KR100634170B1 - 웨이퍼 반송 아암 척의 세정 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 웨이퍼 반송 아암 척의 세정 장치에 관한 것으로, 아암으로부터 연장된 두 개의 가지 부재로 이루어진 웨이퍼 반송 아암 척; 상기 척의 길이 방향과 수직하는 길이 방향을 가지며, 상기 척의 양 옆으로 서로 마주보도록 각각 2줄씩 배열되어, 상기 척의 말단부를 향해 45°로 순수를 분사하여 상기 척을 세정하는 순수 샤워 노즐; 및 상기 척의 길이 방향과 수직하는 길이 방향으로 가지며, 상기 척의 양 옆으로 서로 마주보도록 각각 2줄씩 배열된, 그리고 상기 순수 샤워 노즐과 상기 아암 사이에 위치하여, 상기 척을 향해 질소를 분사하여 상기 척을 건조시키는 질소 건조 노즐을 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하면, 척의 역오염이 방지되며 건조 동작에 보다 좋은 조건을 제공함으로써 세정 효율이 높아지는 효과가 있다. 그리고, 종래 딥 방식에 비해 샤워 방식으로 세정하므로 샤워의 힘에 의하여 세정 효과가 향상되고 세정 시간이 단축된다.

Description

웨이퍼 반송 아암 척의 세정 장치{CLEANING APPARATUS FOR WAFER TRANSPORT ARM CHUCK}

도 1은 종래 기술에 따른 웨이퍼 반송 아암 척이 세정 장치를 도시한 것이다.

도 2는 본 발명에 따른 웨이퍼 반송 아암 척의 세정 장치를 도시한 것이다.

도 3은 본 발명에 따른 웨이퍼 반송 아암 척의 세정 장치에 있어서 순수 샤워 노즐과 질소 건조 노즐을 도시한 것이다.

< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 >

100; 순수 샤워 노즐 110; 순수 분사부

140; 질소 건조 노즐 142; 질소 분사구

200; 웨이퍼 반송 아암 220; 척

본 발명은 웨이퍼 반송 아암 척의 세정 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 높은 세정 효율을 갖는 웨이퍼 반송 아암 척의 세정 장치에 관한 것이다.

주지된 바와 같이, 반도체 소자를 제조하는 공정에서는 웨이퍼에 묻어있는 금속 불순물이나 유기 오염 물질 등을 제거하기 위해 습식 세정 장치(Wet Station)를 사용하여 습식 세정 공정을 진행하는 것이 일반적이다. 이러한 습식 세정 장치는 웨이퍼를 로더(Loader)에서 세정조(Bath)로, 또는 세정조(Bath)에서 다른 세정조(Bath)로 이동시키는 역할을 담당하는 웨이퍼 반송 아암을 포함한다.

웨이퍼 반송 아암이 웨이퍼를 세정조로 이동시키며, 아암의 척에 부착되는 순수(DIW)나 케미컬(Chemical)을 제거하는 동작을 일반적으로 "척 세정(Chuck Clean)"이라고 한다. 척 세정은, 도 1에 도시된 바와 같이, 아암(20)이 웨이퍼를 세정조로 투입한 후, 순수(12)가 채워진 척 세정조(10;Chuck clean bath)에 아암(20)의 척(22)을 담그는 방식에 의한다. 세정 후에는 아암(20)이 천천히 업 동작을 하면서 질소 건조 노즐(14)에서 질소를 분사하여 척(22)에 묻어 있는 순수를 건조시킨다.

그런데, 상술한 종래와 같은 딥(dip) 방식에 의한 웨이퍼 반송 아암 척의 세정 장치에 있어서, 척 세정은 순수(DIW)의 업 플로우(Up flow) 및 드레인(Drain)으로 이루어져 있었다. 따라서, 세정 효과가 약하였고, 세정에 비교적 긴 시간이 소요되었다.

그리고, 질소 건조 노즐이 하나의 척당 한 쌍으로만 이루어져 있어서 건조 시간이 비교적 오래 걸렸다. 게다가, 척 세정조의 순수가 척에 튈 가능성이 농후하였다.

