KR100609023B1 - Production method of flexible circuit board - Google Patents
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Abstract
개시된 본 발명은, 회로기판의 원자재를 투입하고, 상기 원자재에 회로 패턴을 형성시키는 회로형성과정; 상기 패턴이 형성된 기판에 보호절연층을 형성시키는 보호절연처리과정; 상기 보호절연층이 형성된 기판 상부면 중 전기 접속을 위해 개방된 부위에 도금층을 형성시키고, 보강대 접착 및 부품 실장 등의 선택적 공정을 수행한 후, 원하는 영역만 절단하는 후처리과정;을 포함하는 인쇄회로기판 제조방법에 있어서, 상기 보호절연처리과정의 세부 공정은, 회로형성과정을 거쳐 회로 패턴이 형성된 동박 적층판에서 산화물과 불순물 및 습기를 제거하는 전처리 공정; 전처리된 상기 동박 적층판 상부에 감광성 커버레이 필름을 압착하는 진공-열압착공정; 상기 감광성 커버레이 필름이 압착된 동박 적층판을 1차 숙성시키는 제 1차 숙성공정; 상기 제 1 차 숙성공정에 의해 숙성된 동박 적층판의 감광성 커버레이 필름 상부에 마스터 필름을 얼라인먼트시킨 후, 노광시키는 얼라인먼트 및 노광공정; 노광 공정 후의 동박 적층판을 2차 숙성시키고, 현상하는 제 2차 숙성 및 현상공정; 및 현상후 상기 동박 적층판 상의 상기 감광성 커버레이 필름을 완전히 건조시켜 휘발성 물질을 제거하고, 상기 감광성 커버레이 필름을 완전히 접착시키는 완전건조 공정; 으로 이루어진 것을 특징으로 한다. The present invention discloses a circuit forming process for inputting a raw material of a circuit board and forming a circuit pattern on the raw material; A protective insulating process of forming a protective insulating layer on the substrate on which the pattern is formed; A post-treatment process of forming a plating layer on a portion of the upper surface of the substrate on which the protective insulating layer is formed for the electrical connection, and performing a selective process such as adhesion of a reinforcing bar and mounting of a component, and then cutting only a desired area. In the circuit board manufacturing method, the detailed process of the protective insulating treatment process, the pre-treatment process for removing oxides, impurities and moisture in the copper foil laminate having a circuit pattern formed through a circuit forming process; A vacuum-thermocompression step of pressing a photosensitive coverlay film on the pretreated copper foil laminate; A first aging step of primary aging the copper foil laminated sheet to which the photosensitive coverlay film is pressed; An alignment and exposure step of exposing the master film on the photosensitive coverlay film of the copper foil laminated plate aged by the first aging step, and then exposing the master film; A second aging and developing step of secondary aging and developing the copper foil laminate after the exposure step; And a complete drying step of completely drying the photosensitive coverlay film on the copper foil laminate after removal to remove volatile substances, and completely bonding the photosensitive coverlay film. Characterized in that consisting of.
인쇄회로기판, 제조방법, 감광성, 커버레이, 필름Printed Circuit Board, Manufacturing Method, Photosensitive, Coverlay, Film
Description
도 1 및 도 2는 종래 기술에 따라 인쇄회로기판을 형성하는 방법을 설명하기 위한 공정블록도,1 and 2 is a process block diagram illustrating a method of forming a printed circuit board according to the prior art;
도 3 은 본 발명에 따라 인쇄회로기판을 형성하는 방법을 설명하기 위한 공정블록도,3 is a process block diagram for explaining a method of forming a printed circuit board according to the present invention;
도 4는 본 발명에 따른 인쇄회로기판을 형성시키기 위한 기기를 도시한 도면이다.4 shows a device for forming a printed circuit board according to the present invention.
본 발명은 인쇄회로기판 형성방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는 회로패턴이 형성된 동박 적층판에 감광성 커버레이 필름을 압착시킨 후, 동박 적층판과 감광성 커버레이 필름 상에 존재하는 기포를 진공-열압착방식으로 제거한 후, 노광방식에 의해 미세한 회로 패턴에 적합한 노출부를 형성하여 미세한 회로패턴을 갖는 회로기판을 제조할 수 있도록 하는 인쇄회로기판 형성방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for forming a printed circuit board. More specifically, after the photosensitive coverlay film is pressed onto the copper foil laminated plate on which the circuit pattern is formed, bubbles existing on the copper foil laminated plate and the photosensitive coverlay film are removed by vacuum-thermocompression method, and then, the exposure method is applied to the fine circuit pattern. The present invention relates to a printed circuit board forming method for forming a suitable exposed portion to produce a circuit board having a fine circuit pattern.
