성이 있으며, 본 실시예에 따라 완충 쳄버(18')와 바깥 완충 쳄버(181')를 조절하는 배기 속도는 각각 160L/sec와 240L/sec 또는 그 이상이며, 쳄버(16') 내의 압력을 총압 760torr의 기체 또는 증기와 기체의 환경까지 올릴 수 있고, 기체가 상기 케이스(11)의 외측 구멍(112')으로부터 케이스(11) 외부의 진공 구역까지 누출되는 현상을 조성하지 않을 것이다.
도 6 내지 도 8에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제3 실시예에 따른 진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치(60)에 있어서, 주요 사항은 대체로 전술한 실시예와 같고, 차이점은 아래와 같다:
각각의 완충 쳄버(18") 내부가 경사 칸막이판(19)을 구비하고, 각각의 상기 완충 쳄버(18") 원래의 공간이 두 개의 완충 쳄버(192)로 분리되며, 각각의 상기 경사 칸막이판(19)은 완충 구멍(196)을 구비하여 상기 내측 구멍(142") 및 상기 외측 구멍(112")과 동축을 이루고, 각각의 상기 완충 쳄버(192)는 각각 상기 케이스(11") 위의 배기구(116")에 대응하여 설치되어 배기에 사용될 수 있다.
본 발명의 제3 실시예에 있어서, 경사 칸막이판(19)의 설치로 케이스(11") 높이를 증가시키지 않는 조건 하에 완충 쳄버(18")의 수량을 증가시키고, 상술한 제1 실시예와 비교할 때 상하에 각각 완충 쳄버를 하나 추가하여, 상술한 제2 실시예에 나타내는 쳄버(16") 압력을 760torr까지 높이는 효과를 달성할 수 있고, 동시 에 상기 완충 쳄버의 기체배기 속도 조작 범위가 크고 더욱 더 탄력성을 가질 수 있도록 한다.
도 9 내지 도 10에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제4 실시예에 따른 진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치(80)는 케이스(81), 표본 고정장치(85)와 가스 박스(86)를 포함한다.
상기 케이스(81)는 한 측에 평판부(82)을 형성하고, 상기 케이스(81) 내부는 두 개의 칸막이판(83)이 있어, 상기 케이스(81) 내부를 칸막이하여 하나의 완충 쳄버(821)를 형성하고, 상기 완충 쳄버(821) 외부의 위쪽과 아래쪽에 각각 바깥 완충 쳄버(822)를 형성하며, 상기 완충 쳄버(821)와 상기 두 개의 바깥 완충 쳄버(822) 사이의 칸막이판(83)은 각각 완충 구멍(831)을 구비하여 각각 상기 완충 쳄버(821)의 상하부에 위치하고, 상기 케이스(81)의 상하면은 각각 외측 구멍(811)을 구비하여 바깥 세계와 연통하며, 상기 케이스(81)은 장착구멍(812)을 구비하여 상기 완충 쳄버(821)에 연통하고, 두 개의 배기구(813)를 구비하여 상기 완충 쳄버(821)에 대응하며, 또 다른 두 개의 배기구(814)는 각각 상기 두 개의 바깥 완충 쳄버(822)에 대응한다;
표본 고정장치(85)에 있어서, 상기 장착구(812)를 통과하여 상기 완충 쳄버(821) 내로 삽입되며, 상기 표본 고정장치(85) 내부에 기체 주입관(851)를 형성하고;
가스 박스(86)에 있어서, 일단에 개구(861)를 구비하며, 상기 가스 박스(86)의 일부분은 상기 표본 고정장치(85)의 전단에 삽입되고, 가스 박스 개구(861)에서 상기 기체 주입관(851)에 연통하며, 접착제(862)로 접착 연결되고, 상기 표본 고정장치(85)는 상기 가스 박스(86) 주위에 수직벽(852)을 형성하며, 상기 표본 고정장치(85)는 상기 기체 주입관(851)에 연통하는 기체 주입구((853)를 구비하고, 장착대(87)는 상기 가스 박스(86) 내에 형성되어 표본 설치에 사용할 수 있고, 상기 가스 박스(86) 내에 쳄버(863)를 형성하여 상기 장착대(87)를 둘러싸며, 상기 가스 박스(86)의 상하면에는 각각 내측 구멍(864)을 구비하고 있어 상기 완충 쳄버(821)에 연통하고, 상기 내측 구멍(864), 상기 완충 구멍(831) 및 상기 외측 구멍(811)은 동축을 이룬다.
