KR100586378B1 - 고진공 챔버에 적합한 타겟 구동 장치 및 이를 이용한박막 증착 설비 - Google Patents

고진공 챔버에 적합한 타겟 구동 장치 및 이를 이용한박막 증착 설비 Download PDF

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Abstract

본 발명은 고진공 챔버에 적합한 타겟 구동 장치 및 이를 이용한 박막 증착 설비에 관한 것으로, 타겟 홀더에 지지된 타겟을 향해 레이저 빔을 조사시켜 기판 홀더에 장착된 기판에 박막을 증착하는 장소를 제공하는 챔버를 포함하는 박막 증착 장치의 타겟 구동 장치에 있어서, 상기 타겟 구동 장치는, 복수개의 타겟 홀더와, 상기 복수개의 타겟 홀더를 지지하는 플레이트를 포함하는 회전부와; 상기 복수개의 타겟 홀더 중 어느 하나를 자전시키는 제1 구동장치와, 상기 플레이트를 회전시켜 상기 복수개의 타겟 홀더를 공전시키는 제2 구동장치와, 상기 플레이트를 승강시키는 제3 구동장치를 포함하는 구동부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 타겟 구동 장치는 실린더와 모터로 이루어지고 진공 챔버 외부에 구동부를 배치시킴으로써 진공 챔버의 내부 환경을 깨뜨리지 않게 된다. 이에 따라, 타겟 구동 장치는 구동시 파티클 발생이 최대한 억제되고, 진공 챔버 내부로 파티클이 유입되지 않게 됨으로써 박막 균일도가 향상되고 수율이 높아진다.

Description

고진공 챔버에 적합한 타겟 구동 장치 및 이를 이용한 박막 증착 설비{TARGET DRIVING DEVICE SUITABLE FOR HIGH VACUUM CHAMBER AND THIN FILM DEPOSITION APPARATUS USING THE SAME}
도 1은 종래 기술에 따른 펄스레이저 증착 설비를 도시한 단면도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 펄스레이저 증착 설비를 도시한 단면도.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 펄스레이저 증착 설비의 타겟 구동 장치를 도시한 사시도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
100; 광원 120; 창
130; 챔버 140; 제1 타겟 홀더
140'; 제2 타겟 홀더 140"; 제3 타겟 홀더
150; 타겟 160; 기판 홀더
170; 타겟 구동 장치 170a; 회전부
170b; 구동부 171; 디스크
172; 베이스 플레이트 173; 실린더축
172; 자전 모터 175; 자전축
176; 공전 모터 177; 공전축
178; 실린더 179; 공전 플레이트
180; 진공 시스템
본 발명은 타겟 구동 장치 및 이를 이용한 박막 증착 설비에 관한 것으로, 보다 상세하게는 고진공 챔버에 적합한 타겟 구동 장치 및 이를 이용한 박막 증착 설비에 관한 것이다.
메모리 소자를 제조하거나 또는 유기전계발광 소자를 제조하는 경우 반도체 웨이퍼나 유기 전계발광 소자용 패널 상에 금속이나 유기물 등을 증착하는 공정이 필수적이라 할 수 있다. 특히, 박막 증착시 양질의 박막을 만드는 것이 무엇보다도 중요하다.
양질의 박막을 증착하는 방법으로서 스퍼터링(Sputtering), 전자빔 증착(E-beam evaporation), 펄스레이저 증착(PLD;Pulsed Laser Deposition)법 등이 알려져 있다. 이중에서 펄스레이저 증착법은 타겟과 동일한 조성을 갖는 박막을 만드는 것이 용이하므로 박막의 특성 조절이 쉽다는 장점을 가지고 있다. 또한, 이 증착법은 증착률이 높고 진공을 깨뜨리지 않고 여러 종류의 박막을 연속적으로 다층화할 수 있는 등의 장점이 많아서 매우 유망한 증착법이라 할 수 있다.
펄스레이저 증착법을 이용하여 소정의 기판상에 박막을 증착하는 장치인 펄스레이저 증착 설비는 광원으로부터 발생된 레이저 빔을 챔버 내부로 입사시키고, 챔버 내부로 입사된 레이저 빔을 타겟으로 조사시켜 플룸(flume)이 형성토록 하게 하여 기판에 박막이 형성되게끔 하는 장치이다.
