KR100633767B1 - Hydrophilic member - Google Patents

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Abstract

세정후의 친수성의 회복이 극히 단시간에 이루어지고, 또한, 회복한 친수성의 지속효과가 높은 친수성 부재를 제공한다. 기재로서의 유리판(1)의 표면에 산화 주석(SnO2)막(2)을 형성하고, 이 산화 주석막(SnO2)(2)의 표면에 오버 코트층으로서 산화 규소(SiO2)막(3)을 형성하고 있다. 유리판(1)으로서는 SiO2를 주성분으로 한 소다 유리로 하고, 산화 주석막(SnO2)(2)은 예를 들어 CVD법으로 형성되고, 그의 두께는 10∼800㎚이며, 표면의 표면 평균 조도(Ra)는 0.5∼25㎚으로 되어 있다. 또, 산화 규소(SiO2)막(3)은 스퍼터링으로 형성되고, 그의 두께는 0.1∼100㎚으로 되어 있다. 그리고, 산화규소(SiO2)막(3)은 상기 산화 주석막(SnO2)(2) 위에 형성되므로, 산화 주석막(SnO2)(2)의 요철이 그대로 전사되어, 산화 규소(SiO2)막(3)의 표면의 표면 평균 조도(Ra)도 0.5∼25㎚으로 된다.The hydrophilicity after washing is extremely short, and the hydrophilic member with high sustained effect of the recovered hydrophilicity is provided. A tin oxide (SnO 2 ) film 2 is formed on the surface of the glass plate 1 as a substrate, and a silicon oxide (SiO 2 ) film 3 as an overcoat layer on the surface of the tin oxide film (SnO 2 ) 2. ). As the glass plate 1, it is made of soda glass containing SiO 2 as a main component, and the tin oxide film (SnO 2 ) 2 is formed by, for example, CVD, its thickness is 10 to 800 nm, and the surface average roughness of the surface. (Ra) is 0.5 to 25 nm. The silicon oxide (SiO 2 ) film 3 is formed by sputtering and has a thickness of 0.1 to 100 nm. Then, silicon oxide (SiO 2) film 3 is formed on a tin film (SnO 2), (2) the oxide, is as it is transferred irregularities of the tin oxide film (SnO 2) (2), silicon oxide (SiO 2 The surface average roughness Ra of the surface of the film 3 also becomes 0.5-25 nm.

Description

친수성(親水性) 부재{Hydrophilic member}Hydrophilic member {Hydrophilic member}

본 발명은 친수성 중 특히 친수 회복성이 우수한 친수성 부재에 관한 것이다.The present invention relates to a hydrophilic member having excellent hydrophilicity, particularly hydrophilicity.

유리 등의 기재 표면을 친수성으로 하여 방담성(防曇性)(anti-fogging property)을 부여하는 선행기술로서, 일본 공개특허공고 특개평 9-278431호 공보, 특개평 9-295363호 공보, 특개평 10-36144호 공보, 특개평 10-231146호 공보가 알려져 있다.As prior art for providing anti-fogging properties by making a surface of a substrate such as glass hydrophilic, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 9-278431 and 9-295363, Japanese Patent Laid-Open No. 10-36144 and Japanese Patent Laid-Open No. 10-231146 are known.

특개평 9-278431호 공보에는, 기판 표면에 인산 또는 인산염과 용해성 알루미늄 화합물과 수용성 규산염과 계면 활성제와 용매로 이루어지는 표면 처리제를 도포함과 동시에, 그 친수막의 표면 평균 조도(粗度)(roughness)를 0.5∼500 ㎚로 하는 것이 개시되어 있다.Japanese Patent Laid-Open No. 9-278431 discloses a surface treatment agent comprising a phosphoric acid or a phosphate, a soluble aluminum compound, a water-soluble silicate, a surfactant, and a solvent on the surface of a substrate, and at the same time, the surface average roughness of the hydrophilic film. It is disclosed to make 0.5 to 500 nm.

특개평 9-295363호 공보에는, 기재의 표면에 산화 티탄막이나 산화 주석막을 형성함과 동시에, 산화 티탄막이나 산화 주석막의 표면 평균 조도를 1 ㎛ 이상으로 한 것이 개시되어 있다.Japanese Patent Laid-Open No. 9-295363 discloses that a titanium oxide film or a tin oxide film is formed on the surface of a substrate and the surface average roughness of the titanium oxide film or tin oxide film is set to 1 µm or more.

특개평 10-36144호 공보에는, 유리 기판의 표면에 산화 티탄(TiO2) 등의 광 촉매막을 형성하고, 이 광 촉매막의 표면에 산화 규소(SiO2) 등의 다공질 무기 산화막을 형성하는 것이 개시되어 있다.Japanese Patent Laid-Open No. 10-36144 discloses forming a photocatalyst film such as titanium oxide (TiO 2 ) on the surface of a glass substrate, and forming a porous inorganic oxide film such as silicon oxide (SiO 2 ) on the surface of the photocatalyst film. It is.

특개평 10-231146호 공보에는, 유리 기재의 표면에 알칼리 차단막 및 광 촉매막을 형성함과 동시에, 광 촉매막의 표면 평균 조도를 1.5∼80 ㎚로 하는 것이 개시되어 있다.Japanese Patent Laid-Open No. 10-231146 discloses that an alkali barrier film and a photocatalyst film are formed on the surface of a glass substrate and the surface average roughness of the photocatalyst film is set to 1.5 to 80 nm.