본 발명에 따른 제4 실시예의 조작 방법은 주로 상술한 제2 실시예와 대체적으로 같으므로, 다시 설명하지 않고, 그 중 상기 기체 주입관(851) 내로 삽입되는 기체 온도는 반드시 상기 기체 주입관(851) 벽의 온도보다 낮거나 같아야 하며, 이로써 상기 기체 주입관(851) 내에 삽입되는 증기가 냉각 기체와 만나서 응결되는 것을 피할 수 있다.
본 발명에 따른 제4 실시예는 주로 쳄버(863)를 상기 표본 고정장치(85) 내에 형성하고, 이에 따라 상술한 제1 실시예의 쳄버가 완충 쳄버로 바뀌도록 함으로써, 제1 실시예와 비교하여 완충 쳄버를 추가로 하나를 형성하여 케이스(81) 높이를 증가시키지 않는 조건 하에 완충 쳄버의 수량을 증가시킬 수 있고, 이는 상술한 제2 실시예가 나타내는 쳄버 압력을 760torr까지 상승시키는 효과를 가져올 수 있으며, 동시에 상기 완충 쳄버의 기체 배기 속도의 조작 범위가 넓어져서 더욱 탄력성을 구비하게 할 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명이 구비하는 장점은 아래와 같다;
첫째, 본 발명은 전자현미경의 원래 설계를 바꾸지 않고도, 출하 시 이미 설치된 삽입구를 통해 전자현미경을 직접 삽입할 수 있으며, 이는 단일한 조립의 삽입이고, 종래 기술이 환경 쳄버를 직접 전자현미경에 설정하는 설치의 복잡성 및 용이하지 않은 양산성 문제를 해결함으로써, 본 발명의 조립 설정이 매우 간단해져 간단한 훈련으로 조작할 수 있고, 원가가 비교적 저렴하며, 전자현미경을 손상시키지 않을 수 있으므로, 산업상 조업개시 요구에 충분히 적용할 수 있는 기술이다.
둘째, 본 발명에 따른 설치는 용이하고, 조작자가 쉽게 외부로부터 배기 속도와 기체를 조절하여 속도 등 계수를 제공할 수 있도록 하여 전자현미경을 분해하여 조정할 필요가 없으므로 기압의 계수 조절이 비교적 쉽다.
셋째, 본 발명은 전자현미경의 표본 쳄버 높이를 조정할 필요가 없으므로, 전자빔 집광 거리의 변화를 발생시키지 않으며, 종래 기술이 갖는 거리 및 분해도의 손실 등 문제를 해결하였다.
넷째, 종래 기술에 따른 설계에 있어서 전자빔이 기체를 통과하는 통로는 극판간의 간격 또는 그 이상이나, 본 발명에 따른 평판부를 도입하는 설계는 쳄버의 두께를 매우 얇게 하여, 전자빔이 기체를 통과하는 거리를 크게 단축시킬 수 있어, 전자빔이 과다한 기체분자와 부딪쳐서 심각한 전자 다중 난반사를 가져옴으로써 분해도가 손실되는 문제를 발생시키지 않을 수 있다; 또한, 쳄버 외부에 복수층의 완충 쳄버를 설치하는 본 발명의 설계는 다른 완충 쳄버 내에 존재하는 압력이 절 절히 내려갈 수 있도록 하고, 상기 완충 쳄버 기체 배기 속도에 대한 조작 범위를 더 넓힐 수 있으며, 이와 같이, 복수층 조정의 조작 방식은 상기 쳄버 내의 기체 압력을 높일 수 있고, 대기압 환경을 실현할 수 있다.

