KR100656426B1 - Circuit for generating internal voltage in semiconductor memory apparatus - Google Patents

Circuit for generating internal voltage in semiconductor memory apparatus Download PDF

Info

Publication number
KR100656426B1
KR100656426B1 KR1020050099046A KR20050099046A KR100656426B1 KR 100656426 B1 KR100656426 B1 KR 100656426B1 KR 1020050099046 A KR1020050099046 A KR 1020050099046A KR 20050099046 A KR20050099046 A KR 20050099046A KR 100656426 B1 KR100656426 B1 KR 100656426B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
node
transistor
voltage
comparator
vdd
Prior art date
Application number
KR1020050099046A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
강길옥
노광명
Original Assignee
주식회사 하이닉스반도체
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 하이닉스반도체 filed Critical 주식회사 하이닉스반도체
Priority to KR1020050099046A priority Critical patent/KR100656426B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100656426B1 publication Critical patent/KR100656426B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/14Power supply arrangements, e.g. power down, chip selection or deselection, layout of wirings or power grids, or multiple supply levels
    • G11C5/147Voltage reference generators, voltage or current regulators; Internally lowered supply levels; Compensation for voltage drops
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05FSYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
    • G05F1/00Automatic systems in which deviations of an electric quantity from one or more predetermined values are detected at the output of the system and fed back to a device within the system to restore the detected quantity to its predetermined value or values, i.e. retroactive systems
    • G05F1/10Regulating voltage or current
    • G05F1/46Regulating voltage or current wherein the variable actually regulated by the final control device is dc
    • G05F1/462Regulating voltage or current wherein the variable actually regulated by the final control device is dc as a function of the requirements of the load, e.g. delay, temperature, specific voltage/current characteristic
    • G05F1/465Internal voltage generators for integrated circuits, e.g. step down generators
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/14Power supply arrangements, e.g. power down, chip selection or deselection, layout of wirings or power grids, or multiple supply levels
    • G11C5/148Details of power up or power down circuits, standby circuits or recovery circuits
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K19/00Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits
    • H03K19/0175Coupling arrangements; Interface arrangements

Abstract

An internal voltage generating circuit of a semiconductor memory device is provided to generate a stable internal voltage by preventing an operation error generated by enabling an operation signal when the level of an initial internal voltage is high in generating the internal voltage of the semiconductor memory device. A first control part(210) cuts off the supply of an external supply voltage(VDD) to a first node connecting a first comparison part(240) and a second comparison part(250) when an operation signal indicating the operation of an internal voltage generation circuit is enabled. A second control part(220) cuts off the supply of the external supply voltage to a second node connecting the first comparison part and the second comparison part when the operation signal is enabled. A third control part(230) cuts off the supply of the external supply voltage to a third node connecting the second comparison part and a driving part(260) when the operation signal is enabled. The first comparison part transfers a signal of different level to the second comparison part by comparing a reference voltage with a divided internal voltage. The second comparison part transfers a signal of different level to the driving part by comparing a signal inputted from the first comparison part with a signal of the first node. The driving part supplies or blocks the external power supply voltage to/from a voltage distribution part(270) according to the level of a signal inputted from the second comparison part. The voltage dividing part divides an internal voltage generated by receiving the external supply voltage from the driving part according to resistance ratio and then transfers the divided voltage to the first comparison part. A delay part(280) delays the operation signal transferred to the first control part.

Description

반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로{Circuit for Generating Internal Voltage in Semiconductor Memory Apparatus}Circuit for Generating Internal Voltage in Semiconductor Memory Apparatus

도 1은 일반적인 반도체 메모리 장치의 전원 공급 회로의 구성을 나타낸 블록도,1 is a block diagram showing a configuration of a power supply circuit of a general semiconductor memory device;

도 2는 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로의 구성을 나타낸 블록도,2 is a block diagram showing a configuration of an internal power generation circuit of a semiconductor memory device according to the present invention;

도 3은 도 2에 도시한 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로의 상세 구성도,3 is a detailed configuration diagram of an internal power generation circuit of the semiconductor memory device shown in FIG. 2;

도 4는 도 3에 도시한 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로의 시뮬레이션 결과를 나타낸 그래프이다.4 is a graph illustrating a simulation result of an internal power generation circuit of the semiconductor memory device shown in FIG. 3.

<도면의 주요 부분에 대한 부호 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

10 : 기준전압 생성 회로 20/200 : 내부전원 생성 회로10: reference voltage generation circuit 20/200: internal power generation circuit

30 : 내부 회로 210 : 제 1 제어부30: internal circuit 210: first control unit

220 : 제 2 제어부 230 : 제 3 제어부220: second control unit 230: third control unit

240 : 제 1 비교부 250 : 제 2 비교부240: first comparator 250: second comparator

260 : 구동부 270 : 전압 분배부260: driver 270: voltage divider

280 : 지연부280: delay unit

본 발명은 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성시 초기에 발생하는 오동작을 방지하는 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로에 관한 것이다.The present invention relates to an internal power generation circuit of a semiconductor memory device, and more particularly, to an internal power generation circuit of a semiconductor memory device that prevents a malfunction occurring at an initial stage when generating an internal power supply of the semiconductor memory device.

반도체 메모리 장치는 외부로부터 외부 공급전원(VDD), 그라운드 전압(VSS) 등을 공급 받아 동작한다. 외부에서 공급된 각각의 전압들은 상기 반도체 메모리 장치 내부의 각 영역에서 요구하는 레벨의 전압으로 변환된 후 사용된다. 반도체 메모리 장치는 내부의 각 영역의 필요에 따라 주변회로 동작전압(Vperi), 고전위 전압(VPP), 벌크 전압(VBB), 코어회로 동작전압(Vcore) 등이 사용되며, 외부에서 공급 받은 전압으로부터 내부의 전원을 생성하기 위해 각각의 내부 전원 생성 회로가 존재하게 된다.The semiconductor memory device operates by receiving an external supply voltage VDD, a ground voltage VSS, and the like from the outside. Each of the voltages supplied from the outside is converted into a voltage of a level required by each region inside the semiconductor memory device and then used. In the semiconductor memory device, peripheral circuit operating voltage (Vperi), high potential voltage (VPP), bulk voltage (VBB), core circuit operating voltage (Vcore), etc. are used according to the needs of each region inside. There is a respective internal power generation circuit to generate internal power therefrom.