상기 특개평 9-278431호 공보에 기재한 기술에서는, 친수성 막의 화학적 내구성 및 내마모성이 낮고 실제적이지 않다. 또, 상기 특개평 9-295363호 공보에 기재한 기술에서는, 친수성 막의 표면 조도(Ra)가 1 ㎛ 이상, 바람직하게는 4 ㎛ 이상이어서 투명성이 낮기(헤이즈(haze)가 높기) 때문에, 유리판 등의 투명 기재 표면에는 적용될 수 없다. 또, 상기 특개평 10-36144호 공보에 기재한 기술에서는, 친수성 막이 다공질체이기 때문에 내마모성이 낮고, 유지 등의 오물이 구멍으로 들어가면 친수성의 기능이 소실되어, 이것을 회복시키는 것은 어려워진다. 또한, 상기 특개평 10-231146호 공보에 기재한 기술에서는, 친수성 막이 다수 층으로 형성되기 때문에 제조하는데 시간이 걸린다.In the technique described in Japanese Patent Laid-Open No. 9-278431, the chemical durability and wear resistance of the hydrophilic membrane is low and not practical. In the technique described in Japanese Patent Laid-Open No. 9-295363, the surface roughness (Ra) of the hydrophilic film is 1 µm or more, preferably 4 µm or more, so that the transparency is low (haze is high). It cannot be applied to the surface of the transparent substrate. Moreover, in the technique described in Japanese Patent Laid-Open No. 10-36144, since the hydrophilic membrane is a porous body, the wear resistance is low, and when dirt, such as fats and oils, enters the pores, the hydrophilic function is lost, and it is difficult to recover it. In addition, in the technique described in Japanese Patent Laid-Open No. 10-231146, it takes time to manufacture because the hydrophilic film is formed of a plurality of layers.

또, 상술한 모든 선행기술은 기재의 표면에 친수성 막을 형성함과 동시에, 그 표면을 미세한 조면(粗面)으로 하여 친수성을 더 향상시키는 것이나, 기재의 표면이 더러워졌을 경우에 세제로 표면을 세정하면, 그 후의 친수성의 회복이 늦어지는 결점이 있다.Moreover, all the above-mentioned prior art forms a hydrophilic film on the surface of a base material, and makes the surface a fine rough surface, and further improves hydrophilicity, or wash | cleans a surface with a detergent when the surface of a base material becomes dirty. There is a drawback that later recovery of hydrophilicity is delayed.

예를 들어, 자동차용 창유리나 세면대에 비치된 미러 등은 표면이 더러워지 기 쉽기 때문에, 빈번하게 세제로 세정을 한다. 그러나, 세정후의 친수성의 회복이 늦어지면 표면에 미세한 물방울이 부착되기 쉬워 방담 효과가 없어진다. For example, a window glass for a car or a mirror provided in a vanity is often cleaned with a detergent because the surface is easily dirty. However, when the recovery of hydrophilicity after washing is delayed, fine water droplets tend to adhere to the surface, and the antifogging effect is lost.

상기 과제를 해결하기 위해 본 발명에 관한 친수성 부재는, 기재 표면에 직접 또는 알칼리 차단용 하지막(下地膜)을 사이에 두고 산화 주석층을 형성하고, 이 산화 주석층의 표면에 오버 코트(overcoat)층을 형성한 구성으로 하고, 그 오버 코트층은 산화 규소, 산화 알루미늄, 산화 지르코늄, 산화 세륨 및 산화 티탄으로부터 선택되는 적어도 한 종류로 하고, 또한 최표면(最表面)의 표면 평균 조도(Ra)를 0.5∼25 ㎚로 하였다.In order to solve the above problems, the hydrophilic member according to the present invention forms a tin oxide layer directly on the surface of the substrate or with an alkali blocking base film therebetween, and overcoats the surface of the tin oxide layer. ), The overcoat layer is at least one selected from silicon oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, cerium oxide, and titanium oxide, and the surface average roughness Ra of the outermost surface. ) Was set to 0.5 to 25 nm.

표면 평균 조도(Ra)의 바람직한 범위는 0.5∼25 nm, 더 바람직하게는 5∼15 ㎚이다. 이 범위에서 친수 성능의 장기 안정성이 더욱 양호해진다.The preferable range of surface average roughness Ra is 0.5-25 nm, More preferably, it is 5-15 nm. In this range, the long-term stability of the hydrophilic performance is further improved.

기재의 표면에 산화 주석층(SnO2)만을 형성하고, 이 산화 주석층(SnO2)의 표면을 조면(粗面)으로 한 경우에는, 선행기술(특개평 9-295363호 공보)에도 기재되어 있듯이 친수성이 발휘된다. 그러나, 일단 목욕용 비누로 표면을 세정하면 물과의 접촉각은 70°∼80°가 된다.When only the tin oxide layer (SnO 2 ) is formed on the surface of the substrate and the surface of the tin oxide layer (SnO 2 ) is roughened, it is also described in the prior art (Japanese Patent Laid-Open No. 9-295363). As shown, hydrophilicity is exerted. However, once the surface is cleaned with a bath soap, the contact angle with water is 70 ° to 80 °.

한편, 상기 산화 주석층(SnO2)의 표면에 산화 규소막(SiO2) 등을 얇게 형성하면, 세정 후의 물과의 접촉각은 10°미만이 된다.On the other hand, when a thin silicon oxide film (SiO 2 ) or the like is formed on the surface of the tin oxide layer (SnO 2 ), the contact angle with water after washing becomes less than 10 °.

이것은 표면 극성적으로 산화 주석층(SnO2)과 산화 규소막(SiO2)이 대극(對極) 관계에 있고, 목욕용 비누는 음이온계이므로, 세정 후에 초(超)친수성을 나타낸다고 생각되어진다.This is thought to be super hydrophilic after washing since the tin oxide layer (SnO 2 ) and the silicon oxide film (SiO 2 ) are polarized in surface polarity and the bath soap is anionic.

상기 산화 주석층(SnO2)은 루틸(rutile)형의 결정구조를 가지는 것이 바람직하다. 상기 산화 주석층(SnO2)을 루틸형의 결정구조로 함으로써, 바람직한 표면 요철 형상을 가지는 다결정 박막을 형성할 수 있다.The tin oxide layer (SnO 2 ) preferably has a rutile crystal structure. By using the tin oxide layer (SnO 2 ) as a rutile crystal structure, a polycrystalline thin film having a desirable surface irregularities can be formed.

또, 상기 산화 주석층(SnO2)의 표면 평균 조도(Ra)를 0.5∼25 ㎚로 함으로써, 이 요철을 최표면에 전사(轉寫)하는 것에 의해, 최표면의 표면 평균 조도(Ra)를 0.5∼25 ㎚로 할 수 있다.In addition, the surface average roughness Ra of the tin oxide layer SnO 2 is set to 0.5 to 25 nm, thereby transferring the unevenness to the outermost surface, thereby reducing the surface average roughness Ra of the outermost surface. It can be set to 0.5-25 nm.