< 종래의 공법 1 ><
첨부 도면 도 1에 도시된 바와 같이 회로기판의 원자재인 동박 적층판(CCL)을 투입(B101)한 후, 상기 동박 적층판 상부에 감광성 드라이필름(Dry Film)을 밀착시킨 후 소정의 열과 압력을 가하여 압착시키고(B102), 패턴필름(Pattern film)을 얼라인먼트(B103)시킨 후 자외선에 의한 노광으로 빛을 입사 받아 굳어진 부분은 남기고 나머지 부분의 드라이필름을 제거하는 노광공정(B104) 및 현상공정(B105)을 수행한 후 상기 노광공정(B104) 및 현상공정(B105)을 거쳐서 드라이필름이 제거된 불필요한 동박 영역을 화학약품으로 부식시킨 다음 나머지 영역의 드라이필름을 제거하는 부식공정(B106) 및 박리공정(B107)을 순차적으로 수행시켜 회로를 형성한다. 상기 각 공정이 마무리 되면 도 1에 도시된 회로형성 과정이 완료된다.As shown in FIG. 1, after the copper foil laminate (CCL), which is a raw material of the circuit board, is introduced (B101), the photosensitive dry film is adhered to the copper foil laminate and then pressed by applying a predetermined heat and pressure. Exposure step (B104) and developing step (B105), after which the pattern film is aligned (B103), and then the light is incident upon exposure to ultraviolet rays to remove the remaining dry film while leaving the hardened part. After performing the exposure step (B104) and the developing step (B105) after performing the corrosion process (B106) and the peeling process (C106) to corrode the unnecessary copper foil region from which the dry film has been removed with a chemical and then remove the dry film of the remaining region ( B107) is performed sequentially to form a circuit. After each process is completed, the circuit forming process shown in FIG. 1 is completed.
그리고, 상기와 같은 공정을 거쳐 회로가 형성된 동박 적층판 상부에 오픈(Open) 부위가 미리 형성되어 있는 폴리이미드 재 커버레이 필름을 가접합시키는 공정(B108)을 수행하고, 상기 동박 적층판 상부에 가접합된 폴리이미드 재 커버레이 필름을 향해 압력과 열을 가하여 압착시키는 공정(B109)을 수행한다.Then, a step (B108) of preliminarily bonding the polyimide back coverlay film in which an open portion is previously formed on the copper foil laminated plate on which the circuit is formed through the above process is performed, and the temporary bonding is performed on the copper foil laminated plate. Pressure and heat are applied to the polyimide ash coverlay film to be compressed to perform compression (B109).
이때, 상기 가접합 공정(B108)을 수행할 때 상기 폴리이미드 재 커버레이 필름에 형성된 오픈 부위와 동박 적층판의 노출부위가 서로 잘 얼라인먼트 되도록 맞추어 주어야 한다. 상기 각 공정이 마무리 되면 도 1에 도시된 보호절연처리 과정이 완료되는 것이다. At this time, when performing the temporary bonding process (B108), the open portion formed on the polyimide coverlay film and the exposed portion of the copper foil laminate should be aligned to be well aligned with each other. After each process is completed, the protective insulation process shown in FIG. 1 is completed.
그리고, 열압착 공정(B109)을 거쳐 그 상부에 폴리이미드재 커버레이 필름이 압착된 동박 적층판의 회로노출부에는 부품접속 및 결속, 장착을 위해 도금 공정(110)을 수행하여 도금층을 형성시킨 후, 경우에 따라 보강판 접착이나 부품 실장 등의 선택적 공정(B111)을 수행하고, 원하는 영역만 절단해내는 외형타발공정(B112)이 수행된다. 상기 각 공정이 마무리 되면 도 1에 도시된 후처리 과정이 완료된다. In addition, the circuit exposed portion of the copper-clad laminate in which the polyimide coverlay film is pressed to the upper portion through the thermocompression bonding process (B109) is subjected to the plating process 110 for connection, binding, and mounting of parts to form a plating layer. In some cases, an optional punching step (B111), such as reinforcing plate bonding or component mounting, is performed, and an external punching step (B112) of cutting only a desired area is performed. After each process is completed, the post-treatment process shown in FIG. 1 is completed.
이때 상기 커버레이 필름 가접합 공정과 압착공정이 보호절연층을 형성시키는 보호절연처리과정을 구성하는 세부공정이다.In this case, the coverlay film provisional bonding process and the pressing process are detailed processes constituting a protective insulating process for forming a protective insulating layer.
