KR100656426B1 - Circuit for generating internal voltage in semiconductor memory apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 일반적인 반도체 메모리 장치의 전원 공급 회로의 구성을 나타낸 블록도,1 is a block diagram showing a configuration of a power supply circuit of a general semiconductor memory device;
도 2는 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로의 구성을 나타낸 블록도,2 is a block diagram showing a configuration of an internal power generation circuit of a semiconductor memory device according to the present invention;
도 3은 도 2에 도시한 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로의 상세 구성도,3 is a detailed configuration diagram of an internal power generation circuit of the semiconductor memory device shown in FIG. 2;
도 4는 도 3에 도시한 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로의 시뮬레이션 결과를 나타낸 그래프이다.4 is a graph illustrating a simulation result of an internal power generation circuit of the semiconductor memory device shown in FIG. 3.
<도면의 주요 부분에 대한 부호 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>
10 : 기준전압 생성 회로 20/200 : 내부전원 생성 회로10: reference
30 : 내부 회로 210 : 제 1 제어부30: internal circuit 210: first control unit
220 : 제 2 제어부 230 : 제 3 제어부220: second control unit 230: third control unit
240 : 제 1 비교부 250 : 제 2 비교부240: first comparator 250: second comparator
260 : 구동부 270 : 전압 분배부260: driver 270: voltage divider
280 : 지연부280: delay unit
본 발명은 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성시 초기에 발생하는 오동작을 방지하는 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로에 관한 것이다.The present invention relates to an internal power generation circuit of a semiconductor memory device, and more particularly, to an internal power generation circuit of a semiconductor memory device that prevents a malfunction occurring at an initial stage when generating an internal power supply of the semiconductor memory device.
반도체 메모리 장치는 외부로부터 외부 공급전원(VDD), 그라운드 전압(VSS) 등을 공급 받아 동작한다. 외부에서 공급된 각각의 전압들은 상기 반도체 메모리 장치 내부의 각 영역에서 요구하는 레벨의 전압으로 변환된 후 사용된다. 반도체 메모리 장치는 내부의 각 영역의 필요에 따라 주변회로 동작전압(Vperi), 고전위 전압(VPP), 벌크 전압(VBB), 코어회로 동작전압(Vcore) 등이 사용되며, 외부에서 공급 받은 전압으로부터 내부의 전원을 생성하기 위해 각각의 내부 전원 생성 회로가 존재하게 된다.The semiconductor memory device operates by receiving an external supply voltage VDD, a ground voltage VSS, and the like from the outside. Each of the voltages supplied from the outside is converted into a voltage of a level required by each region inside the semiconductor memory device and then used. In the semiconductor memory device, peripheral circuit operating voltage (Vperi), high potential voltage (VPP), bulk voltage (VBB), core circuit operating voltage (Vcore), etc. are used according to the needs of each region inside. There is a respective internal power generation circuit to generate internal power therefrom.
반도체 메모리 장치에서 내부 전원을 생성하는 데에 사용되는 외부 공급전원(VDD)은 여러가지 요인에 의해 레벨의 변동이 생길 수 있다. 그러나 반도체 메모리 장치 내부의 동작이 원활히 이루어지기 위해서는 외부 공급전원(VDD)의 변화에 영향 받지 않는 안정적인 내부 전원이 생성되어야만 한다.The level of external supply power VDD used to generate internal power in a semiconductor memory device may vary due to various factors. However, in order for the operation inside the semiconductor memory device to be smoothly performed, a stable internal power source that is not affected by the change of the external power supply VDD must be generated.
이하, 종래의 기술에 따른 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로를 도 1을 참조하여 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, an internal power generation circuit of a semiconductor memory device according to the related art will be described with reference to FIG. 1.
도 1은 일반적인 반도체 메모리 장치의 전원 공급 회로의 구성을 나타낸 블록도이다.1 is a block diagram showing a configuration of a power supply circuit of a general semiconductor memory device.