이에 본 발명은 상술한 종래 기술상의 제반 문제점들을 해결하기 위하여 안 출된 것으로, 본 발명의 목적은 높은 세정 효율을 갖는 웨이퍼 반송 아암 척의 세정 장치를 제공함에 있다.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 웨이퍼 반송 아암 척의 세정 장치는 종래 순수에 딥하는 방식으로 척을 세정하는 것에서 탈피하여 샤워 방식으로 개선시켜 세정 효율 및 처리 시간을 단축시킨 것을 특징으로 한다.

상기 특징을 구현하는 본 발명에 일 국면에 따른 웨이퍼 반송 아암 척의 세정 장치는, 웨이퍼 반송 아암 척의 양 옆으로 위치하는 세정수 샤워 노즐; 및 상기 척의 양 옆으로 위치하는, 그리고 상기 세정수 샤워 노즐과 상기 아암 사이에 위치하는 건조 노즐을 포함하는 것을 특징으로 한다.

이 실시예에 있어서, 상기 세정수 샤워 노즐의 길이 방향과 상기 건조 노즐의 길이 방향 각각은 상기 척의 길이 방향과 수직을 이루는 것을 특징으로 한다. 상기 척은 상기 아암으로부터 연장된 두 개의 가지 부재로 이루어지고, 상기 세정수 샤워 노즐은 상기 두 개의 가지 부재 각각의 양 옆으로 서로 마주보도록 각각 2줄씩 배열되고, 상기 건조 노즐은 상기 두 개의 가지 부재 각각의 양 옆으로 서로 마주보도록 각각 2줄씩 배열된 것을 특징으로 한다. 상기 세정수 샤워 노즐의 분사 방향은 상기 척의 말단부를 향해 소정의 각도, 바람직하게는 45°인 것을 특징으로 한다. 상기 건조 노즐의 분사 방향은 상기 척을 향해 복수개를 이루며, 상기 복수개의 분사 방향 중 적어도 하나는 상기 척의 말단부를 향해 45°로 경사져 있는 것을 특징으로 한다. 상기 세정수 샤워 노즐은 상기 척을 향하여 순수(DIW)를 분사하 고, 상기 건조 노즐은 상기 척을 향하여 질소 기체를 분사하는 것을 특징으로 한다.

상기 특징을 구현하는 본 발명의 다른 국면에 따른 웨이퍼 반송 아암 척의 세정 장치는, 아암으로부터 연장된 두 개의 가지 부재로 이루어진 웨이퍼 반송 아암 척; 상기 척의 길이 방향과 수직하는 길이 방향을 가지며, 상기 척의 양 옆으로 서로 마주보도록 각각 2줄씩 배열되어, 상기 척의 말단부를 향해 45°로 순수를 분사하여 상기 척을 세정하는 순수 샤워 노즐; 및 상기 척의 길이 방향과 수직하는 길이 방향으로 가지며, 상기 척의 양 옆으로 서로 마주보도록 각각 2줄씩 배열된, 그리고 상기 세정수 샤워 노즐과 상기 아암 사이에 위치하여, 상기 척을 향해 질소를 분사하여 상기 척을 건조시키는 질소 건조 노즐을 포함하는 것을 특징으로 한다.

이 실시예에 있어서, 상기 질소 건조 노즐의 분사 방향은 상기 척을 향해 복수개를 이루며, 상기 복수개의 분사 방향 중 적어도 하나는 상기 척의 말단부를 향해 45°로 경사져 있는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 의하면, 척의 역오염이 방지되며 건조 동작에 보다 좋은 조건을 제공함으로써 세정 효율이 높아지는 효과가 있다. 그리고, 종래 딥 방식에 비해 샤워 방식으로 세정하므로 샤워의 힘에 의하여 세정 효과가 향상되고 세정 시간이 단축된다.

이하, 본 발명에 따른 웨이퍼 반송 아암 척의 세정 장치를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.

종래 기술과 비교한 본 발명의 이점은 첨부된 도면을 참조한 상세한 설명과 특허청구범위를 통하여 명백하게 될 것이다. 특히, 본 발명은 특허청구범위에서 잘 지적되고 명백하게 청구된다. 그러나, 본 발명은 첨부된 도면과 관련해서 다음의 상세한 설명을 참조함으로써 가장 잘 이해될 수 있다. 도면에 있어서 동일한 참조부호는 다양한 도면을 통해서 동일한 구성요소를 나타낸다.

