KR100583812B1 - 반도체 및 ｌｃｄ 생산공정에서 사용되는 핫 질소공급장치 - Google Patents

반도체 및 ｌｃｄ 생산공정에서 사용되는 핫 질소공급장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 반도체 및 LCD 생산공정에서 사용되는 핫 질소공급장치에 관한 것으로 특히, 질소공급기의 몸체 내벽에서 서로 대향되는 면에 수개의 격벽을 가로, 세로, 종/횡방향 중 어느 한방향에 대해 서로 엇갈리도록 지그재그로 설치하여 질소가스의 흐름시간을 지연시켜 히터에 의해 충분히 가열된 후 배관측으로 배출되도록 하되, 상기 히터는 막대형 또는 상기 격벽 사이의 공간부를 경유할 수 있도록 지그재그로 절곡 형성하고, 또 필요에 따라서는 상기 질소공급기의 몸체를 사각 함체형으로 형성하여 배관의 외측에 설치하거나 두개의 반원통체로 형성하여 배관의 외주면을 감싸는 형태에서 착탈 가능하도록 설치하여, 배관 내벽에 파우더 등이 부착되는 것을 효과적으로 방지할 수 있음은 물론 이미 부착된 고화물에 파우더가 재차 증착되는 것을 방지할 수 있으며, 배관 내 적체 및 점착이 심한 부위가 막히거나 그로 인해 작동 불량이 발생되는 경우를 현저하게 줄일 수 있고, 또한 청소주기를 연장시킬 수 있음은 물론 유지 및 보수기간을 늘릴 수 있어 생산량 증가와 생산원가의 절감을 가져올 수 있도록 한 것이다.
반도체, LCD, 핫질소가스 배출배관, 파우더 증착방지, 점착성 고형물,

Description

반도체 및 ＬＣＤ 생산공정에서 사용되는 핫 질소공급장치{Device of Supplying Hot Nitrogen Used in Processing of Semiconductor and Liquid Crystal Display}
도 1은 본 발명 장치의 일 실시예에 따른 일부 절취 사시도.
도 2는 본 발명 장치의 다른 실시예에 따른 사시도.
도 3은 도 2의 분해 사시도.
도 4a-4c는 본 발명 장치의 일 실시예에 따른 히터 및 격벽의 설치상태 예시 단면도로서,
도 4a는 격벽을 종방향으로 설치한 상태에서 막대형 히터를 설치한 상태의 종단면도이고, 도 4b는 격벽을 종방향으로 설치한 상태에서 지그재그형 히터를 설치한 상태의 종단면도이며, 도 4c는 격벽을 횡방향으로 설치한 상태에서 지그재그형 히터를 설치한 상태의 횡단면도이다.
도 5a,5b는 본 발명 장치의 다른 실시예에 따른 히터 및 격벽의 설치상태 예시 사시도.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
1 : 질소공급기 2 : 질소공급용 배관
3 : 전력공급장치 4 : 히터
5 : 온도센서 6 : 방열 케이스
11 : 몸체 12 : 격벽
13 : 투입구 14 : 배출구
21 : 메인 관체 22 : 분사공
23 : 외벽 61 : 힌지
62 : 클램프
본 발명은 반도체 및 LCD 생산공정에서 사용되는 핫 질소 공급장치에 관한 것으로, 더욱 상세히는 반도체 및 LCD(Liquid Crystal Display) 웨이퍼 일관 가공 라인(FAB : Fabrication)의 화학기상 증착법인 저온증착(CVD), 식각(ETCH), 확산 (DIFF), 박막(T/F : Thin Film)공정에 사용되어지는 설비에서 여러가지 가스를 사용하여 생산 프로세서를 수행할시 여기에서 배출되는 화학 가스 및 생성물(By products)의 성분 중 온도 변화에 의한 가스의 파우다(Powder) 형태나 액체(Liquid)성 물질들의 2차 반응으로 위험한 물질로 재결합 및 배출 배관이나 밸 브, 펌프 등에 막힘현상 및 동작불량을 막기 위하여 뜨거운 질소(N2)를 배출하여 배관, 밸브 및 펌프 내에 직접 계속적으로 투입하여 생산설비 중단현상을 감소시켜 생산성을 높이고, 폭발 등과 같은 위험성을 제거할 수 있는 핫 질소 공급장치의 질소 가열효과를 대폭 증진시킬 수 있도록 발명한 것이다.
