KR100653442B1 - Supporthng apparatus for showerhead - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 종래의 샤워헤드 지지장치에 대한 개념도1 is a conceptual diagram of a conventional showerhead support device
도 2는 본 발명에 의한 샤워헤드 지지장치에 대한 개념도2 is a conceptual diagram of a showerhead support apparatus according to the present invention
도 3a는 본 발명에 의한 제1지지구의 상세 단면도,Figure 3a is a detailed cross-sectional view of the first support according to the present invention,
도 3b는 본 발명에 의한 제1지지구의 고정구에 대한 조립도,3b is an assembly view of the fixture of the first support according to the present invention,
도 4는 본 발명에 의한 제2지지구의 상세 단면도,4 is a detailed cross-sectional view of the second support according to the present invention;
도 5는 본 발명에 의한 제1지지구의 평면도,5 is a plan view of the first support according to the present invention,
도 6은 본 발명에 의한 제1고정구의 브라켓에 대한 일 실시예의 단면도,Figure 6 is a cross-sectional view of one embodiment of the bracket of the first fixture according to the present invention,
도 7은 본 발명에 의한 제1고정구의 브라켓에 대한 일 실시예의 단면도,7 is a cross-sectional view of an embodiment of a bracket of a first fixture according to the present invention;
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>
110 : 리드 커버 140 : 디퓨져 바디110: lid cover 140: diffuser body
140a : 공간부 150 : 샤워헤드140a: space 150: shower head
160 : 제1지지부 170 : 제2지지부160: first support portion 170: second support portion
본 발명은 샤워헤드를 지지하는 장치에 관한 것으로서, 특히 샤워헤드를 지 지하기 위하여 디퓨져 바디와 고정되는 제2고정구와 상기 디퓨져 바디를 지지하기 위하여 리드 커버와 고정되는 제1고정구의 구성에 의해 상기 샤워헤드의 처짐 변형을 방지하여 증착 균일도를 향상시키는 기능을 갖는 지지장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for supporting a shower head, and in particular, by a configuration of a second fixture fixed to the diffuser body to support the shower head and a first fixture fixed to the lid cover to support the diffuser body. A support apparatus having a function of preventing sag deformation of a showerhead to improve deposition uniformity.
일반적으로 LCD용 화학기상증착공정을 수행하기 위하여 도 1에 나타난 바와 같은 구성이 널리 사용되고 있다. 즉, 반응가스를 분사하기 위한 샤워헤드(15)가 디퓨져 바디(14)의 양측에 볼트에 의해 고정되는 한편 도입부(18)에 의해 도입된 반응가스가 서셉터(S)에 분사된다. In general, in order to perform a chemical vapor deposition process for LCD, the configuration as shown in Figure 1 is widely used. That is, the
한편 근래에는 LCD 가공을 위한 글래스의 크기와 중량이 증가됨에 의해 상기 샤워헤드(15)의 크기도 증가되는 추세에 있다. In recent years, the size of the
그러나, 크기와 중량이 증가된 샤워헤드(15)가 상술한 바와 같이 종래의 구성에 의해 고정되는 경우 처짐등의 변형이 발생하거나 디퓨져 바디(14)의 경우 진공으로 인한 압력차이에 의해 변형이 발생되기도 한다. 이러한 변형에 의해 샤워헤드와 서셉터간의 중앙부와 주변부의 전극거리가 차이가 나고 이로 인한 플라즈마의 불균일 현상에 따라 증착시 균일도가 저해되는 문제점이 있었다.However, when the
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서 샤워헤드를 지지하기 위하여 디퓨져 바디에 고정시키는 한편 상기 디퓨져 바디를 지지하기 위하여 리드 커버 상부의 브라켓 및 이에 고정시키는 구성에 의해 상기 샤워헤드의 처짐 변형을 방지하여 증착 균일도를 향상시키는 화학기상증착장치를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, while fixing to the diffuser body to support the shower head, while preventing the deflection deformation of the shower head by a structure and a bracket on the upper lid cover to support the diffuser body The purpose is to provide a chemical vapor deposition apparatus that improves the deposition uniformity.
상술한 목적은 상기 샤워헤드를 고정하기 위하여, 상기 디퓨져 바디에 형성되는 공간부에 삽입되는 한편 상기 디퓨져 바디를 관통하여 상기 샤워헤드에 삽입되어 상기 샤워헤드를 고정하게 되는 고정구와 상기 공간부상에 덮여지는 진공커버로 되는 제2지지구와, 상기 디퓨져 바디를 고정하기 위하여, 상기 리드 커버상에 배치되는 브라켓과 상기 브라켓과 상기 리드 커버를 관통하는 한편 상기 디퓨져 바디에 삽입되는 고정구로 되는 제1지지구를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 샤워헤드 지지장치에 의해 달성될 수 있다.In order to fix the shower head, the above-mentioned object is inserted into a space portion formed in the diffuser body and is inserted into the shower head through the diffuser body and covered on the fixture and the space portion to fix the shower head. A second support serving as a vacuum cover, and a first support comprising a bracket disposed on the lid cover and a fixture inserted through the bracket and the lid cover while being inserted into the diffuser body to fix the diffuser body. It can be achieved by a showerhead support device characterized in that it further comprises.
이하 실시예와 첨부된 도면에 의해 상기 기술적 사상을 상세히 설명하기로한다.Hereinafter, the technical spirit will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
상술한 바와 같이 본 발명은 큰 크기와 중량을 가지는 샤워헤드의 처짐방지를 위하여 지지장치를 부가한 것으로서 이하 도 2를 참조하여 설명한다.As described above, the present invention adds a support device for preventing sagging of a shower head having a large size and weight.