상기 반도체 메모리 장치의 전원 공급 회로는 외부 공급전원(VDD)로부터 기준전압(Vref)을 생성하는 기준전압 생성 회로(10), 상기 외부 공급전원(VDD) 및 상기 기준전압(Vref)으로부터 내부 전원(Vint)을 생성하는 내부 전원 생성 회로(20) 및 상기 내부 전원(Vint)이 사용되는 내부 회로(30)로 구성된다.The power supply circuit of the semiconductor memory device may include a reference
여기에서 상기 기준전압(Vref)은 상기 내부 전원(Vint)을 생성하는 데에만 사용되는 전압이지만, 상기 내부 전원(Vint)은 각종 내부 회로에 공급되는 다양한 전원으로 활용될 수 있다.Here, the reference voltage Vref is a voltage used only to generate the internal power supply Vint, but the internal power supply Vint may be used as various power sources supplied to various internal circuits.
이와 같은 반도체 종래의 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로에서는 초기 내부 전원이 높을 때 동작 신호가 입력되는 경우, 상기 내부 전원이 일시적으로 상승하게 되는 오동작이 발생하여 정상적인 내부 전원이 생성되지 않게 되는 문제점이 초래되었다.In the internal power generation circuit of the semiconductor memory device of the related art, when an operation signal is input when the initial internal power is high, a malfunction occurs in which the internal power temporarily rises, thereby preventing normal internal power from being generated. Caused.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성시 초기 내부 전원의 레벨이 높을 때 동작 신호가 인에이블 되면 발생하게 되는 오동작을 방지하여 안정적인 내부 전원을 생성하는 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로를 제공하는 데에 그 기술적 과제가 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problem, and is a semiconductor that generates stable internal power by preventing a malfunction that occurs when an operation signal is enabled when the level of the initial internal power is high when the internal power of the semiconductor memory device is generated. There is a technical problem in providing an internal power generation circuit of a memory device.
상술한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로는, 내부 전원 생성 회로의 동작을 지시하는 동작 신호가 인에이블 되면 제 1 비교부와 제 2 비교부를 연결하는 제 1 노드로의 외부 공급전원(VDD)의 전원 공급을 차단하는 제 1 제어부; 상기 동작 신호가 인에이블 되면 상기 제 1 비교부와 상기 제 2 비교부를 연결하는 제 2 노드로의 상기 외부 공급전원(VDD)의 전원 공급을 차단하는 제 2 제어부; 상기 동작 신호가 인에이블 되면 상기 제 2 비교부와 구동부를 연결하는 제 3 노드로의 상기 외부 공급전원(VDD)의 전원 공급을 차단하는 제 3 제어부; 기준전압과 분압된 내부 전원의 크기를 비교하여 비교 결과에 따라 다른 레벨의 신호를 제 2 비교부에 전달하는 제 1 비교부; 상기 제 1 비교부로부터 입력된 신호와 상기 제 1 노드(N1)의 신호를 비교하여 비교 결과에 따라 다른 레벨의 신호를 구동부에 전달하는 제 2 비교부; 상기 제 2 비교부로부터 입력된 신호의 레벨에 따라 상기 외부 공급전원(VDD)의 전원을 전압 분배부에 공급하거나 차단하는 구동부; 상기 구동부로부터 외부 공급전원(VDD)을 공급 받아 생성되는 내부 전원을 저항비에 따라 분배하여 상기 제 1 비교부에 전달하는 기능을 하는 전압 분배부; 및 상기 제 1 제어부에 전달되는 동작 신호를 일정 시간 지연시키는 지연부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.The internal power generation circuit of the semiconductor memory device of the present invention for achieving the above technical problem, the first node for connecting the first comparison unit and the second comparison unit when the operation signal indicating the operation of the internal power generation circuit is enabled. A first control unit which cuts off power supply of an external supply power supply VDD to the furnace; A second control unit which cuts off power supply of the external power supply VDD to a second node connecting the first comparator and the second comparator when the operation signal is enabled; A third control unit which cuts off power supply of the external power supply VDD to a third node connecting the second comparator and the driver when the operation signal is enabled; A first comparison unit comparing the magnitude of the reference voltage with the divided internal power supply and transferring a signal having a different level to the second comparison unit according to a comparison result; A second comparator comparing the signal input from the first comparator with a signal of the first node N1 and transferring a signal having a different level to the driver according to a comparison result; A driver configured to supply or cut off the power of the external power supply VDD to a voltage divider according to a level of a signal input from the second comparator; A voltage divider for distributing the internal power generated by receiving an external supply power VDD from the driver according to a resistance ratio and transferring the internal power to the first comparator; And a delay unit configured to delay an operation signal transmitted to the first control unit for a predetermined time.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로의 구성을 나타낸 블록도이다.2 is a block diagram illustrating a configuration of an internal power generation circuit of a semiconductor memory device according to the present invention.
