KR100581856B1 - 다용도 필터를 구비한 플라즈마 디스플레이 패널 - Google Patents

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KR100581856B1
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    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J11/00Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
    • H01J11/20Constructional details
    • H01J11/34Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
    • H01J11/44Optical arrangements or shielding arrangements, e.g. filters, black matrices, light reflecting means or electromagnetic shielding means
    • HELECTRICITY
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    • H01J2211/34Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
    • H01J2211/44Optical arrangements or shielding arrangements, e.g. filters or lenses
    • H01J2211/444Means for improving contrast or colour purity, e.g. black matrix or light shielding means

Abstract

본 발명은 휘도와 콘트라스트를 동시에 만족시키고, 블랙 매트릭스의 기능과 전자파 차폐 필터의 기능 및 기타 적외선 차단 등 특수파장의 빛을 차단하는 기능을 수행할 수 있는 것으로, 한 쌍의 제 1 전극과 제 2 전극이 복수 개 배치되어 있는 제 1 기판과, 상기 제 1 기판과 대향되도록 배치되고, 상기 제 1 및 제 2 전극들과 교차하도록 배치된 복수개의 제 3 전극을 가져 상기 제 1 기판과의 사이에 방전 가스가 채워진 복수개의 방전 셀을 구비한 제 2 기판과, 상기 제 1 기판의 상기 제 2 기판과 결합되는 반대면에 부착되는 것으로, 소정 패턴의 외광 흡수층을 갖는 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.

Description

다용도 필터를 구비한 플라즈마 디스플레이 패널{Plasma display panel with multipurpose filter}
도 1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 장치의 구조에 대한 개략적인 분해 사시도.
도 2는 도 1의 패널 조립체의 구성을 나타내는 부분 분해 사시도.
도 3은 도 1의 전자파 차폐 필터의 단면을 도시한 부분 단면도.
도 4는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 구비한 플라즈마 디스플레이 장치의 분해 사시도.
도 5는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 부분 분해 사시도.
도 6 및 도 7은 각각 도 5의 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서 그 외광 흡수층의 패턴 구조를 서로 다른 실시예들을 나타내는 부분 분해 사시도.
도 8은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 외광 흡수층의 두께에 따른 농도 구배를 개략적으로 나타낸 그래프.
도 9는 도 8에 따른 외광 흡수층을 나타낸 도면.
도 10 내지 도 13은 각각 도 5에 따른 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에 있어, 그 필터의 또 다른 실시예들을 나타내는 부분 단면도.
도 14는 본 발명의 바람직한 또 다른 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 부분 분해 사시도.
도 15 내지 도 18은 각각 도 14에 따른 본 발명의 바람직한 또 다른 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에 있어, 그 필터의 또 다른 실시예들을 나타내는 부분 단면도.
<도면의 주요 부호에 대한 간단한 설명>
50: 플라즈마 디스플레이 패널 51: 제 1 기판
52: 제 2 기판 53a,53b.53c: 제 1,2,3전극
54: 버스 전극 55a,55b: 제 1,2 유전층
56: MgO층 57: 격벽
58: 형광체층 60: 필터
61: 외광 흡수층 62: 보호막
63: 색소층 64: 반사 방지층
65: 도전층 66: 기재 박막
67: 접착층
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)에 관한 것으로서, 보다 상세하게 는 전자파를 차폐함과 동시에 콘트라스트를 향상시킬 수 있는 다용도 필터를 구비한 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.
통상적으로 플라즈마 디스플레이 패널은 가스 방전 현상을 이용하여 화상을 표시하기 위한 것으로서, 표시 용량, 휘도, 콘트라스트, 잔상, 시야각 등의 각종 표시 능력이 우수하여, 음극선관을 대체할 수 있는 표시 장치로 각광을 받고 있다. 이러한 플라즈마 디스플레이 패널은 전극에 인가되는 직류 또는 교류 전압에 의하여 전극 사이의 가스에서 방전이 발생하고, 여기에서 수반되는 자외선의 방사에 의하여 형광체를 여기시켜 발광하게 된다.
플라즈마 디스플레이 패널은 방전 메카니즘에 따라 교류형(AC형)과 직류형(DC형)으로 양분될 수 있는 데, 상기 직류형은 플라즈마 디스플레이 패널을 구성하는 각 전극들이 방전 셀에 봉입되는 가스층에 직접적으로 노출되어 그에 인가되는 전압이 그대로 방전 가스층에 인가되는 것이고, 상기 교류형은 각 전극들이 방전 가스층과 유전체층에 의하여 분리되어 방전 현상 시 발생되는 하전입자들을 상기 전극들이 흡수하지 않고 벽전하를 형성하게 되며, 이와 같은 벽전하를 이용하여 방전을 일으키는 것이다.
일반적인 플라즈마 디스플레이 장치의 구조는 도 1에서 볼 수 있듯이, 케이스(1)와, 상기 케이스(1)의 상부를 덮는 커버(5)와, 상기 케이스(1) 내에 수용되는 구동 회로 기판(4), 패널 조립체(2) 및 전자파 차폐 필터(3)로 이루어져 있다.
이 중 패널 조립체는 도 2에 도시된 바와 같이 서로 대향된 전면기판(21) 및 배면기판(22)을 구비하며, 상기 배면기판(22) 위에는 소정의 패턴으로 형성된 어드 레스 전극(23a)들과, 유전체층(24b)이 순차로 형성되고, 이 유전체층(24b) 상에는 방전거리를 유지시키고 화소 간의 전기적 광학적 크로스 토크를 방지하는 격벽(25)이 형성되고, 이 격벽(25)에 의해 구획된 방전공간 내의 적어도 일측에는 형광체층(26)이 형성된다. 상기 배면기판(22)과 결합되는 전면기판(21)에는 상기 어드레스 전극(23a)과 직교하도록 소정의 패턴의 공통 전극(23b)들과 주사 전극(23c)들이 구비된다. 그리고 상기 전면기판(21)의 하면에는 상기 공통 및 주사 전극들이 매립되는 유전체층(24a)이 형성되며, 그 하부로는 MgO 등으로 구비된 MgO층(29)이 형성된다. 상기와 같은 배면기판(22)과 전면기판(21)에 의해 구획된 방전공간에는 소정의 가스가 주입된다.