본 발명의 지지장치는 샤워헤드(150)를 지지하기 위하여 디퓨져 바디(140)에 고정시키는 제2지지구(170)와 상기 디퓨져 바디(140)를 지지하기 위하여 리드 커버(110) 상부에 고정시키는 제1지지구(160)으로 구성된다.The support device of the present invention is a
상기 제1지지구(160)는 리드 커버(110)상에 배치되는 브라켓(161)을 기반으로 하여 고정구(162)가 상기 리드 커버(110)를 관통하며 디퓨져 바디(140)에 삽입되어 고정하는 구성에 의해 상기 디퓨져 바디(140)를 지지하게 된다. (도 3a 참조)The
이때 상기 브라켓(161)은 H형 빔을 사용하고 있으나 육면체 형상으로도 가능하고(도 6 참조) 사다리꼴 단면의 육면체 형상도 가능하다(도 7 참조) 즉 상기 고 정구(162)가 고정될 수 있는 형상이면 어느 것이나 가능하다.In this case, the
한편, 상기 고정구(162)는 절연이 가능한 피크(peek)나 테프론 등의 엔지니어링 플라스틱 재질로 하는 부싱형태의 튜브(162a)에 삽입되게 되는데, 그 이유는 고전압이 걸리는 디퓨져 바디(140)와의 전기적 절연을 하기 위함이다. On the other hand, the
상기 피크(peek)는 "Poly Ether Ether Ketone "의 약어로서 엔지니어링 플라스틱의 일종이다. 상기 피크는 용해 성형 가능한 결정성 수지로서는, 가장 높은 내열성을 가지고, 내피로성, 내환경성, 난소성(부식성 가스를 내지 않고, 연기의 발생도 적다) 등이 뛰어난 특징이 있다. The peak is an abbreviation of "Poly Ether Ether Ketone", which is a kind of engineering plastic. As the crystalline resin which can be melt-molded, the peak has the highest heat resistance, and is characterized by excellent fatigue resistance, environmental resistance, incombustibility (without generating a corrosive gas, and less generation of smoke).
한편, 상술한 바와 같이 디퓨져 바디(140)를 지지하는 이유는 대면적의 진공장치에서 상기 디퓨져 바디(140)가 진공힘에 의해 중앙부가 처짐을 상술한 리드커버(110)와 H 빔에 의해 지지하는 역할을 하게 함이며 상기 디퓨져 바디(140)에 연결되어 있는 상기 샤워헤드(150)의 중앙부가 처짐을 지지하고자 하기 위한 것이다.Meanwhile, as described above, the reason for supporting the
한편 상기 고정구(162)는 와셔(162b)를 통해서 상술한 튜브(162a)에 삽입되게 하여 고정 후에도 잘 풀어지지 않도록 하였다.( 도 3b 참조) 상기 튜브(162)는 상부가 반경이 넓은 단턱부와 그 하부에 상기 고정구(162)가 삽입되는 삽입부로 구성된다. 한편 상기 와셔(162b)의 재질은 일반 금속을 사용하는 것도 바람직하다.On the other hand, the
상술한 바와 같이 본 발명은 샤워헤드(150)의 처짐에 의한 변형을 방지하기 위하여 제2지지구(170)에 의해 상기 샤워헤드(150)를 디퓨져 바디(140)에 고정시키는 한편 제1지지구(160)에 의해 상기 디퓨져 바디(140)를 리드 커버(110)에 고정시키는 것으로서 이하 도 4를 참조하여 제2지지구(170)를 설명하기로 한다.As described above, the present invention secures the
상기 제2지지구(170)의 고정구(172)는 상기 디퓨져 바디(140)에 형성되는 공간부(140a)에 삽입되는 한편 상기 디퓨져 바디(140)를 관통하여 샤워헤드(150)에 삽입되어 고정된다. 이때 상기 공간부(140a)의 윗면에는 반응가스의 누출을 방지하기 위하여 진공커버(171)가 배치된다. 상기 진공커버(171)는 실링 부재(173)이 설치되어 기밀을 유지하게 된다.The
또한 상기 고정구(172)의 경우 금속이나, 스테인레스 스틸의 재질을 사용하였으며, 튜브(172a)의 경우 알루미늄 재질로 하였으며 이는 고정구(172)가 반응가스에 직접 노출되어 부식되는것을 방지하고자 하였다. In addition, the
한편 상술한 제1지지구(160)는 다수개를 사용하는 것도 가능하다. 즉, 도 5에서 도시된 바와 같이 도입부(180)를 중심으로 원형으로 배열시키는 것도 바람직 하다.On the other hand, it is also possible to use a plurality of the
이상과 같이 샤워헤드의 처짐에 의한 변형을 방지하여 균일한 증착막을 얻기 위하여 제2지지구에 의해 상기 샤워헤드를 디퓨져 바디에 고정시키는 한편 제1지지구에 의해 상기 디퓨져 바디를 리드 커버에 고정시키는 하는 구성에 의해 샤워헤드의 처짐 변형을 방지하여 증착 균일도를 향상시키는 효과가 있다.As described above, the showerhead is fixed to the diffuser body by a second support while preventing the deformation caused by the sag of the showerhead to obtain a uniform deposition film, and the diffuser body is fixed to the lid cover by the first support. The configuration can prevent sagging deformation of the showerhead, thereby improving the deposition uniformity.
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