본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로(200)는 상기 내부 전원 생성 회로(200)의 동작을 지시하는 동작 신호(Input)가 인에이블 되면 제 1 비교부(240)와 제 2 비교부(250)를 연결하는 제 1 노드(N1)로의 외부 공급전원(VDD)의 전원 공급을 차단하는 제 1 제어부(210), 상기 동작 신호(Input)가 인에이블 되면 상기 제 1 비교부(240)와 상기 제 2 비교부(250)를 연결하는 제 2 노드(N2)로의 상기 외부 공급전원(VDD)의 전원 공급을 차단하는 제 2 제어부(220), 상기 동작 신호(Input)가 인에이블 되면 상기 제 2 비교부(250)와 구동부(260)를 연결하는 제 3 노드(N3)로의 전원 공급을 차단하는 제 3 제어부(230), 상기 기준전압(Vref)과 분압된 내부 전원의 크기를 비교하여 비교 결과에 따라 다른 레벨의 신호를 제 2 비교부(250)에 전달하는 제 1 비교부(240), 상기 제 1 비교부(240)로부터 입력된 신호와 상기 제 1 노드(N1)의 신호를 비교하여 비교 결과에 따라 다른 레벨의 신호를 구동부(260)에 전달하는 제 2 비교부(250), 상기 제 2 비교부(250)로부터 입력된 신호의 레벨에 따라 상기 외부 공급전원(VDD)의 전원을 전압 분배부(270)에 공급하거나 차단하는 구동부(260), 상기 구동부(260)로부터 외부 공급전원(VDD)을 공급 받아 생성되는 내부 전원(Vint)을 저항비에 따라 분배하여 상기 제 1 비교부(240)에 전달하는 기능을 하는 전압 분배부(270) 및 상기 제 1 제어부에 전달되는 동작 신호를 일정 시간 지연시키는 지연부(280)로 구성된다.The internal
이와 같이 구성된 상기 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로(200)의 동작은 도 3에 도시한 상기 내부 전원 생성 회로(200)의 상세 구성을 통해 설명하도록 한다.The operation of the internal
도 3은 도 2에 도시한 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로의 상세 구성도이다.3 is a detailed configuration diagram of an internal power generation circuit of the semiconductor memory device shown in FIG. 2.