이렇게 구성된 플라즈마 표시장치는 상기 어드레스 전극(23a)과 주사 전극 전극(23c)에 전압이 인가됨에 따라 이들 사이에서 예비방전이 일어나 전면기판(21)의 유전체층(24a) 하면에 하전입자가 형성된다. 이 상태에서 유지 방전이 이루어지는데, 이 유지방전은 해당되는 공통 전극(23b)과 주사 전극(23c) 사이에 소정의 전압이 인가됨으로써 전면기판의 유전체층(24a) 표면에서 이루어진다. 이때에 가스층에서 플라즈마가 형성됨으로써 형성되는 자외선에 의해 형광체가 여기되어 화소를 형성하게 된다. 따라서 상기 공통 및 주사 전극(23b, 23c)이 일 방전 셀, 즉, 하나의 화소를 구성한다.
상기 전면기판(21)에 형성되는 전극들(23b, 23c)은 투명전극으로 형성되는 데, 그 라인 저항을 줄이기 위하여 그 폭이 상기 투명 전극들보다 좁은 버스 전극들(28)이 형성되어 있다.
이러한 플라즈마 디스플레이 패널에서, 그 콘트라스트를 높이기 위한 방법으로 상기 공통 전극(23b) 및 주사 전극(23c)에 의하여 형성되는 일 방전 셀들 사이의 비방전 영역에 블랙 매트릭스(27)가 형성된다. 이 블랙 매트릭스(27)는 검은색과 같이 광 흡수율이 높은 안료가 착색된 절연체층이 상기 일 방전셀간의 사이에 형성된다. 그러므로서, 비방전영역인 방전셀간의 사이영역에서 발생하는 약한 발광현상에 의한 색번짐 현상을 없애주어 콘트라스트를 향상시킨다.
또한, 이렇게 전면 기판(21)에서의 외광 반사율을 낮추기 위하여, 미국 특허 제 6,097,149호에는 상기 버스 전극을 검은색의 도전 물질로 구성하거나, 버스 전극을 이층구조로 형성하여 일층을 검은색 안료가 들어간 감광성 페이스트로 형성하고, 이층을 전도성이 높은 물질로 형성하는 기술이 개시되어 있다.
그리고, 일본 공개 특허공보 제 2000-113809호에는 금속 산화물막의 무전해도금을 통한 배면흑화현상을 이용하여 전극과 블랙 매트릭스를 동시에 형성하는 기술이 개시되어 있다.
그러나, 이러한 블랙 매트릭스는 콘트라스트를 높이고, 화상의 품위를 향상시키는 데에는 효과적이지만, 블랙 매트릭스의 면적에 해당하는 만큼 빛이 투과할 수 없기 때문에 전체 휘도가 낮아지는 단점을 감수해야 한다.
뿐만 아니라, 도 1에서 볼 수 있듯이, 전자파를 차폐하기 위해 패널 조립체(2)의 전면에 전자파 차폐 필터(3)를 장착하는 데, 이 전자파 차폐 필터(3)에 의해 광투과율은 한번 더 감소하게 되어 휘도는 더욱 낮아지게 되는 문제가 있다.
상기 전자파 차폐 필터(3)는 도 3에서 볼 수 있듯이, 글라스나 플라스틱 소재로 이루어진 박판의 투명 기판(32)에 금속 등에 의해 도전 메쉬(33)를 형성한 후, 그 상하로 반사 방지층(31)을 형성한다. 상기 도전 메쉬(33)는 도 1의 커버(5)를 통하여 케이스(1)로 접지되고, 상기 반사 방지층(31)은 일반적으로 근적외선 차단필름(NIR), 표면반사 방지필름(AR), 네온광 차폐필름 등을 이용하여 구성되도록 한다. 그리고, 유효화면 이외의 부분을 블랙으로 처리하여 화면의 시감효과를 높이기 위하여, 패널의 가장자리부를 두르도록 블랙 처리층(34)을 형성하고, 이 블랙 처리층(34) 위로는 도전 메쉬(33)와 섀시, 곧 플라즈마 표시장치의 커버와 케이스와의 접지 효율을 높이기 위하여 은(Ag) 페이스트(paste)층(35)을 형성한다.
플라즈마 디스플레이 패널에 있어서 구동회로 및 교류 전류(AC) 전극에 전류 그리고 플라즈마 방전을 위한 고전압은 전자파 발생의 주원인이 되는 데, 이들 주된 전자파의 주파수 영역은 30 내지 200MHz이며, 이러한 전자파를 상기 전자파 차폐 필터(3)의 도전 메쉬(33)가 차단한다.
그런데, 이러한 종래의 전자파 차폐 필터(3)에 있어서, 상기 도전 메쉬(33)는 전자파 차폐 효과를 얻음과 동시에 색감향상 및 콘트라스트 향상을 위하여 블랙 메쉬로 형성된다. 이렇게 블랙 처리된 도전 메쉬(33)의 총면적은 통상 상기 블랙 매트릭스의 총면적에 20%에 달하며, 이러한 도전 메쉬(33)로 인해 패널 조립체(2)로부터 발산되는 빛의 투과율은 더욱 떨어지게 되는 것이다.
본 발명은 상기와 같은 문제를 해결하기 위해 안출된 것으로서, 플라즈마 디 스플레이 패널의 휘도와 콘트라스트를 동시에 만족시킬 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공하는 데 그 목적이 있다.
본 발명의 다른 목적은 블랙 매트릭스의 기능과 전자파 차폐 필터의 기능 및 기타 적외선 차단 등 특수파장의 빛을 차단하는 기능을 수행할 수 있는 다용도 필터를 구비한 플라즈마 디스플레이 패널을 제공하는 것이다.