상기 표면 평균 조도(Ra)가 0.5 ㎚보다 작으면, 친수 특성 및 성능의 장기 유지성의 향상에 효과적인 요철을 형성할 수 없어 바람직하지 않다. 또, 표면 평균 조도(Ra)가 25 ㎚를 넘으면, 요철이 너무 커서 투명성이 없어지고, 친수 성능의 장기 안정성이 낮아 바람직하지 않다.If the surface average roughness Ra is smaller than 0.5 nm, it is not preferable because irregularities cannot be formed which are effective for improving long-term retention of hydrophilic properties and performance. Moreover, when surface average roughness Ra exceeds 25 nm, unevenness | corrugation is too large, transparency falls, and long-term stability of hydrophilic performance is low, and it is unpreferable.

또, 상기 요철의 평균 간격(Sm)은 4∼300 ㎚로 하는 것이 바람직하고, 요철의 평균 간격(Sm)이 4 ㎚보다 작아도 300 ㎚보다 커도 친수 성능 및 방담 성능의 장기 안정성이 낮아 바람직하지 않다. 이 평균 간격(Sm)의 더 바람직한 범위는 5∼150 ㎚이다. 이 범위에서 친수 성능의 장기 안정성이 보다 양호해진다.In addition, it is preferable that the mean spacing Sm of the unevenness is 4 to 300 nm, and even if the mean spacing Sm of the unevenness is smaller than 4 nm or larger than 300 nm, the long-term stability of the hydrophilic performance and the antifogging performance is low, which is not preferable. . The more preferable range of this average spacing Sm is 5-150 nm. In this range, the long-term stability of the hydrophilic performance becomes better.

여기서, 상기 표면 평균 조도(Ra)를 표시하는 방법으로서는, JIS B0601(1994)에 정의되어 있는 산술 평균 조도(Ra)를 사용한다. 산술 평균 조도의 값(㎚)은 「평균선으로부터의 편차의 절대값」으로 표현되고, 다음과 같은 식이 부여된다.Here, as a method of displaying the said surface average roughness Ra, the arithmetic mean roughness Ra defined in JIS B0601 (1994) is used. The value (nm) of arithmetic mean roughness is represented by "the absolute value of the deviation from an average line", and the following formula is given.

[수식 1][Equation 1]

Figure 112001013113329-pct00001
Figure 112001013113329-pct00001

L : 기준 길이L: reference length

또, 요철의 평균 간격(Sm)에 대해서도, 상기 표면 평균 조도(Ra)와 마찬가지로 JIS B0601(1994)에서 정의된다. 즉, 요철의 평균 간격의 값(㎚)은 「조도 곡선이 평균선과 교차하는 교점으로부터 구해진 산곡(山谷) 일주기(one cycle of peak and valley)의 간격의 평균값」으로 표현되고, 다음과 같은 식이 부여된다. Moreover, the average space | interval Sm of unevenness | corrugation is also defined by JIS B0601 (1994) similarly to the said surface average roughness Ra. That is, the value (nm) of the average interval of the unevenness is expressed by "the average value of the interval of the one cycle of peak and valley obtained from the intersection where the illuminance curve intersects the average line". Is given.

[수식 2][Formula 2]

Figure 112001013113329-pct00002
Figure 112001013113329-pct00002

Smi : 요철의 간격(㎚)Smi: interval of irregularities (nm)

n : 기준 길이내에서의 요철의 간격 개수n: number of intervals of unevenness in the reference length

또, 상기 산화 주석층(SnO2)의 두께로서는 10∼800 ㎚가 바람직하고, 산화 규소막(SiO2) 등의 오버 코트층의 두께로서는 0.1∼100 ㎚가 바람직하다. In addition, as the thickness of the layer of tin oxide (SnO 2) is 10~800 ㎚ is preferable, and preferably 0.1~100 ㎚ The thickness of the overcoat layer such as a silicon oxide film (SiO 2).

산화 주석층의 두께가 이보다 작거나 크면, 원하는 요철을 얻을 수 없다. 즉, 산화 주석층의 두께가 이보다 작으면, 균일한 피막이 형성되지 않고, 이보다 크면, 표면의 요철 간격이 커져서 바람직하지 않다.If the thickness of the tin oxide layer is smaller or larger than this, desired irregularities cannot be obtained. In other words, if the thickness of the tin oxide layer is smaller than this, a uniform coating is not formed. If the thickness of the tin oxide layer is larger than this, the surface irregularities are large, which is not preferable.

또, 상기 알칼리 차단용 하지막으로서는, 일반적으로 사용되는 산화 규소를 주성분으로 하는 막이 적합하다. 또, 필요에 따라 P(인), B(붕소) 등의 첨가물을 가하거나, 산화 주석 등과의 복합 산화물로 해도 좋다.As the alkali barrier base film, a film mainly composed of silicon oxide generally used is suitable. Moreover, additives, such as P (phosphorus) and B (boron), may be added as needed, or it may be set as a complex oxide with tin oxide etc.

또한, 상기 알칼리 차단용 하지막은 공지의 방법으로 형성된다. 예를 들어, 졸-겔(sol-gel)법, 액상(液相) 석출법, 진공 성막법, 베이킹(baking)법, 스프레이법, CVD법 등이 예시될 수 있다.In addition, the said alkali blocking base film is formed by a well-known method. For example, a sol-gel method, a liquid phase precipitation method, a vacuum film formation method, a baking method, a spray method, a CVD method, and the like can be exemplified.

또, 상기 알칼리 차단용 하지막은 10 ㎚ 이상 300 ㎚ 이하인 것이 바람직하다. 두께가 10 ㎚보다 얇으면, 알칼리 차단 효과가 충분하지 않고, 또 300 ㎚보다 두꺼우면, 막에 의한 간섭색(干涉色)이 현저하게 인지되어, 유리판의 광학 특성을 제어하기 어려워지므로 바람직하지 않다.Moreover, it is preferable that the said alkali blocking base film is 10 nm or more and 300 nm or less. If the thickness is thinner than 10 nm, the alkali blocking effect is not sufficient, and if the thickness is thicker than 300 nm, the interference color due to the film is remarkably recognized, which makes it difficult to control the optical properties of the glass plate.

