KR100626965B1 - 코니컬 미러 제조 방법 - Google Patents

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KR100626965B1
KR100626965B1 KR1020040106448A KR20040106448A KR100626965B1 KR 100626965 B1 KR100626965 B1 KR 100626965B1 KR 1020040106448 A KR1020040106448 A KR 1020040106448A KR 20040106448 A KR20040106448 A KR 20040106448A KR 100626965 B1 KR100626965 B1 KR 100626965B1
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Abstract

본 발명은 코니컬 미러 제조 방법에 관한 것으로서, 특히 기판 상부에 포토레지스트막을 도포하는 단계와, 포토레지스트막에 반도체 노광 장치를 통해 노광하여 코니컬 형태의 노광 영역을 형성하고, 현상 공정으로 노광 영역의 포토레지스트막을 제거하여 창을 형성하는 단계와, 포토레지스트막의 창에 코니컬 형태의 마스크 패턴을 형성한 후에 포토레지스트막을 제거하는 단계와, 코니컬 형태의 마스크 패턴에 의해 드러난 기판을 건식 식각 공정으로 식각하는 단계와, 코니컬 형태의 마스크 패턴을 제거하여 코니컬 미러를 형성하는 단계를 포함한다. 그러므로 본 발명은 노광, 식각, 전기 도금 등의 반도체 제조 공정을 이용하여 홀로그래픽 롬 시스템의 코니컬 미러를 제조함으로써 코니컬 미러의 대량 생산이 용이하며 코니컬 미러의 제품 단가 및 제작 비용을 줄일 수 있다.
홀로그래픽 롬 시스템, 코니컬 미러, 노광, 식각

Description

코니컬 미러 제조 방법{METHOD FOR MANUFACTURING CONICAL MIRROR OF THE HOLOGRAPHIC ROM SYSTEM}
도 1은 일반적인 홀로그래픽 롬 시스템의 기록 장치를 나타낸 구성도,
도 2는 일반적인 홀로그래픽 롬 시스템의 코니컬 미러를 나타낸 사시도,
도 3은 본 발명에 적용된 노광 장치의 구성을 나타낸 도면,
도 4a 내지 도 4g는 본 발명의 일 실시예에 따른 코니컬 미러 제조 방법을 설명하기 위한 공정 순서도,
도 5a 및 도 5g는 본 발명의 다른 실시예에 따른 코니컬 미러 제조 방법을 설명하기 위한 공정 순서도,
도 6a 및 도 6b는 본 발명에 따른 노광 공정에 의해 형성된 코니컬 미러용 마스크 패턴을 설명하기 위한 도면들,
도 7은 본 발명에 따른 홀로그래픽 롬 시스템의 코니컬 미러의 제조 공정시 경사 각도 및 두께를 조정하는 예를 설명하기 위한 도면.
＜도면의 주요부분에 대한 부호의 설명＞
100 : 노광 광원 102 : 조리개
104 : 집광 렌즈 106 : 포토레지스트막
108 : 노광 영역 110 : 기판, 코니컬 미러
본 발명은 홀로그래픽 롬 시스템에 사용되는 코니컬 미러 제조 방법에 관한 것으로, 특히 반도체 제조 공정을 이용하여 코니컬 미러를 제조하는 방법에 관한 것이다.
정보 산업이 발달함에 따라 정보를 저장하는 장치의 대용량화, 처리 속도의 고속화가 요구된다. 현재 데이터 저장용 메모리의 대용량 및 고속 처리를 위해 광 디스크 등의 광 기록매체로 수∼ 수백 Gbytes를 저장할 수 있는 홀로그래픽 메모리, 그 중에서도 홀로그래픽 롬 시스템(HROM : Holographic ROM)에 대한 연구 및 개발이 활발히 진행 중에 있다. 이러한 홀로그래픽 롬 시스템은 CD, DVD 등과 같은 광 디스크의 한 비트에 대량의 정보를 저장할 수 있으며 저장된 데이터를 비트 단위로 처리하기 때문에 데이터 입출력 속도가 빠르다. 이러한 이점 때문에 홀로그래픽 롬 시스템은 차세대 대용량 정보 저장장치로 각광을 받고 있다.