상기와 같은 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명은 한 쌍의 제 1 전극과 제 2 전극이 복수 개 배치되어 있는 제 1 기판과, 상기 제 1 기판과 대향되도록 배치되고, 상기 제 1 및 제 2 전극들과 교차하도록 배치된 복수개의 제 3 전극을 가져 상기 제 1 기판과의 사이에 방전 가스가 채워진 복수개의 방전 셀을 구비한 제 2 기판과, 상기 제 1 기판의 상기 제 2 기판과 결합되는 반대면에 부착되는 것으로, 소정 패턴의 외광 흡수층을 갖는 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공한다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 상기 외광 흡수층은 상기 제 1 기판의 상기 제 2 기판과 결합되는 반대면에 직접 접합되도록 형성될 수 있으며, 이 때, 상기 필터는 소정 파장의 빛을 흡수할 수 있는 색소를 적어도 하나 이상 첨가한 색소층을 더 구비할 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 필터는 투명 소재의 기재 박막과, 상기 기재 박막의 일면에 형성된 외광 흡수층과, 상기 기재 박막의 타면에 형성되어 상기 필터가 상기 제 1 기판에 접합될 수 있도록 하는 접착층을 포함할 수 있 다.
이 때, 상기 필터는 소정 파장의 빛을 흡수할 수 있는 색소를 적어도 하나 이상 첨가한 색소층을 더 구비하도록 하거나, 상기 소정 파장의 빛을 흡수할 수 있는 색소가 상기 접착층에 첨가될 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 외광 흡수층은 상기 플라즈마 디스플레이 패널의 화소 패턴으로 형성될 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 외광 흡수층은 상기 제 1 및 제 2 전극 라인의 어느 한 쌍과 인접한 제 1 및 제 2 전극 라인의 쌍과의 사이의 위치에 형성될 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 2 기판의 상기 제 1 기판을 향한 면에는 적어도 상기 제 3 전극 라인들의 사이로 격벽이 구비되고, 상기 외광 흡수층은 상기 격벽의 위치를 따라 형성될 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 외광 흡수층은 유전성 물질로 구비될 수 있으며, 이 때, 상기 필터는 투명한 도전층을 더 구비하고, 상기 도전층은 상기 플라즈마 디스플레이 패널 외측의 샤시부에 접지될 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 외광 흡수층은 도전 물질로 구비될 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 외광 흡수층은 흑색 첨가물을 포함한 금속재나, 표면이 산화처리된 구리박막으로 구비될 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 외광 흡수층은 상기 제 1 기판으로 부터 외측을 향한 방향으로 투명한 물질인 제 1 성분과, 금속 물질인 제 2 성분이 순차로 구비된 기능성 박막이되, 상기 제 1 성분과 제 2 성분은 농도구배를 갖도록 존재하는 전이층을 포함하며, 상기 제 1 성분은 상기 제 1 기판을 향하여 가까워질수록 그 함량이 증가하고, 상기 제 2 성분은 상기 제 1 기판으로부터 멀어질수록 그 함량이 증가하도록 형성되도록 하고, 이 때, 상기 제 1 성분은 SiOx(x≥1), SiNx(x≥1), MgF2, CaF2, Al2O3, SnO2 등과 같은 투명한 절연물질로 이루어진 군 및 ITO(Indium tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ZnO, In2O3 등과 같은 투명한 도전물질로 이루어진 군 중 적어도 어느 하나의 군에서 선택되는 적어도 하나 이상의 투명한 물질이고, 상기 제 2 성분은 Fe, Co, V, Ti, Al, Ag, Si, Ge, Y, Zn, Zr, W, Ta, Cu, Pt로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나 이상의 금속 물질로 구비되도록 할 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 외광 흡수층은 CrOx(x≥1) 및 Cr으로 구비된 박막일 수 있다.
이러한 외광 흡수층은 상기 플라즈마 디스플레이 패널 외측의 샤시부에 접지될 수 있다.
이하 첨부된 도면을 참고로 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세히 설명한다.
도 4는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 구비한 플라즈마 디스플레이 장치의 분해 사시도이다.
도 4를 참조하여 볼 때 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 장치는 도 1에 서 볼 수 있는 바와 같이 케이스(1)와, 상기 케이스(1)의 상부를 덮는 커버(5)와, 상기 케이스(1) 내에 수용되는 구동 회로 기판(4)을 구비하고, 상기 구동 회로 기판(4)에 결합되어 케이스(1) 내에 수용되는 플라즈마 디스플레이 패널 조립체(50)와 이에 결합되는 필터(60)로 이루어져 있다. 이러한 플라즈마 디스플레이 장치는 이하 설명될 본 발명의 모든 실시예에서 동일하게 적용된다.
본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널(50)은 도 5에서 볼 수 있듯이, 제 1기판(51)과, 제 2 기판(52)이 서로 대향되어 배치되며, 이들 제 1 및 제 2 기판(51)(52)의 사이에는 네온(Ne)이나 제논(Xe) 등의 방전가스가 채워져 방전공간을 구성하고, 기판들의 가장자리가 플릿 글라스(flit glass)와 같은 밀봉재에 의해 봉합되어 결합된다.
상기 제 1 기판(51)의 상기 제 2 기판(52)을 향한 면에는 제 1 전극(53a)과 제 2 전극(53b)이 서로 쌍을 이루도록 복수개 배설되어 있는 데, 예컨대 스트라이프와 같은 소정의 패턴을 이루도록 배설된다. 이들 제 1 및 제 2 전극들(53a)(53b)은 각각 공통 전극 및 주사 전극이 되는 것으로, 모두 인듐주석산화물인 ITO(Indium Tin Oxide)로 투명하게 형성될 수 있고, 각 전극들에는 라인저항을 보완해주기 위해 은(Ag)이나 금(Au) 등으로 버스 전극들(54)이 설치된다. 상기와 같은 제 1 및 제 2 전극들(53a)(53b)과 버스 전극들(54)은 포토리소그래피법이나, 스크린인쇄법 등에 의해 형성될 수 있다. 이 때, 상기 버스 전극들(54)에는 흑색 첨가재를 부가시켜 콘트라스트를 향상시키도록 할 수도 있다.
상기 제 1 기판(51)에는 제 1 및 제 2 전극들(53a)(53b)과 버스 전극들(54) 을 덮도록 제 1 유전체층(55a)이 형성되고, 이 제 1 유전체층(55a)을 덮도록 MgO층(56)이 MgO 등으로 스퍼터링이나 증착에 의해 형성된다. 상기 MgO층(56)은 방전 시 음극으로의 기능도 겸비한다.