상기 제 1 제어부(210)는 소스 단에 상기 외부 공급전원(VDD)이 인가되고 게이트 단에 상기 지연부(280)의 출력 신호가 입력되며 드레인 단이 상기 제 1 노드(N1)와 연결되는 제 1 트랜지스터(212)로 구성된다.The
또한 상기 제 2 제어부(220)는 소스 단에 상기 외부 공급전원(VDD)이 인가되고 게이트 단에 상기 동작 신호(Input)가 입력되며 드레인 단이 상기 제 2 노드(N2)와 연결되는 제 2 트랜지스터(222)로 구성된다.In addition, the
그리고 상기 제 3 제어부(230)는 소스 단에 상기 외부 공급전원(VDD)이 인가되고 게이트 단에 상기 동작 신호(Input)가 입력되며 드레인 단이 상기 제 3 노드(N3)와 연결되는 제 3 트랜지스터(232)로 구성된다.The
상기 제 1 비교부(240)는 소스 단에 상기 외부 공급전원(VDD)이 인가되고 게이트 단이 상기 제 1 노드(N1) 및 드레인 단과 연결되며 드레인 단이 제 5 및 제 6 트랜지스터(243, 245)와 연결되는 제 4 노드(N4)에 연결되는 제 4 트랜지스터(241), 소스 단에 상기 외부 공급전원(VDD)이 인가되고 게이트 단에 상기 제 4 노드(N4)의 신호가 입력되며 드레인 단이 제 7 트랜지스터(247) 및 상기 제 2 노드(N2)와 연결되는 제 5 노드(N5)에 연결되는 제 5 트랜지스터(243), 드레인 단이 상기 제 4 노드(N4)에 연결되고 게이트 단에 상기 기준전압(Vref)이 인가되며 소스 단이 제 7 및 제 8 트랜지스터(247, 249)와 연결되는 제 6 노드(N6)에 연결되는 제 6 트랜지스터(245), 드레인 단이 상기 제 5 노드(N5)에 연결되고 게이트 단에 상기 전압 분배부(270)에서 분압된 전압이 인가되며 소스 단이 상기 제 6 노드(N6)에 연결되는 제 7 트랜지스터(247) 및 드레인 단이 상기 제 6 노드(N6)에 연결되고 게이트 단에 상기 동작 신호(Input)가 입력되며 소스 단이 그라운드 전압(VSS)과 연결되는 제 8 트랜지스터(249)로 구성된다.The
또한 상기 제 2 비교부(250)는 소스 단에 상기 외부 공급전원(VDD)이 인가되고 게이트 단이 상기 제 1 노드(N1)에 연결되며 드레인 단이 제 10 트랜지스터(254)의 드레인 단과 게이트 단 및 제 11 트랜지스터(256)의 게이트 단에 연결되는 제 7 노드(N7)와 연결되는 제 9 트랜지스터(252), 드레인 단 및 게이트 단이 상기 제 7 노드(N7)와 연결되고 소스 단에 상기 그라운드 전압(VSS)이 연결되는 제 10 트랜지스터(254), 드레인 단이 제 12 트랜지스터 및 상기 제 3 노드(N3)와 연결되는 제 5 노드(N5)에 연결되고 게이트 단이 상기 제 4 노드(N4)와 연결되며 소스 단이 상기 그라운드 전압(VSS)에 연결되는 제 11 트랜지스터(256) 및 소스 단에 외부 공급전원(VDD)이 인가되고 게이트 단이 상기 제 2 노드(N2)와 연결되며 드레인 단이 상기 제 5 노드(N5)와 연결되는 제 12 트랜지스터(258)로 구성된다.In addition, the
그리고 상기 구동부(260)는 소스 단에 외부 공급전원(VDD)이 인가되고 게이트 단이 상기 제 3 노드(N3)과 연결되며 드레인 단이 상기 전압 분배부(270)에 연결되는 제 13 트랜지스터(262)로 구성된다.The
또한 상기 전압 분배부(270)는 복수 개의 저항으로 구성되어 외부 공급전원(VDD)으로부터 전원을 공급 받아 내부 전원(Vint)을 인가하는 데에 사용되며 복수 개의 저항의 비율에 따라 상기 내부 전원(Vint)을 분압하여 상기 제 1 비교부(240) 의 상기 제 7 트랜지스터(247)의 게이트 단에 입력한다.In addition, the
그리고 상기 지연부(280)는 상기 동작 신호(Input)를 일정 시간 지연시켜 상기 제 1 제어부(210)에 전달하기 위한 짝수 개의 인버터로 구성되는 예를 생각해 볼 수 있다.In addition, the
이와 같이 구성된 상기 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로(200)의 동작을 살펴보면 다음과 같다.An operation of the internal
