KR100581960B1 - 레이저 식각 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 레이저 식각에 따른 분산 입자들을 효과적으로 제거해, 미세 패터닝 공정에 적합한 레이저 식각 장치를 제공하는 데 목적이 있다. 이를 위하여, 본 발명은, 피식각체를 향한 면이 개구된 챔버; 상기 챔버에 연결되고, 상기 피식각체를 향해 레이저 빔을 조사하는 빔 조사부; 및 상기 챔버에 연결되고, 상기 챔버 내부를 진공흡입하는 흡입부;를 포함하는 레이저 식각 장치를 제공한다.

Description

레이저 식각 장치{Apparatus for laser ablation}

도 1은 종래의 레이저 식각 장치의 일부분을 도시한 단면도,

도 2는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 레이저 식각 장치를 개략적으로 도시한 도면,

도 3은 도 2의 레이저 식각 장치의 일부분을 도시한 단면도.

<도면의 주요부분에 대한 간단한 설명>

10: 기판 11: 막

30: 챔버 31: 개구

40: 빔 조사부 41: 광학계

42: 광로부 50: 흡입부

51: 흡입관

본 발명은 레이저 식각 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 식각된 입자의 흡입이 용이한 레이저 식각 장치에 관한 것이다.

레이저 식각 장치는 레이저 빔을 조사하여, 유기물, 및 무기물 등으로 이루 어진 막을 식각하는 것으로, 최근에는 각종 전자장치의 패터닝 공정 등에 널리 사용되고 있다.

도 1에는 종래의 레이저 식각 장치를 이용하여 기판(10) 상에 형성된 막(11)을 식각하는 상태를 도시하였다.

별도의 광조사부(미도시)에서 조사된 레이저 빔(L)이 소정의 광로부(21)를 통과해 기판(10) 상의 막(11)에 조사될 때에, 상기 막(11)은 식각되어지고, 이 때, 식각된 막(11)의 입자(P)들이 분산된다.

이렇게 분산된 입자(P)들이 막(11) 상에 안착될 경우, 정밀 패턴이 요구되는 전자장치에서는 불량 요인이 되기도 한다.

따라서, 종래에는, 분산된 입자(P)들을 별도의 흡입기(22)를 이용해 흡입하였다.

그런데, 이러한 흡입기(22)를 이용할 경우, 도 1과 같이, 식각이 이루어지는 부분의 측부에 흡입기(22)를 들이 대고 흡입하여야 하는 데, 이 경우, 분산 입자(P)들이 충분히 흡입되지 못하는 한계가 있다.

따라서, 종래의 경우는 이러한 문제를 해결하기 위하여, 흡입기(22)의 반대측에서 인위적인 공기 흐름(F)을 형성하여 입자(P)들이 흡입기(22)로 빨려들도록 하였다. 그런데, 이 경우에는 공기 흐름(F)에 의해 입자(P)들이 오히려 더 분산될 염려가 있고, 이에 따라 작업 환경을 악화시키는 문제가 되기도 한다.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 레이저 식각에 따른 분산 입자들을 효과적으로 제거해, 미세 패터닝 공정에 적합한 레이저 식각 장치를 제공하는 데 목적이 있다.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은, 피식각체를 향한 면이 개구된 챔버; 상기 챔버에 연결되고, 상기 피식각체를 향해 레이저 빔을 조사하는 빔 조사부; 및 상기 챔버에 연결되고, 상기 챔버 내부를 진공흡입하는 흡입부;를 포함하는 레이저 식각 장치를 제공한다.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다.

도 2에는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 레이저 식각 장치를 개략적으로 도시하였고, 도 3에는 이 레이저 식각 장치의 일 부분의 단면 구조를 도시하였다.

본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 레이저 식각 장치는 피식각체를 향한 면이 개구된 챔버(30)와, 상기 챔버(30)에 연결되고 레이저 빔을 조사하는 빔 조사부(40)와, 상기 챔버(30)에 연결되는 흡입부(50)를 포함한다.

상기 빔 조사부(40)는 레이저 빔을 생성해 조사하는 것으로, 레이저 빔(L)을 소정의 광학계(41)로 조사하고, 광학계(41)를 거친 레이저 빔(L)은 피식각체인 기판(10)으로 조사된다.

기판(10) 상에는 유기물 또는 무기물로 소정의 막(11)이 형성되어 있고, 레 이저 빔(L)은 이 막(11)을 식각하는 데에 사용된다.