반도체 메모리 장치에서 내부 전원을 생성하는 데에 사용되는 외부 공급전원(VDD)은 여러가지 요인에 의해 레벨의 변동이 생길 수 있다. 그러나 반도체 메모리 장치 내부의 동작이 원활히 이루어지기 위해서는 외부 공급전원(VDD)의 변화에 영향 받지 않는 안정적인 내부 전원이 생성되어야만 한다.The level of external supply power VDD used to generate internal power in a semiconductor memory device may vary due to various factors. However, in order for the operation inside the semiconductor memory device to be smoothly performed, a stable internal power source that is not affected by the change of the external power supply VDD must be generated.

이하, 종래의 기술에 따른 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로를 도 1을 참조하여 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, an internal power generation circuit of a semiconductor memory device according to the related art will be described with reference to FIG. 1.

도 1은 일반적인 반도체 메모리 장치의 전원 공급 회로의 구성을 나타낸 블록도이다.1 is a block diagram showing a configuration of a power supply circuit of a general semiconductor memory device.

상기 반도체 메모리 장치의 전원 공급 회로는 외부 공급전원(VDD)로부터 기준전압(Vref)을 생성하는 기준전압 생성 회로(10), 상기 외부 공급전원(VDD) 및 상기 기준전압(Vref)으로부터 내부 전원(Vint)을 생성하는 내부 전원 생성 회로(20) 및 상기 내부 전원(Vint)이 사용되는 내부 회로(30)로 구성된다.The power supply circuit of the semiconductor memory device may include a reference voltage generation circuit 10 that generates a reference voltage Vref from an external supply power supply VDD, an internal power supply from the external supply power supply VDD, and the reference voltage Vref. And an internal power generation circuit 20 for generating Vint, and an internal circuit 30 in which the internal power supply Vint is used.

여기에서 상기 기준전압(Vref)은 상기 내부 전원(Vint)을 생성하는 데에만 사용되는 전압이지만, 상기 내부 전원(Vint)은 각종 내부 회로에 공급되는 다양한 전원으로 활용될 수 있다.Here, the reference voltage Vref is a voltage used only to generate the internal power supply Vint, but the internal power supply Vint may be used as various power sources supplied to various internal circuits.

이와 같은 반도체 종래의 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로에서는 초기 내부 전원이 높을 때 동작 신호가 입력되는 경우, 상기 내부 전원이 일시적으로 상승하게 되는 오동작이 발생하여 정상적인 내부 전원이 생성되지 않게 되는 문제점이 초래되었다.In the internal power generation circuit of the semiconductor memory device of the related art, when an operation signal is input when the initial internal power is high, a malfunction occurs in which the internal power temporarily rises, thereby preventing normal internal power from being generated. Caused.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성시 초기 내부 전원의 레벨이 높을 때 동작 신호가 인에이블 되면 발생하게 되는 오동작을 방지하여 안정적인 내부 전원을 생성하는 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로를 제공하는 데에 그 기술적 과제가 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problem, and is a semiconductor that generates stable internal power by preventing a malfunction that occurs when an operation signal is enabled when the level of the initial internal power is high when the internal power of the semiconductor memory device is generated. There is a technical problem in providing an internal power generation circuit of a memory device.

상술한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로는, 내부 전원 생성 회로의 동작을 지시하는 동작 신호가 인에이블 되면 제 1 비교부와 제 2 비교부를 연결하는 제 1 노드로의 외부 공급전원(VDD)의 전원 공급을 차단하는 제 1 제어부; 상기 동작 신호가 인에이블 되면 상기 제 1 비교부와 상기 제 2 비교부를 연결하는 제 2 노드로의 상기 외부 공급전원(VDD)의 전원 공급을 차단하는 제 2 제어부; 상기 동작 신호가 인에이블 되면 상기 제 2 비교부와 구동부를 연결하는 제 3 노드로의 상기 외부 공급전원(VDD)의 전원 공급을 차단하는 제 3 제어부; 기준전압과 분압된 내부 전원의 크기를 비교하여 비교 결과에 따라 다른 레벨의 신호를 제 2 비교부에 전달하는 제 1 비교부; 상기 제 1 비교부로부터 입력된 신호와 상기 제 1 노드(N1)의 신호를 비교하여 비교 결과에 따라 다른 레벨의 신호를 구동부에 전달하는 제 2 비교부; 상기 제 2 비교부로부터 입력된 신호의 레벨에 따라 상기 외부 공급전원(VDD)의 전원을 전압 분배부에 공급하거나 차단하는 구동부; 상기 구동부로부터 외부 공급전원(VDD)을 공급 받아 생성되는 내부 전원을 저항비에 따라 분배하여 상기 제 1 비교부에 전달하는 기능을 하는 전압 분배부; 및 상기 제 1 제어부에 전달되는 동작 신호를 일정 시간 지연시키는 지연부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.The internal power generation circuit of the semiconductor memory device of the present invention for achieving the above technical problem, the first node for connecting the first comparison unit and the second comparison unit when the operation signal indicating the operation of the internal power generation circuit is enabled. A first control unit which cuts off power supply of an external supply power supply VDD to the furnace; A second control unit which cuts off power supply of the external power supply VDD to a second node connecting the first comparator and the second comparator when the operation signal is enabled; A third control unit which cuts off power supply of the external power supply VDD to a third node connecting the second comparator and the driver when the operation signal is enabled; A first comparison unit comparing the magnitude of the reference voltage with the divided internal power supply and transferring a signal having a different level to the second comparison unit according to a comparison result; A second comparator comparing the signal input from the first comparator with a signal of the first node N1 and transferring a signal having a different level to the driver according to a comparison result; A driver configured to supply or cut off the power of the external power supply VDD to a voltage divider according to a level of a signal input from the second comparator; A voltage divider for distributing the internal power generated by receiving an external supply power VDD from the driver according to a resistance ratio and transferring the internal power to the first comparator; And a delay unit configured to delay an operation signal transmitted to the first control unit for a predetermined time.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로의 구성을 나타낸 블록도이다.2 is a block diagram illustrating a configuration of an internal power generation circuit of a semiconductor memory device according to the present invention.