도 1은 일반적인 홀로그래픽 롬 시스템의 기록 장치를 나타낸 구성도이다. 도 1에 도시된 홀로그래픽 롬 시스템의 기록 장치는 광원(10), 미러들(20, 26, 28), 편광 광분리기(PBS : Polarizer Beam Spliter)(16), 코니컬 미러(30), 데이터 마스크(32), 디스크(34)로 구성된다. 여기서 12, 22는 HWP(Half Wave Plate), 14는 확대 렌즈, 그리고 18, 24는 편광기(polarizer)를 나타낸다.
광원(10)의 레이저광은 일정 파장, 예컨대, 532nm의 파장을 갖는 P형 및 S형 의 편광 특성을 갖는다. 상기 레이저 광은 HWP(12)를 통해 P형 또는 S형 편광을 가지는 광으로 변형되고 확대 렌즈(14)를 통해 일정 크기로 광이 확대되어 편광 광분리기(PBS)(16)에 전달된다.
편광 광분리기(PBS)(16)는 S편광의 광을 반사하고, P편광의 광은 그대로 투과시킨다. 이에 따라 편광 광분리기(PBS)(16)를 그대로 투과한 P편광을 가지는 광은 신호광 경로를 따라 편광기(18)에 전달된다. 편광기(18)는 보다 순수한 P편광의 광을 만들어 미러(20)에 전달한다. 미러(20)는 P편광의 광을 수직으로 반사시켜 데이터 마스크(32) 상부 전체에 전달함으로써 P편광의 광을 데이터 마스크(32)의 온/오프 비트 패턴을 통해 전체 광 기록매체인 디스크(34) 상부에 입사시킨다.
그리고 편광 광분리기(PBS)(16)에서 반사된 S편광을 가지는 광은 기준광 경로를 따라 HWP(22)에 전달된다. HWP(22)는 S편광을 변형하여 P편광으로 만들고, 편광기(24)는 보다 순수한 P편광의 광을 만들어 미러(26, 28)에 전달한다. 미러(26, 28)는 평행한 P편광의 광을 수직으로 반사시켜 코니컬 미러(30)에 전달함으로써 P편광을 가지는 광을 코니컬 미러(30)의 경사 미러면을 통해 일정 각도로 반사시켜 광 기록매체인 디스크(34) 하부에 입사한다.
이에 따라 P편광의 신호광과 P편광의 기준광이 디스크(34)내 기록 물질층에서 만나서 간섭되어 데이터 마스크(32)의 비트 패턴에 따른 홀로그램 데이터가 기록된다. 이때 디스크(34)에 입사되는 신호광 및 기준광은 동일한 편광 타입이어야만 간섭을 일으키기 때문에 예를 들어, 디스크(34)에 입사되는 신호광 편광이 P형 편광일 경우 기준광도 P형 편광이어야만 한다.
도 2는 일반적인 홀로그래픽 롬 시스템의 코니컬 미러를 나타낸 사시도이다. 도 2에 도시된 바와 같이, 코니컬 미러(30)는 입사된 광을 일정 각도로 반사하기 위한 경사 미러면을 갖는다. 이로 인해 코니컬 미러(30)의 경사 미러면에 입사된 기준광이 일정한 각도로 반사되어 디스크 방향으로 전달된다.
그런데, 종래 기술에 의한 홀로그래픽 롬 시스템의 기록 장치에 있어서, 코니컬 미러(30)는 재생시 기록시와 동일한 각도에서 재생이 가능하도록 기준광을 설정된 각도로 디스크에 입사하는 장치이다. 이에 따라 경사 각도가 다른 코니컬 미러(30)를 사용하여 디스크(34)에 홀로그램 데이터의 중첩 기록이 가능하다. 이러한 홀로그램 데이터의 중첩 기록에 따라 종래 기록 장치에서는 다수개의 경사 각도를 갖는 코니컬 미러를 준비해야한다.
하지만 코니컬 미러는 기계적 가공에 의해 제작되기 때문에 대량 생산이 용이하지 않으며 그 제품 단가와 제작 비용이 비싸다는 단점이 있었다.
