KR100640187B1 - 오염물질이 제거된 평판 디스플레이의 구성요소 및 그오염물질 제거방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 건식 세정 처리 공정을 이용하여 세척된 내부 구성요소를 가지는 평판 디스플레이 장치에 관한 것이다.

Description

오염물질이 제거된 평판 디스플레이의 구성요소 및 그 오염물질 제거방법{DECONTAMINATED COMPONENT OF A FLAT PANEL DISPLAY AND METHOD FOR SAID DECONTAMINATION}

본 발명은 평판 디스플레이에 관한 것이다. 보다 상세하게, 본 발명은 평판 디스플레이의 내부 구성요소에 관한 것이다.

종래의 평판 디스플레이 장치들은 전극의 행방향 및 열방향의 매트릭스 구조물을 포함하는 백 플레이트를 포함한다. 이러한 평판 디스플레이 장치는 배경 자료로서 본 발명의 참고문헌이 되는 미합중국 특허 제5,541,473호(GRID ADDRESSED FIELD EMISSION CATHODE)에 기재되어 있다. 전형적으로, 백 플레이트는 음극 구조물(전자 방출)을 유리판 위에 퇴적시킴으로써 형성된다. 음극 구조물은 전자를 방출하는 에미터를 포함한다. 일반적으로 백 플레이트는 그 안에 음극 구조물이 퇴적되는 활성 영역을 갖는다. 일반적으로, 활성 영역은 유리판의 전체 표면을 덮고 있는 것이 아니고, 유리판 주위에 연장된 얇은 스트립을 형성하고 있다. 도전성 트레이스가 얇은 스트립을 통해 연장되어, 활성 영역에 접속성을 부여한다.

종래의 평판 디스플레이 장치는 그 내부 표면상에 퇴적한 하나 이상의 형광체 층을 가지는 얇은 유리 페이스 플레이트를 포함한다. 페이스 플레이트는 일반적으로, 백 플레이트로부터 약 1 내지 2 mm 가량 떨어져 있다. 페이스 플레이트는 그 안에 형광체 층(또는 형광체 층들)이 퇴적된 활성 영역을 포함한다. 페이스 플레이트와 백 플레이트의 활성 영역 주위에 연장된 유리 시일을 이용하여, 페이스 플레이트가 백 플레이트에 부착된다.

평판 디스플레이 장치의 페이스 플레이트상의 서브-픽셀 영역은 일반적으로, 흔히 매트릭스 또는 "블랙 매트릭스"로 불리는 불투명한 메쉬형 구조물에 의해 분리되어 있다. 서브-픽셀 영역의 분리에 의해, 블랙 매트릭스는 한 서브-픽셀에 배향된 전극이 다른 서브-픽셀을 오버랩하지 않게 한다. 따라서, 종래의 블랙 매트릭스는 평판 디스플레이 장치에 있어 색상의 순도를 유지하는 데 도움을 주었다. 폴리이미드 물질이 블랙 매트릭스를 형성하는 데 흔히 사용된다. 또한, 블랙 매트릭스가 3차원인 경우(즉, 발광 형광체로부터 위로 연장됨), 블랙 매트릭스는 하나의 서브-픽셀 형광체로부터 백 스캐터링된 전자의 일부가 다른 것과 충돌하지 않도록 하여 색상의 순도를 개선시킨다.

지지 구조물은 페이스 플레이트와 백 플레이트 사이에 연장된다. 이러한 지지 구조물은 블랙 매트릭스 위에 놓이게 되어 페이스 플레이트와 백 플레이트 사이의 간격을 균일하게 한다. 지지 구조물은 전형적으로 세라믹 물질로 형성된다. 지지 구조물은 벽, 핀, 또는 여러 다른 모양들을 가질 수 있다.

백 플레이트의 활성 영역 위에 형성된 포커스 구조물은 음극으로부터의 전자의 방출을 유도한다. 보다 구체적으로는, 에미터로부터의 전자 방출을 유도하기 위하여 음극의 활성 영역 내에 포커스 구조물이 형성된다. 포커스 구조물은 흔히 폴 리이미드를 사용하여 형성된다.