본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로(200)는 상기 내부 전원 생성 회로(200)의 동작을 지시하는 동작 신호(Input)가 인에이블 되면 제 1 비교부(240)와 제 2 비교부(250)를 연결하는 제 1 노드(N1)로의 외부 공급전원(VDD)의 전원 공급을 차단하는 제 1 제어부(210), 상기 동작 신호(Input)가 인에이블 되면 상기 제 1 비교부(240)와 상기 제 2 비교부(250)를 연결하는 제 2 노드(N2)로의 상기 외부 공급전원(VDD)의 전원 공급을 차단하는 제 2 제어부(220), 상기 동작 신호(Input)가 인에이블 되면 상기 제 2 비교부(250)와 구동부(260)를 연결하는 제 3 노드(N3)로의 전원 공급을 차단하는 제 3 제어부(230), 상기 기준전압(Vref)과 분압된 내부 전원의 크기를 비교하여 비교 결과에 따라 다른 레벨의 신호를 제 2 비교부(250)에 전달하는 제 1 비교부(240), 상기 제 1 비교부(240)로부터 입력된 신호와 상기 제 1 노드(N1)의 신호를 비교하여 비교 결과에 따라 다른 레벨의 신호를 구동부(260)에 전달하는 제 2 비교부(250), 상기 제 2 비교부(250)로부터 입력된 신호의 레벨에 따라 상기 외부 공급전원(VDD)의 전원을 전압 분배부(270)에 공급하거나 차단하는 구동부(260), 상기 구동부(260)로부터 외부 공급전원(VDD)을 공급 받아 생성되는 내부 전원(Vint)을 저항비에 따라 분배하여 상기 제 1 비교부(240)에 전달하는 기능을 하는 전압 분배부(270) 및 상기 제 1 제어부에 전달되는 동작 신호를 일정 시간 지연시키는 지연부(280)로 구성된다.The internal power generation circuit 200 of the semiconductor memory device according to the embodiment of the present invention may, when the operation signal Input indicating the operation of the internal power generation circuit 200 is enabled, the first comparator 240 and the second comparator. The first control unit 210 that cuts off the power supply of the external supply power VDD to the first node N1 connecting the 250, and the first comparison unit 240 when the operation signal Input is enabled. A second control unit 220 which cuts off the power supply of the external supply power VDD to the second node N2 connecting the second comparator 250 and the second comparator 250 when the operation signal Input is enabled. The third controller 230 which cuts off the power supply to the third node N3 connecting the second comparator 250 and the driver 260, compares the reference voltage Vref with the divided internal power. The first comparator 240 and the first comparator 240 for transmitting signals of different levels to the second comparator 250 according to the comparison result. The second comparator 250 and the second comparator 250 which compare the signal input from the signal with the signal of the first node N1 and transmit a signal having a different level to the driver 260 according to the comparison result. The driver 260 is configured to supply or cut off the power of the external supply power VDD to the voltage divider 270 according to the level of the signal input from the driver, and receive the external supply power VDD from the driver 260. A voltage divider 270 having a function of distributing the internal power Vint according to a resistance ratio and transferring the internal power Vint to the first comparator 240 and a delay unit for delaying an operation signal transmitted to the first controller for a predetermined time. 280.

이와 같이 구성된 상기 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로(200)의 동작은 도 3에 도시한 상기 내부 전원 생성 회로(200)의 상세 구성을 통해 설명하도록 한다.The operation of the internal power generation circuit 200 of the semiconductor memory device configured as described above will be described with reference to the detailed configuration of the internal power generation circuit 200 shown in FIG. 3.

도 3은 도 2에 도시한 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로의 상세 구성도이다.3 is a detailed configuration diagram of an internal power generation circuit of the semiconductor memory device shown in FIG. 2.

상기 제 1 제어부(210)는 소스 단에 상기 외부 공급전원(VDD)이 인가되고 게이트 단에 상기 지연부(280)의 출력 신호가 입력되며 드레인 단이 상기 제 1 노드(N1)와 연결되는 제 1 트랜지스터(212)로 구성된다.The first controller 210 is configured to receive the external supply power VDD from a source terminal, an output signal of the delay unit 280 to a gate terminal, and a drain terminal connected to the first node N1. It consists of one transistor 212.

또한 상기 제 2 제어부(220)는 소스 단에 상기 외부 공급전원(VDD)이 인가되고 게이트 단에 상기 동작 신호(Input)가 입력되며 드레인 단이 상기 제 2 노드(N2)와 연결되는 제 2 트랜지스터(222)로 구성된다.In addition, the second control unit 220 is a second transistor in which the external supply power source VDD is applied to a source terminal, the operation signal Input is input to a gate terminal, and a drain terminal is connected to the second node N2. 222.

그리고 상기 제 3 제어부(230)는 소스 단에 상기 외부 공급전원(VDD)이 인가되고 게이트 단에 상기 동작 신호(Input)가 입력되며 드레인 단이 상기 제 3 노드(N3)와 연결되는 제 3 트랜지스터(232)로 구성된다.The third control unit 230 is a third transistor in which the external supply power VDD is applied to a source terminal, the operation signal Input is input to a gate terminal, and a drain terminal is connected to the third node N3. It consists of 232.

상기 제 1 비교부(240)는 소스 단에 상기 외부 공급전원(VDD)이 인가되고 게이트 단이 상기 제 1 노드(N1) 및 드레인 단과 연결되며 드레인 단이 제 5 및 제 6 트랜지스터(243, 245)와 연결되는 제 4 노드(N4)에 연결되는 제 4 트랜지스터(241), 소스 단에 상기 외부 공급전원(VDD)이 인가되고 게이트 단에 상기 제 4 노드(N4)의 신호가 입력되며 드레인 단이 제 7 트랜지스터(247) 및 상기 제 2 노드(N2)와 연결되는 제 5 노드(N5)에 연결되는 제 5 트랜지스터(243), 드레인 단이 상기 제 4 노드(N4)에 연결되고 게이트 단에 상기 기준전압(Vref)이 인가되며 소스 단이 제 7 및 제 8 트랜지스터(247, 249)와 연결되는 제 6 노드(N6)에 연결되는 제 6 트랜지스터(245), 드레인 단이 상기 제 5 노드(N5)에 연결되고 게이트 단에 상기 전압 분배부(270)에서 분압된 전압이 인가되며 소스 단이 상기 제 6 노드(N6)에 연결되는 제 7 트랜지스터(247) 및 드레인 단이 상기 제 6 노드(N6)에 연결되고 게이트 단에 상기 동작 신호(Input)가 입력되며 소스 단이 그라운드 전압(VSS)과 연결되는 제 8 트랜지스터(249)로 구성된다.The first comparator 240 is applied with the external supply power supply VDD to a source terminal, a gate terminal is connected to the first node N1 and a drain terminal, and the drain terminal is connected to the fifth and sixth transistors 243 and 245. The fourth transistor 241 is connected to the fourth node (N4), the external supply power (VDD) is applied to the source terminal, the signal of the fourth node (N4) is input to the gate terminal and the drain terminal The fifth transistor 243 connected to the seventh transistor 247 and the fifth node N5 connected to the second node N2, and the drain terminal thereof are connected to the fourth node N4 and connected to the gate terminal. The sixth transistor 245 is connected to the sixth node N6 to which the reference voltage Vref is applied and the source terminal is connected to the seventh and eighth transistors 247 and 249, and the drain terminal is connected to the fifth node ( N5) and a voltage divided by the voltage divider 270 is applied to a gate terminal, and a source terminal is connected to the sixth terminal. A seventh transistor 247 and a drain terminal connected to the node N6 are connected to the sixth node N6, the operation signal Input is input to a gate terminal, and a source terminal is connected to the ground voltage VSS. An eighth transistor 249.