또, 상기 기재로서는 산화 규소(SiO2)를 주성분으로 하는 유리, 타일, 세라믹스 또는 금속판이 적당하며, 또한 본 발명에 관한 친수성 부재로서는, 예를 들어 미러에 응용할 수 있다.Further, as glass, tile, and ceramic or a metal plate is suitable, and the hydrophilic member of the present invention mainly composed of silicon oxide (SiO 2) as the base material, for example, can be applied to the mirror.

도 1(a) 및 도 1(b)는 각각 본 발명에 따른 친수성 부재의 확대 단면도이다.1 (a) and 1 (b) are enlarged cross-sectional views of the hydrophilic member according to the present invention, respectively.

이하에 본 발명의 실시형태를 첨부 도면에 의거하여 설명한다. 여기서, 도 1(a) 및 도 1(b)는 각각 본 발명에 따른 친수성 부재의 확대 단면도이다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Below, embodiment of this invention is described based on an accompanying drawing. 1 (a) and 1 (b) are enlarged cross-sectional views of the hydrophilic member according to the present invention, respectively.

도 1(a)에 나타낸 실시예에서는, 친수성 부재는 기재(基材)로서의 유리판(1)의 표면에 산화 주석층(SnO2)(2)을 형성하고, 이 산화 주석층(SnO2)(2)의 표면에 오버 코트층으로서 산화규소막(SiO2)(3)을 형성하고 있다.In the embodiment shown in FIG. 1A, the hydrophilic member forms a tin oxide layer (SnO 2 ) 2 on the surface of the glass plate 1 as a substrate, and the tin oxide layer (SnO 2 ) ( A silicon oxide film (SiO 2 ) 3 is formed on the surface of 2) as an overcoat layer.

도 1(b)에 나타낸 실시예에서는, 유리판(1)과 산화 주석츨(SnO2)(2) 사이에 유리판(1)으로부터 Na 등의 알칼리가 침출하는 것을 방지하는 하지막(4)을 개재시키고 있다. In the embodiment shown in FIG. 1 (b), the base film 4 which prevents alkali such as Na from leaching from the glass plate 1 is interposed between the glass plate 1 and the tin oxide (SnO 2 ) 2. I'm making it.

또한, 도 1에서, Ra는 표면 평균 조도(roughness), Sm은 요철의 평균 간격을 나타낸다.In addition, in FIG. 1, Ra represents surface average roughness, and Sm represents the average spacing of unevenness.

유리판(1)으로서는 SiO2를 주성분으로 한 소다 유리로 하고, 산화 주석층(SnO2)(2)은, 예를 들어, 졸-겔(sol-gel)법, 액상 석출법, 진공 성막법, 베이킹법, 스프레이 코트법, CVD법, 스퍼터링법 등, 종래의 공지 방법으로 형성되고, 그의 두께는 10∼800 ㎚이고, 표면의 표면 평균 조도(Ra)는 0.5∼25 ㎚로 되어 있다. 또, 산화 주석층(SnO2)(2)은 루틸(rutile)형의 결정구조로 되어 있다. The glass plate 1 is made of soda glass containing SiO 2 as a main component, and the tin oxide layer (SnO 2 ) 2 is, for example, a sol-gel method, a liquid phase deposition method, a vacuum film forming method, It is formed by conventionally well-known methods, such as a baking method, a spray coat method, a CVD method, and a sputtering method, The thickness is 10-800 nm and the surface average roughness Ra of the surface is 0.5-25 nm. In addition, the tin oxide layer (SnO 2 ) 2 has a rutile crystal structure.

한편, 산화 규소막(SiO2)(3)은, 예를 들어, 졸-겔(sol-gel)법, 액상 석출법, 진공 성막법, 베이킹법, 스프레이 코트법, CVD법, 스퍼터링법 등, 종래의 공지 방법으로 형성되고, 그의 두께는 0.1∼100 ㎚로 되어 있다. 그리고, 산화 규소막(SiO2)(3)은 상기 산화 주석층(SnO2)(2) 상에 형성되므로, 산화 주석층(SnO2)(2)의 요철이 그대로 전사되어, 산화 규소막(SiO2)(3)의 표면의 표면 평균 조도(Ra)도 0.5∼25 ㎚으로 된다.The silicon oxide film (SiO 2 ) 3 may be, for example, a sol-gel method, a liquid phase deposition method, a vacuum film formation method, a baking method, a spray coating method, a CVD method, a sputtering method, or the like. It is formed by a conventionally well-known method, and the thickness is 0.1-100 nm. Then, the silicon oxide film (SiO 2) (3) is so formed on the tin layer (SnO 2) (2) the oxidation, the irregularities of the tin oxide layer (SnO 2) (2) is as transcription, a silicon oxide film ( the average surface roughness (Ra) of the surface of SiO 2) (3) is also a 0.5~25 ㎚.

또, 요철의 평균 간격(Sm)에 대해서는, 4∼300 ㎚의 범위로 하는 것이 적당하다. 평균 간격(Sm)이 4 ㎚보다 작아도 그리고 300 ㎚보다 커도 친수성의 장기 안정성이 낮아 바람직하지 않다.Moreover, about the average space | interval Sm of unevenness | corrugation, it is suitable to set it as the range of 4-300 nm. Even if the average spacing Sm is smaller than 4 nm and larger than 300 nm, the long-term stability of the hydrophilicity is low, which is not preferable.

이와 같이, 표면에 미세한 요철을 형성함으로써, 친수성 표면은 더 친수성이 향상된다.Thus, by forming fine unevenness | corrugation on the surface, a hydrophilic surface further improves hydrophilicity.

즉, 표면에 미세한 요철을 형성함으로써 표면적이 r배가 된 경우에는, 평활 표면인 때의 물과의 접촉각을 θ, 요철을 형성한 때의 물과의 접촉각을 θ'로 하면, Wenzel의 식으로부터 cosθ'=rcosθ(90°>θ>θ')이 성립한다. 단, 접촉각θ이 90도로부터 크게 벗어나는 경우는 이 범위에 들지 않는다. That is, in the case where the surface area is r times by forming minute unevenness on the surface, if the contact angle with water when the smooth surface is θ and the contact angle with water when the unevenness is formed θ ', cosθ is obtained from Wenzel's equation. '= rcosθ (90 °> θ> θ') holds. However, the case where the contact angle θ deviates greatly from 90 degrees does not fall into this range.