동작 설명의 편의를 위해 상기 외부 공급전원(VDD)은 1.8V, 상기 기준전압(Vref)은 0.75V 그리고 상기 전압 분배부(270)의 전압을 분배하기 위한 저항비는 1:1로서 내부 전원(Vint)을 1/2로 분압하여 상기 제 2 비교부(250)에 전달한다고 가정한다. 이렇게 되면 상기 내부 전원(Vint)은 1.5V의 값을 갖는다. 또한 상기 제 1 비교기(240)의 상기 제 4 트랜지스터(241)와 상기 제 5 트랜지스터(243)의 문턱 전압은 서로 같고 상기 제 6 트랜지스터(245)와 상기 제 7 트랜지스터(247)의 문턱 전압은 서로 같다고 가정한다. 또한 상기 제 2 비교부(250)의 상기 제 9 트랜지스터(252)와 상기 제 12 트랜지스터(258)의 문턱 전압도 서로 같다고 가정한다.For convenience of operation, the external power supply (VDD) is 1.8V, the reference voltage (Vref) is 0.75V, and the resistance ratio for distributing the voltage of the
상기 내부 전원 생성 회로(200)에 상기 기준전압(Vref)이 인가되고 상기 동작 신호(Input)가 디스에이블 되면 상기 제 1 제어부(210)의 상기 제 1 트랜지스터(212), 상기 제 2 제어부(220)의 상기 제 2 트랜지스터(222) 및 상기 제 3 제어부(230)의 상기 제 3 트랜지스터(232)는 턴 온(turn on) 되고 상기 제 1 비교부(240)의 제 8 트랜지스터(249)는 턴 오프(turn off) 되어 상기 제 1 ~ 제 6 노드(N1 ~ N6)에 인가되는 전압은 하이 레벨이 된다. 따라서 상기 제 2 비교부(250)의 상기 제 9 트랜지스터(252) 및 상기 제 12 트랜지스터(258), 상기 구동부(260)의 상기 제 13 트랜지스터(262)는 턴 오프(turn off) 되므로 상기 내부 전원 생성 회로(200)는 동작하지 않는다.When the reference voltage Vref is applied to the internal
그러나 상기 내부 전원 생성 회로(200)에 상기 기준전압(Vref)이 인가되고 상기 동작 신호(Input)가 인에이블 되면 상기 제 1 제어부(210)의 상기 제 1 트랜지스터(212)는 상기 지연부(280)에 의해 지연된 일정 시간 이후에 턴 오프 되고 상기 제 2 및 제 3 트랜지스터(222, 232)는 상기 동작 신호(Input)의 인에이블 즉시 턴 오프 된다. 따라서 상기 내부 전원 생성 회로(200)의 동작 초기에는 제 2 및 제 3 노드(N2, N3)에 공급되는 외부 공급전원(VDD)의 전원이 차단되고 상기 제 1 비교부(240)의 제 8 트랜지스터(249)가 턴 온 된 상태에서 회로의 동작이 시작된다. However, when the reference voltage Vref is applied to the internal
상기 내부 전원(Vint)이 초기에 1.5V 이상의 값을 갖는다고 가정하면, 상기 제 1 비교부(240)의 상기 제 6 트랜지스터(245)에는 0.75V의 전압이 입력되고 상기 제 7 트랜지스터(247)에는 0.75V보다 높은 전압이 입력된다. 따라서 상기 제 6 및 제 7 트랜지스터(245, 247)는 턴 온 되나 구동력은 상기 제 7 트랜지스터(247)가 더 크다. 상기 제 1 노드(N1)의 전원이 상기 제 4 노드(N4)에 공급되므로 상기 제 4 노드(N4)의 전압 레벨은 상기 제 4 트랜지스터(241)의 문턱 전압 레벨까지 떨어지게 된다. 그러나 이 때 상기 제 1 제어부(210)에는 상기 지연부(280)에 의해서 일정 시간 지연된 후 상기 동작 신호(Input)가 입력되고 상기 동작 신호(Input)의 입력에 따라 상기 제 1 트랜지스터(212)가 턴 오프 되어 외부 공급전원(VDD)의 전 원 공급이 차단되므로 상기 지연부(280)가 지연 시키는 시간 내에는 상기 외부 공급전원(VDD)의 상기 제 1 및 제 4 노드로의 전원 공급이 지속된다. 