도 2는 본 발명에 따른 웨이퍼 반송 아암 척의 세정 장치를 도시한 것이고, 도 3은 본 발명에 따른 웨이퍼 반송 아암 척의 세정 장치에 있어서 순수 샤워 노즐과 질소 건조 노즐을 도시한 것이다.

(실시예)

도 2를 참조하여, 본 발명에 따른 웨이퍼 반송 아암 척의 세정 장치는 웨이퍼 반송 아암(200)으로부터 연장된 척(220)의 양 옆으로 순수 샤워 노즐(100)과 질소 건조 노즐(140)이 위치한다. 순수 샤워 노즐(100)의 길이 방향과 질소 건조 노즐(140)의 길이 방향은 척(220)의 길이 방향과 각각 직교한다. 즉, 척(200)의 길이 방향은 도면에서 볼 때 상하 방향이고, 순수 샤워 노즐(100)의 길이 방향과 질소 건조 노즐(140)의 길이 방향은 도면의 평면과 수직한다.

척(220)은 아암(200)으로부터 연장된 2개의 가지 부재로 이루어져 있고, 순수 샤워 노즐(100)과 질소 건조 노즐(140) 각각은 하나의 가지 부재 양 옆으로 2줄씩 총 4개가 위치한다. 따라서, 한쌍의 척(220)에는 각각 총 8개의 순수 샤워 노즐(100)과 질소 건조 노즐(140)이 배열된다. 척(200)의 가지 부재 수와 순수 샤워 노즐(100)의 수와 질소 건조 노즐(140)의 수는 본 실시예와 다르게 설정될 수 있음은 물론이다.

순수 샤워 노즐(110)은 척(220)을 향해 순수(DIW)를 분사하는 것으로, 순수 분사 방향은 척(220)의 말단부를 향하는 것이 바람직하며, 45°하향하는 것이 더욱 바람직하다. 순수를 샤워 방식으로 분사하게 되면, 종래의 딥 방식에 비해, 척을 딥하기 위한 척 세정조가 필요없고, 샤워의 힘에 의한 세정 효과가 향상되고, 세정시간이 단축된다. 그리고, 순수 분사 방향을 45°하향하게 하면 순수가 밑으로 흘러내려 역오염이 방지되고 건조 동작에 보다 좋은 조건을 제공한다. 한편, 순수의 분사 방향으로 하향하게 위해선, 도 2 및 도 3의 (A)에 도시된 바와 같이, 순수 샤워 노즐(100)의 길이 방향으로 복수개 설비된 순수 분사부(110)가 척(220)의 말단부를 향해 하향하도록 설정한다.

질소 건조 노즐(140)은 순수에 의해 세정된 척(220)을 향해 질소 기체를 분사하므로써 남아 있는 순수를 건조시키는 것으로, 순수 샤워 노즐(100)보다는 더 높은 위치, 즉 아암(200)과 순수 샤워 노즐(100) 사이에 위치하는 것이 바람직하다. 질소 건조 노즐(140)이 순수 샤워 노즐(100) 상단에 위치하게 되면, 분사된 질소 기체에 의해 떨어진 물방울은 아래로 떨어지므로 건조 효율이 높아지기 때문이다. 그리고, 질소 기체의 분사 방향은 척(220)을 향해 복수개가 이루도록, 도 2 및 도 3의 (B)에 도시된 바와 같이, 질소 기체 분사구(142)를 복수개 형성한다. 복수개의 질소 분사 방향중 적어도 하나, 바람직하게는 복수개의 분사 방향중 제일 아래에 있는 분사 방향이 척(220)의 말단부를 향해 45°하향하도록 한다. 질소 기체에 의해 떨어진 물방울이 아래로 떨어지도록 하게 하는 것이 건조 효율 향상에 바 람직하기 때문이다. 한편, 건조 기체로서 본 실시예에서는 질소를 들었지만, 질소 이외에 불활성 기체 또는 건조에 유용한 어떠한 기체도 사용가능하다.

다음과 같이 구성된 웨이퍼 반송 아암 척의 세정 장치는 다음과 같이 동작한다.

웨이퍼 반송 아암이 웨이퍼를 로더(Loader)에서 세정조(Bath)로, 또는 세정조(Bath)에서 다른 세정조(Bath)로 이동시킨 후, 웨이퍼 반송 아암 척에 묻어있는 각종의 오염물질을 제거하기 위해 척 세정 공정을 진행한다.