본 발명의 목적은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 반도체 제조 공정을 이용하여 홀로그래픽 롬 시스템의 코니컬 미러를 제조함으로써 대량 생산이 용이하며 코니컬 미러의 제품 단가 및 제작 비용을 줄일 수 있는 코니컬 미러 제조 방법을 제공하는데 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 방법은 홀로그래픽 롬 시스템의 코니컬 미러를 제조하는 방법에 있어서, 기판 상부에 포토레지스트막을 도포하는 단계와, 포토레지스트막에 반도체 노광 장치를 통해 노광하여 코니컬 형태의 노광 영 역을 형성하고, 현상 공정으로 노광 영역의 포토레지스트막을 제거하여 창을 형성하는 단계와, 포토레지스트막의 창에 코니컬 형태의 마스크 패턴을 형성한 후에 포토레지스트막을 제거하는 단계와, 코니컬 형태의 마스크 패턴에 의해 드러난 기판을 건식 식각 공정으로 식각하는 단계와, 코니컬 형태의 마스크 패턴을 제거하여 코니컬 미러를 형성하는 단계를 포함한다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 다른 방법은 홀로그래픽 롬 시스템의 코니컬 미러를 제조하는 방법에 있어서, 기판 상부에 적어도 하나 이상의 희생층을 형성하고 그 위에 포토레지스트막을 도포하는 단계와, 포토레지스트막에 반도체 노광 장치를 통해 노광하여 코니컬 형태의 노광 영역을 형성하고, 현상 공정을 진행하여 노광 영역의 포토레지스트막을 제거하여 창을 형성시키는 단계와, 포토레지스트막의 창에 코니컬 형태의 마스크 패턴을 형성한 후에 포토레지스트 층을 제거하는 단계와, 코니컬 형태의 마스크 패턴에 의해 드러난 희생층을 건식 식각 공정으로 식각하는 단계와, 코니컬 형태의 마스크 패턴 및 희생층에 의해 드러난 기판을 건식 식각 공정으로 식각하는 단계와, 코니컬 형태의 마스크 패턴 및 희생층을 제거하여 코니컬 미러를 형성하는 단계를 포함한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 상세하게 설명한다.
도 3은 본 발명에 적용된 노광 장치의 구성을 나타낸 도면으로서, 상기 노광 장치는 노광 광원(100)과, 원형 조리개(102)와, 집광 렌즈(104)와, 포토레지스트막 (106)을 포함한다.
본 발명은 도 3과 같은 반도체 노광 장치를 이용하여 포토레지스트막(106)에 수은 램프 등의 노광 광원(100)으로부터 생성된 광(S3)을 원형 조리개(102)를 통해 집광 렌즈(104)에 제공한다. 대물 렌즈(104)와 포토레지스트막(106)의 초점 거리에 따라 포토레지스트막(106) 상부에 초점이 맞추어지면 원형 조리개(102)에 의해 오픈된 부분의 포토레지스트막(106)에만 노광이 이루어진다.
포토레지스트막(106)의 노광된 영역(108)은 그 수직 단면이 사다리꼴 형태를 갖으며 전체적으로 코니컬 형태를 갖는다.
도 4a 내지 도 4g는 본 발명의 일 실시예에 따른 코니컬 미러 제조 방법을 설명하기 위한 공정 순서도로서, 이들 도면들을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 코니컬 미러를 제조한다.
우선 도 4a에 도시된 바와 같이, 반사 특성을 갖는 기판(120) 상부에 시드층(seed layer)(122)을 형성하고 그 위에 포토레지스트막(124)을 도포한다. 이때 기판(120)은 Al, Cr, Mn 등의 금속 물질로 형성하고, 시드층(122)은 Cr, Ti, Al 등의 전기 도금용 금속 물질로 형성한다.
그리고 도 3과 같은 반도체 노광 장치를 이용하여 포토레지스트막(124)에 수은 램프 등의 노광 광원(100)으로부터 생성된 광(S3)을 원형 조리개(102)에 조사한다. 그러면 원형 조리개(102)를 통과한 광(S3)은 집광 렌즈(104)에 의해 집광되어 포토레지스트막(124)에 전달된다. 이때 집광 렌즈(104)에 집광된 광은 포토레지스트막(124) 상부에 초점이 맺혀지기 때문에 원형 조리개(102)에 의해 오픈된 부분의 포토레지스트막(124)에 노광이 이루어져 코니컬 형태의 노광 영역(126)이 형성된다.