따라서 상기 제 4 노드(N4)의 전압 레벨은 상기 제 5 노드(N5)의 전압 레벨보다 높아진다. 그러므로 상기 제 2 비교부(250)의 상기 제 9 트랜지스터(252)에 흐르는 전류의 양이 상기 제 12 트랜지스터(258)에 흐르는 전류의 양보다 적어지게 된다. 상기 제 9 트랜지스터(252)를 통해 흐르는 전류는 상기 제 10 및 제 11 트랜지스터(254, 256)를 턴 온 시키게 되는데, 이 때 상기 제 12 트랜지스터(258)의 구동력보다 상기 제 11 트랜지스터(256)의 구동력이 더 작아지게 되어 상기 제 3 노드(N3)에 인가되는 전압은 하이 레벨로 높아진다. 따라서 상기 구동부(260)의 상기 제 13 트랜지스터(262)는 턴 오프 되고 상기 전압 분배부(270)에는 상기 외부 공급전원(VDD)으로부터 더 이상 전원이 공급되지 않는다.Assuming that the internal power supply Vint initially has a value of 1.5 V or more, a voltage of 0.75 V is input to the
상기 내부 전원(Vint)이 초기에 1.5V 미만의 값을 갖는다고 가정하면, 상기 전원 분배부(270)로부터 상기 제 1 비교부(240)의 제 7 트랜지스터(247)에 전달되는 전압은 0.75V보다 낮은 값을 갖게 된다. 물론 여기에서도 상기 제 7 트랜지스터(247)의 문턱 전압(Threshold Voltage)은 0.75V보다 낮다고 가정한다.Assuming that the internal power supply Vint initially has a value of less than 1.5V, the voltage transferred from the
상기 내부 전원 동작 회로(200)의 동작 초기에는 상기 지연부(280)가 부여하는 지연 시간 만큼 상기 제 4 노드(N4)에 상기 외부 공급전원(VDD)의 전원 공급이 지속되고 상기 제 5 노드(N5)에는 상기 외부 공급전원(VDD)의 전원 공급이 차단되므로 상기 제 4 노드(N4)의 전압 레벨이 상기 제 5 노드(N5)의 전압 레벨보다 높을 것이다. 그러나 상기 지연부(280)가 부여한 지연 시간이 지나가면 상기 제 1 제어 부(210)는 외부 공급전원(VDD)의 전원 공급을 차단한다. 이후 상기 제 1 비교부(240)의 상기 제 6 트랜지스터(245)에는 0.75V의 전압이 입력되고 상기 제 7 트랜지스터(247)에는 0.75V보다 낮은 전압이 입력되므로 상기 제 6 트랜지스터(245)에 흐르는 전류의 양이 상기 제 7 트랜지스터(247)에 흐르는 전류의 양보다 많아진다. 따라서 일정 시간이 지나면 상기 제 4 노드(N4)의 전압 레벨이 상기 제 5 노드(N5)의 전압 레벨보다 낮아지게 된다. 그러므로 상기 제 2 비교부(250)의 상기 제 9 트랜지스터(252)에 흐르는 전류의 양이 상기 제 12 트랜지스터(258)에 흐르는 전류의 양보다 많아지게 된다. 상기 제 9 트랜지스터(252)를 통해 흐르는 전류는 상기 제 10 및 제 11 트랜지스터(254, 256)를 턴 온 시키게 되는데, 이 때 상기 제 12 트랜지스터(258)의 구동력보다 상기 제 11 트랜지스터(256)의 구동력이 더 커지게 되어 상기 제 3 노드(N3)에 인가되는 전압은 로우 레벨로 낮아진다. 따라서 상기 구동부(260)의 상기 제 13 트랜지스터(262)는 턴 온 되고 상기 전압 분배부(270)에는 상기 외부 공급전원(VDD)이 공급되어 상기 내부 전원(Vint)의 레벨은 상승한다.In the initial operation of the internal power
도 4는 도 3에 도시한 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로의 시뮬레이션 결과를 나타낸 그래프이다.4 is a graph illustrating a simulation result of an internal power generation circuit of the semiconductor memory device shown in FIG. 3.