일반적으로 반도체를 제조하는 공정 및 LCD(Liquid Crystal Display) 웨이퍼 일관가공라인(FAB; Fabrication)에서는 프로세스 가스와 클리닝 가스를 포함하는 여러 종류의 가스를 사용하고 있다.
이와 같이 다양한 가스를 사용하여 반도체 또는 LCD의 생산 프로세서를 수행시 복합적인 화학생성물이 배기가스로 배출되는데, 이렇게 배출된 화학생성물 중에는 가스상 물질 뿐만 아니라 파우다(Power)형태나 액체(Liquid)상의 물질들도 포함되어 있다. 예를 들어 프로세스 가스에 포함된 실란(SiH4) 화합물은 배기되는 과정에서 파우더(Powder)화 되는 대표적인 물질이다.
상기와 같은 파우다 형태나 액체상의 물질들은 배출되는 도중 배출배관이나 밸브, 펌프 등의 벽면에 점착되어 고형화됨에 따라 막힘현상 및 동작불량과 같은 문제점을 가져오게 되는데, 이와 같은 문제점을 해결하기 위하여 종래 대부분은 배출배관부의 전체를 히터로 감싸서 배관 내의 온도를 따뜻하게 함에 따라 실란화합물과 같은 물질이 파우더화 또는 액상화되는 것을 방지하는 자켓 히터(Jaket Heater)방식이 가장 보편적으로 사용되고 있다.
그러나, 이와 같은 자켓 히터방식은 전체 배관을 히터로 감싸야하기 때문에 설치비용이 비싸고, 불필요한 전력낭비를 가져와 생산원가를 상승시키게 되며, 히터의 과열로 인하여 화재의 위험성을 내포하고 있을 뿐만 아니라 유지 및 보수에 따른 불편함이 존재해 왔다.
따라서, 본 출원인은 이와 같은 문제점을 해결한 방안으로 "반도체 및 엘씨디 생산 설비용 핫 질소공급장치"를 개발하여 대한민국 실용신안 등록 제273939호로 선등록 받은 바 있는데, 이는 배출배관, 밸브 및 펌프 내에 뜨거운 질소(N2)가스를 계속적으로 투입하여 일부 화학생성물이 파우더 상태나 액상화되는 것을 막고, 배관내 벽면에 부착되는 파우더, 고형물 등을 제거할 수 있도록 하였다.
이러한 핫 질소공급장치는 각종 배출배관이나 밸브 및 펌프 등에 필요한 갯수만큼 설치하여 사용함으로서, 설치 및 운영이 쉽고 간편함은 물론, 소비전력을 대폭 낮출 수 있으며, 유지관리 및 생산원가를 대폭 절감시킬 수 있었다.
그러나, 이와 같은 구성을 갖는 핫 질소공급장치는 단순히 고온의 질소가스를 배관 내부에 주입하기 때문에 일부 화학생성물이 파우더 상태나 액상화되는 것은 효율적으로 방지할 수 있으나, 이미 벽면에 부착된 점착성 고형물의 경우에는 고온의 질소가스와 접촉되는 짧은 구간에서 대해서만 재 증착되는 것을 방지하기 때문에 질소 공급기로부터 멀리 떨어진 배관부에는 고온의 질소가스 도달 효과가 미비하여 장시간 사용하게 되면 질소공기기로부터 멀리 떨어진 배관부부터 파우더들이 점점증착되어 와서 배관부의 막힘현상과 작동불량과 같은 현상이 다시 발생되는 문제점이 있었다.