한편, 제 2 기판(52)의 상기 제 1 기판(51)을 향한 면에는 제 3 전극(53c)이 상기 제 1 및 제 2 전극(53a)(53b)에 직교하도록 배설되는 데, 이 제 3 전극(53c)은 어드레스 전극이 된다. 상기 제 2 기판(52)에는 이 제 3 전극(53c)을 덮도록 제 2 유전체층(55b)이 형성되어 있는 데, 이 제 2 유전체층(55b)은 패널 전체의 휘도를 향상시킬 수 있도록 백색을 띠도록 하는 것이 바람직하다.
상기 제 2 유전체층(55b)의 위로는 상기 각 제 3 전극(53c)의 사이로 격벽(57)이 형성되어 상기 방전 공간을 복수개의 방전 셀로 구획한다. 이 격벽(57)은 인접한 방전 셀과의 빛의 크로스 토크를 방지한다.
상기 격벽(57)의 내측면과 격벽(57)으로 둘러싸인 제 2 유전체층(55b)의 상면에는 형광체(58)가 도포된다. 상기 형광체(58)는 칼라 화면을 구현하기 위하여 상기 격벽(57)에 의해 구획된 공간 내에 적(R), 녹(G), 청(B)색으로 형성된다.
상기와 같은 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서, 각 방전 셀은 제 1 및 제 2 전극(53a)(53b)의 쌍과 제 3 전극(53c)이 교차한 부분에 위치하게 되고, 이 방전 셀이 디스플레이의 화소를 형성하게 된다. 즉, 어드레스 전극인 상기 제 3 전극(53c)과 주사 전극인 상기 제 2 전극(53b)에 전압이 인가됨에 따라 이들 사이에서 예비방전이 일어나 제 1 유전체층(55a) 하면으로 하전입자가 형성되고, 이 상태에서 공통 전극인 제 1 전극(53a)과 주사 전극인 제 2 전극(53b) 사이에 소정의 전압이 인가됨으로써 유지 방전이 이루어진다. 이때에 가스층에서 플라즈마가 형성됨으로써 형성되는 자외선에 의해 형광체가 여기되어 발광하게 되는 것이다.
상술한 바와 같은 플라즈마 디스플레이 패널의 기본 구성은 이하 설명될 본 발명에 따른 모든 실시예에 동일하게 적용될 수 있다.
상기와 같은 플라즈마 디스플레이 패널의 제 1 기판(51)의 상부로는 도 4에서 볼 수 있듯이, 필터(60)가 결합되는 데, 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따르면, 상기 필터(60)는 도 5에서 볼 수 있듯이, 상기 제 1 기판(51)의 외측면에 직접 접합되도록 형성된 외광 흡수층(61)을 구비한다. 상기 외광 흡수층(61)은 종래의 블랙 매트릭스와 동일한 기능을 하기 위한 것으로, 외광을 흡수할 수 있도록 흑색으로 처리되는 것이 바람직하며, 소정의 패턴으로 형성되어 화상의 콘트라스트를 높일 수 있도록 한다.
상기 외광 흡수층(61)은 다양한 패턴으로 형성 가능한 데, 도 5에서 볼 수 있듯이, 각 방전 셀, 즉, 화소를 두르도록 격자상의 패턴으로 형성될 수도 있고, 도 6에서 볼 수 있듯이, 상기 격벽(57)의 위치에 이 격벽(57)이 연장된 방향을 따라 연장된 스트라이프상으로 형성될 수도 있으며, 도 7에서 볼 수 있듯이, 상기 제 1 전극(53a)과 제 2 전극(53b)의 쌍과 인접한 쌍과의 사이에 스트라이프상으로 형성될 수도 있다. 이 밖에도, 비록 도면으로 도시하지는 않았지만, 화소의 배열에 따라 다양한 패턴으로 형성될 수 있다. 이러한 외광 흡수층(61)의 패턴은 이하 설명될 본 발명의 모든 실시예에 동일하게 적용될 수 있다.
한편, 도 5 내지 도 7에서 볼 수 있는 상기 외광 흡수층(61)은 도전성 물질 로 형성되어 그 단부가 상기 플라즈마 디스플레이의 샤시부, 즉, 도 4에서 볼 수 있는 케이스(1)와 커버(5)에 접지될 수 있다. 이렇게 상기 외광 흡수층(61)이 도전성을 띠도록 형성하므로 말미암아 상기 외광 흡수층(61)은 전자파 차폐의 기능을 겸비할 수 있다. 따라서, 상기 외광 흡수층(61)에 의해 패널 내의 고전압 및 고속 펄스에 의한 전자간섭(EMI: Electro-Magnetic Interference)현상을 방지할 수 있게 된다.
이렇게 도전성 물질로 형성되는 외광 흡수층(61)은 흑색 첨가물을 포함한 금속재로 구비될 수 있는 데, RuO2나 카본과 같은 흑색 첨가물을 은(Ag)에 첨가시켜 스크린 인쇄하거나 포토리소그래피법으로 형성할 수 있다.
이러한 외광 흡수층(61)은 이 밖에도 표면이 산화처리된 구리박막으로 구비될 수 있으며, 크롬(Cr)과 크롬 산화물(CrOx(x≥1))에 카본 등의 흑색 안료를 첨가하여 형성할 수도 있다.
또한, 도 8에서 볼 수 있듯이, 상기 외광 흡수층(61)은 상기 제 1 기판(51)으로부터 외측을 향한 방향으로 투명한 물질인 제 1 성분과, 금속 물질인 제 2 성분이 순차로 구비되도록 할 수 있다. 이 때, 상기 제 1 성분과 제 2 성분은 농도구배를 갖도록 존재하는 전이층을 포함하며, 상기 제 1 성분은 상기 제 1 기판을 향하여 가까워질수록 그 함량이 증가하고, 상기 제 2 성분은 상기 제 1 기판으로부터 멀어질수록 그 함량이 증가하도록 형성된다.
상기 제 1 성분은 SiOx(x≥1), SiNx(x≥1), MgF2, CaF2, Al2O3, SnO2 등과 같은 투명한 절연물질로 이루어진 군 및 ITO(Indium tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ZnO, In2O3 등과 같은 투명한 도전물질로 이루어진 군 중 적어도 어느 하나의 군에서 선택되는 적어도 하나 이상의 투명한 물질이 될 수 있고, 상기 제 2 성분은 Fe, Co, V, Ti, Al, Ag, Si, Ge, Y, Zn, Zr, W, Ta, Cu, Pt로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나 이상의 금속 물질이 될 수 있다.