또한 상기 제 2 비교부(250)는 소스 단에 상기 외부 공급전원(VDD)이 인가되고 게이트 단이 상기 제 1 노드(N1)에 연결되며 드레인 단이 제 10 트랜지스터(254)의 드레인 단과 게이트 단 및 제 11 트랜지스터(256)의 게이트 단에 연결되는 제 7 노드(N7)와 연결되는 제 9 트랜지스터(252), 드레인 단 및 게이트 단이 상기 제 7 노드(N7)와 연결되고 소스 단에 상기 그라운드 전압(VSS)이 연결되는 제 10 트랜지스터(254), 드레인 단이 제 12 트랜지스터 및 상기 제 3 노드(N3)와 연결되는 제 5 노드(N5)에 연결되고 게이트 단이 상기 제 4 노드(N4)와 연결되며 소스 단이 상기 그라운드 전압(VSS)에 연결되는 제 11 트랜지스터(256) 및 소스 단에 외부 공급전원(VDD)이 인가되고 게이트 단이 상기 제 2 노드(N2)와 연결되며 드레인 단이 상기 제 5 노드(N5)와 연결되는 제 12 트랜지스터(258)로 구성된다.In addition, the second comparator 250 is applied with the external supply power source VDD to a source terminal, a gate terminal is connected to the first node N1, and a drain terminal is connected to the drain terminal and the gate terminal of the tenth transistor 254. And a ninth transistor 252, a drain terminal, and a gate terminal connected to the seventh node N7 connected to the gate terminal of the eleventh transistor 256 are connected to the seventh node N7 and the ground terminal is connected to the source terminal. A tenth transistor 254, to which a voltage VSS is connected, a drain terminal thereof is connected to a fifth node N5, which is connected to a twelfth transistor and the third node N3, and a gate terminal thereof is connected to the fourth node N4. And an external supply power source VDD are applied to the eleventh transistor 256 and the source terminal connected to the ground voltage VSS, the gate terminal is connected to the second node N2, and the drain terminal is connected to the ground terminal VSS. A twelfth transistor 258 connected to the fifth node N5. It is.

그리고 상기 구동부(260)는 소스 단에 외부 공급전원(VDD)이 인가되고 게이트 단이 상기 제 3 노드(N3)과 연결되며 드레인 단이 상기 전압 분배부(270)에 연결되는 제 13 트랜지스터(262)로 구성된다.The driver 260 is a thirteenth transistor 262 in which an external supply power source VDD is applied to a source terminal, a gate terminal is connected to the third node N3, and a drain terminal is connected to the voltage distributor 270. It is composed of

또한 상기 전압 분배부(270)는 복수 개의 저항으로 구성되어 외부 공급전원(VDD)으로부터 전원을 공급 받아 내부 전원(Vint)을 인가하는 데에 사용되며 복수 개의 저항의 비율에 따라 상기 내부 전원(Vint)을 분압하여 상기 제 1 비교부(240) 의 상기 제 7 트랜지스터(247)의 게이트 단에 입력한다.In addition, the voltage divider 270 is composed of a plurality of resistors and is used to apply an internal power supply Vint by receiving power from an external supply power supply VDD and according to a ratio of the plurality of resistors. ) Is input to the gate terminal of the seventh transistor 247 of the first comparator 240.

그리고 상기 지연부(280)는 상기 동작 신호(Input)를 일정 시간 지연시켜 상기 제 1 제어부(210)에 전달하기 위한 짝수 개의 인버터로 구성되는 예를 생각해 볼 수 있다.In addition, the delay unit 280 may be considered to be an example consisting of an even number of inverters for delaying the operation signal (Input) for a predetermined time to transfer to the first control unit 210.

이와 같이 구성된 상기 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로(200)의 동작을 살펴보면 다음과 같다.An operation of the internal power generation circuit 200 of the semiconductor memory device configured as described above will be described below.

동작 설명의 편의를 위해 상기 외부 공급전원(VDD)은 1.8V, 상기 기준전압(Vref)은 0.75V 그리고 상기 전압 분배부(270)의 전압을 분배하기 위한 저항비는 1:1로서 내부 전원(Vint)을 1/2로 분압하여 상기 제 2 비교부(250)에 전달한다고 가정한다. 이렇게 되면 상기 내부 전원(Vint)은 1.5V의 값을 갖는다. 또한 상기 제 1 비교기(240)의 상기 제 4 트랜지스터(241)와 상기 제 5 트랜지스터(243)의 문턱 전압은 서로 같고 상기 제 6 트랜지스터(245)와 상기 제 7 트랜지스터(247)의 문턱 전압은 서로 같다고 가정한다. 또한 상기 제 2 비교부(250)의 상기 제 9 트랜지스터(252)와 상기 제 12 트랜지스터(258)의 문턱 전압도 서로 같다고 가정한다.For convenience of operation, the external power supply (VDD) is 1.8V, the reference voltage (Vref) is 0.75V, and the resistance ratio for distributing the voltage of the voltage divider 270 is 1: 1. Assume that Vint) is divided into 1/2 to be delivered to the second comparator 250. In this case, the internal power supply Vint has a value of 1.5V. In addition, the threshold voltages of the fourth transistor 241 and the fifth transistor 243 of the first comparator 240 are the same, and the threshold voltages of the sixth transistor 245 and the seventh transistor 247 are mutually equal. Assume the same. In addition, it is assumed that the threshold voltages of the ninth transistor 252 and the twelfth transistor 258 of the second comparator 250 are also the same.