< 종래의 공법 2 ><Conventional method 2>
첨부 도면 도 2에 도시된 바와 같이, 회로기판의 원자재인 동박 적층판(CCL)을 투입(B201)한 후, 상기 동박 적층판 상부에 감광성 드라이필름(Dry Film)을 밀착시킨 후 소정 압력을 가하여 압착시키고(B202), 패턴필름(Pattern film)을 얼라인먼트(B203)시킨 후 자외선에 의한 노광으로 빛을 입사 받아 굳어진 부분은 남기고 나머지 부분의 드라이필름을 제거하는 노광공정(B204) 및 현상공정(B205)을 수행한 후 상기 노광공정(B204) 및 현상공정(B205)을 거쳐서 드라이필름이 제거된 불필요한 동박 영역을 화학약품으로 부식시킨 다음 나머지 영역의 드라이필름을 제거하는 부식공정(B206) 및 박리공정(B207)을 순차적으로 수행시켜 회로를 형성한다. 상기 각 공정이 마무리 되면 도 2에 도시된 회로형성과정이 완료된다. As shown in FIG. 2, after the copper clad laminate (CCL), which is a raw material of the circuit board, is charged (B201), the photosensitive dry film is adhered to the copper foil laminate and then pressed by applying a predetermined pressure. (B202) and after the alignment film (B203) to align the pattern film (B203), the exposure process (B204) and the developing process (B205) to remove the remaining dry film while leaving the hardened part left by the incident light by exposure to ultraviolet rays After performing the exposure step (B204) and the developing step (B205), the unnecessary copper foil region from which the dry film has been removed is corroded with a chemical, and then the corrosion process (B206) and the peeling process (B207) are removed. ) Are performed sequentially to form a circuit. After each process is completed, the circuit forming process shown in FIG. 2 is completed.
그리고, 상기와 같은 공정을 거쳐 회로가 형성된 동박 적층판 상부에 폴리이미드와 에폭시수지가 포함된 감광성 액상재료를 인쇄기로 도포하는 감광액 인쇄공정(B208)을 수행한 후, 상기 감광액이 도포된 동박 적층판을 상온이상 100℃미만의 온도에서 1차 건조시켜 노광과 현상시 효과를 극대화 하는 예비건조공정(B209)을 수행한다. 상기와 같은 예비건조공정(B209)을 거친 동박 적층판 상부에 오픈(Open) 부위가 미리 형성되어 있는 필름을 얼라인먼트(B210)시킨 후 자외선을 주사하여 동박 적층판의 접점부 등만을 노출시키는 노광 및 현상공정(B211)(B212)을 수행한다. 상기와 같이 노광 및 현상공정(B211)(B212)을 수행하여 노광 및 현상된 감광액층의 완전성형 및 접착력을 향상시키기 위해 120∼155℃의 온도로 30∼80분 정도 건조시키는 본건조 공정(B213)을 수행한다. 상기 각 공정이 마무리 되면 도 2에 도시된 보호절연처리 과정이 완료된다.Then, after performing the photosensitive liquid printing step (B208) of applying a photosensitive liquid material containing polyimide and epoxy resin to the upper portion of the copper foil laminated plate circuit formed through the above process with a printing machine, the copper foil laminated plate coated with the photosensitive liquid Perform a preliminary drying process (B209) to maximize the effects of exposure and development by first drying at a temperature of less than 100 ℃ above room temperature. The exposure and development process of exposing only the contact portion of the copper foil laminated plate by scanning ultraviolet rays after aligning the film in which the open part is previously formed on the copper foil laminated plate through the preliminary drying step (B209) (B210). Performs (B211) (B212). Main drying step (B213) which is dried at a temperature of 120 to 155 ° C. for 30 to 80 minutes in order to improve the complete molding and adhesion of the exposed and developed photosensitive liquid layer by performing the exposure and development steps (B211) and (B212) as described above. ). After each process is completed, the protective insulation process shown in FIG. 2 is completed.
그리고, 본건조 공정(B213)을 거쳐 완전 성형된 동박 적층판의 회로노출부에는 부품접속 및 결속, 장착을 위해 도금공정(B214)을 수행하여 도금층을 형성시킨 후, 경우에 따라 보강판 접착이나 부품 실장 등의 선택적 공정(B215)을 수행하고, 원하는 영역만 절단해내는 외형타발공정(B216)이 수행된다. 상기 각 공정이 마무리 되면 도 2에 도시된 후처리 과정이 완료된다. Then, the circuit exposed portion of the copper foil laminated plate completely formed through the main drying step (B213) is formed by performing a plating step (B214) for connection, binding, and mounting of parts. An optional process (B215) such as mounting is performed, and an external punching process (B216) for cutting only a desired area is performed. After each process is completed, the post-treatment process shown in FIG. 2 is completed.
이때, 상기 감광성 액상 재료 도포공정, 예비건조 공정, 노출부 필름 얼라인먼트 공정, 노광 공정, 현상 공정, 본건조 공정이 보호절연층을 형성시키는 보호절연처리과정을 구성하는 세부 공정이다. At this time, the photosensitive liquid material coating process, preliminary drying process, exposed portion film alignment process, exposure process, development process, the present drying process is a detailed process constituting a protective insulation treatment process for forming a protective insulating layer.
그러나, 종래의 인쇄기판 제조방법은 폴리이미드 커버레이 필름을 동박 적층판에 압착시킬 때 회로 패턴(Pattern)에서 단차진 영역의 주변부에 기포가 흡착되어 있는 문제점이 있다. However, the conventional method of manufacturing a printed board has a problem in that bubbles are adsorbed on the periphery of the stepped region in the circuit pattern when the polyimide coverlay film is pressed onto the copper foil laminate.