본 발명의 바람직한 일 실시예에 의하면, 상기 제 1 성분으로는 통상 글라스 성분으로 이루어진 제 1 기판(51)과의 계면에서의 반사를 억제할 수 있도록 SiOx(x≥1)로 하고, 상기 제 2 성분은 은(Ag)과 같이 도전성이 높은 금속으로 할 수 있다. 이 때, 상기 금속인 제 2 성분에는 카본이나 RuO2와 같은 흑색 첨가물을 첨가할 수 있다.
이렇게 제 1성분과 제 2성분으로 이루어진 외광 흡수층(61)은 도 8에서 볼 수 있듯이, 제 1 기판(51)으로부터 멀어질수록 SiOx(x≥1)의 농도는 점진적으로 감소되는 분포로 존재하고, 금속 성분의 농도는 점진적으로 증가하는 분포로 존재하며, 그 두께의 약 1/2 영역에는 SiOx(x≥1)와 금속 성분이 거의 동량으로 존재하도록 한다.
이러한 조성 분포를 갖고 있는 외광 흡수층(61)은 상기 SiOx(x≥1)와 금속 성분의 반비례적인 농도 구배를 이용하여 서서히 증착시키므로 층상 구조가 생기지 않고 SiOx(x≥1)와 금속 성분의 굴절율 구배를 이용하여 계면에서 광반사보다 흡수가 일어나 반사율이 현저히 감소하게 된다.
도 9는 이러한 원리를 설명하기 위한 것인데, 제 1 기판(51)의 상면에 외광 흡수층(61)을 형성한 것이다. 이러한 외광 흡수층(61)은 상술한 바와 같이, 제 1 기판(51)과 접촉되는 부근(611)에는 SiOx(x≥1)가 주성분을 이루며, 그 두께의 약 1/2 부근(612)에는 SiOx(x≥1)와 금속 성분이 거의 동량으로 존재하고, 제 1 기판(51)에서 가장 먼 부근(613)에는 금속 성분이 주성분이 되도록 한다. 이러한 외광 흡수층(61)의 외측, 즉, 도 9에서 외광 흡수층(61)의 상부로부터 빛이 입사될 경우, 제 1 기판(51)과 외광 흡수층(61)과의 계면을 이루는 매질 간의 굴절율 차가 적으므로, 계면에서의 반사가 적게 일어나 외광이 반사되지 않고 거의 흡수될 수 있는 구조가 된다.
또한 이러한 외광 흡수층(61)은 상부의 금속층으로 인해 별도의 도전층 없이 바로 접지하여 전자파를 차폐할 수 있다.
이렇게 농도구배를 갖는 외광 흡수층은 진공 증착이나, 스퍼터링, 전자이온 증착법 등에 의해 형성할 수 있는 데, 진공증착기 내에서 마스크를 개재하여 증착시킬 수 있다. 이 때, 증착보트에는 서로 다른 융점을 갖는 금속-SiOx(x≥1)의 혼합물을 투입하는 데, 여기서, 금속-SiOx(x≥1)의 혼합물은 금속이 50 내지 97 중량 %, SiOx(x>1)가 3 내지 50 중랑% 로 이루어질 수 있다.
이러한 혼합물이 들어 있는 증착보트의 가열 온도를 시간이 경과됨에 따라 서서히 증가시키면 융점이 낮은 SiOx(x≥1)가 먼저 증착되기 시작하고, 이보다 높은 온도에서는 SiOx(x≥1)와 금속 성분이 동시에 증착되며. 최종적으로 가장 높은 온도에서는 더 이상의 SiOx(x≥1) 성분이 남아 있지 않게 되어 순수하게 금속 성분만이 증착된다. 그 결과, 도 8에 도시된 바와 같이 SiOx(x≥1)는 제 1 기판(51)으로부터 멀어질수록 점진적으로 감소하는 분포로 존재하며 금속 성분은 제 1 기판(51)에 가까워질수록 점진적으로 증가하는 분포로 존재한다.
이와 같은 SiOx(x≥1)와 금속의 증착 공정은 금속 성분의 증발이 승화가 아닌 용융에 의하여 이루어진다. 즉, 상기 금속 성분들에 열을 가하면 이들은 용융되어 액체 상태로 변화되고, 이 액체 상태의 금속 성분과 혼합되어 있는 SiOx(x≥1)는 승화되어 제 1 기판 상에 증착되게 된다. 이와 같이 SiOx(x≥1)가 액체 상태의 금속 성분과 혼합된 상태로 승화되면, SiOx(x≥1)파우더가 포핑 아웃(popping out)되는 문제로 인하여 대량 생산하기가 제한되는 문제점을 미연에 예방할 수 있다.
한편, 이러한 외광 흡수층(61)의 두께에 따른 성분 분포는 SiOx(x≥1)의 초기 입자 크기에 크게 의존하여 변화된다. 이를 구체적으로 설명하자면, 만약 SiOx(x≥1)의 입자 크기가 0.5mm 정도로 작은 경우에는 전체 SiOx(x≥1) 표면적에 비하여 증착보트와 접촉되는 면적비가 커서 SiOx(x≥1)와 증착보트간의 열적 접촉이 많아지게 되고, 입자 무게가 작기 때문에 열전도에 의하여 순간적으로 발생하는 큰 증기압으로 인하여 제트 플로우(jet flow)가 생성되며, 이로 인하여 SiOx(x≥1)입자는 증착보트에서 튀어나가게 된다. 그 결과, SiOx(x≥1)의 승화현상이 강하게 나타난다. 반면, SiOx(x≥1)의 입자 크기가 2mm 정도로 큰 경우에는 제트 플로우에는 영향을 받지 않으나 전체 로딩된 양에 비하여 증착량이 모자라게 된다. 따라서, SiOx(x≥1)와 금속의 혼합물에서 SiOx(x≥1)의 입자 크기를 1 내지 1.5mm로 조절하면 최적의 광학적, 전기적 특성을 나타내는 외광 흡수층을 얻을 수 있다.