따라서, 본 출원인은 상기와 같은 문제점을 또 다시 해결하기 위한 방안으로 반도체를 비롯한 LCD의 생산공정에 있어서 배관부의 벽면에 점착성 고화물이 형성되는 것을 방지하기 위해 고온의 질소가스를 주입할 때, 질소공급장치로부터 공급된 고온의 질소가스가 방향성과 회전력을 갖도록 배관부에 주입되어 배관부의 벽면에 부착되는 점착성 고형물을 좀 더 효과적으로 제거할 수 있는 "반도체 및 LCD의 생산공정에 사용되는 질소공급용 배관"을 개발하여 대한민국 실용신안 등록 제331002호로 선등록을 받은 바 있다.
이는, 좌.우 양쪽은 소정의 배관부와 결합되기 위해 개방된 원통형의 몸체가 있고, 상기 몸체의 중앙부에는 외주면을 따라 공간부가 형성되도록 외벽이 장착되며, 상기 외벽 일측에는 별도로 장착된 질소공급기로 부터 공급된 고온의 질소가스가 주입되는 질소 주입부가 형성되고, 상기 질소 주입부를 통하여 주입된 질소가스가 몸체 내부로 분사되기 위한 분사공이 몸체 중앙부의 내주면을 따라 일렬로 배열되며, 상기 분사공들은 표측에서 부터 내측으로 경사각을 갖도록 형성된 구성을 가겼다.
따라서, 상기한 본 출원인의 두 고안을 상호 결합하여 사용할 경우 배관부에 주입되는 질소가스가 방향성과 회전성을 갖아 내벽에 부착되는 파우더 및 고형물에 대한 제거효율을 높일 수 있었는데, 이를 배관 내 적체 및 점착이 심한 부위, 특히 연동밸브 In-Let부, 연동밸브 Out-Let부의 가연 배기부, Scrubber와 연결되는 Fore Line 배관부에 설치할 경우 각 배관부의 막힘현상과 작동불량을 현저하게 줄일 수 있음은 물론 청소주기를 연장시킬 수 있고, 유지 및 보수기간을 늘릴 수 있을 뿐만 아니라 생산량 증가와 생산원가의 절감를 가져올 수 있었다.
그러나, 상기에 있어서 "핫 질소공급장치"가 단순히 관체상에 히터를 설치하여 질소를 가열시키는 구성으로 되어 있어 비록 "질소공급용 배관"의 구조를 개선하였다 할지라도 원하는 량의 질소를 원하는 온도로 가열시켜 질소공급용 배관을 통해 4-5m의 먼 거리의 배관까지 질소가스를 고온으로 공급시킬 수 없어 장기간 사용으로 인해 먼 거리에서부터 질소 공급기까지 점차적으로 증착돼 버린 고형물에 의해 청소주기와, 유지 보수 및 보수기간을 대폭 단축시킬 수 없었음은 물론 고형물로 인해 배관부가 막히거나 작동불량으로 이어지는 문제점을 완벽히 제거할 수는 없었다.