예를 들어, 평활 표면인 때의 물에 대한 접촉각이 30°인 부재의 표면에 요철을 형성하여 표면적을 1.1배로 하면, 상기 식으로부터 cosθ'=1.1cos30°=0.935가 되어, 이것으로부터 θ'=17.7°가 된다. 마찬가지로, 표면적을 1.15배로 하면, θ'는 5.2°가 된다.For example, if irregularities are formed on the surface of the member having a 30 ° contact angle when the surface is smooth, and the surface area is 1.1 times, cosθ '= 1.1cos30 ° = 0.935 from the above equation, from which θ' = 17.7 °. Similarly, when surface area is made 1.15 times, (theta) 'becomes 5.2 degrees.

단, θ가 작을 경우에는 반드시 이 식이 성립하지 않으나, 요철을 설치함으로써 θ'는 더 작아지는 경향이 있다.However, this expression does not necessarily hold when θ is small, but θ 'tends to be smaller by providing irregularities.

즉, 표면에 미세한 요철을 형성함으로써, 친수성 표면은 더욱 더 친수성을 갖게 된다.That is, by forming fine irregularities on the surface, the hydrophilic surface becomes more hydrophilic.

한편, 알칼리 차단을 목적으로 한 하지막(4)으로서는, 산화 규소를 주성분으로 하는 박막이나 산화 규소와 산화 주석으로 이루어지는 복합 산화물막, 탄소를 포함하는 산화 규소의 막, 또는 산화 주석을 주성분으로 하는 막과 산화 규소를 주성분으로 하는 막을 적층한 막 등을 사용한다.On the other hand, as the base film 4 for alkali blocking purposes, a thin film mainly composed of silicon oxide, a composite oxide film composed of silicon oxide and tin oxide, a silicon oxide film containing carbon, or tin oxide as a main component The film etc. which laminated | stacked the film | membrane whose main component is a silicon oxide are used.

예를 들어, 산화 규소와 산화 주석으로 이루어지는 복합 산화물막이나 탄소를 포함하는 산화 규소의 막은 그의 굴절률이 유리판(1)의 굴절률과 산화 주석층(2)의 굴절률의 중간이 되어, 보다 바람직한 외관을 얻을 수 있다. 즉, 중간의 굴절률을 갖는 하지막으로 함으로써, 산화 주석층의 막 두께의 변동으로 생기는 간섭색 변화(얼룩)를 억제함과 동시에, 반사색조의 중성색화(中性色化)를 도모할 수 있다.For example, in the composite oxide film made of silicon oxide and tin oxide, or the film of silicon oxide containing carbon, the refractive index thereof is between the refractive index of the glass plate 1 and the refractive index of the tin oxide layer 2, thereby providing a more preferable appearance. You can get it. That is, by setting it as the base film which has an intermediate refractive index, the interference color change (stain) which arises from the fluctuation | variation of the film thickness of a tin oxide layer can be suppressed, and neutralization of a reflection color tone can be aimed at.

또, 하지막을, 예를 들어, 산화 주석을 주성분으로 하는 막과 산화 규소를 주성분으로 하는 막과의 적층체로 한 경우에는, 그 적층체의 각각의 두께를 조정함으로써, 적층체로서의 외관상의 굴절률이 유리판(1)의 굴절률과 산화 주석층(2)의 굴절률의 중간이 되므로, 상기 중간의 굴절률을 갖는 하지막과 동일한 효과를 얻을 수 있다.In addition, when the base film is a laminate of, for example, a film containing tin oxide as a main component and a film containing silicon oxide as a main component, the apparent refractive index of the laminate is adjusted by adjusting the thicknesses of the laminates. Since the refractive index of the glass plate 1 and the tin oxide layer 2 become intermediate | middle, the same effect as the base film which has the said intermediate refractive index can be acquired.

또한, 상기 구성의 친수성 부재를 미러에 적용하는 경우에는, 유리판(1)의 뒷면 또는 유리판(1)과 하지막(4)의 사이에, 또는 하지막이 없는 경우에는 유리판(1)과 산화 주석층(SnO2)(2) 사이에, 예를 들어, 은과 같은 금속의 박막을 형성한다.In addition, when applying the hydrophilic member of the said structure to a mirror, between the back surface of glass plate 1, or between glass plate 1 and base film 4, or when there is no base film, glass plate 1 and tin oxide layer Between (SnO 2 ) (2), a thin film of metal such as silver is formed, for example.

다음에, 본 발명의 실시예 및 비교예에 있어서의 막의 형성방법에 대하여 설명한다. 구체적으로는, 실시예 1의 샘플은 상기 성막장치(도시하지 않음)를 사용하여 유리판 표면상에 산화 주석막과 산화 규소막을 차례로 형성하여 제작하였다. 실시예 2∼4, 6의 샘플은 실시예 1과 동일한 방법으로, 유리판 표면상에 산화 주석막과 산화 규소막을 차례로 형성하여 제작하였다. 실시예 5의 샘플은 실시예 1과 동일한 방법으로, 유리판 표면상에 산화 주석막, 산화 규소막, 산화 주석막, 산화 규소막을 차례로 형성하여 제작하였다.Next, the film formation method in the Example and comparative example of this invention is demonstrated. Specifically, the sample of Example 1 was produced by sequentially forming a tin oxide film and a silicon oxide film on the glass plate surface using the film forming apparatus (not shown). The samples of Examples 2 to 4 and 6 were produced in the same manner as in Example 1 by sequentially forming a tin oxide film and a silicon oxide film on the glass plate surface. The sample of Example 5 was produced by forming the tin oxide film, the silicon oxide film, the tin oxide film, and the silicon oxide film in order on the glass plate surface similarly to Example 1.