Claims (17)

  1. 진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치에 있어서,
    한 측면에 평판부를 구비한 케이스; 쳄버; 및 내측 구멍과 외측 구멍
    을 포함하며,
    상기 케이스 내부는 적어도 하나의 칸막이판을 구비하여 상기 케이스 내부를 칸막이하여 쳄버를 형성하고, 상기 쳄버 외부에 적어도 하나의 완충(緩衝) 쳄버를 형성하고,
    상기 쳄버 상하면의 칸막이판은 각각 내측 구멍을 구비하고, 상기 케이스의 상면 및 저면은 각각 외측 구멍을 구비하며,
    상기 내측 구멍과 상기 외측 구멍은 동축(同軸)으로 상기 평판부에 위치하고,
    상기 케이스는 상기 완충 쳄버에 연통(連通)하는 배기구와 상기 쳄버에 연통하는 기체 주입구를 구비하는 것을 특징으로 하는
    진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    기액(氣液) 쳄버를 추가로 포함하며,
    상기 기액 쳄버는 상기 기체 주입구에 연결되는 가스관으로써 상기 쳄버에 기체를 제공하는 것을 특징으로 하는
    진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 기체가 증기, 특정 기체, 또는 증기와 특정 기체의 혼합물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 특정 기체가 질소(N2), 산소(O2), 이산화탄소(CO2)，기타 불활성 기체 또는 이들의 혼합물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 기액 쳄버가 상기 완충 쳄버 내에 위치하는 것을 특징으로 하는 진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치.
  6. 제2항에 있어서,
    상기 기액 쳄버가 상기 케이스 외부에 위치하는 것을 특징으로 하는 진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치.
  7. 제1항에 있어서,
    장착대를 구비한 표본 고정장치를 추가로 포함하며,
    상기 장착대는 하나의 개구(開口)를 구비하고,
    상기 케이스는 상기 쳄버에 연통하는 장착구를 구비하고,
    상기 표본 고정장치는 외부로부터 상기 장착구를 통과하여 삽입되어 상기 쳄버 내에 설치되고, 상기 내측 구멍 및 상기 외측 구멍의 동축 중심이 상기 개구를 통과하며,
    상기 표본 고정장치는 밀봉 부재를 구비하여 상기 표본 고정장치와 상기 쳄버 사이의 틈을 밀봉하는 것을 특징으로 하는
    진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치.
  8. 제1항에 있어서,
    배기장치를 추가로 포함하며, 상기 배기장치는 상기 배기구에 연결되는 것을 특징으로 하는 진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 내측 구멍의 직경은 10∼200㎛ 범위이고, 상기 외측 구멍의 직경은 20∼800㎛ 범위이며, 상기 내측 구멍 각각의 직경이 상기 외측 구멍 각각의 직경보다 작은 것을 특징으로 하는 진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위 한 장치.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 평판부의 두께가 전자현미경의 표본 쳄버(specimen chamber) 내의 상하 두 극판(pole piece) 사이의 거리보다 작은 것을 특징으로 하는 진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 케이스 내부는 상기 완충 쳄버 위쪽과 아래쪽에 각각 상부 외측 완충 쳄버 및 하부 외측 완충 쳄버를 추가로 형성하고,
    상기 완충 쳄버, 상기 상부 외측 완충 쳄버 및 상기 하부 외측 완충 쳄버는 모두 상기 배기구에 대응하며,
    상기 배기구는 상기 케이스에 설치되고,
    상기 완충 쳄버와 상기 상하 외측 완충 쳄버 사이의 칸막이판은 각각 완충 구멍을 형성하고, 상기 내측 구멍 및 상기 외측 구멍과 동축을 이루는 것을 특징으로 하는
    진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 완충 구멍의 직경은 10∼400㎛ 범위이고, 상기 완충 구멍의 직경이 상 기 내측 구멍의 직경과 상기 외측 구멍의 직경 사이인 것을 특징으로 하는 진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치.
  13. 제11항에 있어서,
    상기 상부 외측 완충 쳄버 및 상기 하부 외측 완충 쳄버의 배기 속도가 상기 완충 쳄버의 배기 속도보다 큰 것을 특징으로 하는 진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치.
  14. 제1항에 있어서,
    상기 완충 쳄버 내에 경사 칸막이판을 추가로 구비하여 각각의 상기 완충 쳄버의 원래 공간을 두 개의 완충 쳄버로 분리하고,
    각각의 상기 경사 칸막이판은 완충 구멍을 구비하고,
    상기 완충 구멍은 상기 내측 구멍 및 상기 외측 구멍과 동축을 이루어 각각의 상기 보조 완충 쳄버가 상기 케이스의 배기구에 대응되는 것을 특징으로 하는
    진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치.