따라서, 본 발명은 이와 같은 종래의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 질소가스를 가열시켜 방향성과 회전력을 갖는 배관으로 공급시켜 주는 질소공급기의 내,외부 구조 및 히터의 형상을 질소가 충분히 그 내부에서 정체되면서 히터에 의해 원하는 온도로 가열이 이루어질 수 있도록 변화시켜 줌은 물론 질소 공급기로부터 멀리 떨어진 배관 내벽까지 고온의 질소가스가 도달할 수 있도록 하였으며, 또한 질소공급기에서 방출되는 열이 질소공급용 배관에 전달될 수 있도록 질소공급기가 질소공급용 배관을 감싸는 형태로 착탈 가능하게 결합시킬 수 있도록 하여, 배관 내벽의 파우더 부착 방지와 가스의 파우더로의 변형 방지 및 배관 내 적체 및 점착이 심한 부위, 특히 연동밸브 In-Let부, 연동밸브 Out-Let부의 가연 배기부, Scrubber와 연결되는 Fore Line배관 등이 막히거나, 작동불량을 현저하게 줄일 수 있고, 또한 청소주기를 연장시킬 수 있고, 유지 및 보수기간을 늘릴 수 있을 뿐만 아니라 생산량 증가와 생산원가의 절감을 가져올 수 있는 반도체 및 LCD 생산공정에서 사용되는 핫 질소 공급장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
상기한 본 발명의 목적은, 소정 형상을 갖는 몸체의 내부에 전원전압의 공급시 발열하는 히터와, 몸체의 내부 온도를 검출하여 전력공급장치로 하여금 히터로 공급되는 전력을 제어하도록 하는 온도센서가 설치된 구성을 갖고 외부로부터 공급되는 질소가스를 원하는 온도로 가열하여 배관으로 주입시켜 주는 질소공급기와; 수개의 질소가스 분사공이 원주면을 따라 외측에서 내측으로 비스듬히 경사지게 천공된 메인 관체의 외측에 질소공급기로부터 유입되는 고온의 질소가스를 포집시켜 상기 분사공으로 유도해 주는 외벽이 감싸는 형태로 설치된 구성을 갖고 반도체 및 LCD 생산공정에 필요한 각종 가스들과 함께 질소가스를 희석하여 배송하는 질소공급용 배관으로 이루어진 반도체 및 LCD 생산공정에서 사용되는 질소공급장치에 있어서, 상기 질소공급기의 몸체 내벽에서 서로 대향되는 면에 수개의 격벽을 가로, 세로, 종/횡방향 중 어느 한 방향에 대해 서로 엇갈리도록 지그재그로 설치하여 질소가스의 흐름시간을 지연시켜 히터에 의해 충분히 가열된 후 배관측으로 배출되도록 하되, 상기 히터는 막대형 또는 상기 격벽 사이의 공간부를 경유할 수 있도록 지그재그로 절곡 형성하고, 또 필요에 따라서는 상기 질소공급기의 몸체를 사각 함체형으로 형성하여 배관의 외측에 설치하거나 두개의 반원통체로 형성하여 배관의 외주면을 감싸는 형태에서 착탈 가능하도록 설치하여 줌으로써 달성할 수 있다.
따라서, 반도체 및 LCD 생산공정에서 사용되는 질소가스를 질소공급기 내부에서 충분히 가열시켜 유입시켜 반도체 가스등과 혼합되어 배관의 내벽을따라 고속회전하면서 방향성을 갖으며 먼 거리까지 고온을 유지하며 이동할 수 있도록 원주면을 따라 외측에서 내측으로 비스듬히 경사지게 천공된 분사공을 통해 질소공급용 배관내로 공급할 수 있고, 또한 필요에 따라서는 질소공급기에서 방출되는 잠열을 질소공급용 배관에 직접 전달하여 배관의 온도를 상승시킬 수 있어, 배관 내벽에 파우더가 부착되는 것을 방지할 수 있음은 물론 가스가 파우더로 변형되는 것을 방지할 수 있어, 배관 내 적체 및 점착이 심한 부위가 막히거나 그로 인해 작동 불량이 발생되는 경우를 현저하게 줄일 수 있고, 또한 청소주기를 연장시킬 수 있음은 물론 유지 및 보수기간을 늘릴 수 있어 생산량 증가와 생산원가의 절감을 가져올 수 있는 것이다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 1은 본 발명 장치의 일 실시예에 따른 일부 절취 사시도를 나타낸 것이고, 도 2는 본 발명 장치의 다른 실시예에 따른 사시도를 나타낸 것이며, 도 3은 도 2의 분해 사시도를 나타낸 것이다.
도 4a-4c는 본 발명 장치의 일 실시예에 따른 히터 및 격벽의 설치상태 예시 단면도로서, 도 4a는 격벽을 종방향으로 설치한 상태에서 막대형 히터를 설치한 상 태의 종단면도이고, 도 4b는 격벽을 종방향으로 설치한 상태에서 지그재그형 히터를 설치한 상태의 종단면도이며, 도 4c는 격벽을 횡방향으로 설치한 상태에서 지그재그형 히터를 설치한 상태의 횡단면도이다.