필드 방출 음극선관의 페이스 플레이트는 디스플레이 장치를 발광하는데 사용되는 전류를 운반하기 위하여, 도전성 양극을 필요로 한다. 종래의 평판 디스플레이 장치내의 내부 구성요소는 지지 구조물을 포함한다. 시간의 경과에 따라, 반복된 전자 충격은 지지 구조물의 전기적 특성을 변하게 한다. 보다 구체적으로는, 지지 구조물의 저항이 시간에 따라 변하여, 공간적으로 불균일한 저항을 나타내게 된다. 이는 생성되는 가시적 화상에 나쁜 영향을 미친다. 보다 상세하게는, 공간적으로 불균일한 저항은 지지 구조물을 향해 또는 지지 구조물로부터의 전자빔의 굴절을 일으킨다. 이는 가시적 디스플레이 장치 내에 부적합하게 발광된 영역들을 발생시킨다. 지지 구조물로서 벽이 사용되는 경우, 전자의 굴절은 가시적 디스플레이 장치를 가로질러 가시선들이 연장되게 한다. 또한, 공간적으로 불균일한 저항은 아크를 발생시킬 수 있다.

따라서, 평판 디스플레이 장치에 있어, 내부 구성요소의 전기적 특성들이 시간이 경과함에 따라 손상되어, 부적합하게 발광된 가시적 디스플레이 영역을 발생시키지 않도록 할 필요가 있다. 보다 구체적으로는, 내부 구성요소에 있어, 저항이 시간의 경과에 대하여 변화하지 않으며, 공간적으로 불균일한 저항이 발생하지 않도록 할 필요가 있다.

본 발명의 목적은 내부 구성요소가 시간이 경과함에 따라 손상되어, 부적합하게 발광되는 가시 디스플레이 영역을 발생시키지 않는 내부 구성요소를 제공하는 것이다. 이러한 목적은 시간에 따라 저항을 변화시키지 않고, 공간적으로 불균일한 저항을 발생시키지 않는 내부 구성요소를 사용함으로써 달성될 수 있다. 본 발명은 상기의 목적에 부합하는 내부 구성요소 및 내부 구성요소를 건식 세정하는 방법을 제공한다.

구체적으로, 본 발명에 따른 바람직한 실시예에 있어서, 본 발명은 평판 디스플레이 장치의 페이스 플레이트에 결합하도록 적용된 매트릭스 구조물을 포함한다. 매트릭스 구조물은 페이스 플레이트 상에 위치하여, 인접하는 서브-픽셀 영역을 분리시킨다. 본 발명은 또한, 지지 구조물 및 포커스 구조물을 포함한다. 매트릭스 구조물 및 지지 구조물은 페이스 플레이트 및 백 플레이트 사이에 위치한 평판 디스플레이 장치의 내부 구성요소이다.

내부 구성요소(즉, 매트릭스 구조물, 포커스 구조물 및 지지 구조물)는 건식 세정 처리 공정을 이용하여 세척된다. 본 발명의 바람직한 일 실시예에 있어서, 건식 세정 처리 공정은 산소 플라즈마를 사용한다. 또는, 수소 플라즈마 또는 아르곤 플라즈마를 사용한다. 다른 실시예에 있어서, UV 방사 분위기에서 오존을 사용한다.

건식 세정 처리 공정에 의한 내부 구성요소의 세척에 의해, 지지 구조물내의 저항이 시간에 따라 변하지 않으며, 공간적으로 불균일한 저항이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 본 발명은 시간에 따라 변화하지 않는 전기적 특성을 가지는 지지 구조물을 제공함으로써, 전기적 안정성을 얻을 수 있으며, 이는 아크 발생 및 부적합하게 발광되는 가시 디스플레이 영역의 발생 가능성을 감소시킨다.

이러한 본 발명의 목적 및 이점들은 첨부 도면에 도시되어 있는 바람직한 실시예를 참고로 한 이하의 상세한 설명에 의해, 당해 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에게 명백히 이해될 수 있을 것이다.

본 명세서에 첨부되어, 그 일부가 되는 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 나타내며, 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명을 설명하기 위해 제공된 것이다.

도1은 본 발명의 일 실시예에 따라 배치된 매트릭스 구조물을 가지는 평판 디스플레이 장치의 페이스 플레이트의 사시도이다.