도 2를 다시 참조하여, 척 세정 공정을 위해 척(220)은 나란히 배열된 질소 건조 노즐(140)과 순수 샤워 노즐(100) 사이에 오도록 도면상 아래 방향으로 이동한다. 척(220)이 세정 위치에 도달하면 순수 샤워 노즐(100)에서 순수가 45°하향하면서 척(220)으로 분사된다. 분사된 순수에 의해 척(220)에 묻어있던 각종의 오염물질이 아래쪽으로 씻겨 내려간다. 이에 의해, 건조 공정에 더욱 좋은 조건을 제공한다.

순수에 의한 세정 공정 이후에 척(220)은 위 방향으로 천천히 이동한다. 이때, 질소 건조 노즐(140)에서 질소 기체가 척(220)을 향해 분사된다. 분사된 질소 기체에 의해 척(220)에 묻어있던 물방울이 아래로 떨어지거나 증발하면서 척(220)은 건조된다.

이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내고 설명하는 것에 불과하며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 그리고, 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위 내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 전술한 실시예들은 본 발명을 실시하는데 있어 최선의 상태를 설명하기 위한 것이며, 본 발명과 같은 다른 발명을 이용하는데 당업계에 알려진 다른 상태로의 실시, 그리고 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서, 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 웨이퍼 반송 아암 척의 세정 장치에 의하면, 척의 역오염이 방지되며 건조 동작에 보다 좋은 조건을 제공함으로써 세정 효율이 높아지는 효과가 있다.

Claims (9)

1. 삭제
2. 웨이퍼 반송 아암 척의 양 옆으로 위치하는 세정수 샤워 노즐; 및

   상기 척의 양 옆으로 위치하는, 그리고 상기 세정수 샤워 노즐과 상기 아암 사이에 위치하는 건조 노즐;을 포함하고,

   상기 세정수 샤워 노즐의 길이 방향과 상기 건조 노즐의 길이 방향 각각은 상기 척의 길이 방향과 수직을 이루는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 반송 아암 척의 세정 장치.
3. 제2항에 있어서,

   상기 척은 상기 아암으로부터 연장된 두 개의 가지 부재로 이루어지고,

   상기 세정수 샤워 노즐은 상기 두 개의 가지 부재 각각의 양 옆으로 서로 마주보도록 각각 2줄씩 배열되고,

   상기 건조 노즐은 상기 두 개의 가지 부재 각각의 양 옆으로 서로 마주보도록 각각 2줄씩 배열된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 반송 아암 척의 세정 장치.
4. 제3항에 있어서,

   상기 세정수 샤워 노즐의 분사 방향은 상기 척의 말단부를 향해 소정의 각도로 경사져 있는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 반송 아암 척의 세정 장치.
5. 제4항에 있어서,

   상기 각도는 45°인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 반송 아암 척의 세정 장치.
6. 제3항에 있어서,

   상기 건조 노즐의 분사 방향은 상기 척을 향해 복수개를 이루며, 상기 복수개의 분사 방향 중 적어도 하나는 상기 척의 말단부를 향해 45°로 경사져 있는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 반송 아암 척의 세정 장치.
7. 삭제
8. 아암으로부터 연장된 두 개의 가지 부재로 이루어진 웨이퍼 반송 아암 척;

   상기 척의 길이 방향과 수직하는 길이 방향을 가지며, 상기 척의 양 옆으로 서로 마주보도록 각각 2줄씩 배열되어, 상기 척의 말단부를 향해 45°로 순수를 분사하여 상기 척을 세정하는 순수 샤워 노즐; 및

   상기 척의 길이 방향과 수직하는 길이 방향으로 가지며, 상기 척의 양 옆으로 서로 마주보도록 각각 2줄씩 배열된, 그리고 상기 세정수 샤워 노즐과 상기 아암 사이에 위치하여, 상기 척을 향해 질소를 분사하여 상기 척을 건조시키는 질소 건조 노즐;

   을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 반송 아암 척의 세정 장치.
9. 제8항에 있어서,

   상기 질소 건조 노즐의 분사 방향은 상기 척을 향해 복수개를 이루며, 상기 복수개의 분사 방향 중 적어도 하나는 상기 척의 말단부를 향해 45°로 경사져 있는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 반송 아암 척의 세정 장치.

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