도 4b에 도시된 바와 같이, 현상 공정을 진행하여 노광 영역의 포토레지스트막을 제거함으로써 비노광된 포토레지스트막(124)에 코니컬 형태의 창을 형성한다.
도 4c에 도시된 바와 같이, 포토레지스트막(124)의 창에 드러난 시드층(122)에 전기 도금에 의해 기판과 다른 종류의 반사율이 우수한 금속막, 예를 들어 기판이 Al인 경우 Ti나 Cr을, 기판이 Cr이면 Al을, 기판이 Fe인 경우 Al, Cr등을 사용하여 포토레지스트막(124) 표면까지 도금하여 코니컬 형태의 마스크 패턴(128)을 형성한다.
O2 플라즈마 RIE(Reactive Ion Etching) 등의 에싱 공정 및 세정 공정을 진행하여 잔여 포토레지스트막(124)을 제거하면, 도 4d와 같이 시드층(122) 상부에 코니컬 형태의 마스크 패턴(128)이 남게 된다.
도 4f에 도시된 바와 같이, 코니컬 형태의 마스크 패턴(108)에 의해 드러난 시드층(122)과 기판(120)을 Cl-를 포함한 식각 가스 또는 플라즈마를 이용한 건식 식각 공정으로 식각한다.
그 다음 습식 식각 및 세정 공정을 진행하여 코니컬 형태의 마스크 패턴(128) 및 시드층(122)을 제거하면, 도 4g와 같은 코니컬 형태의 기판(120)만 남게 된다. 이와 같이 제조된 코니컬 형태의 기판(120)은 도 1 및 도 2의 홀로그래픽 롬 시스템의 기록 장치의 코니컬 미러로 사용된다.
본 발명의 제조 공정중 Al과 같은 전기 도금에 의해 형성된 마스크 패턴 (128)이 충분한 두께를 가질 수 있으면, 도 4d까지의 공정후 습식식각 공정에 의해 시드층(122) 및 기판(120)을 분리하여 사용도 가능하다. 이 경우 기판(120)의 물질은 금속층과 분리가 용이한 산화물, 예를 들면 유리, 알루미나 등을 사용하는 것이 바람직하다.
도 5a 및 도 5g는 본 발명의 다른 실시예에 따른 코니컬 미러 제조 방법을 설명하기 위한 공정 순서도이다. 이들 도면들을 참조하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 코니컬 미러를 제조한다.
우선 도 5a에 도시된 바와 같이, 반사 특성을 갖는 기판(130) 상부에 적어도 하나 이상의 희생층(132)을 형성하고 그 위에 시드층(134)을 형성한 후에, 그 위에 포토레지스트막(136)을 도포한다. 이때 기판(130)은 Al, Cr, Mn 등의 금속 물질로 형성하고, 시드층(134)은 Cr, Ti, Al 등의 전기 도금용 금속 물질로 형성한다. 그리고 희생층(132)은 실리콘 산화막(SiO2) 등의 절연 물질로 형성한다.
그리고 도 5b에 도시된 바와 같이, 도 3과 같은 반도체 노광 장치를 이용하여 포토레지스트막(136)에 수은 램프 등의 노광 광원(100)으로부터 생성된 광(S3)을 원형 조리개(102)에 조사한다. 그러면 원형 조리개(102)를 통과한 광(S3)은 집광 렌즈(104)에 의해 집광되어 포토레지스트막(136)에 전달된다. 이때 집광 렌즈(104)에 집광된 광은 포토레지스트막(124) 상부에 초점이 맺혀지기 때문에 원형 조리개(102)에 의해 오픈된 부분의 포토레지스트막(136)에 노광이 이루어져 코니컬 형태의 노광 영역(138)이 형성된다.
도 5c에 도시된 바와 같이, 현상 공정을 진행하여 노광 영역의 포토레지스트 막을 제거함으로써 코니컬 형태의 창을 갖는 포토레지스트막(136)만 남게 된다.