또한, 종래의 인쇄기판 제조방법에서와 같이 커버레이 필름을 가접합시킬때 동박패턴과 커버레이 오픈 부위의 얼라인먼트 정도를 유지하지 못하여 미세회로에는 사용이 불가능한 문제점이 있다. In addition, when the coverlay film is temporarily bonded as in the conventional method of manufacturing a printed board, there is a problem in that it cannot maintain the degree of alignment of the copper foil pattern and the coverlay open portion and thus cannot be used in a microcircuit.
또한 커버레이의 오픈부를 형성하는 방식은 금형으로 오픈부를 타발하여 가공하는 방법이므로, 미세가공 및 치수정도에 제한이 따른다는 문제점이 있다. In addition, since the method of forming the open portion of the coverlay is a method of punching and opening the open portion with a mold, there is a problem in that the microprocessing and the dimensional accuracy are limited.
또한, 종래의 인쇄기판 제조방법에서와 같이 감광성 액상재료를 도포한 후 건조하여 가공한 커버레이는 굴곡성이 취약하여, 취급시 미세 크랙이 손쉽게 발생하고, 건조시 용제가 휘발되는 과정에서 표면에 Pin hole 이 형성되고 평탄도가 나쁘므로 미세회로용 공정에 사용하는 것이 불가능한 문제점이 있다.In addition, the coverlay processed by applying a photosensitive liquid material and drying it after applying it as in the conventional method of manufacturing a printed board is weak in flexibility, so that fine cracks are easily generated during handling, and pins are formed on the surface during the volatilization of the solvent during drying. Since holes are formed and flatness is bad, there is a problem that it is impossible to use in the process for the microcircuit.
또한 공정이 복잡하고 작업 조건 설정이 까다로워 신뢰성 유지가 어려운 문제점이 있다. In addition, the process is complicated and difficult to set the operating conditions, there is a problem that is difficult to maintain reliability.
따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 표면처리 재료로서 감광성 커버레이 필름을 이용하고, 상기 감광성 커버레이 필름을 진공 열압착 Laminator 공법을 이용하여 동박 적층판에 압착시켜, 노광, 현상하는 공법을 채택함으로써, 회로 패턴(Pattern)에서 단차진 영역의 주변부에 흡착되어 있는 상태로 남아있는 기포를 완전히 제거시켜 필름의 접착 강도를 향상시키고, 오픈부의 치수정도를 향상시키기 위한 인쇄회로기판 형성방법을 제공하는데 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the problems of the prior art as described above, an object of the present invention is to use a photosensitive coverlay film as a surface treatment material, using the vacuum thermocompression laminator method of the photosensitive coverlay film By adopting a method of exposing and developing the copper foil laminated plate, the bubbles remaining in the state adsorbed to the periphery of the stepped region in the circuit pattern are completely removed to improve the adhesive strength of the film, To provide a printed circuit board forming method for improving the dimensional accuracy.
또한, 본 발명의 목적은 감광성 커버레이 필름을 이용함으로써 오픈부와 오픈부 사이의 간격을 미세하게 가공할 수 있도록 하기 위한 인쇄회로기판 형성방법 을 제공하는데 있다.In addition, an object of the present invention is to provide a printed circuit board forming method for finely processing the gap between the open portion and the open portion by using a photosensitive coverlay film.
또한, 본 발명의 목적은 액상이 아닌 필름소재를 채택함으로써 평탄도를 20 ㎛ 까지 유지할 수 있도록 하기 위한 인쇄회로기판 제조방법을 제공하는데 있다.It is also an object of the present invention to provide a printed circuit board manufacturing method for maintaining the flatness to 20 ㎛ by adopting a film material that is not a liquid.
또한 본 발명의 목적은 액상이 아닌 필름소재를 채택함으로써 인쇄기판의 연성을 높여 크랙을 방지하는 인쇄회로기판 제조방법을 제공하는데 있다. It is also an object of the present invention to provide a printed circuit board manufacturing method for preventing cracks by increasing the ductility of the printed board by adopting a film material that is not a liquid.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 회로기판의 원자재를 투입하고, 상기 원자재에 패턴을 형성시키는 회로형성과정; 상기 패턴이 형성된 기판에 보호절연층을 형성시키는 보호절연처리과정; 상기 보호절연층 위에 전기접속을 위해 개방된 부위에 도금층을 형성시키며, 보강대 접착 및 부품 실장 등의 선택적 공정을 수행한 후, 원하는 영역만 절단하는 후처리과정;을 포함하는 인쇄회로기판 제조방법에 있어서, 상기 보호절연처리과정에서 감광성 커버레이 필름을 사용하는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판 제조방법으로서, 상술한 과제를 해결한다. The present invention for achieving the above object, the circuit forming process for inputting the raw material of the circuit board, forming a pattern on the raw material; A protective insulating process of forming a protective insulating layer on the substrate on which the pattern is formed; Forming a plating layer on an area open for electrical connection on the protective insulating layer, and performing a selective process such as reinforcing rod bonding and component mounting, and then cutting only a desired area; and a printed circuit board manufacturing method comprising: In the method of manufacturing a printed circuit board, a photosensitive coverlay film is used in the protective insulation process.