도 5a,5b는 본 발명 장치의 다른 실시예에 따른 히터 및 격벽의 설치상태 예시 사시도를 나타낸 것이다.
이에 따르면, 본 발명은 몸체(11)의 내부에 전원전압의 공급시 발열하는 히터(4)와, 몸체(11)의 내부 온도를 검출하여 전력공급장치(3)로 하여금 히터(4)로 공급되는 전력을 제어하도록 하는 온도센서(5)가 구비되고 외부로부터 공급되는 질소가스를 원하는 온도로 가열하여 배관(2)으로 주입시켜 주는 질소공급기(1)와,
수개의 질소가스 분사공(22)이 원주면을 따라 외측에서 내측으로 비스듬히 경사지게 뚫어진 메인 관체(21)의 외측에 질소공급기(1)로부터 유입되는 고온의 질소가스를 포집시켜 상기 분사공(22)으로 유도해 주는 외벽(23)이 감싸는 형태로 설치된 구성을 갖고 반도체 및 LCD 생산공정에 필요한 각종 가스들과 함께 질소가스를 희석하여 배송하는 질소공급용 배관(2)으로 이루어진 반도체 및 LCD 생산공정에서 사용되는 질소공급장치에 있어서,
상기 질소공급기(1) 몸체(11)의 서로 대향되는 면에 질소가스의 흐름 경로가 길어지도록 수개의 격벽(12)을 가로, 세로, 종/횡방향 중 어느 한 방향에 대해 서로 엇갈리도록 지그재그로 설치하여 질소가스의 흐름시간을 통해 히터에 의해 질소가 충분히 가열된 후 배관(2)측으로 배출되도록 한 것을 기본적인 특징으로 한다.
이때, 상기 히터(4)는 막대형상을 갖는 것을 설치할 수도 있고, 상기 히터(4) 자체가 격벽(12) 사이의 공간부를 경유할 수 있도록 지그재그로 절곡 형성한 것을 설치할 수도 있는데, 질소가스로의 열 전달에 따른 효율면에서 볼때 후자의 것이 바람직하다.
또한, 상기 질소공급기(1)의 몸체(11)는 도 1과 같이 사각 함체형으로 형성하여 배관(2)과 분리된 외측에 위치한 상태에서 배출구(14)로 배관한 후 리플 등을 이용하여 상호 연결시킬 수도 있고, 도 2 및 도 3과 같이 일측에는 힌지(61)가 설치되고 타측에는 클램프(62)가 설치된 한 쌍의 반원형 방열 케이스(6)를 이용해 반원통형상으로 성형된 몸체(11)의 외부를 감싸지게 설치할 수도 있음을 밝혀둔다.
반원통 형상의 몸체(11)는 배관(2)의 일측 또는 양측에 각각 설치한 형태로 구성하여 배관(2)의 외주면을 감싸지게 한 후 다시 상기 반원형 방열 케이스(6)를 이용해 몸체(11) 외부를 감싸주는 형태로 착탈 가능하도록 설치할 수도 있는데, 설치공간을 줄이거나 질소공급기(1)의 잠열을 배관(2)에 전달하여 질소가스의 가열효과를 증진시킬 수 있는 측면에서 볼 때 후자, 즉 몸체(11)를 반원통 형상으로 하고 다시 상기 반원형 방열 케이스(6)를 이용해 몸체(11) 외부를 감싸주는 형태가 더 바람직하다.
한편, 상기에 있어서 질소공급기(1)의 몸체(11) 일측면 또는 일측면과 타측면에 질소가스의 투입구(13)와 배출구(14)를 동시 또는 나누어 형성시키고, 온도센서(5)는 배출구(14)측에 설치하여 배관(2)으로 공급되는 질소가스의 온도를 정확히 측정할 수 있도록 한다.
이와 같이 구성된 본 발명 장치의 작용효과를 설명하면 다음과 같다.
