KR100599330B1 - Cmp용 고성능 슬러리 및 그를 이용한 기판 연마 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
또한 본 발명은 연마 입자를 준비하는 단계, 상기 연마 입자, 순수 및 음이온계 고분자 화합물을 혼합하는 단계 및 상기 연마 입자 중 입자 크기가 0.79㎛ 이상인 연마 입자가 누적 개수로 5x1010 개/ml 이하가 되도록 하고, 거대 연마 입자의 개수를 슬러리의 고형 하중에 따라 연마 입자의 크기별로 조절하는 단계를 포함하고, 상기 슬러리의 고형 하중을 감소시켜 거대 연마 입자의 개수를 감소시키며, 상기 슬러리의 고형 하중의 감소에 따른 거대 연마 입자 개수의 감소 폭을 입자 크기별로 입자 크기가 클수록 상기 감소 폭이 증가되도록 제어하는 것을 특징으로 하는 슬러리 제조방법을 제공한다. 상기 연마 입자는 세리아일 수 있다.
0.79㎛ 이상 | 0.99㎛ 이상 | 1.99㎛ 이상 | 2.99㎛이상 | |
8~12wt% | 5×108~5×1010 | 1×108~1×1010 | 1×107~1×109 | 1×105~1×107 |
6~8wt% | 5×108~5×1010 | 1×108~1×1010 | 5×106~5×108 | 1×104~1×106 |
4~6wt% | 5×108~5×1010 | 1×108~1×1010 | 1×106~1×108 | 1×103~1×105 |
2~4wt% | 5×108~5×1010 | 5×107~5×109 | 5×105~5×107 | 1×102~1×104 |
0.5~2wt% | 5×108~5×1010 | 5×107~5×109 | 1×105~1×107 | 5×101~5×103 |
0.79㎛ 이상 | 0.99㎛ 이상 | 1.99㎛ 이상 | 2.99㎛이상 | |
8~12wt% | 1×109~1×1010 | 5×108~5×109 | 5×107~5×108 | 5×105~5×106 |
6~8wt% | 1×109~1×1010 | 5×108~5×109 | 1×107~1×108 | 5×104~5×105 |
4~6wt% | 1×109~1×1010 | 5×108~5×109 | 5×106~5×107 | 5×103~5×104 |
2~4wt% | 1×109~1×1010 | 1×108~1×109 | 1×106~1×107 | 5×102~5×103 |
0.5~2wt% | 1×109~1×1010 | 1×108~1×109 | 5×105~5×106 | 1×102~1×103 |
0.79㎛ 이상 | 0.99㎛ 이상 | 1.99㎛ 이상 | 2.99㎛이상 | |
8~12wt% | 2×109~5×109 | 7×108~1×109 | 7×107~1×108 | 7×105~1×106 |
6~8wt% | 2×109~5×109 | 7×108~1×109 | 2×107~5×107 | 7×104~1×105 |
4~6wt% | 2×109~5×109 | 7×108~1×109 | 7×106~1×107 | 7×103~1×104 |
2~4wt% | 2×109~5×109 | 2×108~5×108 | 2×106~5×106 | 7×102~1×103 |
0.5~2wt% | 2×109~5×109 | 2×108~5×108 | 7×105~1×106 | 2×102~5×102 |
고형하중 | 0.79㎛ 이상 | 0.99㎛ 이상 | 1.99㎛ 이상 | 2.99㎛ 이상 | 3.97㎛ 이상 | |
슬러리1 | 10wt% | 1,651,667,302 | 698,422,082 | 15,114,325 | 2,085,587 | 544,858 |
슬러리2 | 5wt% | 1,819,672,612 | 649,084,250 | 1,304,698 | 8,650 | 3,802 |
슬러리3 | 2.5wt% | 1,330,223,565 | 271,543,773 | 142,401 | 2,408 | 25 |
구 분 | 슬러리 보관고형 하중 (wt%) | 산화막연 마속도 (Å/min) | 질화막연마속도 (Å/min) | 산화막:질화막연마율비 (선택비) | WIWNU (%) | 산화막 잔류입자(개수) | 스크래치 (개수) |
슬러리1 | 10 | 2520 | 48 | 52.5 | 1.0 | 382 | 2 |
슬러리2 | 5 | 2617 | 49 | 53.4 | 1.1 | 317 | 0 |
슬러리3 | 2.5 | 2620 | 47 | 55.7 | 1.1 | 259 | 0 |
비교예 (종래기술) | 5 | 2404 | 46 | 52.3 | 1.2 | 430 | 3 |
Claims (16)
- 세리아 연마 입자가 분산된 연마용 슬러리로서, 상기 연마 입자 중 입자 크기가 0.79㎛ 이상인 연마 입자가 누적 개수로 5x1010 개/ml 이하이고, 0.99㎛ 이상인 연마 입자는 누적 입자 개수로 1x1010 개/ml 이하이고, 1.99㎛ 이상인 연마 입자는 누적 입자 개수로 1x109 개/ml 이하이고, 2.99㎛ 이상인 연마 입자는 누적 입자 개수로 1x107 개/ml 이하이고, 거대 연마 입자의 개수는 슬러리의 고형 하중에 따라 연마 입자의 크기별로 조절되고, 상기 고형 하중이 감소되면 거대 연마 입자의 개수가 감소하여 상기 슬러리의 고형 하중의 감소에 따른 거대 연마 입자 개수의 감소 폭은 입자 크기별로 입자 크기가 클수록 상기 감소 폭이 증가하는 것을 특징으로 하는 슬러리.