이때 상기 인쇄회로기판 제조방법의 전 제조공정에서 감광성 커버레이 필름을 사용하여 보호 절연층을 형성시키는 보호절연처리과정이 2회 이상 반복되어 진행될 수도 있다.In this case, the protective insulating process for forming the protective insulating layer using the photosensitive coverlay film may be repeated two or more times in the entire manufacturing process of the printed circuit board manufacturing method.
또한, 본 발명은 회로기판의 원자재를 투입하고, 상기 원자재에 회로 패턴을 형성시키는 회로형성과정; 상기 패턴이 형성된 기판에 보호절연층을 형성시키는 보호절연처리과정; 상기 보호절연층이 형성된 기판 상부면 중 전기 접속을 위해 개방된 부위에 도금층을 형성시키고, 보강대 접착 및 부품 실장 등의 선택적 공정을 수행한 후, 원하는 영역만 절단하는 후처리과정;을 포함하는 인쇄회로기판 제조방법에 있어서, 상기 보호절연처리과정의 세부 공정은, 회로형성과정을 거쳐 회로 패턴이 형성된 동박 적층판에서 산화물과 불순물 및 습기를 제거하는 전처리 공정; 전처리된 상기 동박 적층판 상부에 감광성 커버레이 필름을 압착하는 진공-열압착공정; 상기 감광성 커버레이 필름이 압착된 동박 적층판을 1차 숙성시키는 제 1차 숙성공정; 상기 제 1 차 숙성공정에 의해 숙성된 동박 적층판의 감광성 커버레이 필름 상부에 마스터 필름을 얼라인먼트시킨 후, 노광시키는 얼라인먼트 및 노광공정; 노광 공정 후의 동박 적층판을 2차 숙성시키고, 현상하는 제 2차 숙성 및 현상공정; 및 현상후 상기 동박 적층판 상의 상기 감광성 커버레이 필름을 완전히 건조시켜 휘발성 물질을 제거하고, 상기 감광성 커버레이 필름을 완전히 접착시키는 완전건조 공정; 으로 이루어진 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판 제조방법으로서, 상술한 과제를 해결한다. In addition, the present invention is a circuit forming process for inputting the raw material of the circuit board, forming a circuit pattern on the raw material; A protective insulating process of forming a protective insulating layer on the substrate on which the pattern is formed; A post-treatment process of forming a plating layer on a portion of the upper surface of the substrate on which the protective insulating layer is formed for the electrical connection, and performing a selective process such as adhesion of a reinforcing bar and mounting of a component, and then cutting only a desired area. In the circuit board manufacturing method, the detailed process of the protective insulating treatment process, the pre-treatment process for removing oxides, impurities and moisture in the copper foil laminate having a circuit pattern formed through a circuit forming process; A vacuum-thermocompression step of pressing a photosensitive coverlay film on the pretreated copper foil laminate; A first aging step of primary aging the copper foil laminated sheet to which the photosensitive coverlay film is pressed; An alignment and exposure step of exposing the master film on the photosensitive coverlay film of the copper foil laminated plate aged by the first aging step, and then exposing the master film; A second aging and developing step of secondary aging and developing the copper foil laminate after the exposure step; And a complete drying step of completely drying the photosensitive coverlay film on the copper foil laminate after removal to remove volatile substances, and completely bonding the photosensitive coverlay film. A printed circuit board manufacturing method, comprising the above-mentioned problem, is solved.
이때, 상기 세척공정, 진공-열압착공정, 제 1 숙성공정, 얼라인먼트 및 노광 공정, 제 2 숙성 및 현상 공정, 완전건조 공정이 보호절연층을 형성시키는 보호절연처리과정을 구성하는 세부공정들이다. In this case, the washing process, the vacuum-thermocompression process, the first aging process, the alignment and exposure process, the second aging and developing process, and the complete drying process are detailed processes constituting the protective insulating process for forming the protective insulating layer.
상기 전처리 공정은, 회로 패턴위의 산화물과 불순물 및 습기를 제거하기 위해 5 ㎛ 이하의 두께로 애칭(etching)하는 방법에 의하여 수행된다. The pretreatment process is performed by etching to a thickness of 5 μm or less to remove oxides, impurities, and moisture on the circuit pattern.
또한, 상기 진공-열압착 공정은, 진공압 조건을 60mmHg 이하로 하고, 온도를 160℃이하로 하여 180초 이하의 시간 동안 진행한다. In addition, the vacuum-thermocompression process is carried out for a time of 180 seconds or less with a vacuum pressure condition of 60mmHg or less, and a temperature of 160 ° C or less.