비교예 1의 샘플은 실시예 1과 동일한 방법으로, 유리판 표면상에 산화 주석막과 산화 규소막을 차례로 형성하여 제작하였다. 비교예 2의 샘플은 통상의 유리판 표면을, 규불화 수소산을 주성분으로 하는 수용액에 유리판을 침지시켜 에칭 처리를 행하고, 유리표면에 실리카를 주성분으로 하는 다공질 막으로 이루어지는 미세 요철을 형성하여 제작하였다. 비교예 4, 5의 샘플은 실시예 1과 동일한 방법으로, 유리판 표면상에 산화 주석막을 형성하여 제작하였다.The sample of Comparative Example 1 was produced in the same manner as in Example 1 by sequentially forming a tin oxide film and a silicon oxide film on the glass plate surface. The sample of the comparative example 2 was etched by immersing a glass plate in the aqueous solution which has a hydrofluoric acid as a main component, and forming the fine glass surface of the normal glass plate which consists of a porous film which has a silica as a main component on the glass surface. The samples of Comparative Examples 4 and 5 were prepared by forming a tin oxide film on the glass plate surface in the same manner as in Example 1.

다음에, 상기 실시예 및 비교예의 샘플에 대하여, 평균 표면 조도(Ra) 및 요철의 평균 간격(Sm)을 측정하였다. 이들 값의 측정은, 원자간력(原子間力) 현미경(AFM)이나 전자현미경을 사용하여 관찰하고, 측정한 단면 곡선으로부터 계산하였다.Next, about the sample of the said Example and a comparative example, the average surface roughness Ra and the average space | interval Sm of the unevenness | corrugation were measured. The measurement of these values was observed using the atomic force microscope (AFM) and the electron microscope, and calculated from the measured cross-sectional curve.

또한, 샘플을 목욕용 비누로 세정하고, 샘플 표면의 물에 대한 습윤성을 확인하기 위해 접촉각의 변화를 측정하였다. 물과의 접촉각은 샘플 표면의 세정 직후, 2시간 경과 후 및 200시간 경과 후에 측정하였다.In addition, the samples were washed with bath soap and the change in contact angle was measured to confirm the wettability of the sample surface with water. The contact angle with water was measured immediately after washing the sample surface, after 2 hours and after 200 hours.

이하의 표 1 및 표 2는 본 발명에 따른 친수성 부재와 비교예에 대하여, 세제에 의한 세정 후의 물과의 접촉각의 변화를 비교한 것이다.Tables 1 and 2 below compare the change of contact angle with water after washing with detergent for the hydrophilic member and the comparative example according to the present invention.

[표 1]TABLE 1

실시예Example 1One 22 33 44 55 66 평균 표면 조도(㎚)Average surface roughness (nm) 10.010.0 3.03.0 7.07.0 13.013.0 25.025.0 8.58.5 평균간격(㎚)Average interval (nm) 4040 3030 6565 110110 150150 7070 접촉각의 변화(°) Change in contact angle (°) 세정직후Immediately after cleaning 3.03.0 5.05.0 4.04.0 5.05.0 10.010.0 4.04.0 2시간후2 hours later 4.04.0 10.010.0 6.06.0 6.06.0 12.012.0 6.06.0 200시간후After 200 hours 10.010.0 25.025.0 15.015.0 13.013.0 16.016.0 14.014.0 하지막 조성Base film composition ―――― SiO2 SiO 2 SiO2 SiO 2 SiO2 SiO 2 SnO2/SiO2 SnO 2 / SiO 2 SiO2 SiO 2 하지막 두께(㎚)Base film thickness (nm) ―――― 2020 2020 2020 25/2525/25 2020 SnO2막 두께(㎚)SnO 2 film thickness (nm) 350350 2020 250250 600600 800800 300300 오버 코트막 두께(㎚)Overcoat film thickness (nm) 2020 2020 5050 2020 5050 5050 비고Remarks

[표 2]TABLE 2

비교예*Comparative Example * 1One 22 33 44 55 평균 표면 조도(㎚)Average surface roughness (nm) 30.030.0 5.05.0 1.01.0 5.05.0 7.07.0 평균 간격(㎚)Average interval (nm) 250250 4545 ∽(무한대)대 (infinity) 5050 7070 접촉각의 변화(°) Change in contact angle (°) 세정직후Immediately after cleaning 57.057.0 14.014.0 18.018.0 70.070.0 78.078.0 2시간후2 hours later 65.065.0 18.018.0 20.020.0 70.070.0 79.079.0 200시간후After 200 hours 68.068.0 32.032.0 41.041.0 73.073.0 80.080.0 하지막 조성Base film composition SnO2/SiO2 SnO 2 / SiO 2 ―――― ―――― ―――― ―――― 하지막 두께(㎚)Base film thickness (nm) 25/2525/25 ―――― ―――― ―――― ―――― SnO2막 두께(㎚)SnO 2 film thickness (nm) 10001000 ―――― ―――― 6060 150150 오버 코트막 두께(㎚)Overcoat film thickness (nm) ―――― ―――― ―――― ―――― ―――― 비고Remarks *비교예 2:에칭에 의해 표면에 미세한 요철을 형성한 유리판 비교예 3:통상의 유리판 비교예 4:표면에 산화 주석막(SnO2)을 형성한 유리판 비교예 5:표면에 산화 주석막(SnO2)을 형성한 유리판Comparative Example 2: Glass Plate with Fine Unevenness on Surface by Etching Comparative Example 3: Normal Glass Plate Comparative Example 4: Glass Plate with Tin Oxide Film (SnO 2 ) Formed on Surface Comparative Example 5: Tin Oxide Film on Surface Glass plate with SnO 2 )

표 1에서 명확히 드러난 바와 같이, 본 발명에 따른 친수성 부재는 세정 직후부터 물과의 접촉각이 10°이하가 되고, 장기간에 걸쳐 친수성이 지속되는 것을 알 수 있다.As is apparent from Table 1, it can be seen that the hydrophilic member according to the present invention has a contact angle with water of 10 ° or less immediately after cleaning, and hydrophilicity lasts for a long time.