도2는 본 발명의 일 실시예에 따라 건식 세정 처리 공정을 이용하여 세척된 지지 구조물을 나타내는 평판 디스플레이 장치의 사시도이다.

도3은 본 발명의 일 실시예에 따라 건식 세정 처리 공정을 이용하여 세척된 매트릭스 구조물을 형성하기 위한 방법을 나타내는 도면이다.

도4는 본 발명의 일 실시예에 따라 매트릭스 구조물이 건식 세정 처리 공정을 이용하여 세척된 평판 디스플레이 장치를 나타내며, 도1의 A-A 선을 따라 취한 매트릭스 구조물 및 페이스 플레이트의 측단면도이다.

도5는 본 발명의 일 실시예에 따라 건식 세정 처리 공정을 이용하여 세척된 지지 구조물을 형성하기 위한 방법을 나타내는 도면이다.

도6은 본 발명의 일 실시예에 따라 지지 구조물이 건식 세정 처리 공정을 이용하여 세척된 평판 디스플레이 장치를 나타내며, 도2의 B-B 선을 따라 취한 구조물의 측단면도이다.

도7은 본 발명의 일 실시예에 따라 건식 세정 처리 공정을 이용하여 세척된 포커스 구조물을 형성하기 위한 방법을 나타내는 도면이다.

도8은 본 발명의 일 실시예에 따라 포커스 구조물을 세척하기 위하여, 건식 세정 처리 공정을 이용하는 것을 나타내는, 평판 디스플레이 장치의 포커스 구조물의 측단면도이다.

본 명세서의 설명에서 참고로 한 도면은 특별한 언급이 없는 한, 척도에 대하여 도시한 것은 아닌 것으로 한다.

이하에서, 첨부 도면을 참고로 하여, 본 발명에 따른 바람직한 실시예들을 상세히 설명한다. 본 발명은 바람직한 실시예들을 참고로 하여 상세히 설명되나, 이러한 실시예들로 본 발명의 범주를 제한하는 것은 아니다. 오히려, 본 발명은 첨부되는 특허청구범위에 의해 한정되는 본 발명의 범주 내에서 가능한 다양한 변경, 변형 및 응용예들을 포함한다. 또한, 이하의 본 발명의 상세한 설명에 있어서의 여러 구체적인 설명들은 본 발명을 명확히 이해할 수 있도록 제공되는 것이다. 그러나, 이러한 구체적인 설명들이 없더라도 당해 기술분야의 통상의 기술을 가진 자라면 본 명세서에 따라 본 발명을 실시할 수 있을 것이다. 다른 실시예들에 있어서, 공지의 방법, 공정, 및 구성요소들은 본 발명의 요지를 불분명하게 할 우려가 있으므로 상세히 설명하지 않는다.

도1은 매트릭스 구조물(102)이 결합된 평판 디스플레이 장치의 페이스플레이트(100)를 나타내는 사시도이다. 도1의 실시예에 있어서, 매트릭스 구조물(102)은 매트릭스 구조물(102)의 행(row)과 열(column)이 인접한 서브-픽셀 영역(일반적으로, 104)을 분리하는 방식으로 페이스 플레이트(100)상에 위치한다. 또한, 본 실시예에 있어서, 매트릭스 구조물(102)은 폴리이미드 물질로 형성된다. 본 실시예에 있어서의 매트릭스 구조물(102)은 폴리이미드 물질로 이루어지나, 본 발명은 오염을 일으키는 다른 다양한 매트릭스 형성 물질을 사용하는 경우에도 잘 적용될 수 있다. 예로써, 본 발명은 폴리이미드와는 다른 성분을 포함하는 감광성 폴리이미드 배합물로 이루어진 매트릭스 구조물을 사용하는 경우에도 적용될 수 있다.