또한, 상기 제 1 숙성공정의 숙성 조건은, 공정 온도가 상온 이상 80℃ 이하 이며, 공정 시간이 최소 5분 이상인 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판 제조방법으로서, 상술한 과제를 해결한다. In addition, the aging conditions of the first aging step is a method for manufacturing a printed circuit board, characterized in that the process temperature is more than
또한, 상기 노광공정의 노광량 조건은, 노광에너지가 80 ~ 600 mJ/cm2 이다. Moreover, exposure energy conditions of the said exposure process are 80-600 mJ / cm <2> in exposure energy.
또한, 상기 제 2 숙성공정의 숙성 조건은, 공정 온도가 상온 이상 80℃ 이하이며, 공정시간이 최소 15분 이상이다. In addition, as for the aging conditions of the said 2nd aging process, process temperature is 80 degreeC or more at normal temperature, and a process time is at least 15 minutes or more.
또한, 상기 현상공정의 현상 조건은, 농도 3% 이하의 탄산나트륨(Sodium carbonate) 또는 탄산칼륨(Potassium carbonate)용액을 노즐 압력을 0.5 ~ 10 kg/cm2으로 하고, 온도조건을 20 ~ 70℃로 조절하고, 공정시간을 20 ~ 200 초로 한다. In addition, the developing conditions of the developing step is a sodium carbonate or potassium carbonate solution having a concentration of 3% or less, the nozzle pressure is 0.5 ~ 10 kg / cm 2 , the temperature conditions are 20 ~ 70 ℃ The process time is adjusted to 20 to 200 seconds.
또한, 상기 완전건조 공정의 공정 조건은, 온도가 100 ~ 200℃이고, 공정시간이 20분에서 100분 동안인 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판 제조방법으로서, 상술한 과제를 해결한다. In addition, the process conditions of the complete drying process is a printed circuit board manufacturing method, characterized in that the temperature is 100 ~ 200 ℃, the process time is 20 to 100 minutes, solving the above problems.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 구체적인 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1 및 도 2는 종래 기술에 따라 인쇄회로기판을 형성하는 방법을 설명하기 위한 공정블록도이고, 도 3 은 본 발명에 따라 인쇄회로기판을 형성하는 방법을 설명하기 위한 공정블록도이다. 1 and 2 are process block diagrams illustrating a method of forming a printed circuit board according to the prior art, and FIG. 3 is a process block diagram illustrating a method of forming a printed circuit board according to the present invention.
<실시예><Example>
첨부 도면 도 3에 도시된 바와 같이, 회로기판의 원자재인 동박 적층판(CCL)을 투입(B301)한 후, 상기 동박 적층판 상부에 감광성 드라이필름(Dry Film)을 밀착시킨 후 소정 압력을 가하여 압착시키고(B302), 패턴필름(Pattern film)을 얼라인먼트(B303)시킨 후 자외선에 의한 노광으로 빛을 입사 받아 굳어진 부분은 남기고 나머지 부분의 드라이필름을 제거하는 제 1 노광공정(B304) 및 제 1 현상공정(B305)을 수행한 후 상기 제 1 노광공정(B304) 및 제 1 현상공정(B305)을 거쳐서 드라이필름이 제거된 불필요한 동박영역을 화학약품으로 부식시킨 다음 나머지 영역의 드라이필름을 제거하는 부식공정(B306) 및 박리공정(B307)을 순차적으로 수행시켜 회로를 형성한다. 상기 각 공정을 완료하여 회로가 형성되면 도 3에 도시되어 있는 회로형성과정이 마무리된다. As shown in FIG. 3, after the copper clad laminate (CCL), which is a raw material of the circuit board, is charged (B301), the photosensitive dry film is adhered to the upper copper foil laminate and then pressed by applying a predetermined pressure. (B302) The first exposure step (B304) and the first development step of removing the remaining part of the dry film after the alignment film (B303) alignment after the alignment (B303) by the exposure to the ultraviolet light, leaving the hardened portion remaining After performing (B305) through the first exposure step (B304) and the first development step (B305) to the corrosion of the unnecessary copper foil area from which the dry film is removed with a chemical and then to remove the dry film of the remaining area (B306) and the peeling process (B307) are performed sequentially to form a circuit. When the circuits are formed by completing the above processes, the circuit forming process shown in FIG. 3 is completed.
그 이후에는 보호절연처리과정이 이어진다. After that, the protective insulation process is followed.
먼저 상기와 같은 공정을 거쳐 회로가 형성된 동박 적층판에서 산화물과 불순물 및 습기를 제거하기 위하여 5 ㎛이하의 두께로 애칭하는 세척공정(B308)을 거친다. 이때 세척 공정 중에 경우에 따라서는 동박 적층판 상에 녹이 발생하는 것을 방지하기 위한 방청처리를 추가하여 수행할 수도 있다. First of all, in order to remove oxides, impurities, and moisture from the copper foil laminate having a circuit formed through the above process, the process is etched to a thickness of 5 μm or less (B308). At this time, in some cases during the washing process may be performed by adding an antirust treatment to prevent rust on the copper foil laminate.