이에 대하여, 표 2에서 명확히 드러난 바와 같이, 통상의 유리판(비교예 3)은 세정 직후의 물과의 접촉각은 10°전후이지만, 시간의 경과와 함께 서서히 접촉각이 커진다. 이것은 표면의 요철이 작고(Ra≒1 ㎚), 친수 지속성이 확보되어 있지 않기 때문인 것으로 생각되어진다. 또, 에칭에 의해 표면에 미세한 요철을 형성한 유리판(비교예 2)도 세정 직후의 물과의 접촉각은 10°전후이지만, 시간의 경과와 함께 서서히 접촉각이 커진다. 이것은 표면의 요철에 비해 요철의 간격이 너무 작기 때문에 내구성이 나쁘고, 동시에 친수 유지 성능도 저하되어 있기 때문으로 추정된다.On the other hand, as is clear from Table 2, the normal glass plate (comparative example 3) has a contact angle with water immediately after washing, but before and after 10 °, but the contact angle gradually increases with time. This is considered to be because surface irregularities are small (Ra ≒ 1 nm) and hydrophilic persistence is not secured. In addition, although the contact angle with the water immediately after washing | cleaning also the glass plate (Comparative example 2) which formed the fine unevenness | corrugation on the surface by etching, the contact angle becomes large gradually with passage of time. This is presumably because durability is poor because the gap between the unevenness is too small compared with the unevenness of the surface, and the hydrophilic retention performance is also reduced.

또, 산화 주석막(SnO2)의 두께를 본 발명의 범위를 초과하여 두껍게 형성한 경우(비교예 1)는, 막 표면의 요철의 간격이 커지기 때문에(Sm>300 ㎚), 산화 규소막(SiO2)의 요철 간격도 커지고, 이것에 의해 친수 유지 성능은 확보될 수 없다. 또한, 유리판에 산화 주석막(SnO2)만을 형성한 경우(비교예 4 및 비교예 5)에는, 산화 주석막(SnO2)의 두께에 관계없이, 세정 직후부터 물과의 접촉각은 70°이상이어서 친수성을 나타내지 않는다. 이것은 표면 형상에 구애되지 않고, 산화 주석막(SnO2) 자체의 성질에 의한 것이라고 생각되어진다.In the case where the thickness of the tin oxide film SnO 2 is formed thicker than the range of the present invention (Comparative Example 1), the silicon oxide film ( the rise and uneven spacing of SiO 2), maintained the hydrophilic performance by this can not be secured. When only the tin oxide film SnO 2 is formed on the glass plate (Comparative Example 4 and Comparative Example 5), the contact angle with water is 70 ° or more immediately after cleaning, regardless of the thickness of the tin oxide film SnO 2 . Then hydrophilicity is not shown. This is considered to be due to the properties of the tin oxide film (SnO 2 ) itself, regardless of the surface shape.

실시예 6은 뒷면에 은을 입힌 유리판의 표면에 실시예 3과 동일한 구성의 막을 형성한 미러이다. 이 미러 표면은 호기(呼氣)를 내뿜어도 전혀 흐려지지 않고, 또 세정 직후부터 물과의 접촉각이 10°이하가 되고, 장기에 걸쳐 친수성을 지속하고 있다. 따라서, 실시예 6의 미러는 친수성이 높고, 양호한 친수 지속성을 가지고 있다고 말할 수 있다. Example 6 is a mirror in which the film | membrane of the structure similar to Example 3 was formed in the surface of the glass plate which silvered on the back surface. This mirror surface does not become cloudy at all even when exhaled, and the contact angle with water becomes 10 degrees or less immediately after washing | cleaning, and it maintains hydrophilicity over the long term. Therefore, it can be said that the mirror of Example 6 has high hydrophilicity and has favorable hydrophilic persistence.

이상에 설명한 바와 같이, 본 발명의 친수성 부재의 제 1 특징 구성에 의하 면, 물에 대한 접촉각이 작아지고, 더 한층 친수성의 장기 안정성이 얻어진다.As explained above, according to the 1st characteristic structure of the hydrophilic member of this invention, the contact angle with respect to water becomes small and further hydrophilic long-term stability is obtained.

상기 친수성 부재의 제 2 특징 구성에 의하면, 상기 제 1 특징 구성의 작용효과를 이루면서, 바람직한 표면 요철형상을 갖는 다결정 박막을 형성하는 것이 가능해진다.According to the 2nd characteristic structure of the said hydrophilic member, it becomes possible to form the polycrystalline thin film which has a preferable surface asperity shape, achieving the effect of the said 1st characteristic structure.

상기 친수성 부재의 제 3 특징 구성에 의하면, 상기 제 1 특징 구성 또는 제 2 특징 구성의 작용효과를 이루면서, 최표면에서의 친수성의 작용을 충분히 발휘할 수 있도록 하고, 또한 세정 후의 친수성의 회복이 극히 단시간에 이루어지고, 친수성의 지속효과가 높다.According to the third characteristic constitution of the hydrophilic member, while achieving the effect of the first characteristic constitution or the second characteristic constitution, the hydrophilic action at the outermost surface can be sufficiently exhibited, and the recovery of the hydrophilicity after washing is extremely short. It is made, and the lasting effect of hydrophilicity is high.

상기 친수성 부재의 제 4 특징 구성에 의하면, 상기 제 1∼3의 임의의 특징 구성에 있어서 각각의 작용효과를 이루면서, 장기에 걸쳐 친수 성능을 유지하는 것이 가능하다.According to the 4th characteristic structure of the said hydrophilic member, it is possible to maintain hydrophilic performance over a long term, achieving each effect in arbitrary 1 to 3 characteristic structures.

상기 친수성 부재의 제 5 특징 구성에 의하면, 상기 제 1∼4의 임의의 특징 구성에 있어서 각각의 작용효과를 이루면서, 원하는 친수성 막을 형성할 수 있다.According to the 5th characteristic structure of the said hydrophilic member, desired hydrophilic film can be formed, achieving each function effect in the arbitrary 1st characteristic structure of said 1-4.

상기 친수성 부재의 제 6 특징 구성에 의하면, 상기 제 1∼5의 임의의 특징 구성에 있어서 각각의 작용효과를 이루면서, 원하는 요철을 얻을 수 있다.According to the sixth characteristic constitution of the hydrophilic member, desired concavities and convexities can be obtained while achieving the respective effects in the arbitrary first to fifth constitutions.