도 1을 참조하면, 종래의 펄스레이저 증착 설비는 크게 광원(10)과, 타겟 홀더(14)에 의해 지지 고정된 타겟(15) 및 기판(19)이 놓여지는 기판 홀더(16)가 마련된 챔버(13)로 이루어진다. 이 챔버(13)는 진공 시스템(18)에 의해 진공 환경이 만들어지고, 광원(10)으로부터 나오는 레이저 빔이 통과하기 위한 창(12)이 구비된다. 일단 광원(10)으로부터 발생된 레이저 빔은 창(12)을 통해 챔버(13) 내부로 입사된다. 챔버(13) 내부로 입사된 레이저 빔은 타겟(15)으로부터 플룸(flume)을 발생시켜 기판(19) 상에 박막이 형성되게끔 한다.
종래의 펄스레이저 증착 설비에 있어서, 광원(10)으로부터 발생되는 레이저 빔은 타겟(15)을 향해 비스듬하게 조사된다. 레이저 빔의 경로차가 발생하고 이 경로차는 레이저 빔의 세기에 차이가 있을 수 있다. 이는 기판(19) 상에 증착되는 박막의 질에 영향을 줄 수 있으므로 타겟 홀더(14)가 회전하게 되면 균일한 박막을 얻을 수 있다. 따라서, 타겟 홀더(14)는 기어와 모터로 이루어진 구동장치(17)에 의해 회전 운동을 하게 된다.
그런데, 구동장치(17)는 챔버(13) 내에 장착되어 있으므로 구동장치(17) 구동시 기어의 동작에 의해 챔버(13) 내에 파티클이 발생할 수 있다. 특히, 양호한 품질을 갖는 박막을 기판에 증착하기 위해 챔버(13) 내부는 약 10-7 Torr 정도의 고진공을 유지하여야 한다. 그런데, 상술한 바와 같은 구동장치(17)에서 발생하는 파 티클은 증착 공정에 악영향을 끼치게 되어, 수율이 떨어지고 생산량이 감소하는 문제점이 있었다.
이에 본 발명은 상기한 종래 기술상의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 진공 챔버 내부의 파티클 발생 문제를 해소할 수 있는 타겟 구동 장치 및 이를 이용한 박막 증착 설비를 제공함에 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 타겟 구동 장치는 실린더와 모터로 이루어지고 진공 챔버 외부에 구동부를 배치시킴으로써 진공 챔버의 내부 환경을 깨뜨리지 않는 것을 특징으로 한다.
상기 특징을 구현할 수 있는 본 발명의 일 실시예에 따른 타겟 구동 장치는, 복수개의 타겟 홀더와, 상기 복수개의 타겟 홀더를 지지하는 플레이트를 포함하는 회전부와; 상기 복수개의 타겟 홀더 중 어느 하나를 자전시키는 제1 구동장치와, 상기 플레이트를 회전시켜 상기 복수개의 타겟 홀더를 공전시키는 제2 구동장치와, 상기 플레이트를 승강시키는 제3 구동장치를 포함하는 구동부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 타겟 구동 장치에 있어서, 상기 회전부는 상기 챔버 내부에 배치되고, 상기 구동부는 상기 챔버 외부에 배치된다. 상기 제1 구동장치는 상기 복수개의 타겟 홀더 중 어느 하나에 회전력을 전달하는 제1 구동축을 포함하고, 상기 제2 구동장치는 상기 플레이트에 회전력을 전달하는 제2 구동축을 포함한다. 상기 제1 구동축은 상기 복수개의 타겟 홀더 중 어느 하나에 회전력을 전달하는 구동축 디스크를 포함하고, 상기 복수개의 타겟 홀더 각각은 상기 제1 구동장치의 회전력을 전달받는 타겟 홀더 디스크를 포함하며, 상기 구동축 디스크와 상기 타겟 홀더 디스크가 서로 마찰하면서 상기 제1 구동장치의 회전력이 상기 타겟 홀더에 전달된다. 상기 제1 구동장치와 상기 제2 구동장치 중 적어도 하나는 모터를 포함하며, 상기 제3 구동장치는 실린더를 포함한다.