먼저, 본 발명 장치의 주요 기술 구성은 외부로부터 공급되는 질소가스를 원하는 온도로 가열하여 배관(2)으로 주입시켜 주는 질소공급기(1)의 몸체(11)와 히터(4)의 형상을 변화시켜 질소가스의 가열 효과를 증진시킬 수 있도록 한 것이다.
즉, 상기 질소공급기(1) 몸체(11)의 내측에서 서로 대향되는 면에 수개의 격 벽(12)을 가로, 세로, 종/횡방향 중 어느 한 방향에 대해 서로 엇갈리도록 지그재그로 설치하여 질소가스의 흐름 경로가 길어지도록 하므로써, 질소가스의 흐름시간을 연장시킬 수 있어 히터(4)에서 발생되는 열에 의해 질소가스가 충분히 가열된 후 배관(2)측으로 배출되도록 할 수 있는 것이다.
이때, 상기 히터(4)는 도 4a와 같이 막대형상을 갖는 것을 설치할 수도 있고, 도 4b, 도 4c, 도 5a 및 도 5b와 같이 상기 히터(4) 자체가 격벽(12) 사이에 형성되는 공간부를 경유할 수 있도록 지그재그로 절곡 형성한 것을 설치할 수도 있다.
따라서, 투입구(13)를 통해 질소공급기(1)의 몸체(11)내로 유입된 질소가스가 몸체(11)의 내측에서 서로 대향되는 면에 가로, 세로, 종/횡방향 중 어느 한 방향으로 서로 엇갈리게 설치된 격벽(12)들이 부딪히며 그들 사이에 형성된 공간부들을 지그재그식으로 거쳐 배출구(14)측으로 이동되는 동안 막대형 또는 지그재그식으로 절곡된 히터(4)에 직접 부딛히기도 하고 격벽 사이의 공간부로 전달되는 히터 열에 의해 충분히 가열된다.
그런데, 상기에 있어서 몸체(11)내로 유입된 질소가스가 배출구(14)측으로 이동하는 동안 막대형 히터(4)에 비해 지그재그로 절곡 형성된 히터(4)와 접촉되는 시간 및 면적이 더 길고 많으므로 히터 자체의 형상을 지그재그로 절곡한 것이 질소가스의 가열 효과가 더 좋다.
이와 같이 몸체(11)의 내부에 격벽(12)들을 지그재그식으로 설치하고 이들 사이에 형성된 공간부로 히터(4)를 설치하게 되면, 관체의 내부에 히터를 설치하여 가열시키는 방식의 종래 질소공급기의 체적 보다 크게 줄이면서도 열 효율은 증진시킬 수 있어 설치 공간을 줄일 수도 있다.
한편, 상기 질소공급기(1)의 몸체(11)는 도 1과 같이 사각 함체형으로 형성하여 배출구(14)와 배관(2)의 외벽(23) 사이를 리플 등을 이용하여 상호 연결시킬 수 있고, 또 도 2 및 도 3과 같이 일측에는 힌지(61)가 설치되고 타측에는 클램프(62)가 설치된 한쌍의 반원형 케이스(6)의 일측 또는 양측에 질소공급기(1)를 설치하여 배관(2)의 외주면을 감싸주는 형태로 착탈 가능하도록 설치할 수도 있다.
그런데, 상기에 있어서 질소공급기(1)의 몸체(11)를 사각 함체형상으로 형성한 경우는 필히 질소공급용 배관(2)과 이격시켜 설치해야 하므로 설치공간을 많이 차지할 뿐만 아니라 몸체(11)의 외측으로 발산되는 잠열을 그대로 소실하여 불필요한 전력 낭비는 물론 몸체(11)로부터 배출되어 배관으로 이송되는 경로상에서 열 손실이 발생될 우려가 있다.