그래프를 통해 30ns에서 동작 신호(Input)가 인에이블 되고 상기 지연부(280)에 의해 지연된 동작 신호(Input_Delay)가 40ns에서 인에이블 되는 것을 볼 수 있다. 초기의 내부 전원(Vint)은 1.5V보다 약간 높은 값을 갖는다. 상기 동작 신호(Input)가 인에이블 되는 30ns에서 상기 제 6 노드(N6)의 전압은 상기 제 1 비교부(240)의 제 8 트랜지스터(249)가 턴 온 되므로 로우 레벨로 하강하는 것을 확 인할 수 있다. 그리고 상기 제 7 노드(N7)의 전압도 상기 제 2 비교부(250)의 제 10 트랜지스터(254)가 턴 온 됨에 따라 일정 레벨 떨어지게 된다. 상기 제 5 노드(N5)의 전압도 일정 레벨 떨어진다. 이 때 상기 제 4 노드(N4)의 전압은 상기 지연된 동작 신호(Input_Delay)가 인에이블 될 때 강하하기 시작한다. 따라서 종래기술과 같이 상기 제 5 노드(N5)의 전압이 상기 제 4 노드(N4)의 전압보다 높은 구간이 존재하지 않는다. 이에 따라 상기 제 3 노드(N3)의 전압은 크게 강하되는 오동작을 일으키지 않았고 상기 내부 전원(Vint)은 1.5V와 근사한 값을 유지하게 되었다.The graph shows that the operation signal Input is enabled at 30 ns and the operation signal Input_Delay delayed by the
이처럼 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로의 초기 내부 전원이 높을 때 동작 신호가 인에이블 되면 발생하게 되는 문제점은 상기 제 1 제어부(240)에 입력되는 동작 신호에 일정한 지연 시간을 부여함으로써 해결할 수 있게 되었다.The problem that occurs when the operation signal is enabled when the initial internal power of the internal power generation circuit of the semiconductor memory device is high can be solved by giving a predetermined delay time to the operation signal input to the
이와 같이, 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.As such, those skilled in the art will appreciate that the present invention can be implemented in other specific forms without changing the technical spirit or essential features thereof. Therefore, the above-described embodiments are to be understood as illustrative in all respects and not as restrictive. The scope of the present invention is shown by the following claims rather than the detailed description, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included in the scope of the present invention. do.
이상에서 설명한 본 발명의 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로는 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성시 초기 내부 전원의 레벨이 높을 때 동작 신호 가 인에이블 되면 발생하게 되는 오동작을 방지하여 안정적인 내부 전원을 생성하는 효과가 있다.The internal power generation circuit of the semiconductor memory device of the present invention described above generates a stable internal power supply by preventing a malfunction that occurs when an operation signal is enabled when the initial internal power level is high when the internal power generation of the semiconductor memory device is generated. It works.
Claims (7)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020050099046A KR100656426B1 (en) | 2005-10-20 | 2005-10-20 | Circuit for generating internal voltage in semiconductor memory apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
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KR1020050099046A KR100656426B1 (en) | 2005-10-20 | 2005-10-20 | Circuit for generating internal voltage in semiconductor memory apparatus |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100861303B1 (en) | 2007-05-15 | 2008-10-01 | 주식회사 하이닉스반도체 | Inter voltage generation circuit and semiconductor memory device including the same |
-
2005
- 2005-10-20 KR KR1020050099046A patent/KR100656426B1/en not_active IP Right Cessation
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