상기 특징을 구현할 수 있는 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 증착 설비는, 소정의 박막이 형성될 영역을 제공하는 기판이 놓여지는 기판 홀더와; 상기 기판 홀더에 놓여지는 기판에 형성될 박막의 재료가 되는 타겟과; 상기 타겟 홀더를 회전시키는 회전부와 구동부로 이루어진 타겟 구동 장치와; 상기 타겟 구동 장치의 회전부와 상기 기판 홀더를 수용하는 챔버와; 상기 챔버 내부에 진공 환경을 제공하는 진공 시스템과; 상기 타겟을 향해 레이저 빔을 방출하는 광원을 포함하고, 상기 타겟 구동 장치의 회전부는 상기 타겟을 지지하는 복수개의 타겟 홀더와 상기 복수개의 타겟 홀더를 지지하는 공전 플레이트를 가지며, 상기 타겟 구동 장치의 구동부는 상기 복수개의 타겟 홀더 중 어느 하나를 자전시키는 자전 모터와 상기 플레이트를 회전시켜 상기 복수개의 타겟 홀더를 공전시키는 공전 모터와 상기 플레이트를 승강시키는 실린더를 갖는 구동부를 갖는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 박막 증착 설비에 있어서, 상기 자전 모터는 상기 복수개의 타겟 홀더 중 어느 하나에 회전력을 전달하는 자전축과, 상기 자전축에 연결되어 상기 복수개의 타겟 홀더중 어느 하나에 회전력을 전달하는 자전축 디스크를 포함하고, 상기 공전 모터는 상기 공전 플레이트에 회전력을 전달하는 공전축을 포함하고, 상기 복수개의 타겟 홀더 각각은 상기 자전 모터의 회전력을 전달받는 타겟 홀더 디스크를 포함한다.
본 발명에 의하면, 타겟 구동 장치는 실린더와 모터로 이루어지고 진공 챔버 외부에 구동부를 배치시킴으로써 진공 챔버의 내부 환경을 깨뜨리지 않게 된다. 이에 따라, 타겟 구동 장치는 구동시 파티클 발생이 최대한 억제되고, 진공 챔버 내부로 파티클이 유입되지 않게 됨으로써 박막 균일도가 향상되고 수율이 높아지게 된다.
이하, 본 발명에 따른 고진공 챔버에 적합한 타겟 구동 장치 및 이를 이용한 박막 증착 설비를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
종래 기술과 비교한 본 발명의 이점은 첨부된 도면을 참조한 상세한 설명과 특허청구범위를 통하여 명백하게 될 것이다. 특히, 본 발명은 특허청구범위에서 잘 지적되고 명백하게 청구된다. 그러나, 본 발명은 첨부된 도면과 관련해서 다음의 상세한 설명을 참조함으로써 가장 잘 이해될 수 있다. 도면에 있어서 동일한 참조부호는 다양한 도면을 통해서 동일한 구성요소를 나타낸다.
(실시예)
도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 박막 증착 설비는, 챔버(130)와, 챔버(130) 내에 설치되어 박막의 재료로 이루어진 타겟(150)를 지지하고 고정시키는 타겟 홀더(140)와, 소정의 박막이 형성될 영역을 제공하는 기판(190)이 놓여지는 기판 홀더(160)와, 타겟(150)을 향해 레이저 빔을 조사하는 광원(100)과, 챔버(130) 내부를 진공 환경으로 만들어주는 진공 시스템(180)을 포함하여 구성된다.
챔버(130) 내부 상부에는 소정의 박막이 형성될 영역을 제공하는 메모리 소자용 실리콘 웨이퍼나 유기전계발광 소자용 패널 등으로 이용되는 기판(190)이 놓여지는 기판 홀더(160)가 마련된다. 또한, 챔버(130) 내에는 기판 홀더(160)에 놓여지는 기판(190)을 향해 박막의 재료가 되는 물질로 이루어진 타겟(150)이 기판 홀더(160)와 대면하는 위치에 마련된다. 챔버(130)의 어느 일부분에는 챔버(130) 내부를 진공 환경으로 조성하기 위한 펌프 등을 포함하는 진공 시스템(180)이 구비된다.