도1을 참고로 한 일 실시예에 있어서, 매트릭스 구조물(102)은 "멀티-레벨" 매트릭스 구조물이다. 즉, 매트릭스 구조물(102)의 행은 매트릭스 구조물(102)의 열과 다른 높이를 갖는다. 그러나, 본 발명은 멀티-레벨이 아닌 매트릭스 구조물을 사용하는 경우에도 잘 적용될 수 있다. 본 발명의 매트릭스 구조물이 때로 블랙 매트릭스로 호칭되나, 여기서의 "블랙"은 매트릭스 구조물의 불투명한 특성을 나타내는 것이다. 따라서, 본 발명은 블랙이 아닌 다른 색을 가지는 경우에도 적용될 수 있다. 또한, 이하의 도면에서는, 명확하게 하기 위하여 페이스 플레이트의 내면 중 일부만을 나타내었다. 부가적으로, 이하에서는 특히 건식 세정 처리 공정을 이용하여 세척된 매트릭스 구조물(102)을 나타내었다. 본 명세서에서는 구체적인 예를 들어 설명하나, 본 발명은 평판 디스플레이 장치의 다른 다양한 내부 구성요소를 사용하는 경우에도 적용될 수 있다. 또한, 본 발명의 일부 실시예에서는 평판 디스플레이 장치의 픽셀 및/또는 서브-픽셀 영역을 한정하기 위한 매트릭스 구조물에 관하여 설명하고 있으나, 본 발명은 픽셀 및/또는 서브-픽셀 영역을 한정하는 구조물이 "매트릭스" 구조물이 아닌 경우에도 잘 적용될 수 있다. 따라서, 본 출원에 있어서 이러한 응용을 위하여, "매트릭스 구조물"이라는 용어는 픽셀 및/또는 서브-픽셀 영역을 한정하기 위한 구조물이며, 물리적으로 특정한 모양을 가지는 구조물을 나타내는 것은 아니다.

도2에 있어서, 본 발명에 따른 일 실시예에 따라 매트릭스 구조물(102) 위에 배치된 지지 구조물(150)이 도시되어 있다. 이하에서 기재되어 있는 바와 같이, 본 발명에 따른 실시예에 있어서, 지지 구조물(150)은 건식 세정 처리 공정을 이용하여 세척되었다. 즉, 건식 세정 처리 공정에 의해 지지 구조물(150)의 표면이 세척된다. 이러한 과정은 시간이 경과함에 따라 손상되지 않는 전기적 특성을 가지며, 따라서 지지 구조물(150)상에 균일한 저항을 부여하고, 저항이 공간적으로 불균일하지 않도록 된 지지 구조물(150)을 생성한다.

도2에 있어서, 본 발명은 다른 유형의 지지 구조물을 사용하는 경우에도 적용될 수 있다. 따라서, 본 발명은 예컨대, 지지 구조물이 핀, 볼, 컬럼, 또는 다른 여러 모양의 지지 구조물들 중 어느 하나로 이루어진 경우에도 잘 적용될 수 있다. 또한, 본 발명은 세라믹이 아닌 다른 물질로 이루어진 지지 구조물을 사용하는 경우에도 적용될 수 있다. 특히, 본 발명은 예컨대, 금속선, 전도성 스트립 등과 같은 전도성 요소들을 포함하는 지지 구조물을 사용하는 경우에 대하여도 양립 가능하다.

도3에는 매트릭스 구조물을 형성하는 방법이 도시되어 있다. 먼저, 블록(401)에 의해 나타낸 바와 같이, 매트릭스 구조물이 제공된다. 이러한 매트릭스 구조물은 단계(402)에 의해 나타낸 바와 같이, 건식 세정 처리 공정에 노출된다. 본 발명에 따른 일 실시예에 있어서, 건식 세정 처리 공정은 자외선(UV) 방사 분위기에서 오존을 적용하는 것으로 이루어진다. 본 발명의 일 실시예에 있어서, 종래의 화학 증착(CVD) 챔버가 건식 세정 처리 공정에 이용된다. 일 실시예에 있어서, 건식 세정 처리 공정은 UV 레이저 빔을 사용하여 액체 또는 고체 유기 물질을 기체 생성물(증기로서 제거될 수 있음)로 분해시킨다. 펄스화된 레이저 빔이 포토 어퀘스틱 프로세스에 의해 작은 입자물을 제거하기 위해 사용될 수 있다.

도3에 있어서, 단계(402)에 의해 나타낸 바와 같은 건식 세정 처리 공정을 적용할 때, 잔여 오염물질이 매트릭스 구조물의 표면으로부터 제거된다. 이러한 오염물질에 탄소와 탄소를 포함하는 화합물이 포함된다.