상기 내부 전원 생성 회로(200)에 상기 기준전압(Vref)이 인가되고 상기 동작 신호(Input)가 디스에이블 되면 상기 제 1 제어부(210)의 상기 제 1 트랜지스터(212), 상기 제 2 제어부(220)의 상기 제 2 트랜지스터(222) 및 상기 제 3 제어부(230)의 상기 제 3 트랜지스터(232)는 턴 온(turn on) 되고 상기 제 1 비교부(240)의 제 8 트랜지스터(249)는 턴 오프(turn off) 되어 상기 제 1 ~ 제 6 노드(N1 ~ N6)에 인가되는 전압은 하이 레벨이 된다. 따라서 상기 제 2 비교부(250)의 상기 제 9 트랜지스터(252) 및 상기 제 12 트랜지스터(258), 상기 구동부(260)의 상기 제 13 트랜지스터(262)는 턴 오프(turn off) 되므로 상기 내부 전원 생성 회로(200)는 동작하지 않는다.When the reference voltage Vref is applied to the internal power generation circuit 200 and the operation signal Input is disabled, the first transistor 212 and the second control unit 220 of the first control unit 210 are disabled. The second transistor 222 and the third transistor 232 of the third controller 230 are turned on and the eighth transistor 249 of the first comparator 240 is turned on. The voltage that is turned off and applied to the first to sixth nodes N1 to N6 becomes a high level. Accordingly, since the ninth transistor 252, the twelfth transistor 258, and the thirteenth transistor 262 of the driver 260 of the second comparator 250 are turned off, the internal power source is turned off. The generation circuit 200 does not operate.

그러나 상기 내부 전원 생성 회로(200)에 상기 기준전압(Vref)이 인가되고 상기 동작 신호(Input)가 인에이블 되면 상기 제 1 제어부(210)의 상기 제 1 트랜지스터(212)는 상기 지연부(280)에 의해 지연된 일정 시간 이후에 턴 오프 되고 상기 제 2 및 제 3 트랜지스터(222, 232)는 상기 동작 신호(Input)의 인에이블 즉시 턴 오프 된다. 따라서 상기 내부 전원 생성 회로(200)의 동작 초기에는 제 2 및 제 3 노드(N2, N3)에 공급되는 외부 공급전원(VDD)의 전원이 차단되고 상기 제 1 비교부(240)의 제 8 트랜지스터(249)가 턴 온 된 상태에서 회로의 동작이 시작된다. However, when the reference voltage Vref is applied to the internal power generation circuit 200 and the operation signal Input is enabled, the first transistor 212 of the first controller 210 is the delay unit 280. After turn off by a predetermined time, the second and third transistors 222 and 232 are turned off immediately after enabling the operation signal. Therefore, at the beginning of the operation of the internal power generation circuit 200, the power of the external supply power VDD supplied to the second and third nodes N2 and N3 is cut off, and the eighth transistor of the first comparator 240 is cut off. The operation of the circuit starts with (249) turned on.

상기 내부 전원(Vint)이 초기에 1.5V 이상의 값을 갖는다고 가정하면, 상기 제 1 비교부(240)의 상기 제 6 트랜지스터(245)에는 0.75V의 전압이 입력되고 상기 제 7 트랜지스터(247)에는 0.75V보다 높은 전압이 입력된다. 따라서 상기 제 6 및 제 7 트랜지스터(245, 247)는 턴 온 되나 구동력은 상기 제 7 트랜지스터(247)가 더 크다. 상기 제 1 노드(N1)의 전원이 상기 제 4 노드(N4)에 공급되므로 상기 제 4 노드(N4)의 전압 레벨은 상기 제 4 트랜지스터(241)의 문턱 전압 레벨까지 떨어지게 된다. 그러나 이 때 상기 제 1 제어부(210)에는 상기 지연부(280)에 의해서 일정 시간 지연된 후 상기 동작 신호(Input)가 입력되고 상기 동작 신호(Input)의 입력에 따라 상기 제 1 트랜지스터(212)가 턴 오프 되어 외부 공급전원(VDD)의 전 원 공급이 차단되므로 상기 지연부(280)가 지연 시키는 시간 내에는 상기 외부 공급전원(VDD)의 상기 제 1 및 제 4 노드로의 전원 공급이 지속된다. 따라서 상기 제 4 노드(N4)의 전압 레벨은 상기 제 5 노드(N5)의 전압 레벨보다 높아진다. 그러므로 상기 제 2 비교부(250)의 상기 제 9 트랜지스터(252)에 흐르는 전류의 양이 상기 제 12 트랜지스터(258)에 흐르는 전류의 양보다 적어지게 된다. 상기 제 9 트랜지스터(252)를 통해 흐르는 전류는 상기 제 10 및 제 11 트랜지스터(254, 256)를 턴 온 시키게 되는데, 이 때 상기 제 12 트랜지스터(258)의 구동력보다 상기 제 11 트랜지스터(256)의 구동력이 더 작아지게 되어 상기 제 3 노드(N3)에 인가되는 전압은 하이 레벨로 높아진다. 따라서 상기 구동부(260)의 상기 제 13 트랜지스터(262)는 턴 오프 되고 상기 전압 분배부(270)에는 상기 외부 공급전원(VDD)으로부터 더 이상 전원이 공급되지 않는다.Assuming that the internal power supply Vint initially has a value of 1.5 V or more, a voltage of 0.75 V is input to the sixth transistor 245 of the first comparator 240 and the seventh transistor 247 is provided. The input voltage is higher than 0.75V. Thus, the sixth and seventh transistors 245 and 247 are turned on, but the driving force is greater than that of the seventh transistor 247. Since the power of the first node N1 is supplied to the fourth node N4, the voltage level of the fourth node N4 falls to the threshold voltage level of the fourth transistor 241. However, at this time, after the predetermined time delay is delayed by the delay unit 280, the operation signal Input is input to the first control unit 210, and the first transistor 212 is applied according to the input of the operation signal Input. Since the power supply of the external supply power source VDD is turned off, the power supply to the first and fourth nodes of the external supply power source VDD is maintained within the time delayed by the delay unit 280. . Therefore, the voltage level of the fourth node N4 is higher than the voltage level of the fifth node N5. Therefore, the amount of current flowing through the ninth transistor 252 of the second comparator 250 is smaller than the amount of current flowing through the twelfth transistor 258. The current flowing through the ninth transistor 252 turns on the tenth and eleventh transistors 254 and 256, and at this time, the driving force of the eleventh transistor 256 is greater than the driving force of the twelfth transistor 258. As the driving force becomes smaller, the voltage applied to the third node N3 becomes high to a high level. Accordingly, the thirteenth transistor 262 of the driver 260 is turned off and no power is supplied to the voltage divider 270 from the external supply power VDD.