광원(100)은 타겟(150)을 조사하여 플룸(flume)을 발생시키는 레이저 빔(laser beam)을 발생시키는 장치로서, 가령, 엑시머 레이저가 사용될 수 있다. 이 엑시머 레이저는 특정 가스(예;KrF)를 사용하여 펄스(pulse)당 특정 범위의 에너지를 갖는 레이저 빔을 발생시킨다. 광원(100)에서 발생된 레이저 빔은 챔버(130) 내부로 입사되는데, 레이저 빔의 챔버(130) 내부로의 입사를 위해 챔버(130)에는 창(120)이 마련된다.
챔버(130) 내부로 입사되는 레이저 빔은 타겟(150)으로 조사되어 플룸(flume)이 형성되도록 한다. 타겟(150)은 기판(190) 상에 증착될 박막의 소스로서 유기물이나 금속 등으로 이루어질 수 있다. 이러한 타겟(150)은 비스듬한 각도로 광원(100)으로부터 나오는 레이저 빔을 조사받는다. 비스듬한 레이저 빔으로부터 기판(190) 상에 균일한 박막을 증착시키기 위해 타겟(150)은 회전되는데, 타겟(150)의 회전은 타겟 구동 장치(170)에 의해 실현된다.
여기서, 타겟 구동 장치(170)는 챔버(130) 내부에 배치되어 실제로 타겟(150)을 지지하는 타겟 홀더(140)를 포함하는 회전부(170a)와, 챔버(130) 외부에 배치되어 타겟 홀더(140)를 회전시키는 구동부(170b)로 구분된다. 도 2에는 편의상 후술하는 제2 및 제3 타겟 홀더(140',140")와 공전 플레이트(179) 등의 도시를 생략하였다.
도 3을 참조하면, 타겟 구동 장치(170)의 회전부(170a)는 적어도 하나 이상, 예를 들어, 3개의 타겟 홀더(140,140',140")와, 3개의 타겟 홀더(140,140',140")를 지지하는 공전 플레이트(179)와, 공전 플레이트(179)를 회전시키는 공전축(177)과 3개의 타겟 홀더(140,140',140") 중에서 임의의 타겟 홀더(140;이하, 제1 타겟 홀더)를 회전시키는 자전축(175)이 관통하는 베이스 플레이트(172)를 포함한다.
타겟 구동 장치(170)의 구동부(170b)는 공전 플레이트(179)를 회전시키는 공전 모터(176)와, 공전 플레이트(179)를 승강시키는 실린더(178)와, 타겟 홀더(140,140',140") 중 제1 타겟 홀더(140)를 회전시키는 자전 모터(174)를 포함한다.
타겟 구동 장치(170)의 구동부(170b)는 회전부(170a)에 구동력을 전달하는데, 이의 전달은 공전축(177)과 자전축(175)에 의해 달성된다. 구동부(170b)는 회전부(170a)와 달리 챔버(130) 외부에 배치된다. 따라서, 구동부(170b)에서 혹시 발생할 수도 있는 파티클이 챔버(130) 내부로 유입되는 것이 억제된다.
자전축(175)은 제1 타겟 홀더(140)에 자전 모터(174)의 회전력을 전달하는데, 이 회전력은 자전축(175)에 연결된 디스크(171)와 제1 타겟 홀더(140)에 연결된 디스크(142)가 서로 접촉함으로써 전달된다. 따라서, 제1 타겟 홀더(140)는 자 전 모터(174)의 회전력을 자전축(175)으로부터 전달받아 가령 A 방향으로 회전(이하, 자전)한다.
공전축(177)은 공전 플레이트(172)에 공전 모터(176)의 회전력을 전달하여, 3개의 타겟 홀더(140,140',140")를 가령 B 방향으로 회전(이하, 공전)시킨다. 그럼으로써, 3개의 타겟 홀더(140,140',140") 중 어느 하나의 타겟 홀더(140': 이하, 제2 타겟 홀더)는 공전전의 제1 타겟 홀더(140) 위치에 오게 되고, 다른 하나의 타겟 홀더(140"; 이하,제3 타겟 홀더)는 공전전의 제2 타겟 홀더(140') 위치에 오게 되고, 제1 타겟 홀더(140)는 공전전의 제3 타겟 홀더(140")의 위치에 오게 된다.