도4에는, 페이스 플레이트(100) 및 매트릭스 구조물(102)의 측단면도가 도시되어 있다. 이 측단면도에는, 명확하게 하기 위하여 매트릭스 구조물(102)의 일부만을 나타내었다. 그러나, 상기의 단계는 매트릭스 구조물(102)의 훨씬 더 넓은 부분에 걸쳐 수행될 수 있으며, 도4에 도시된 매트릭스 구조물(102)의 그 일부에 한정되는 것은 아니다. 부가적으로, 본 발명에 따른 방법에 있어서 사용되는 상기 단계는 매트릭스 구조물로부터 오염물질의 일부를 처음부터 제거하기 위하여 예비 베이크-아웃 단계를 사용하는 경우에도 적용될 수 있다. 베이크-아웃 단계에 있어서, 매트릭스 구조물(102)은 평판 디스플레이 장치의 밀봉 진공 분위기에 매트릭스 구조물을 위치시키기 전에 가열된다.

도4에 있어서, 도3의 건식 세정 처리(402)와 같은 건식 세정 처리 공정이 매 트릭스 구조물(102)에 사용될 때, 오염물질(500)과 같은 오염물질이 화살표(501)에 의해 표시한 바와 같이, 매트릭스 구조물(102)의 표면으로부터 제거된다. 매트릭스 구조물(500)의 표면으로부터 오염물질(500)의 제거는 실질적으로 감소된 오염 레벨을 가지는 매트릭스 구조물(102)을 제공한다. 이는 오염물질(500)과 같은 오염물질들이 매트릭스 구조물로부터 제거되고 다른 자리에 퇴적되지 않도록 한다. 따라서, 오염물질(500)은 생성되는 디스플레이에 나쁜 영향을 미치지 않는다. 즉, 매트릭스 구조물(102)의 세척에 의해, 매트릭스 구조물에서 이탈할 때 디스플레이 성능에 나쁜 영향을 미칠 수 있는 오염물질들이 제거된다.

도5에 있어서, 시간이 경과함에 따라, 손상되지 않는 전기적 특성을 나타내는 지지 구조물을 형성하는 방법이 도시되어 있다. 먼저, 단계(601)에 의해 표시된 바와 같이 지지 구조물이 제공된다. 지지 구조물은 도2에 도시된 지지 구조물(150)과 같은 지지 구조물이 될 수 있다.

도5에서, 단계(602)에 의해 표시한 바와 같이, 지지 구조물을 세척하는데 건식 세정 처리 공정이 이용될 수 있다. 본 발명에 따른 일 실시예에 있어서, 건식 세정 처리 공정은 산소 플라즈마의 적용과 같은 플라즈마 처리 공정으로 이루어진다. 또는, 수소 플라즈마 또는 아르곤 플라즈마가 이용된다. 일 실시예에 있어, 건식 세정 처리 공정은 RF 플라즈마 에칭기를 이용한다. 또는, 종래의 화학 증착(CVD) 챔버가 건식 세정 처리 공정에 이용된다. 일 실시예에 있어서, 건식 세정 처리 공정은 UV 방사 분위기에서 오존의 적용으로 이루어진다. 플라즈마 처리가 이용되는 경우, 지지 구조물은 페이스 플레이트 위에 증착되기 전에 세척된다. 이 러한 처리는 플라즈마 처리에 의해 발생할 수 있는 페이스 플레이트의 손상을 방지한다. 그러나, 이와 달리, 건식 세정 처리 공정이 UV 방사 분위기에서 오존의 적용으로 이루어지는 경우, 지지 구조물은 페이스 플레이트 위에 퇴적된 후에 세척될 수도 있다. 본 발명에 따른 일 실시예에 있어서, 건식 세정 처리 공정은 UV 레이저 빔을 사용하여, 액체 또는 고체 유기 물질을 증기 상태로 제거될 수 있는 기체 생성물로 분해시킨다. 펄스화된 레이저 빔이 포토 어퀘스틱 프로세스에 의해 작은 입자물을 제거하는 데 사용될 수 있다.