그러나, 한쌍의 반원형 방열 케이스(6)의 일측 또는 양측에 질소공급기(1)를 설치하여 배관(2)의 외주면을 감싸주는 형태로 착탈 가능하도록 설치할 경우는 질소공급기 자체가 질소공급용 배관(2)상에 일체로 설치된 형태를 가지므로 설치공간을 크게 줄일 수 있을 뿐만 아니라 몸체(11)의 외측으로 발산되는 열을 배관(2)에 그대로 전달하여 그 내부로 공급되는 가스를 2차로 가열시킬 수 있으므로 전력소모를 줄일 수 있음은 몸체(11)로부터 배출되어 배관으로 이송되는 경로상에서 열 손실을 최소한으로 줄일 수 있어 설치공간 및 질소가스의 가열효과를 증진시킬 수 있 는 측면에서 볼때 후자의 경우가 더욱 바람직하다.
이때, 반원형 몸체(11)를 갖는 질소공급기(1)의 외측에 설치되어 질소공급기(1) 자체가 배관(2)에 고정 설치되도록 하는 방열 케이스(6)는, 질소공급기(1)의 내부열이 외부로 방출되는 것을 방지하여 질소가스가 설정온도를 유지하지 못하는 것을 방지함은 물론 불필요한 전력낭비를 방지하고, 또 인체에 접촉시 화상을 입게 되는 것을 방지함과 동시에 인화물과 접촉시 화제로 이어질 우려 등을 미연에 방지하는 기능도 수행한다.
이때, 상기 방열 케이스(6)의 내부와 질소공급기(1) 사이의 접촉면부에 단열재를 부가 설치하면 더욱 좋은 효과를 얻을 수 있다.
한편, 상기 질소가스 투입구(13)나 배출구(14)는 질소공급기(1)의 몸체(11) 일측면 또는 일측면과 타측면에 동시 또는 나누어 형성시킬 수 있고, 온도센서(5)는 배출구(14)측에 설치하여 배관(2)으로 공급되는 질소가스의 온도를 정확히 측정할 수 있도록 하는 것이 좋다.
이때, 상기 온도센서(5)는 질소공급기(1)내로 공급된 질소가스의 온도를 전기적인 신호로 검출하여 상기 전력공급장치(3)로 하여금 사용자의 설정온도와 비교하여 전력공급 여부를 결정할 수 있도록 하는 것이다.
물론, 상기에 있어서 배관(2)의 메인 관체(21) 원주면 상에는 외측에서 내측으로 비스듬히 경사지게 수개의 분사공(22)들이 천공되어 있으므로 질소공급기(1) 내부에서 충분히 가열된 가스가 소정 압력을 갖고 와류되는 형태로 배관내에 유입되어 배관 내부를 통과하는 화학 생성물의 성분 중 파우다 등의 고착을 효과적으로 방지할 수 있다.
이와 같은 본 발명 장치는 반도체 및 LCD 생산 설비의 배출 배관상에 수군데 설치하거나, 진공펌프 장치의 내부 및 3웨이 밸브상에 설치하게 되면 소정 온도로 가열된 질소가스를 배관(2)내로 지속적으로 공급할 수 있으므로 반도체 및 LCD 생산 프로세서를 수행할 때 배출되는 화학 생성물의 성분 중에 파우더 형태나 액체성물질들의 2차 반응으로 위험한 물질로 재결합 및 배출 배관이나 밸브, 펌프 등에 막힘으로 인한 동작불량을 막을 수 있어 생산설비 중단현상을 감소시킬 수 있으므로 생산성을 높일 수 있음은 물론 폭발 등과 같은 위험성을 제거할 수 있는 것이다.
