KR100588363B1 - 열처리 장치와 열처리 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (19)
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- 기판에 대해서 섬광을 조사함으로써 해당 기판을 가열하는 열처리 장치에 있어서,복수의 후레쉬 램프를 갖는 광 소스;기판을 유지함과 동시에 해당 기판의 예비가열을 행하는 보조 가열기구를 구비하는 유지 요소;상기 광 소스로부터 섬광을 조사할 때의 기판을 유지하고 있는 상기 유지 요소와 상기 광 소스와 기판을 유지하고 있는 상기 유지 요소의 위치를 조정함으로써 조사거리를 조정하는 조정 요소;상기 광 소스로부터 섬광을 조사한 때의 기판 표면의 조사강도와 조사거리를 서로 대응시킨 상관 테이블을 유지하는 테이블 유지 요소;를 포함하고, 여기에 있어서,상기 조정 요소는 미리 정해진 조사강도에 상당하는 조사거리를 상기 상관 테이블로부터 구하여 기판을 유지하는 상기 유지 요소와 상기 광 소스와 사이의 거리가 구해진 상기 조사거리로 되도록 상기 유지 요소의 위치를 조정하는 열처리 장치.
- 제 3항에 있어서,조사 거리를 위한 보정량의 입력을 수용하는 입력 요소를 더 포함하고,상기 조정 요소는, 상기 기판을 유지하는 유지 요소와 상기 광 소스 사이의 거리가, 상기 상관 테이블로부터 얻어진 상기 조사 거리에 상기 입력 요소로부터 수신된 상기 보정량을 부가함에 의해 얻어진 거리에 도달하도록 상기 유지 요소의 위치를 조정하는 열처리 장치.
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- 기판에 대해서 섬광을 조사함으로써 해당 기판을 가열하는 열처리 장치에 있어서,복수의 후레쉬 램프를 갖는 광 소스;기판을 유지함과 동시에 해당 기판의 예비가열을 행하는 보조 가열기구를 구비하는 유지 요소;상기 광 소스로부터 섬광을 조사할 때의 기판을 유지하고 있는 상기 유지 요소와 상기 광 소스 사이의 조사 거리를 상기 광 소스의 위치를 조정함으로써 조정하는 조정 요소;상기 광 소스로부터 섬광을 조사했을 때의 기판 표면의 조사 강도와 조사 거리를 관련시킨 상관관계 표를 유지하는 표 유지 요소를 포함하고,여기에 있어서,상기 조정 요소는 미리 결정된 조사 강도에 대응하는 조사 거리를 상기 상관관계 표로부터 구하고, 기판을 유지한 상기 유지 요소와 상기 광 소스 사이의 거리가 구해진 상기 조사 거리가 되도록 상기 광 소스의 위치를 조정하는, 열처리 장치.
- 제 6항에 있어서,조사 거리를 위한 보정량의 입력을 수용하는 입력 요소를 더 포함하고,상기 조정 요소는, 상기 기판을 유지하는 유지 요소와 상기 광 소스 사이의 거리가, 상기 상관관계 표로부터 얻어진 상기 조사 거리에, 상기 입력 요소로부터 수신된 상기 보정량을 부가함으로써 얻어진 거리에 도달하도록 상기 광 소스의 위치를 조정하는, 열처리 장치.
- 섬광으로 기판을 조사함으로써 상기 기판을 가열하는 열처리 장치에 있어서,각각이 상기 섬광으로 상기 기판을 조사하는 다수의 섬광 가열 요소들과;상기 기판을 유지하는 유지 요소를 포함하고,상기 기판의 표면과 상기 다수의 섬광 가열 요소들 사이의 거리가 적어도 40mm이고 100mm를 넘지 않도록 설정되는 열처리 장치.
- 제 8항에 있어서,상기 기판을 예열하는 보조-가열 요소를 더 포함하고,상기 다수의 섬광 가열 요소들은 상기 섬광으로 상기 보조-가열 요소에 의해 예열된 상기 기판을 조사하는, 열처리 장치.
- 제 9항에 있어서,상기 유지 요소에 의해 유지된 상기 기판의 표면과 상기 다수의 섬광 가열 요소들 사이의 거리를 조정하는 조정 기구를 더 포함하는 열처리 장치.
- 제 10항에 있어서,상기 조정 기구는 상기 기판을 유지하는 상기 유지 요소의 위치를 조정하는, 열처리 장치.
- 제 10항에 있어서,상기 조정 기구는 상기 다수의 섬광 가열 요소들의 위치들을 조정하는, 열처리 장치.
- 제 9항에 있어서,상기 보조-가열 요소는 상기 기판을 200°C에서 600°C의 온도로 예열하는, 열처리 장치.
- 제 13항에 있어서,상기 다수의 섬광 가열 요소들은 상기 기판을 1000°C에서 1100°C의 온도로 가열하는, 열처리 장치.
- 섬광으로 기판을 조사함으로서 기판을 가열하는 열처리 방법에 있어서,상기 유지 요소로 제공된 보조-가열 기구로 상기 기판을 유지하기 위한 유지 요소에 의해 유지된 상기 기판을 예열하는 단계와;상기 기판을 유지하는 상기 유지 요소와 다수의 섬광 램프들을 가지는 광 소스 사이의 조사 거리를 조정하는 단계와;상기 광 소스로부터 방출되는 상기 섬광으로 상기 유지 요소에 의해 유지된 상기 기판을 조사하는 단계를 포함하는, 열처리 방법.
- 제 15항에 있어서,상기 기판을 유지하는 상기 유지 요소의 위치를 조정하는, 열처리 방법.
- 제 16항에 있어서,상기 광 소스로부터 방출되는 상기 섬광으로 조사된 상기 기판 표면에서의 조사의 강도와 서로 간의 조사 거리에 관련되는 상관관계 표를 기초로 하여 미리 결정된 조사강도에 대응하는 조사 거리를 획득하기 위해 상기 고정 요소의 위치를 조정하는, 열처리 방법.
- 제 15항에 있어서,상기 광 소스의 위치를 조정하는, 열처리 방법.
- 제 18항에 있어서,상기 광 소스로부터 방출되는 상기 섬광으로 조사된 상기 기판 표면상에서의 조사의 강도와 서로 간의 조사 거리에 관련하는 상관관계 표를 기초로 하여 미리 결정된 조사 강도에 대응하는 조사 거리를 획득하기 위해 상기 광 소스의 위치를 조정하는, 열처리 방법.
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