도6에 있어서, 도5의 단계(602)에 의해 나타낸 건식 세정 처리 공정과 같은 건식 세정 처리가 지지 구조물(150)에 적용되는 경우, 지지 구조물(150)의 표면상에 위치한 오염물질(700)과 같은 오염물질이 화살표(701)에 의해 표시한 바와 같이 제거된다. 지지 구조물(150)의 표면으로부터 오염물질(700)과 같은 오염물질을 제거하는 것은 실질적으로 표면에 감소된 오염물질 레벨을 가지는 지지 구조물(150)을 제공한다. 이는 시간이 경과함에 따라 손상되지 않는 전기적 특성을 가지며, 따라서 지지 구조물(150)상에 균일한 저항을 제공하고, 공간적으로 불균일한 저항이 발생되지 않게 한다.

매트릭스 구조물(102)의 건식 세정 처리 공정 및 지지 구조물(150)의 건식 세정 처리 공정은 이상에서 별도의 단계로서 기재하였으나, 매트릭스 구조물(102) 및 지지 구조물(150)이 단일의 건식 세정 처리 공정을 이용하여 세척될 수 있다. 그러나, 플라즈마 세척은 페이스 플레이트의 활성 영역을 손상시킬 수 있다. 따라서, 지지 구조물 및 매트릭스 구조물이 모두 함께 세척되는 경우, 건식 세정 처리 공정은 UV 방사 분위기에서 오존을 적용하는 것으로 이루어질 수 있다. 특정 디스플레이 어셈블리를 제조하는 제조 표준에 따라, 매트릭스 구조물(102) 및 지지 구조물(150)을 모두 일 단계 건식 세정 처리 공정으로 함께 세척하는 것이 보다 효율적이고 비용이 적게 들 수 있다.

도7 내지 도8을 참고로, 본 발명에 따른 일 실시예에 있어서, 평판 디스플레이 장치의 물리적 구성요소에는 건식 세정 처리 공정을 이용하여 세척된 포커스 구조물이 포함된다. 도7을 참고로 하여, 단계(801)로 나타낸 바와 같이 포커스 구조물이 제공된다. 도8은 백 플레이트(180) 위에 배치된 포커스 구조물(160)의 횡단면도이다.

도7에 있어서, 단계(802)에 나타낸 바와 같이, 포커스 구조물을 세척하기 위하여 건식 세정 처리 공정이 수행된다. 일 실시예에 있어서, 건식 세정 처리 공정은 산소 플라즈마의 적용으로 이루어진다. 또는 수소 플라즈마 또는 아르곤 플라즈마가 이용된다. 일 실시예에 있어서, 건식 세정 처리 공정은 RF 플라즈마 에칭기를 사용하여 이루어진다. 또는 종래의 화학 증착(CVD) 챔버가 사용된다. 일 실시예에 있어서, 건식 세정 처리 공정은 UV 방사 분위기에서 오존을 적용하는 것으로 이루어진다. 일 실시예에 있어서, 건식 세정 처리 공정은 UV 레이저 빔을 사용하여 액체 또는 고체 유기 물질을 증기 상태로 제거될 수 있는 기체 생성물로 분해시킨다. 펄스화된 레이저 빔이 포토 어퀘스틱 프로세스에 의해 작은 입자물을 제거하는 데 사용될 수 있다.

도8에서, 백 플레이트(180) 위에 포커스 구조물(160)이 형성되어 있는 것이 도시되어 있다. 포커스 구조물(160)은 에미터(170)로부터 포커스 방출을 할 수 있게 한다. 도7의 단계(802)에 도시되어 있는 건식 세정 처리 공정과 같은 건식 세정 처리가 포커스 구조물(160)에 적용되는 경우, 오염물질(900)과 같은 오염물질이 화살표(901)로 나타낸 바와 같이 포커스 구조물(160)의 표면으로부터 제거된다.

본 발명이 평판 디스플레이 장치의 페이스 플레이트 및 백 플레이트 사이에 밀봉된 특정의 내부 구성요소(예컨대, 매트릭스 구조물, 포커스 구조물 및 지지 구조물)에 대하여 기재하였으나, 본 발명은 전기적 충격이 가해지는 평판 디스플레이 장치의 다른 내부 구성요소에도 적용될 수 있다. 본 발명은 또한, 전자 충격으로 인하여 시간이 경과함에 따라 전기적 특성이 손상될 수 있는 다양한 다른 매트릭스 형성 물질, 포커스 구조물 형성 물질 및 지지 구조물 형성 물질을 적용할 수도 있다.