이러한 빔 조사부(40)는 기판(10) 상에 위치한 챔버(30)에 연결된다. 더욱 상세히는, 상기 빔 조사부(40)에 광학계(41)가 연결되고, 이 광학계(41)로부터 챔버(30)까지 광경로를 따라 연장된 광로부(42)가 개재되어 있으며, 이 광로부(42)에 챔버(30)가 연결된다.

상기 챔버(30)는 도 3에서 볼 수 있듯이, 기판(10)의 방향으로 확경되어 개구된 개구(31)를 가지고 있는 데, 이 개구(31)는 상기 광로부(42)의 단면적보다 그 면적이 넓게 구비되도록 하는 것이 바람직하다. 이는 공정 중 분산된 입자(P)들을 보다 효과적으로 흡입하도록 하기 위해서이다.

본 발명의 바람직한 일 실시예에 따르면, 상기 챔버(30)는 대략 절두 원추형으로 구비될 수 있고, 그 중앙에 광로부(42)가 연결될 수 있다.

상기 챔버(30)에는 흡입부(50)가 연결되는 데, 흡입부(50)는 별도 흡입관(51)을 통해 챔버(30)에 연결된다. 이 흡입관(51)은 챔버(30)에 적어도 하나 이상 설치되는 데, 상기 광로부(42)가 연결된 부분의 주위로 배설되는 것이 바람직하다. 이는 도 3에서 볼 수 있듯이, 레이저 빔(L)에 의해 식각된 후, 파편들인 분산 입자(P)들을 보다 효율적으로 흡수할 수 있도록 하기 위한 것이다. 상기 흡입부(50)는 소정의 진공도로 입자(P)들을 흡입한다.

한편, 상기 챔버(30)는 그 개구(31)가 피식각체의 표면에 가능한 한 가까이 대도록 하는 것이 바람직한 데, 도 3에서 볼 수 있듯이, 개구(31)의 면과 피식각체와의 거리(T)가 0.5mm 내지 10mm 가 되도록 하는 것이 바람직하다.

이보다 가까울 경우, 자칫 피식각체의 표면에 닿아, 오히려 피식각체의 표면을 훼손시킬 수 있고, 이보다 멀리 떨어져 있을 경우에는, 입자(P) 흡입 시 챔버(30)외측으로 분산되어 버릴 수 있어, 효과를 상실할 수 있다. 그러나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 다양한 변형이 가능함은 물론이다.

상기와 같은 본 발명은 유기 박막 트랜지스터의 유기 반도체의 패터닝 공정에 적용될 경우, 더욱 고도의 정밀도를 얻을 수 있다.

상기한 바와 같이 이루어진 본 발명에 따르면, 레이저 식각 시, 발생되는 피식각체의 파티클들이 피식각체 표면에 다시 떨어지지 않고, 손쉽게 제거할 수 있으며, 이에 따라, 패턴 정밀도, 및 청결한 조업 환경을 이뤄낼 수 있다.

본 발명은 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 하여 설명하였으나 이는 예시적인 것에 불과하며 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 실시예의 변형이 가능하다는 점을 이해할 것이다.

Claims (5)

1. 피식각체를 향한 면이 개구된 챔버;

   상기 챔버에 연결되고, 상기 피식각체를 향해 레이저 빔을 조사하는 빔 조사부; 및

   상기 챔버에 연결되고, 상기 챔버 내부를 진공흡입하는 흡입부;를 포함하는 레이저 식각 장치.
2. 제 1항에 있어서,

   상기 챔버와 빔 조사부의 사이에 상기 레이저 빔의 광경로를 따라 연장된 광로부가 개재되고,

   상기 광로부의 단면적은 상기 챔버의 개구면의 면적보다 작은 것을 특징으로 하는 레이저 식각 장치.
3. 제 2항에 있어서,

   상기 광로부는 상기 챔버의 대략 중앙부에 연결된 것을 특징으로 하는 레이저 식각 장치.
4. 제 3항에 있어서,

   상기 흡입부는 상기 챔버의 상기 광로부가 연결된 부분 주위의 부분에 연결된 것을 특징으로 하는 레이저 식각 장치.
5. 제 1항에 있어서,

   상기 챔버의 개구는 상기 피식각체로부터 0.5mm 내지 10mm 이격된 것을 특징으로 하는 레이저 식각 장치.

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