이렇게 소정 패턴의 도전성 외광 흡수층(61)을 얻은 후에는 그 상부에 도 5에서 볼 수 있는 바와 같이, 보호막(62)을 부착한다. 상기 보호막(62)은 투명한 수 지재로 구비될 수 있는 데, 투명한 소재의 PET 필름이나 폴리 카보네이트 필름 또는 폴리 프로필렌 필름 등을 부착할 수 있으며, 이들을 반용융상태에서 도포하여 코팅하여 형성할 수도 있다.
이들 투명한 수지재를 상기 외광 흡수층(61)이 형성된 제 1 기판(51)에 코팅하여 보호막(62)을 형성할 때에 이 보호막(62)을 형성하는 수지재 필름에 소정 파장의 빛을 흡수할 수 있는 색소를 혼합시켜 상기 보호막(62)을 색소층으로 구비시킬 수 있다.
플라즈마 디스플레이 패널에 있어서 방전에 의해 적외선이 패널 밖으로 나오는 데, 이 적외선은 주변의 전자 기기에 방해를 줄 수 있어 이를 차단하는 것이 필요하다. 따라서, 상기 보호막(62)에 혼합시키는 색소에는 적외선을 차단하는 NIR 흡수색소를 혼입시킬 수 있다. 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따르면 상기 NIR 흡수색소로서 일본화약사의 IRG-022를 사용할 수 있다.
한편, 풀칼라 디스플레이에 있어서는 590nm 부근의 네온파장을 흡수하여야 색의 선명도를 더욱 높여줄 수 있는 데, 이 590nm 부근의 파장을 흡수하기 위한 색소로서 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따르면 Aldrich사의 Sulforhodamine 101을 사용할 수 있다.
상기와 같이 소정 파장을 흡수하는 색소가 혼합된 색소층(63)은 도 5 내지 도 7에서 볼 수 있듯이, 상기 보호막(62)에 구비시킬 수도 있으며, 도 10에서 볼 수 있듯이, 보호막(62)의 상부에 별도의 필름으로 색소층(63)을 형성할 수도 있다. 이 때, 상기 색소층(63)은 상기와 같은 색소가 혼합된 필름을 덧붙여서 형성할 수 도 있고, 이들을 코팅하여 형성할 수도 있다.
한편, 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서는 패널 표면에서 실내광의 반사에 의해 표시 콘트라스트가 저하될 수 있으며, 실내 조명등 등의 상이 비쳐질 수 있기 때문에 반사방지(AR: Anti-Reflection)층을 형성시킬 필요가 있다.
이러한 반사방지층은 다양하게 형성될 수 있는 데, 도 11에서 볼 수 있듯이, 저굴절율층(641)과 고굴절율층(642)을 번갈아가면서 증착시켜 외광의 전반사를 차단하고 빛을 상기 반사방지층(64) 내로 가둬둘 수 있도록 할 수 있다. 상기 저굴절율층(641)은 SiO2를 스퍼터링시켜 형성할 수 있고, 상기 고굴절율층(642)은 은(Ag)이나 ITO를 스퍼터링시켜 형성할 수 있다. 도 11에서는 도 5 내지 도 7의 플라즈마 디스플레이 패널에 상기 반사방지층을 형성한 구조를 나타낸 것이나, 이는 도 10의 구조에도 그대로 적용시킬 수 있음은 물론이다.
이상은 상기 외광 흡수층(61)이 도전 물질로 구비되어 샤시부에 접지된 경우를 설명하였으나, 상기 외광 흡수층(61)은 이 밖에도 유전성 물질로 구비되어 도전성을 띠지 않도록 할 수 있다. 다만, 이 때에는 전자파 차폐를 위하여 투명한 도전성 물질로 구비된 도전층을 별도로 더 구비시켜 이 도전층이 패널 외측의 샤시부에 접지되도록 할 수 있다. 상기 투명한 도전층(65)은 ITO 등을 스퍼터링하여 형성할 수 있는 것으로, 도 12에서 볼 수 있듯이, 제 1 기판(51)과 외광 흡수층(61)의 사이에 형성할 수도 있고, 도 13에서 볼 수 있듯이, 보호막 대신 상기 외광 흡수층(61)을 덮도록 증착시킬 수도 있다. 물론 이 밖에도 상술한 다양한 층상 구조들이 복합적으로 혼합된 구조로 형성할 수 있음은 물론이다.
도 14는 본 발명의 바람직한 또 다른 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 도시한 부분 분해 사시도이다.
도 14를 참조하면, 본 발명의 바람직한 또 다른 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널(50)은 제 1 기판(51)의 외측면으로 외광흡수층(61)을 구비한 필터(60)가 별도로 제작되어 접합되는 구조를 갖는다. 상기 플라즈마 디스플레이 패널(50)의 기본적인 구성은 전술한 실시예들의 경우와 동일하므로 그 설명은 생략하고, 이하에서는 상기 필터(60)의 구조에 대해서만 설명한다.
도 14에서 볼 수 있듯이, 상기 필터(60)는 투명 소재의 기재 박막(66)과, 상기 기재 박막(66)의 일면에 형성된 외광 흡수층(61)과, 상기 기재 박막(66)의 타면에 형성되어 상기 필터(60)가 상기 제 1 기판(51)에 접합될 수 있도록 하는 접착층(67)을 포함한다. 상기 외광 흡수층(61)은 전술한 도 5 내지 도 7에서 볼 수 있는 실시예와 같이 보호막(62)에 의해 덮여질 수 있다.
상기 기재 박막(66)은 투명한 소재의 기판으로 형성할 수 있는 데, 글라스 기판이나, 투명한 플라스틱 소재의 기판으로 형성할 수 있다. 이러한 기재 박막(66)의 외측면에 전술한 실시예에서 볼 수 있는 바와 같이, 도전성 재료로서 외광 흡수층(61)을 형성한다.