도 5d에 도시된 바와 같이, 포토레지스트막(136)의 창에 드러난 시드층(134)에 의해 전기 도금에 의해 반사율이 높은 금속막을 포토레지스트막 표면까지 도금하여 코니컬 형태의 마스크 패턴(140)을 형성한다.
도 5e에 도시된 바와 같이, O2 플라즈마 RIE 등의 에싱 공정 및 세정 공정을 진행하여 잔여 포토레지스트막을 제거하면, 시드층(134) 상부에 코니컬 형태의 마스크 패턴(140)만 남게 된다.
계속해서 도 5f에 도시된 바와 같이, 코니컬 형태의 금속 마스크 패턴(140)에 의해 드러나는 시드층(134) 및 희생층(132)을 F- 플라즈마 RIE나 CF4 플라즈마 RIE 등의 건식 식각 공정을 사용하여 식각한다.
그리고나서 도 5g에 도시된 바와 같이, 코니컬 형태의 마스크 패턴(140), 시드층(134), 및 희생층(132)에 의해 드러난 기판(130)을 Cl- 가스를 사용하는 RIE 건식 식각 공정으로 식각한다.
이후 습식 식각 및 세정 공정을 진행하여 코니컬 형태의 마스크 패턴(140) 내지 희생층(132)을 제거하면, 도 5g와 같은 코니컬 형태의 기판(130)만 남게 된다. 이와 같이 제조된 코니컬 형태의 기판(130)은 도 1 및 도 2의 홀로그래픽 롬 시스템의 기록 장치의 코니컬 미러로 사용된다.
한편 상술한 본 발명의 일 실시예 및 다른 실시예의 제조 공정에서는 코니컬 미러인 기판을 반사 특성을 갖는 금속 물질로 제조하였으나, 기판 물질을 글래스 등의 광 투과 물질로 변경할 경우 반사 미러면을 갖는 코니컬 미러 대신에 광 굴절 특성의 코니컬 프리즘을 제작할 수 있다.
도 6a 및 도 6b는 본 발명에 따른 노광 공정에 의해 형성된 코니컬 미러용 마스크 패턴을 설명하기 위한 도면들이다.
도 6a 및 도 6b를 참조하면, 본 발명에 따른 노광 공정에 의해 제조된 코니컬 형태의 마스크 패턴(108)의 크기는 다음과 같이 구해진다.
집광 렌즈(104)에 입사되는 광의 폭을 2ω라 하며 초점 거리를 f라고 하면 포토레지스트막(106)으로 입사되는 광의 각도(α)는 다음 수학식 1과 같다.
Figure 112004059189752-pat00001
포토레지스트막(106)으로 투과되는 광의 각도(α')는 포토레지스트의 굴절율을 n이라 할때, 스넬 법칙(snell's law)에 의해 다음 수학식 2와 같은 관계가 성립된다.
Figure 112004059189752-pat00002
코니컬 미러의 윗변의 길이 2X로 하며 초점 거리에서 포토레지스트막(106)까지의 거리를 f1이라고 하면
Figure 112004059189752-pat00003
이므로 코니컬 미러의 윗변 길이 2X는 다음 수학식 3과 같이 구해진다.
Figure 112004059189752-pat00004
코니컬 미러의 밑변 길이를 2X+2Y로 하면
Figure 112004059189752-pat00005
이므로 코니컬 미러의 밑변 길이 2X+2Y는 다음 수학식 4와 같다.
Figure 112004059189752-pat00006
포토레지스트막(106)으로 투과되는 광의 각도(α')는 포토레지스트막(106)에 입사되는 광의 각도(α)로 조절할 수 있으며 이때 α는 광 크기에 의존한다.
그러므로 본 발명은 포토레지스트막의 두께를 조절하고 반도체 노광 공정에 의해 코니컬 형태의 마스크 패턴의 윗변 길이 및 밑변 길이를 조정할 수 있어 원하는 크기를 갖는 코니컬 미러를 제조할 수 있다.
도 7은 본 발명에 따른 홀로그래픽 롬 시스템의 코니컬 미러의 제조 공정시 경사 각도 및 두께를 조정하는 예를 설명하기 위한 도면이다.
도 7과 같이, 본 발명은 코니컬 형태의 마스크 패턴으로 하부의 기판을 식각하여 코니컬 미러의 경사 각도를 조정한다.