  15. 진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치에 있어서,
    한 측면에 평판부를 구비한 케이스, 및
    장착구를 통과하여 완충 쳄버 내로 삽입되는 표본 고정장치
    를 포함하며,
    상기 케이스 내부는 적어도 하나의 칸막이판을 구비하여 상기 케이스 내부를 칸막이하여 완충 쳄버를 형성하고, 상기 완충 쳄버 외부에 외측 완충 쳄버를 형성하며,
    상기 완충 쳄버와 상기 외측 완충 쳄버 사이의 칸막이판은 적어도 2개의 완충 구멍을 구비하여, 각각 상기 완충 쳄버의 상하부에 위치하고,
    상기 케이스의 상하면은 각각 외측 구멍을 구비하여 외부와 연통하고, 상기 케이스는 장착구를 구비하여 상기 완충 쳄버에 연통하고, 또한 2개의 배기구를 구비하여 각각 상기 완충 쳄버 및 상기 외측 완충 쳄버에 대응하고,
    상기 표본 고정장치의 내부는 기체 주입관, 가스 박스를 형성하고, 일단(一端)에 개구를 구비하며,
    상기 가스 박스는 부분적으로 상기 표본 고정장치의 전단(前端)에 삽입되고, 상기 개구에 의해 상기 기체 주입관에 연통하며,
    상기 표본 고정장치는 기체 주입구를 구비하여 상기 기체 주입관에 연통하고,
    상기 가스 박스 내에 형성되는 장착대는 표본 설치에 사용될 수 있고,
    상기 가스 박스 내에 쳄버를 형성하고, 상기 가스 박스의 상하면은 각각 내측 구멍을 구비하여 상기 완충 쳄버에 연통하고,
    상기 내측 구멍, 상기 완충 구멍 및 상기 외측 구멍은 동축을 이루는 것을 특징으로 하는
    진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 가스 박스와 상기 표본 고정장치 사이를 접착제로 접착하여 연결하는 것을 특징으로 하는 진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치.
  17. 제15항에 있어서,
    상기 표본 고정장치는 상기 가스 박스 주위에 형성된 수직벽을 구비하는 것을 특징으로 하는 진공 또는 저압 환경에서의 기체 조작 및 이의 관찰을 위한 장치.
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009511223A (ja) * 2005-10-17 2009-03-19 ノボ・ノルデイスク・エー／エス 通気式薬剤リザーバユニット
TW200722732A (en) * 2005-12-09 2007-06-16 Li Bing Huan Semi-enclosed observation space for electron microscopy
JP5284699B2 (ja) * 2008-03-17 2013-09-11 日本電子株式会社 電子顕微鏡の試料装置
JP6364167B2 (ja) * 2013-09-30 2018-07-25 株式会社日立ハイテクノロジーズ 環境制御型荷電粒子観察システム
US10520527B2 (en) * 2017-12-15 2019-12-31 The Regents Of The University Of California Miniature device for ultra high sensitivity and stability probing in vacuum
CN109030519B (zh) * 2018-06-15 2020-11-17 义乌市研创工业设计有限公司 一种冷冻电镜用的可操作观察记录装置
EP3913654A1 (en) 2020-05-20 2021-11-24 FEI Company Axial alignment assembly, and charged particle microscope comprising such an alignment assembly

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04345739A (ja) * 1991-05-23 1992-12-01 Hitachi Ltd 電子顕微鏡等に用いる試料汚染防止装置
JP2005083853A (ja) 2003-09-08 2005-03-31 Jeol Ltd 走査形プローブ顕微鏡
JP2005100988A (ja) 2003-09-24 2005-04-14 Carl Zeiss Nts Gmbh 粒子放射装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2662365B2 (ja) * 1993-01-28 1997-10-08 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 改良された排出システムを有する単一基板式の真空処理装置
US20020015855A1 (en) * 2000-06-16 2002-02-07 Talex Sajoto System and method for depositing high dielectric constant materials and compatible conductive materials
US6403491B1 (en) * 2000-11-01 2002-06-11 Applied Materials, Inc. Etch method using a dielectric etch chamber with expanded process window
TW200639901A (en) * 2005-05-09 2006-11-16 Li Bing Huan Device for operating gas in vacuum or low-pressure environment and for observation of the operation

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04345739A (ja) * 1991-05-23 1992-12-01 Hitachi Ltd 電子顕微鏡等に用いる試料汚染防止装置
JP2005083853A (ja) 2003-09-08 2005-03-31 Jeol Ltd 走査形プローブ顕微鏡
JP2005100988A (ja) 2003-09-24 2005-04-14 Carl Zeiss Nts Gmbh 粒子放射装置

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