즉, 상기 외광 흡수층(61)은 RuO2나 카본과 같은 흑색 첨가물을 포함한 은과 같은 금속에 첨가시켜 스크린 인쇄하거나 포토리소그래피법으로 형성할 수 있으며, 표면이 산화처리된 구리박막으로 형성하거나, 크롬(Cr)과 크롬 산화물(CrOx(x≥1))에 카본 등의 흑색 안료를 첨가하여 형성할 수도 있다. 또한, 상기 제 1 기판(51) 으로부터 외측을 향한 방향으로 투명한 물질인 제 1 성분과, 금속 물질인 제 2 성분이 순차로 구비되도록 할 수 있다. 이 때, 상기 제 1 성분과 제 2 성분은 농도구배를 갖도록 존재하는 전이층을 포함하며, 상기 제 1 성분은 상기 제 1 기판을 향하여 가까워질수록 그 함량이 증가하고, 상기 제 2 성분은 상기 제 1 기판으로부터 멀어질수록 그 함량이 증가하도록 형성된다. 상기 제 1 성분은 전술한 바와 같이, SiOx(x≥1), SiNx(x≥1), MgF2, CaF2, Al2O3, SnO2 등과 같은 투명한 절연물질로 이루어진 군 및 ITO(Indium tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ZnO, In2O3 등과 같은 투명한 도전물질로 이루어진 군 중 적어도 어느 하나의 군에서 선택되는 적어도 하나 이상의 투명한 물질이 될 수 있고, 상기 제 2 성분은 Fe, Co, V, Ti, Al, Ag, Si, Ge, Y, Zn, Zr, W, Ta, Cu, Pt로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나 이상의 금속 물질이 될 수 있다. 이렇듯, 상기 외광 흡수층을 형성하는 모든 방법은 전술한 실시예의 경우와 동일하므로 그 상세한 설명은 생략한다.
이렇게 도전성 재료로서 외광 흡수층(61)을 형성한 후에는 그 외측면으로 보호막(62)을 형성한다. 이 보호막(62)은 투명 소재의 수지재 필름으로 구비될 수 있으며, 코팅으로 형성할 수도 있음은 전술한 바와 같다.
한편, 상기 외광 흡수층(61)이 형성된 기재 박막(66)의 상기 제 1 기판(51)을 향한 면에는 접착성 수지재로 접착층(67)을 형성한다. 이 때, 상기 접착층(67)에는 상술한 바와 같은 NIR색소나 590nm 파장 차단 색소 등을 첨가시켜 이 접착층(67)이 색소층(63)으로서의 기능을 하도록 할 수 있다. 물론 이 색소층(63)은 도 15에서 볼 수 있듯이, 별도의 층으로 구비되도록 할 수도 있으며, 도면으로 도시하지는 않았지만 보호막(62)에 상기 색소들을 혼합시켜 형성시킬 수도 있다.
그리고, 상기와 같은 필터(60)에는 도 16에서 볼 수 있듯이, 반사 방지층(64)을 형성할 수 있다. 상기 반사 방지층(64)은 저굴절율층과 고굴절율층을 번갈아 가며 형성하는 것으로 이는 전술한 바와 동일하다.
이상 설명한 바와 같이 기재박막(66)을 포함하는 필터(60)의 구조는 이 외에도 다양하게 형성 가능한 데, 상기 외광 흡수층(61)이 기재박막(66)의 하면에 형성될 수도 있음은 물론이다.
이렇게 기재박막(66)에 외광 흡수층(61)을 형성한 필터(60)를 접착층(67)을 개재하여 제 1 기판(51)의 상면에 부착한 후에는 상기 외광 흡수층(61)을 패널의 샤시부에 접지시켜 전자파 차폐의 기능을 수행하도록 할 수 있다.
그리고, 상기 외광 흡수층(61)은 전술한 바와 같이, 유전성 물질로 구비되어 도전성을 띠지 않도록 할 수도 있다. 다만, 이 때에도 역시 전자파 차폐를 위하여 투명한 도전성 물질로 구비된 도전층을 별도로 더 구비시켜 이 도전층이 패널 외측의 샤시부에 접지되도록 할 수 있다. 상기 투명한 도전층(65)은 ITO 등을 스퍼터링하여 형성할 수 있는 것으로, 도 17에서 볼 수 있듯이, 기재 박막(66)과 외광 흡수층(61)의 사이에 형성할 수도 있고, 도 18에서 볼 수 있듯이, 보호막 대신 상기 외광 흡수층(61)을 덮도록 증착시킬 수도 있다. 물론 이 밖에도 상술한 다양한 층상 구조들이 복합적으로 혼합된 구조로 형성할 수 있음은 물론이다.
이처럼, 본 발명에 따른 필터(60)는 플라즈마 디스플레이 패널의 전면에 장착되어 외광 흡수층(61)을 구비해 블랙 매트릭스의 기능을 수행해 콘트라스트를 향 상시킬 수 있으며, 도전성을 띠도록 하거나 별도의 도전층을 형성시켜 전자파 차폐 필터로서의 기능을 겸하도록 할 수 있다. 따라서, 블랙 매트릭스와 전자파 차폐 필터를 기판의 내측과 외측에 구비한 종래의 플라즈마 디스플레이 패널에 비해 휘도를 향상시키면서 동시에 콘트라스트를 높이는 효과를 얻을 수 있는 것이다.
이러한 본 발명의 효과를 하기 표 1에 나타내었다.
표 1에는 비교예 1,2,3과 본 발명의 바람직한 일 실시예의 휘도와 콘트라스트를 비교한 데이터를 나타내었는 데, 비교예 1은 패널 내부에 블랙 매트릭스가 없고, 패널 외부에도 본 발명과 같은 외광 흡수층이 없이 ITO로 제 1,2 전극을 형성하고, 제 1,2 전극에 은(Ag)으로 버스 전극을 형성한 플라즈마 디스플레이 패널을 나타낸 것이고, 비교예 2는 제 1 기판에 별도의 블랙 매트릭스를 형성하지 않고, 다만 격벽의 상면에 흑색 유리 페이스트를 스크린인쇄에 의해 형성한 플라즈마 디스플레이 패널을 나타낸 것이며, 비교예 3은 제 1 기판의 내측면에 개구율 72% 블랙 매트릭스가 형성되어 있고, 제 1 기판의 외측면에 역시 개구율 72%의 메쉬상의 전자파 차폐 필터가 형성된 플라즈마 디스플레이 패널을 나타낸 것이다. 그리고, 실시예는 본 발명에 따라 제 1,2 전극을 ITO로 형성하고, 이들 제 1,2 전극에 은(Ag)으로 버스 전극을 형성하며, 제 1 기판의 외측면으로 개구율 72%의 필터를 부착한 것이다.