도1 내지 도8을 참고로 하여, 시간이 경과함에 따라 손상되지 않는 전기적 특성을 가지는 내부 구성요소, 특히 지지 구조물을 생성할 수 있는 정확한 메커니즘은 확실히 알 수 없으나, 이러한 결과는 아마도 내부 구성요소내의 국부적으로 감소된 산소 레벨에 기인한 것으로 추정된다. 지지 구조물은 일반적으로 산화알루미늄, 산화크롬, 및 산화티탄과 같은 산화물의 형태로 존재한다. 산소는 종래의 지지 구조물의 표면상에 위치하는 오염물질과 반응한다. 이러한 오염물질로는 생성 화합물을 생성하기 위해 종래의 구조물에서 산소와 반응하는 탄소 또는 탄소 화합물이 포함된다. 이러한 생성 화합물에는 일산화탄소 및/또는 이산화탄소 기체가 포함된다.

상기한 바와 같이, 본 발명에 따른 건식 세정 처리 공정이 시간이 경과함에 따라 손상되지 않는 전기적 특성을 가지는 지지 구조물을 생성하는 원인은 확실히 알려지지 않았다. 그러나, 산소의 제거가 지지 구조물의 저항에 영향을 미치고, 공간적으로 불균일한 저항이 형성되게 하는 것으로 추정된다. 표면에서 오염물질을 제거함으로써, 이러한 산소의 제거가 현저히 줄어드는 것으로 간주된다. 그러나, 임의의 다른 여러 반응 및 공정이 건식 세정 처리 공정에 지지 구조물을 노출시킴으로써 얻어지는 바람직한 결과를 초래할 수도 있다.

따라서, 본 발명은 시간이 경과함에 손상되지 않는 전기적 특성을 가지는 내부 구성요소를 제공한다. 본 발명에 따른 내부 구성요소의 전기적 특성이 유지되기 때문에 본 실시예는 균일한 저항을 가지고, 공간적으로 불균일한 저항을 발생시키지 않는 내부 구성요소를 제공한다. 이는 가시적 디스플레이 영역이 부적합하게 발광되는 것을 방지하고, 전기적 아크 발생 가능성을 경감시킨다.

본 발명에 따른 구체적인 실시예에 따른 상기의 설명은 설명 및 이해를 돕기 위해 제공된 것이다. 이들이 본 발명을 상기의 특정 형태로 한정하거나 제한하는 것은 아니며, 본 발명의 범주 내에서 다양한 응용 및 변경이 가능하다. 실시예들은 본 발명 및 그 실시를 가장 잘 설명할 수 있도록 선택하여 기재하였으므로, 당해 기술분야의 통상의 기술을 가진 자에 의한 다양한 실시예 및 특정 용도에 적합한 예측 가능한 응용예들이 가능하겠다. 본 발명은 첨부되는 특허청구의 범위 및 그의 동일성 범주에 의해 한정된다.

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13. 지지 구조물(150)인 내부 구성요소의 표면으로부터 오염물질(700)을 제거하기 위한 건식 세정 처리 공정에 상기 지지 구조물을 노출시키는 단계(602)를 포함하는 평판 디스플레이 장치의 내부 구성요소를 세정하는 방법.
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18. 제 13 항에 있어서, 상기 내부 구성요소가 세라믹으로 이루어진 것을 특징으로 하는 방법.
19. 제 13 항에 있어서, 상기 노출 단계가 산소 플라즈마에 내부 구성요소를 노출시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
20. 제 13 항에 있어서, 상기 노출 단계가 수소 플라즈마에 내부 구성요소를 노출시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
21. 제 13 항에 있어서, 상기 노출 단계가 아르곤 플라즈마에 내부 구성요소를 노출시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
22. 제 13 항에 있어서, 상기 노출 단계가 자외선 방사 분위기에서 오존에 내부 구성요소를 노출시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
23. 제 13 항에 있어서, 상기 노출 단계가 자외선 레이저 빔을 더 이용하는 것을 특징으로 하는 방법.
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