코니컬 형태의 마스크 패턴의 두께가 L1이며 그 하부의 기판의 두께가 L2라면 코니컬 미러의 경사면의 밑변 Y는 다음과 같다.
Figure 112004059189752-pat00007
이에 코니컬 형태의 마스크 패턴에 의해 식각된 코니컬 미러인 기판의 경사 각도(α'')는 다음 수학식 6과 같다.
Figure 112004059189752-pat00008
코니컬 미러인 기판의 경사 각도(α'')는 코니컬 형태의 마스크 패턴의 두께(L1) 및 경사 각도(α')와 식각 선택도에 의해 포토레지스트의 두께 L1이 식각되는 동안 식각되는 기판의 두께(L2)에 따라 조절된다.
그러므로 본 발명은 코니컬 형태의 마스크 패턴 및 기판의 두께를 조절하고 반도체 건식 식각 공정을 진행하여 원하는 경사 각도를 갖는 코니컬 미러를 제조할 수 있다. 또한 이때 형성되는 코니컬 미러의 두께는 포토레지스트와 기판 사이의 식각 선택도에 의해 조절이 가능하다.
또한 본 발명은 도 6b 및 도 7와 같이 코니컬 형태의 마스크 패턴 및 기판 사이에 적어도 하나 이상의 희생층을 추가하더라도 광의 입사 각도와 포토레지스트와 식각 대상층들의 두께를 조절하여 원하는 크기 및 경사 각도를 갖는 코니컬 미러를 제조할 수 있다.
이상, 본 발명을 실시예에 근거하여 구체적으로 설명하였지만, 본 발명은 이러한 실시예에 한정되는 것이 아니라, 하기에 기술하는 특허청구범위의 요지를 벗 어나지 않는 범위내에서 여러 가지 변형이 가능한 것은 물론이다.
이상 상술한 바와 같이, 본 발명은 노광, 식각, 전기 도금 등의 반도체 제조 공정을 이용하여 홀로그래픽 롬 시스템의 코니컬 미러를 제조함으로써 코니컬 미러의 대량 생산이 용이하며 코니컬 미러의 제품 단가 및 제작 비용을 줄일 수 있는 이점이 있다.

Claims (13)

  1. 홀로그래픽 롬 시스템의 코니컬 미러를 제조하는 방법으로서,
    반사 특성이 있는 금속물질로 형성되는 기판 상부에 포토레지스트막을 도포하는 단계와,
    상기 포토레지스트막에 반도체 노광 장치를 통해 노광하여 코니컬 형태의 노광 영역을 형성하고, 현상 공정으로 상기 노광 영역의 포토레지스트막을 제거하여 창을 형성하는 단계와,
    상기 포토레지스트막의 창에 코니컬 형태의 마스크 패턴을 형성한 후에 상기 포토레지스트막을 제거하는 단계와,
    상기 코니컬 형태의 마스크 패턴에 의해 드러난 기판을 건식 식각 공정으로 식각하는 단계와,
    상기 코니컬 형태의 마스크 패턴을 제거하여 코니컬 미러를 형성하는 단계
    를 포함하는 코니컬 미러 제조 방법.
  2. 삭제
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 기판은, 광 투과 물질인 것을 특징으로 하는 코니컬 프리즘 제조 방법.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 반도체 노광 장치는, 노광 광원을 통과시키는 원형 조리개와, 상기 원형 조리개를 통해 투과된 광을 상기 포토레지스트막에 집광하는 집광 렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 코니컬 미러 제조 방법.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 코니컬 형태의 마스크 패턴은, 금속 물질인 것을 특징으로 하는 코니컬 미러 제조 방법.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 코니컬 형태의 마스크 패턴은, 전기 도금으로 형성하는 것을 특징으로 하는 코니컬 미러 제조 방법.