또한, 공전축(177)은 실린더(178)의 구동에 의해 위아래 방향(C)으로 이동된다. 이 경우, 공전축(177)은 실린더(178)의 구동력을 실린더축(173)으로부터 전달받는다. 따라서, 실린더(178)가 동작하여 실린더축(173)을 상승시키고, 이에 따라 공전 모터(176)도 상승되어 결과적으로 공전축(177)이 공전 플레이트(179)를 들어올리게 된다.
공전 플레이트(172)를 회전시키는 경우 먼저 실린더(178)를 구동시켜 공전 플레이트(179)를 위로 들어올린다. 그런다음, 3개의 타겟 홀더(140,140',140")를 B와 같이 공전시킨 후 실린더(178)를 구동시켜 공전 플레이트(179)를 아래로 내려오게 한다.
이상과 같이 구성된 타겟 구동 장치 및 이를 포함하는 박막 증착 장치는 다음과 같이 동작한다.
도 2 및 도 3을 다시 참조하면, 광원(100)으로부터 펄스당 특정 에너지를 갖 는 레이저 빔이 발생되고, 발생된 레이저 빔은 창(120)을 통해 챔버(130) 내부로 들어간다. 이때, 챔버(130) 내부는 고진공 상태, 예를 들어, 약 10-7 Torr 정도의 고진공 상태로 유지될 수 있다.
챔버(130) 내부로 들어간 레이저 빔은 제1 타겟 홀더(140) 상의 타겟(150)을 조사하여 기판(190)을 향하여 플룸(flum)을 발생시켜 기판(190)에 박막이 형성되도록 한다. 이때, 제1 타겟 홀더(140)는 자전 모터(174)의 회전력을 전달받아 A 방향으로 자전하는데, 회전력은 자전축(175)에 연결된 디스크(172)와 제1 타겟 홀더(140)에 연결된 디스크(171)와의 마찰로써 전달된다.
박막 증착 공정이 진행되는 동안, 제1 타겟 홀더(140) 상의 타겟(150)이 소모되면 자전 모터(174)의 동작을 중지시키고 이와 동시에, 또는 그 이후에 실린더(178)의 상승 동작으로 공전축(177)으로 하여금 공전 플레이트(179)를 위로 들어올리게 한다. 그런다음, 공전 모터(177)를 동작시켜 공전 플레이트(179)를 회전시켜 결과적으로 3개의 타겟 홀더(140,140',140")를 B 방향으로 공전시킨다. 즉, 공전 플레이트(179)를 120°정도의 각도로 공전시켜 새로운 타겟(미도시)이 장착된 제2 타겟 홀더(140')를 레이저 빔을 조사받는 위치, 즉 공정전의 제1 타겟 홀더(140)의 위치에 오도록 한다.
일단, 제2 타겟 홀더(140')가 공정 위치, 즉 이전의 제1 타겟 홀더(140) 위치에 오게 되면 실린더(178)의 하강 동작으로 공전축(177)으로 하여금 공전 플레이트(179)를 하강시킨다. 공전 플레이트(179)의 하강에 의해 자전축(175)에 연결된 디스크(171)와 제2 타겟 홀더(140')에 연결된 디스크(142')가 접촉한다. 그러면, 자전 모터(174)의 회전력이 제2 타겟 홀더(140')에 전달되어 제2 타겟 홀더(140')가 자전한다.
이후, 제2 타겟 홀더(140') 상의 타겟(미도시)이 소모되면 상술한 일련의 과정이 되풀이되어 제3 타겟 홀더(140")가 공정 위치에 오게된다.
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내고 설명하는 것에 불과하며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 그리고, 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위 내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 전술한 실시예들은 본 발명을 실시하는데 있어 최선의 상태를 설명하기 위한 것이며, 본 발명과 같은 다른 발명을 이용하는데 당업계에 알려진 다른 상태로의 실시, 그리고 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서, 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 타겟 구동 장치는 실린더와 모터로 이루어지고 진공 챔버 외부에 구동부를 배치시킴으로써 진공 챔버의 내부 환경을 깨뜨리지 않게 된다. 이에 따라, 타겟 구동 장치는 구동시 파티클 발생이 최대한 억제되고, 진공 챔버 내부로 파티클이 유입되지 않게 됨으로써 박막 균일도가 향상되고 수율이 높아지는 효과가 있다.