다음으로 전처리된 상기 동박 적층판 상부에 감광성 커버레이 필름을 압착(B309)한 후, 접착층을 1차 숙성시키기 위해서 상온 이상 80℃ 미만 온도에서 최소 5분 이상의 시간 동안 1차 숙성시켜 준다(B310). 이때, 상기 감광성 커버레이 필름은 아크릴(acrylic), 우레탄(urethane), 이미드(imide)를 포함하여 형성되거나 에폭시(epoxy) 성분을 포함하여 형성된다. Next, after pressing the photosensitive coverlay film on the pre-treated copper foil laminated plate (B309), the first aging for at least 5 minutes at room temperature or more than less than 80 ℃ temperature for the first aging of the adhesive layer (B310). In this case, the photosensitive coverlay film may be formed including acrylic, urethane, and imide, or may include an epoxy component.
이때, 상기 감광성 커버레이 필름 진공-열압착공정(B309)에서 감광성 커버레이 필름은 첨부 도면 도 4에 도시된 바와 같은 진공 라미네이터(Laminator)에 의해 회로가 형성된 동박 적층판 표면에 압착된다. 즉, 진공 Laminator는 상하 플래튼(Platen)(50)(60)이 맞물려 진공 챔버를 형성하는 구조를 갖고 있으며, 상기 감광성 커버레이 필름이 부착된 동박 패널이 상기 진공챔버에 도달하면, 상기 챔버내는 진공상태가 된다. 이때, 진공압 조건은 진공압 조건을 60mmHg 이하로 하고, 온도를 160℃로 이하로 조절하고, 공정시간은 180초 이하로 한다. 그리고 상기 상하 플래튼(50)(60)에 상기 진공-열압착 공정 조건에 의한 공정에 의하여 열이 가해지고, 상기 상하 플래튼(50)(60)에 놓인 동박 적층판과 감광성 커버레이 필름 사이에 흡착된 기포들은 활성화 상태가 되어 표면에서 이탈하기 쉬워져, 결국 제거된다. 상기와 같이 표면에 흡착된 기포, 그리고 회로 패턴과 동모재 사이의 단차진 영역에 흡착된 기포가 제거되면 감광성 커버레이 필름이 접착강도가 향상되고, 노광공정(B311) 및 현상공정(B312)이후에 오픈 되는 오픈부의 치수 정도가 향상된다. 한편, 첨부 도면 도 4에서 미 설명된 도면부호 10은 텐션 롤(Tension Roll), 20은 풀링 그리퍼(Pulling gripper), 30은 테이크 업 롤(Take up roll), 40은 어퍼 롤(Upper roll), 70은 보드(Board), 80은 로딩 테이블(Loading table), 90은 테이크 업 롤(Take up roll), 100은 로우어 롤(Lower roll)이다.At this time, in the photosensitive coverlay film vacuum-thermocompression process (B309), the photosensitive coverlay film is pressed onto the surface of the copper foil laminate in which a circuit is formed by a vacuum laminator as shown in FIG. 4. That is, the vacuum laminator has a structure in which upper and
상기와 같이 제 1 숙성공정(B310)을 거친 동박 적층판의 감광성 커버레이 필 름 상부에 패턴필름을 얼라인먼트시킨 후, 노광에너지가 80 ~ 600 mJ/cm2 가 되도록 노광량 조건을 조절하여 노광시키는 노출부 필름 얼라인먼트 및 제 2 노광공정(B311)이 수행되도록 하고, 상온 이상 80℃미만 온도에서 최소 15분 이상의 시간 동안 숙성시키는 제 2 숙성공정(B312)이 수행되도록 한 후, 농도 3% 이하의 탄산나트륨 또는 탄산칼륨 용액을 노즐 압력 0.5 ~ 10kg/cm2으로 조절하고, 온도 20 ~ 70℃에서 20 ~ 200 초 동안 현상시키는 현상공정(B312)이 수행되도록 하여 회로의 노출부위에 해당하는 영역만 오픈되도록 하되, 그 윤곽선이 선명한 오픈부를 형성시킨다. After exposing the pattern film to the upper part of the photosensitive coverlay film of the copper foil laminated plate that has undergone the first aging process (B310) as described above, the exposed portion to adjust the exposure dose conditions so that the exposure energy is 80 ~ 600 mJ / cm 2 After the film alignment and the second exposure process (B311) is carried out, and the second aging process (B312) for aging for at least 15 minutes or more at room temperature or more than 80 ℃ temperature is performed, sodium carbonate having a concentration of 3% or less The potassium carbonate solution is adjusted to a nozzle pressure of 0.5 to 10 kg / cm 2 , and a developing process (B312) is performed for 20 to 200 seconds at a temperature of 20 to 70 ° C. so that only an area corresponding to an exposed part of the circuit is opened. , The contour forms a clear open portion.