한편, 상기 질소공급기(1)의 질소가스 투입구(13)를 그대로 둘 경우 배관(2)과 질소공급기(1)의 압력차로 인해 질소 및 다른 가스가 역류될 우려가 있으므로, 상기 투입구(13)상에 체크밸브를 더 구비시키면 이를 방지할 수 있다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 의하면, 질소공급기의 몸체 내벽에서 서로 대향되는 면에 수개의 격벽을 가로, 세로, 종/횡방향 중 어느 한 방향에 대해 서로 엇갈리도록 지그재그로 설치하고, 히터는 막대형 또는 격벽 사이의 공간부를 경유할 수 있도록 지그재그로 절곡 형성하되, 필요에 따라서는 상기 질소공급기의 몸체를 사각 함체형으로 형성하여 배관의 외측에 설치하거나 두개의 반원통체로 형성하여 배관의 외주면을 감싸는 형태에서 착탈 가능하도록 설치하여 줌으로써, 반도체 및 LCD 생산공정에서 사용되는 질소가스를 충분히 가열시켜 질소 공급용 배관내로 가스흐름이 고속 회전성를 갖는 형태로 공급시킬 수 있다.
따라서, 배관 내벽에 파우더 등이 부착되는 것을 효과적으로 방지할 수 있음은 물론 가스가 파우더로 변형되는 것을 방지할 수 있어 배관 내 적체 및 점착이 심한 부위가 막히거나 그로 인해 작동 불량이 발생되는 경우를 현저하게 줄일 수 있다.
그리고, 청소주기를 연장시킬 수 있음은 물론 유지 및 보수기간을 늘릴 수 있어 생산량 증가와 생산원가의 절감을 가져올 수 있는 등 매우 유용한 발명인 것이다.
상기에서 본 발명은 도면에 도시된 예를 참고하여 설명하였으나, 이는 예시적인 것으로서 당해 기술분야에 통상의 지식을 지닌 자라면 이로부터 다양한 변형과 균등한 다른 예가 가능하다는 것을 이해할 것이다.

Claims (6)

  1. 몸체(11)의 내부에 전원전압의 공급시 발열하는 히터(4)와, 몸체(11)의 내부 온도를 검출하여 전력공급장치(3)로 하여금 히터(4)로 공급되는 전력을 제어하도록 하는 온도센서(5)가 구비되고 외부로부터 공급되는 질소가스를 원하는 온도로 가열하여 배관(2)으로 주입시켜 주는 질소공급기(1)와, 수개의 질소가스 분사공(22)이 원주면을 따라 외측에서 내측으로 비스듬히 경사지게 뚫어진 메인 관체(21)의 외측에 질소공급기(1)로부터 유입되는 고온의 질소가스를 포집시켜 상기 분사공(22)으로 유도해 주는 외벽(23)이 감싸는 형태로 설치된 구성을 갖고 반도체 및 LCD 생산공정에 필요한 각종 가스들과 함께 질소가스를 희석하여 배송하는 질소공급용 배관(2)으로 이루어진 반도체 및 LCD 생산공정에서 사용되는 질소공급장치에 있어서,
    상기 질소공급기(1)의 몸체(11) 내에서 서로 대향되는 면에, 질소가스의 흐름 경로가 길어지도록 수개의 격벽(12)을 가로, 세로, 종/횡방향 중 어느 한 방향으로 서로 엇갈리게 지그재그식으로 설치한 것을 특징으로 하는 반도체 및 LCD 생산공정에서 사용되는 핫 질소공급장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 히터(4)는 막대형상을 갖는 것을 특징으로 하는 반도체 및 LCD 생산공정에서 사용되는 핫 질소공급장치.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 히터(4)는 격벽(12) 사이의 공간부를 경유할 수 있도록 지그재그로 절곡 형성한 것을 특징으로 하는 반도체 및 LCD 생산공정에서 사용되는 핫 질소공급장치.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 질소공급기(1)의 몸체(11)는 사각 함체 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 반도체 및 LCD 생산공정에서 사용되는 핫 질소공급장치.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 질소공급기(1)의 몸체(11)는 반원형 함체 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 반도체 및 LCD 생산공정에서 사용되는 핫 질소공급장치.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 질소공급기(1)의 몸체(11)의 외부에는 일측에 힌지(61)가 설치되고 타측에는 클램프(62)가 설치된 한쌍의 반원형 방열 케이스(6)를 착탈 가능하게 설치한 것을 특징으로 하는 반도체 및 LCD 생산공정에서 사용되는 핫 질소공급장치.
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