상기 친수성 부재의 제 7 특징 구성에 의하면, 상기 제 1∼6의 임의의 특징구성에 있어서 각각의 작용효과를 이루면서, 하지막의 굴절률이 유리판의 굴절률과 산화 주석막의 굴절률의 중간이 되기 때문에, 간섭색 변화(얼룩)를 억제함과 동시에, 반사색조의 중성색화를 도모할 수 있다.According to the seventh characteristic constitution of the hydrophilic member, since the refractive index of the underlying film is halfway between the refractive index of the glass plate and the tin oxide film, achieving the respective operational effects in any of the first to sixth characteristic constitutions, the interference color change It is possible to suppress (stain) and to neutralize the reflection color tone.

상기 친수성 부재의 제 8 특징 구성에 의하면, 상기 제 1∼7의 임의의 특징 구성에 있어서 각각의 작용효과를 이루면서, 적층체로서의 외관상의 굴절률이 유리판의 굴절률과 산화 주석막의 굴절률의 중간이 되기 때문에, 간섭색 변화(얼룩)를 억제함과 동시에 반사색조의 중성색화를 도모할 수 있다.According to the eighth characteristic constitution of the hydrophilic member, the apparent refractive index as the laminate becomes an intermediate between the refractive index of the glass plate and the tin oxide film, while achieving the respective operational effects in any of the first to seventh characteristic constitutions. In addition, the interference color change (stain) can be suppressed and the reflected color tone can be neutralized.

상기 친수성 부재의 제 9 특징 구성에 의하면, 상기 제 1∼8의 임의의 특징 구성에 있어서 각각의 작용효과를 이루면서, 미러, 자동차용 창유리, 건축용 방담(防曇) 방오(防汚) 유리, 안경, 렌즈, 타일 또는 금속판 등의 용도에 유효하게 적용할 수 있다.According to the ninth feature configuration of the hydrophilic member, mirrors, window panes for automobiles, antifogging antifouling glass for building, and spectacles can be achieved while achieving respective effects in any of the first to eighth feature configurations. It can be effectively applied to applications such as lenses, tiles, or metal plates.

상기 친수성 부재의 제 10 특징 구성에 의하면, 상기 제 1∼9의 임의의 특징 구성에 있어서 각각의 작용효과를 이루면서, 자동차용 백미러나 목욕탕용 거울 등의 용도에 유효하게 적용할 수 있다.According to the 10th characteristic structure of the said hydrophilic member, it can be effectively applied to uses, such as an automobile rearview mirror, a bathroom mirror, etc., achieving each effect in arbitrary 1 to 9 characteristic features.

Claims (10)

산화 규소를 주성분으로 하는 유리, 타일, 세라믹스, 금속판 중 어느 하나로 된 기재의 표면에 직접 또는 알칼리 차단용 하지막을 사이에 두고 산화 주석층이 형성되고, 이 산화 주석층의 표면에 오버 코트층이 형성된 친수성 부재이고, 그 오버 코트층은 산화 규소, 산화 알루미늄, 산화 지르코늄, 산화 세륨 및 산화 티탄으로부터 선택되는 적어도 한 종류로 이루어지고, 또한, 최표면(最表面)의 표면 평균 조도(Ra)가 0.5∼25 ㎚인 것을 특징으로 하는 친수성 부재.A tin oxide layer is formed on the surface of a substrate made of silicon, oxide, glass, tile, ceramics, or metal plate directly or with an alkali barrier layer therebetween, and an overcoat layer is formed on the surface of the tin oxide layer. It is a hydrophilic member, The overcoat layer consists of at least 1 sort (s) chosen from silicon oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, cerium oxide, and titanium oxide, and the surface average roughness Ra of the outermost surface is 0.5. It is -25 nm, The hydrophilic member characterized by the above-mentioned. 제 1 항에 있어서, 상기 산화 주석층은 루틸형 결정구조를 가지는 것을 특징으로 하는 친수성 부재.The hydrophilic member according to claim 1, wherein the tin oxide layer has a rutile crystal structure. 제 1 항에 있어서, 상기 산화 주석층의 표면 평균 조도(Ra)를 0.5∼25 ㎚로 하여, 상기 최표면의 표면 평균 조도(Ra)를 0.5∼25 ㎚로 한 것을 특징으로 하는 친수성 부재.The hydrophilic member according to claim 1, wherein the surface average roughness Ra of the tin oxide layer is 0.5 to 25 nm, and the surface average roughness Ra of the outermost surface is 0.5 to 25 nm. 제 1 항에 있어서, 최표면의 요철의 평균 간격(Sm)이 4∼300 ㎚인 것을 특징으로 하는 친수성 부재.The hydrophilic member according to claim 1, wherein the average spacing Sm of the uneven surface of the outermost surface is 4 to 300 nm. 제 1 항에 있어서, 상기 산화 주석층의 두께가 10∼800 ㎚인 것을 특징으로 하는 친수성 부재.The hydrophilic member according to claim 1, wherein the tin oxide layer has a thickness of 10 to 800 nm. 제 1 항에 있어서, 상기 오버 코트층의 두께가 0.1∼100 ㎚인 것을 특징으로 하는 친수성 부재.The hydrophilic member according to claim 1, wherein the overcoat layer has a thickness of 0.1 to 100 nm. 제 1 항에 있어서, 상기 알칼리 차단용 하지막의 굴절률이 상기 기재의 굴절률과 상기 산화 주석층의 굴절률과의 중간치인 것을 특징으로 하는 친수성 부재.The hydrophilic member according to claim 1, wherein a refractive index of the base film for alkali blocking is an intermediate value between the refractive index of the substrate and the refractive index of the tin oxide layer. 제 1 항에 있어서, 상기 하지막이 산화 주석층과 산화 규소층의 적층체인 것을 특징으로 하는 친수성 부재.The hydrophilic member according to claim 1, wherein the base film is a laminate of a tin oxide layer and a silicon oxide layer. 삭제delete 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 친수성 부재는 기재 뒷면, 기재와 산화 주석층 사이 또는 하지막과 산화 주석층 사이에 금속 박막을 형성한 미러인 것을 특징으로 하는 친수성 부재.The hydrophilic member according to any one of claims 1 to 8, wherein the hydrophilic member is a mirror in which a metal thin film is formed between the back side of the substrate, the substrate and the tin oxide layer, or between the base film and the tin oxide layer.
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