그리고 필요에 따라서는 현상공정(B312) 후에 자외선 조사 공정(B313)을 더 수행할 수도 있다. 자외선 조사 공정(B313)은 본 보호절연 처리과정에 있어서 반드시 필요한 공정은 아니지만, 현상공정(B312) 수행 후 노광을 강하게 하여 광중합 반응을 더욱 공고히 하기 위하여 실시할 필요가 있는 경우가 있다. 이때 조사되는 자외선의 세기는 0.5 ~ 5J 사이가 바람직하다. If necessary, the ultraviolet irradiation step B313 may be further performed after the developing step B312. Although the ultraviolet irradiation step (B313) is not a necessary step in the protective insulating treatment step, it may be necessary to carry out in order to further strengthen the photopolymerization reaction by strengthening the exposure after the development step (B312). At this time, the intensity of the ultraviolet light is preferably between 0.5 ~ 5J.
마지막으로 100 ~ 200℃사이의 온도에서 20분 내지 100분 동안 건조시키는 완전건조 공정(B314)이 수행되도록 하여 상기 감광성 커버레이 필름 안의 휘발성 물질이 완전히 제거되도록 한다. 상기 공정을 완료하여 보호절연층 형성이 완료되면 도 3에 도시되어 있는 보호절연처리과정이 마무리된다. 이후에는 후처리 과정이 이어진다. Finally, a complete drying process (B314) for 20 to 100 minutes of drying at a temperature between 100 and 200 ° C. is performed to completely remove volatiles in the photosensitive coverlay film. When the above process is completed to form the protective insulating layer, the protective insulating process shown in FIG. 3 is completed. Subsequent post-processing is followed.
그리고, 상기 완전건조 공정(B314)을 거쳐 완전 성형된 동박 적층판 상부에는 부품접속 및 결속, 장착을 위해 필요한 부위에 금(Au), 니켈(Ni)류 등과 같은 금속류를 이용하여 도금공정(B315)을 수행하여 도금층을 형성시킨 후, 보강대 접착 및 부품실장 등의 선택적 공정(B316)도 수행한 후, 원하는 영역만 절단해내는 외형타발공정(B317)이 수행된다. 상기 외형타발 공정이 완료되면 도 3에 도시되어 있는 후처리 과정이 마무리되어 인쇄회로 기판이 완성된다. In addition, a plating process (B315) using metals such as gold (Au), nickel (Ni), and the like on a portion required for connecting and binding parts and mounting the copper foil laminated plate completely formed through the complete drying process (B314). After forming the plated layer to perform a selective process (B316), such as reinforcing rod bonding and component mounting, and then the appearance punching process (B317) to cut only the desired area is performed. When the external punching process is completed, the post-treatment process shown in Figure 3 is finished to complete the printed circuit board.
따라서, 본 발명은 감광성 커버레이 필름을 진공 Laminator를 이용하여 동박 적층판에 압착시키므로써, 회로 패턴(Pattern)에서 단차진 영역의 주변부에 흡착되어 있는 상태로 남아있는 기포를 완전히 제거시켜 오픈부의 치수정도를 향상시킬 수 있도록 하기 위한 효과를 달성한다.Therefore, in the present invention, the photosensitive coverlay film is pressed onto the copper foil laminate by using a vacuum laminator, thereby completely removing the bubbles remaining in the state adsorbed to the periphery of the stepped region in the circuit pattern, thereby reducing the size of the open portion. To achieve the effect to be able to improve.
또한, 본 발명은 감광성 커버레이 필름을 이용함으로써 오픈부와 오픈부 사이의 간격을 미세하게 가공하여 정교한 회로패턴을 갖는 인쇄회로기판을 제작할 수 있도록 하는 효과를 달성한다.In addition, the present invention achieves the effect of manufacturing a printed circuit board having a fine circuit pattern by finely processing the gap between the open portion and the open portion by using the photosensitive coverlay film.
또한, 본 발명에서는 감광성 커버레이 필름을 이용함으로써 감광성 액상 재료를 도포하는 방법과 달리 모든 영역에서 필름의 두께가 동일하여 평탄도가 매우 높은 효과가 있다. In addition, in the present invention, unlike the method of applying the photosensitive liquid material by using the photosensitive coverlay film, the thickness of the film is the same in all areas, and thus the flatness is very high.
또한, 본 발명에서는 감광성 커버레이 필름을 이용함으로써 인쇄기판 자체가 연성이 매우 뛰어나서 취급시에 크랙이 발생하지 않는 장점이 있다. In addition, in the present invention, the use of the photosensitive coverlay film has the advantage that the printed circuit board itself is very soft and does not generate cracks during handling.
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