상기 내부 전원(Vint)이 초기에 1.5V 미만의 값을 갖는다고 가정하면, 상기 전원 분배부(270)로부터 상기 제 1 비교부(240)의 제 7 트랜지스터(247)에 전달되는 전압은 0.75V보다 낮은 값을 갖게 된다. 물론 여기에서도 상기 제 7 트랜지스터(247)의 문턱 전압(Threshold Voltage)은 0.75V보다 낮다고 가정한다.Assuming that the internal power supply Vint initially has a value of less than 1.5V, the voltage transferred from the power distribution unit 270 to the seventh transistor 247 of the first comparator 240 is 0.75V. It will have a lower value. Of course, it is also assumed here that the threshold voltage of the seventh transistor 247 is lower than 0.75V.

상기 내부 전원 동작 회로(200)의 동작 초기에는 상기 지연부(280)가 부여하는 지연 시간 만큼 상기 제 4 노드(N4)에 상기 외부 공급전원(VDD)의 전원 공급이 지속되고 상기 제 5 노드(N5)에는 상기 외부 공급전원(VDD)의 전원 공급이 차단되므로 상기 제 4 노드(N4)의 전압 레벨이 상기 제 5 노드(N5)의 전압 레벨보다 높을 것이다. 그러나 상기 지연부(280)가 부여한 지연 시간이 지나가면 상기 제 1 제어 부(210)는 외부 공급전원(VDD)의 전원 공급을 차단한다. 이후 상기 제 1 비교부(240)의 상기 제 6 트랜지스터(245)에는 0.75V의 전압이 입력되고 상기 제 7 트랜지스터(247)에는 0.75V보다 낮은 전압이 입력되므로 상기 제 6 트랜지스터(245)에 흐르는 전류의 양이 상기 제 7 트랜지스터(247)에 흐르는 전류의 양보다 많아진다. 따라서 일정 시간이 지나면 상기 제 4 노드(N4)의 전압 레벨이 상기 제 5 노드(N5)의 전압 레벨보다 낮아지게 된다. 그러므로 상기 제 2 비교부(250)의 상기 제 9 트랜지스터(252)에 흐르는 전류의 양이 상기 제 12 트랜지스터(258)에 흐르는 전류의 양보다 많아지게 된다. 상기 제 9 트랜지스터(252)를 통해 흐르는 전류는 상기 제 10 및 제 11 트랜지스터(254, 256)를 턴 온 시키게 되는데, 이 때 상기 제 12 트랜지스터(258)의 구동력보다 상기 제 11 트랜지스터(256)의 구동력이 더 커지게 되어 상기 제 3 노드(N3)에 인가되는 전압은 로우 레벨로 낮아진다. 따라서 상기 구동부(260)의 상기 제 13 트랜지스터(262)는 턴 온 되고 상기 전압 분배부(270)에는 상기 외부 공급전원(VDD)이 공급되어 상기 내부 전원(Vint)의 레벨은 상승한다.In the initial operation of the internal power supply operation circuit 200, power supply of the external power supply VDD is continued to the fourth node N4 by a delay time provided by the delay unit 280, and the fifth node ( Since the power supply of the external supply power source VDD is cut off at N5), the voltage level of the fourth node N4 will be higher than the voltage level of the fifth node N5. However, when the delay time given by the delay unit 280 passes, the first control unit 210 cuts off the power supply of the external supply power VDD. Thereafter, a voltage of 0.75 V is input to the sixth transistor 245 of the first comparator 240 and a voltage lower than 0.75 V is input to the seventh transistor 247, thereby flowing to the sixth transistor 245. The amount of current is greater than the amount of current flowing in the seventh transistor 247. Therefore, after a predetermined time, the voltage level of the fourth node N4 becomes lower than the voltage level of the fifth node N5. Therefore, the amount of current flowing through the ninth transistor 252 of the second comparator 250 is greater than the amount of current flowing through the twelfth transistor 258. The current flowing through the ninth transistor 252 turns on the tenth and eleventh transistors 254 and 256, and at this time, the driving force of the eleventh transistor 256 is greater than the driving force of the twelfth transistor 258. As the driving force becomes larger, the voltage applied to the third node N3 is lowered to a low level. Accordingly, the thirteenth transistor 262 of the driver 260 is turned on and the external power supply VDD is supplied to the voltage divider 270 to increase the level of the internal power supply Vint.

도 4는 도 3에 도시한 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로의 시뮬레이션 결과를 나타낸 그래프이다.4 is a graph illustrating a simulation result of an internal power generation circuit of the semiconductor memory device shown in FIG. 3.

그래프를 통해 30ns에서 동작 신호(Input)가 인에이블 되고 상기 지연부(280)에 의해 지연된 동작 신호(Input_Delay)가 40ns에서 인에이블 되는 것을 볼 수 있다. 초기의 내부 전원(Vint)은 1.5V보다 약간 높은 값을 갖는다. 상기 동작 신호(Input)가 인에이블 되는 30ns에서 상기 제 6 노드(N6)의 전압은 상기 제 1 비교부(240)의 제 8 트랜지스터(249)가 턴 온 되므로 로우 레벨로 하강하는 것을 확 인할 수 있다. 그리고 상기 제 7 노드(N7)의 전압도 상기 제 2 비교부(250)의 제 10 트랜지스터(254)가 턴 온 됨에 따라 일정 레벨 떨어지게 된다. 상기 제 5 노드(N5)의 전압도 일정 레벨 떨어진다. 이 때 상기 제 4 노드(N4)의 전압은 상기 지연된 동작 신호(Input_Delay)가 인에이블 될 때 강하하기 시작한다. 따라서 종래기술과 같이 상기 제 5 노드(N5)의 전압이 상기 제 4 노드(N4)의 전압보다 높은 구간이 존재하지 않는다. 이에 따라 상기 제 3 노드(N3)의 전압은 크게 강하되는 오동작을 일으키지 않았고 상기 내부 전원(Vint)은 1.5V와 근사한 값을 유지하게 되었다.The graph shows that the operation signal Input is enabled at 30 ns and the operation signal Input_Delay delayed by the delay unit 280 is enabled at 40 ns. The initial internal power supply (Vint) has a value slightly higher than 1.5V. At 30 ns when the operation signal Input is enabled, the voltage of the sixth node N6 drops to a low level because the eighth transistor 249 of the first comparator 240 is turned on. Can be. In addition, the voltage of the seventh node N7 also drops by a predetermined level as the tenth transistor 254 of the second comparator 250 is turned on. The voltage of the fifth node N5 also drops by a predetermined level. At this time, the voltage of the fourth node N4 starts to drop when the delayed operation signal Input_Delay is enabled. Therefore, as in the prior art, there is no section in which the voltage of the fifth node N5 is higher than the voltage of the fourth node N4. Accordingly, the voltage of the third node N3 did not cause a significant drop, and the internal power supply Vint maintained a value close to 1.5V.