- 청구항 1에 있어서, 상기 연마 입자는 미세 연마 입자와 큰 연마 입자로 각각 분리된 두개의 피크를 가지는 입자 크기 분포를 가지는 것을 특징으로 하는 슬러리.
- 청구항 1에 있어서, 상기 슬러리의 고형 하중은 8 내지 12wt% 이며, 연마 입자 중에서 연마 입자 크기가 0.99㎛ 이상인 연마 입자는 누적 개수로 1×1010 개/ml 이하의 범위이고, 1.99㎛ 이상인 연마 입자는 누적 개수로 1×109 개/ml 이하의 범위이고, 2.99㎛ 이상인 연마 입자는 누적 개수로 1×107 개/ml 이하의 범위인 것을 특징으로 하는 슬러리.
- 청구항 1에 있어서, 상기 슬러리의 고형 하중은 6 내지 8wt% 이며, 연마 입자 중에서 연마 입자 크기가 0.99㎛ 이상인 연마 입자는 누적 개수로 1×1010 개/ml 이하의 범위이고, 1.99㎛ 이상인 연마 입자는 누적 개수로 5×108 개/ml 이하의 범위이고, 2.99㎛ 이상인 연마 입자는 누적 개수로 1×106 개/ml 이하의 범위인 것을 특징으로 하는 슬러리.
- 청구항 1에 있어서, 상기 슬러리의 고형 하중은 4 내지 6wt% 이며, 연마 입자 중에서 연마 입자 크기가 0.99㎛ 이상인 연마 입자는 누적 개수로 1×1010 개/ml 이하의 범위이고, 1.99㎛ 이상인 연마 입자는 누적 개수로 1×108 개/ml 이하의 범위이고, 2.99㎛ 이상인 연마 입자는 누적 개수로 1×105 개/ml 이하의 범위인 것을 특징으로 하는 슬러리.
- 청구항 1에 있어서, 상기 슬러리의 고형 하중은 2 내지 4wt% 이며, 연마 입자 중에서 연마 입자 크기가 0.99㎛ 이상인 연마 입자는 누적 개수로 5×109 개/ml 이하의 범위이고, 1.99㎛ 이상인 연마 입자는 누적 개수로 5×107 개/ml 이하의 범위이고, 2.99㎛ 이상인 연마 입자는 누적 개수로 1×104 개/ml 이하의 범위인 것을 특징으로 하는 슬러리.
- 청구항 1에 있어서, 상기 슬러리의 고형 하중은 0.5 내지 2wt% 이며, 연마 입자 중에서 연마 입자 크기가 0.99㎛ 이상인 연마 입자는 누적 개수로 5×109 개/ml 이하의 범위이고, 1.99㎛ 이상인 연마 입자는 누적 개수로 1×107 개/ml 이하의 범위이고, 2.99㎛ 이상인 연마 입자는 누적 개수로 5×103 개/ml 이하의 범위인 것을 특징으로 하는 슬러리.
- 청구항 1에 있어서, 상기 세리아는 고상합성법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 슬러리.
- 청구항 1에 있어서, 상기 슬러리는 순수 및 음이온계 고분자 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 슬러리.
- 청구항 9에 있어서, 상기 음이온계 고분자 화합물은 폴리메타크릴산, 암모늄폴리메타크릴레이트, 폴리카르복실네이트, 소디움도데실설페이트, 알킬벤젠술포네이트, 알파올레핀술포네이트, 모노알킬포스페이트 및 패티액시드의 소디움 염, 카르복실-아크릴 폴리머 등으로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 슬러리.
- 연마 입자를 준비하는 단계;상기 연마 입자, 순수 및 음이온계 고분자 화합물을 혼합하는 단계; 및상기 연마 입자 중 입자 크기가 0.79㎛ 이상인 연마 입자가 누적 개수로 5x1010 개/ml 이하가 되도록 하고, 거대 연마 입자의 개수를 슬러리의 고형 하중에 따라 연마 입자의 크기별로 조절하는 단계를 포함하고,상기 슬러리의 고형 하중을 감소시켜 거대 연마 입자의 개수를 감소시키며, 상기 슬러리의 고형 하중의 감소에 따른 거대 연마 입자 개수의 감소 폭을 입자 크기별로 입자 크기가 클수록 상기 감소 폭이 증가되도록 제어하는 것을 특징으로 하는 슬러리 제조방법.
- 청구항 11에 있어서, 상기 연마 입자는 세리아인 것을 특징으로 하는 슬러리 제조방법.
- 삭제
- 삭제
- 청구항 1의 슬러리를 사용하여 소정의 기판을 연마하는 것을 특징으로 하는 기판의 연마방법.
- 청구항 15에 있어서, 상기 소정의 기판은 실리콘 산화물막이 형성된 것을 특징으로 하는 기판의 연마방법.
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