Claims (7)

  1. 타겟 홀더에 지지된 타겟을 향해 레이저 빔을 조사시켜 기판 홀더에 장착된 기판에 박막을 증착하는 장소를 제공하는 챔버를 포함하는 박막 증착 설비의 타겟 구동 장치에 있어서,
    상기 타겟 구동 장치는,
    복수개의 타겟 홀더와, 상기 복수개의 타겟 홀더를 지지하는 플레이트를 포함하는 회전부와;
    상기 복수개의 타겟 홀더 중 어느 하나를 선택적으로 회전시키는 제1 구동장치와, 상기 복수개의 타겟 홀더 중 상기 제1 구동장치에 의해 회전될 타겟 홀더가 상기 제1 구동장치에 연결되도록 상기 플레이트를 회전시키는 제2 구동장치와, 상기 플레이트를 승강시키는 제3 구동장치를 포함하는 구동부;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 타겟 구동 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 회전부는 상기 챔버 내부에 배치되고, 상기 구동부는 상기 챔버 외부에 배치되는 것을 특징으로 하는 타겟 구동 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 제1 구동장치는 상기 복수개의 타겟 홀더 중 어느 하나에 회전력을 전달하는 제1 구동축을 포함하고, 상기 제2 구동장치는 상기 플레이트에 회전력을 전 달하는 제2 구동축을 포함하는 것을 특징으로 하는 타겟 구동 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제1 구동축은 상기 복수개의 타겟 홀더 중 어느 하나에 회전력을 전달하는 구동축 디스크를 포함하고, 상기 복수개의 타겟 홀더 각각은 상기 제1 구동장치의 회전력을 전달받는 타겟 홀더 디스크를 포함하며,
    상기 구동축 디스크와 상기 타겟 홀더 디스크가 서로 마찰하면서 상기 제1 구동장치의 회전력이 상기 타겟 홀더에 전달되는 것을 특징으로 하는 타겟 구동 장치.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 구동장치와 상기 제2 구동장치 중 적어도 하나는 모터를 포함하며, 상기 제3 구동장치는 실린더를 포함하는 것을 특징으로 하는 타겟 구동 장치.
  6. 소정의 박막이 형성될 영역을 제공하는 기판이 놓여지는 기판 홀더와;
    상기 기판 홀더에 놓여지는 기판에 형성될 박막의 재료가 되는 타겟[과]을 지지하고 고정시키는 타겟 홀더와;
    상기 타겟 홀더를 회전시키는 회전부와 구동부로 이루어진 타겟 구동 장치와;
    상기 타겟 구동 장치의 회전부와 상기 기판 홀더를 수용하는 챔버와;
    상기 챔버 내부에 진공 환경을 제공하는 진공 시스템과;
    상기 타겟을 향해 레이저 빔을 방출하는 광원을 포함하고,
    상기 타겟 구동 장치의 회전부는 상기 타겟을 지지하는 복수개의 타겟 홀더와 상기 복수개의 타겟 홀더를 지지하는 공전 플레이트를 가지며, 상기 타겟 구동 장치의 구동부는 상기 복수개의 타겟 홀더 중 어느 하나를 선택적으로 자전시키는 자전 모터와 상기 플레이트를 회전시켜 상기 자전 모터에 의해 자전될 타겟 홀더가 선택되도록 상기 복수개의 타겟 홀더를 공전시키는 공전 모터와 상기 플레이트를 승강시키는 실린더를 갖는 구동부를 갖는 것을 특징으로 하는 박막 증착 설비.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 자전 모터는 상기 복수개의 타겟 홀더 중 어느 하나에 회전력을 전달하는 자전축과, 상기 자전축에 연결되어 상기 복수개의 타겟 홀더중 어느 하나에 회전력을 전달하는 자전축 디스크를 포함하고,
    상기 공전 모터는 상기 공전 플레이트에 회전력을 전달하는 공전축을 포함하고,
    상기 복수개의 타겟 홀더 각각은 상기 자전 모터의 회전력을 전달받는 타겟 홀더 디스크를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착 설비.
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