이처럼 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로의 초기 내부 전원이 높을 때 동작 신호가 인에이블 되면 발생하게 되는 문제점은 상기 제 1 제어부(240)에 입력되는 동작 신호에 일정한 지연 시간을 부여함으로써 해결할 수 있게 되었다.The problem that occurs when the operation signal is enabled when the initial internal power of the internal power generation circuit of the semiconductor memory device is high can be solved by giving a predetermined delay time to the operation signal input to the first controller 240. .

이와 같이, 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.As such, those skilled in the art will appreciate that the present invention can be implemented in other specific forms without changing the technical spirit or essential features thereof. Therefore, the above-described embodiments are to be understood as illustrative in all respects and not as restrictive. The scope of the present invention is shown by the following claims rather than the detailed description, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included in the scope of the present invention. do.

이상에서 설명한 본 발명의 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로는 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성시 초기 내부 전원의 레벨이 높을 때 동작 신호 가 인에이블 되면 발생하게 되는 오동작을 방지하여 안정적인 내부 전원을 생성하는 효과가 있다.The internal power generation circuit of the semiconductor memory device of the present invention described above generates a stable internal power supply by preventing a malfunction that occurs when an operation signal is enabled when the initial internal power level is high when the internal power generation of the semiconductor memory device is generated. It works.

Claims (7)

내부 전원 생성 회로의 동작을 지시하는 동작 신호가 인에이블 되면 제 1 비교부와 제 2 비교부를 연결하는 제 1 노드로의 외부 공급전원(VDD)의 전원 공급을 차단하는 제 1 제어부;A first control unit which cuts off the power supply of the external power supply VDD to the first node connecting the first comparator and the second comparator when an operation signal indicating an operation of the internal power generation circuit is enabled; 상기 동작 신호가 인에이블 되면 상기 제 1 비교부와 상기 제 2 비교부를 연결하는 제 2 노드로의 상기 외부 공급전원(VDD)의 전원 공급을 차단하는 제 2 제어부;A second control unit which cuts off power supply of the external power supply VDD to a second node connecting the first comparator and the second comparator when the operation signal is enabled; 상기 동작 신호가 인에이블 되면 상기 제 2 비교부와 구동부를 연결하는 제 3 노드로의 상기 외부 공급전원(VDD)의 전원 공급을 차단하는 제 3 제어부;A third control unit which cuts off power supply of the external power supply VDD to a third node connecting the second comparator and the driver when the operation signal is enabled; 기준전압과 분압된 내부 전원의 크기를 비교하여 비교 결과에 따라 다른 레벨의 신호를 제 2 비교부에 전달하는 제 1 비교부;A first comparison unit comparing the magnitude of the reference voltage with the divided internal power supply and transferring a signal having a different level to the second comparison unit according to a comparison result; 상기 제 1 비교부로부터 입력된 신호와 상기 제 1 노드의 신호를 비교하여 비교 결과에 따라 다른 레벨의 신호를 구동부에 전달하는 제 2 비교부;A second comparator comparing the signal input from the first comparator with a signal of the first node and transferring a signal having a different level to the driver according to a comparison result; 상기 제 2 비교부로부터 입력된 신호의 레벨에 따라 상기 외부 공급전원(VDD)의 전원을 전압 분배부에 공급하거나 차단하는 구동부;A driver configured to supply or cut off the power of the external power supply VDD to a voltage divider according to a level of a signal input from the second comparator; 상기 구동부로부터 외부 공급전원(VDD)을 공급 받아 생성되는 내부 전원을 저항비에 따라 분배하여 상기 제 1 비교부에 전달하는 기능을 하는 전압 분배부; 및A voltage divider for distributing the internal power generated by receiving an external supply power VDD from the driver according to a resistance ratio and transferring the internal power to the first comparator; And 상기 제 1 제어부에 전달되는 동작 신호를 일정 시간 지연시키는 지연부;A delay unit configured to delay an operation signal transmitted to the first control unit for a predetermined time; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로.Internal power generation circuit of a semiconductor memory device comprising a. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 제어부는,The first control unit, 소스 단에 상기 외부 공급전원(VDD)이 인가되고 게이트 단에 상기 지연부의 출력 신호가 입력되며 드레인 단이 상기 제 1 노드와 연결되는 PMOS 트랜지스터;A PMOS transistor to which an external supply power source (VDD) is applied to a source terminal, an output signal of the delay unit is input to a gate terminal, and a drain terminal is connected to the first node; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로.Internal power generation circuit of a semiconductor memory device comprising a. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 비교부는,The first comparison unit, 소스 단에 상기 외부 공급전원(VDD)이 인가되고 게이트 단이 상기 제 1 노드 및 드레인 단과 연결되며 드레인 단이 제 2 및 제 3 트랜지스터와 연결되는 제 4 노드에 연결되는 제 1 트랜지스터;A first transistor having a source terminal applied with the external supply power source (VDD), a gate terminal connected with the first node and a drain terminal, and a drain terminal connected with a fourth node connected with the second and third transistors; 소스 단에 상기 외부 공급전원(VDD)이 인가되고 게이트 단에 상기 제 4 노드의 신호가 입력되며 드레인 단이 제 4 트랜지스터 및 상기 제 2 노드와 연결되는 제 5 노드에 연결되는 제 2 트랜지스터;A second transistor to which a source terminal (VDD) is applied, a signal of the fourth node is input to a gate terminal, and a drain terminal is connected to a fourth node connected to a fourth transistor and the second node; 드레인 단이 상기 제 4 노드에 연결되고 게이트 단에 상기 기준전압이 인가되며 소스 단이 제 4 및 제 5 트랜지스터와 연결되는 제 6 노드에 연결되는 제 3 트랜지스터;A third transistor having a drain terminal connected to the fourth node, the reference voltage applied to a gate terminal, and a source terminal connected to a sixth node connected to fourth and fifth transistors; 드레인 단이 상기 제 5 노드에 연결되고 게이트 단에 상기 전압 분배부에서 분압된 전압이 인가되며 소스 단이 상기 제 6 노드에 연결되는 제 4 트랜지스터; 및A fourth transistor having a drain terminal connected to the fifth node, a voltage divided by the voltage divider applied to a gate terminal, and a source terminal connected to the sixth node; And 드레인 단이 상기 제 6 노드에 연결되고 게이트 단에 상기 동작 신호가 입력되며 소스 단이 그라운드 전압(VSS)과 연결되는 제 5 트랜지스터; A fifth transistor having a drain terminal connected to the sixth node, the operation signal input to a gate terminal, and a source terminal connected to a ground voltage VSS; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로.Internal power generation circuit of a semiconductor memory device comprising a. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 제 1 및 제 2 트랜지스터는 PMOS 트랜지스터이고, 상기 제 3, 제 4 및 제 5 트랜지스터는 NMOS 트랜지스터인 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로.Wherein the first and second transistors are PMOS transistors, and the third, fourth and fifth transistors are NMOS transistors. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 2 비교부는,The second comparison unit, 소스 단에 상기 외부 공급전원(VDD)이 인가되고 게이트 단이 상기 제 1 노드에 연결되며 드레인 단이 제 2 트랜지스터의 드레인 단과 게이트 단 및 제 3 트랜지스터의 게이트 단에 연결되는 제 4 노드와 연결되는 제 1 트랜지스터;The external supply power source VDD is applied to a source terminal, a gate terminal is connected to the first node, and a drain terminal is connected to a drain node of the second transistor and a fourth node connected to the gate terminal and the gate terminal of the third transistor. A first transistor; 드레인 단 및 게이트 단이 상기 제 4 노드와 연결되고 소스 단에 상기 그라 운드 전압(VSS)이 연결되는 제 2 트랜지스터;A second transistor having a drain terminal and a gate terminal connected to the fourth node, and a ground voltage VSS connected to a source terminal; 드레인 단이 제 4 트랜지스터 및 상기 제 3 노드와 연결되는 제 5 노드에 연결되고 게이트 단이 상기 제 4 노드와 연결되며 소스 단에 상기 그라운드 전압(VSS)이 연결되는 제 3 트랜지스터; 및A third transistor having a drain terminal connected to a fourth transistor and a fifth node connected to the third node, a gate terminal connected to the fourth node, and a source voltage connected to the ground terminal VSS; And 소스 단에 외부 공급전원(VDD)이 인가되고 게이트 단이 상기 제 2 노드와 연결되며 드레인 단이 상기 제 5 노드와 연결되는 제 4 트랜지스터;A fourth transistor having an external supply power source (VDD) applied to a source terminal, a gate terminal connected to the second node, and a drain terminal connected to the fifth node; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로.Internal power generation circuit of a semiconductor memory device comprising a. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, 상기 제 1 및 제 4 트랜지스터는 PMOS 트랜지스터이고 상기 제 2 및 제 3 트랜지스터는 NMOS 트랜지스터인 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로.Wherein the first and fourth transistors are PMOS transistors and the second and third transistors are NMOS transistors. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 지연부는,The delay unit, 짝수 개의 인버터의 직렬 연결 조합으로 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 내부 전원 생성 회로.An internal power generation circuit of a semiconductor memory device, characterized in that consisting of a series of combinations of even-numbered inverters.
KR1020050099046A 2005-10-20 2005-10-20 Circuit for generating internal voltage in semiconductor memory apparatus KR100656426B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050099046A KR100656426B1 (en) 2005-10-20 2005-10-20 Circuit for generating internal voltage in semiconductor memory apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050099046A KR100656426B1 (en) 2005-10-20 2005-10-20 Circuit for generating internal voltage in semiconductor memory apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR100656426B1 true KR100656426B1 (en) 2006-12-11