  7. 홀로그래픽 롬 시스템의 코니컬 미러를 제조하는 방법으로서,
    반사특성이 있는 금속 물질로 형성되는 기판 상부에 적어도 하나 이상의 희생층을 형성하고 그 위에 포토레지스트막을 도포하는 단계와,
    상기 포토레지스트막에 반도체 노광 장치를 통해 노광하여 코니컬 형태의 노광 영역을 형성하고, 현상 공정을 진행하여 상기 노광 영역의 포토레지스트막을 제거하여 창을 형성시키는 단계와,
    상기 포토레지스트막의 창에 코니컬 형태의 마스크 패턴을 형성한 후에 상기 포토레지스트 층을 제거하는 단계와,
    상기 코니컬 형태의 마스크 패턴에 의해 드러난 희생층을 건식 식각 공정으로 식각하는 단계와,
    상기 코니컬 형태의 마스크 패턴 및 희생층에 의해 드러난 기판을 건식 식각 공정으로 식각하는 단계와,
    상기 코니컬 형태의 마스크 패턴 및 희생층을 제거하여 코니컬 미러를 형성하는 단계
    를 포함하는 코니컬 미러 제조 방법.
  8. 삭제
  9. 제 7항에 있어서,
    상기 기판은, 광 투과 물질인 것을 특징으로 하는 코니컬 프리즘 제조 방법.
  10. 제 7항에 있어서,
    상기 반도체 노광 장치는, 노광 광원을 통과시키는 원형 조리개와, 상기 원형 조리개를 통해 투과된 광을 상기 포토레지스트막에 집광하는 집광 렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 코니컬 미러 제조 방법.
  11. 제 7항에 있어서,
    상기 희생층은, 절연 물질인 것을 특징으로 하는 코니컬 미러 제조 방법.
  12. 제 7항에 있어서,
    상기 코니컬 형태의 마스크 패턴은, 금속 물질인 것을 특징으로 하는 코니컬 미러 제조 방법.
  13. 제 7항에 있어서,
    상기 코니컬 형태의 마스크 패턴은, 전기 도금으로 형성하는 것을 특징으로 하는 코니컬 미러 제조 방법.
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4504111A (en) 1981-02-23 1985-03-12 U.S. Philips Corporation Method of multiplexing transmission chanels in a step-index optical fibre and device for carrying out the method
JPH01216315A (ja) * 1988-02-24 1989-08-30 Dainippon Printing Co Ltd 円錐形伏光学要素及びこれを利用したホログラム作成方法
JPH09101403A (ja) * 1995-10-03 1997-04-15 Takeuchi Seisakusho:Kk 錐形レンズ
JPH09218402A (ja) * 1996-02-13 1997-08-19 Dainippon Printing Co Ltd ホログラムカラーフィルターを用いた液晶表示装置
US6157473A (en) 1998-12-31 2000-12-05 Daewoo Electronics Co., Ltd. Holographic storage system incorporated therein a parabolic mirror
KR20040085327A (ko) * 2003-03-31 2004-10-08 주식회사 대우일렉트로닉스 홀로그래픽 롬 시스템의 다중 중첩 기록을 위한 환형 분산프리즘
KR20040086901A (ko) * 2003-03-22 2004-10-13 포스트마이크로 주식회사 자외선 마스크를 이용한 3차원 미세 구조물 제조 방법

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4504111A (en) 1981-02-23 1985-03-12 U.S. Philips Corporation Method of multiplexing transmission chanels in a step-index optical fibre and device for carrying out the method
JPH01216315A (ja) * 1988-02-24 1989-08-30 Dainippon Printing Co Ltd 円錐形伏光学要素及びこれを利用したホログラム作成方法
JPH09101403A (ja) * 1995-10-03 1997-04-15 Takeuchi Seisakusho:Kk 錐形レンズ
JPH09218402A (ja) * 1996-02-13 1997-08-19 Dainippon Printing Co Ltd ホログラムカラーフィルターを用いた液晶表示装置
US6157473A (en) 1998-12-31 2000-12-05 Daewoo Electronics Co., Ltd. Holographic storage system incorporated therein a parabolic mirror
KR20040086901A (ko) * 2003-03-22 2004-10-13 포스트마이크로 주식회사 자외선 마스크를 이용한 3차원 미세 구조물 제조 방법
KR20040085327A (ko) * 2003-03-31 2004-10-08 주식회사 대우일렉트로닉스 홀로그래픽 롬 시스템의 다중 중첩 기록을 위한 환형 분산프리즘

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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