Family

ID=37732942

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020050099046A KR100656426B1 (en) 2005-10-20 2005-10-20 Circuit for generating internal voltage in semiconductor memory apparatus

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100656426B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100861303B1 (en) 2007-05-15 2008-10-01 주식회사 하이닉스반도체 Inter voltage generation circuit and semiconductor memory device including the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100861303B1 (en) 2007-05-15 2008-10-01 주식회사 하이닉스반도체 Inter voltage generation circuit and semiconductor memory device including the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4648346B2 (en) Adjustable transistor body bias network
US7579821B2 (en) Voltage generator
US7778100B2 (en) Internal voltage generation circuit of semiconductor memory device
US7479767B2 (en) Power supply step-down circuit and semiconductor device
US8248882B2 (en) Power-up signal generator for use in semiconductor device
KR100803363B1 (en) Circuit for generating voltage of semiconductor memory apparatus
US7755410B2 (en) Semiconductor integrated circuit capable of overcoming clock signal jitter
US8922250B2 (en) Semiconductor device and semiconductor system including the same
KR100656426B1 (en) Circuit for generating internal voltage in semiconductor memory apparatus
US7560968B2 (en) Output driver capable of controlling a short circuit current
US20060103438A1 (en) Initialization signal generation apparatus for use in a semiconductor device
US20140321224A1 (en) Semiconductor device
US20140145690A1 (en) Internal voltage generation circuits
US20130147545A1 (en) Reference voltage generation circuit and internal voltage generation circuit using the same
JP2008092530A (en) Signal transmission circuit
US9335777B2 (en) Voltage generation circuits and semiconductor devices including the same
US7514976B2 (en) Pulsed flip-flop and method of controlling the same
KR20070079111A (en) Circuit for generating reference voltage in semiconductor memory apparatus
KR20180047209A (en) Reference selecting circuit
US9459638B2 (en) Internal voltage generation circuit for adjusting internal voltage signal based on received bulk voltage signal, an upper limit reference voltage signal, and a lower limit reference voltage signal
KR100825021B1 (en) Inner-voltage generator
KR101153793B1 (en) Apparatus for generating internal voltage
JP4808025B2 (en) Flip-flop, integrated circuit, and flip-flop reset method
US20080238501A1 (en) Initialization signal generating circuit
KR100574500B1 (en) Initializing signals generating circuit of semiconductor device

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20101125

Year of fee payment: 5

LAPS Lapse due to unpaid annual fee