비교예1 비교예2 비교예3 실시예
휘도(cd/㎡) 238 169 104.9 158
콘트라스트 9.0 9.4 16.2 13.9
상기 표 1에서 볼 수 있듯이, 블랙 매트릭스의 구조가 전혀 없는 경우인 비 교예 1에서는 휘도는 매우 높게 나왔으나, 콘트라스트가 떨어짐을 알 수 있고, 격벽 상면에 블랙처리를 한 비교예 2에서도 그 콘트라스트는 그다지 높지 않음을 알 수 있다. 또한, 블랙 매트릭스와 전자파 차폐 필터를 구비한 비교예 3에서는 콘트라스트는 높게 나왔으나, 휘도가 떨어짐을 알 수 있고, 본 발명에 따른 실시예의 경우에는 적정한 콘트라스트와 역시 높은 휘도를 얻을 수 있음을 알 수 있다.
아울러 상기와 같은 본 발명의 필터(60)에는 적외선을 차단하는 색소나 590nm 부근의 파장을 흡수하는 색소 등 소정 파장의 빛을 흡수하는 색소들을 적어도 하나 이상 첨가시켜 화상의 품위와 패널의 기능을 더욱 향상시킬 수 있고, 반사방지층을 구비하여 외광의 반사를 차단하는 효과를 더욱 증대시킬 수 있다.
본 발명에 따른 필터를 구비한 플라즈마 디스플레이 패널에 의하면 다음과 같은 효과를 얻을 수 있다.
첫째, 플라즈마 디스플레이 패널 내부의 블랙 매트릭스와 패널 외부의 전자파 차폐 필터의 구조를 단일의 외광 흡수층으로 형성함으로써 개구율을 더욱 향상시켜 휘도를 증대시킬 수 있으며, 동시에 콘트라스트를 높일 수 있다.
둘째, 블랙 매트릭스의 기능을 하는 필터 자체가 전자파 차폐기능을 겸할 수 있다.
셋째, 필터에 소정 파장의 빛을 흡수할 수 있는 색소층을 구비하여 적외선 또는 590nm 부근 파장의 빛을 차단하여 주변 전자기기에 영향을 미치지 않도록 할 수 있으며, 화상 품위가 더욱 향상되도록 할 수 있다.
넷째, 블랙 매트릭스의 구조를 외부에서 부착 가능한 필터로서 형성함으로써 공정의 단순화를 기할 수 있고, 생산성을 향상시킬 수 있다.
본 명세서에서는 본 발명을 한정된 실시예를 중심으로 설명하였으나, 본 발명의 사상적 범위내에서 다양한 실시예가 가능하다. 또한 설명되지는 않았으나, 균등한 수단도 또한 본 발명에 그대로 결합되는 것이라 할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 보호범위는 아래의 특허청구범위에 의하여 정해져야 할 것이다.

Claims (18)

  1. 한 쌍의 제 1 전극과 제 2 전극이 복수 개 배치되어 있는 제 1 기판;
    상기 제 1 기판과 대향되도록 배치되고, 상기 제 1 및 제 2 전극들과 교차하도록 배치된 복수개의 제 3 전극을 가져 상기 제 1 기판과의 사이에 방전 가스가 채워진 복수개의 방전 셀을 구비한 제 2 기판; 및
    상기 제 1 기판의 상기 제 2 기판과 결합되는 반대면에 부착되는 것으로, 도전물질로 구비된 외광 흡수층을 갖는 필터;를 포함하고,
    상기 외광 흡수층은 상기 플라즈마 디스플레이 패널 외측의 샤시부에 접지된 플라즈마 디스플레이 패널.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 외광 흡수층은 상기 제 1 기판의 상기 제 2 기판과 결합되는 반대면에 직접 접합되도록 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 필터는 소정 파장의 빛을 흡수할 수 있는 색소를 첨가한 색소층을 더 구비한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 필터는 투명 소재의 기재 박막과, 상기 기재 박막의 일면에 형성된 외광 흡수층과, 상기 기재 박막의 타면에 형성되어 상기 필터가 상기 제 1 기판에 접합될 수 있도록 하는 접착층을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 필터는 소정 파장의 빛을 흡수할 수 있는 색소를 첨가한 색소층을 더 구비한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  6. 제 4 항에 있어서,
    상기 접착층에는 소정 파장의 빛을 흡수할 수 있는 색소가 첨가된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 외광 흡수층은 상기 플라즈마 디스플레이 패널의 화소 패턴으로 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  8. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 외광 흡수층은 상기 제 1 및 제 2 전극 라인의 어느 한 쌍과 인접한 제 1 및 제 2 전극 라인의 쌍과의 사이의 위치에 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  9. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 2 기판의 상기 제 1 기판을 향한 면에는 적어도 상기 제 3 전극 라인들의 사이로 격벽이 구비되고, 상기 외광 흡수층은 상기 격벽의 위치를 따라 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  10. 삭제
  11. 삭제
  12. 삭제
  13. 제 1 항에 있어서,
    상기 외광 흡수층은 흑색 첨가물을 포함한 금속재로 구비된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  14. 제 1 항에 있어서,
    상기 외광 흡수층은 표면이 산화처리된 구리박막으로 구비된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  15. 제 1 항에 있어서,
    상기 외광 흡수층은 상기 제 1 기판으로부터 외측을 향한 방향으로 투명한 물질인 제 1 성분과, 금속 물질인 제 2 성분이 순차로 구비된 기능성 박막이되, 상기 제 1 성분과 제 2 성분은 농도구배를 갖도록 존재하는 전이층을 포함하며, 상기 제 1 성분은 상기 제 1 기판을 향하여 가까워질수록 그 함량이 증가하고, 상기 제 2 성분은 상기 제 1 기판으로부터 멀어질수록 그 함량이 증가하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 제 1 성분은 SiOx(x≥1), SiNx(x≥1), MgF2, CaF2, Al2O3, SnO2 등과 같은 투명한 절연물질로 이루어진 군 및 ITO(Indium tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ZnO, In2O3 등과 같은 투명한 도전물질로 이루어진 군 중 적어도 어느 하나의 군에서 선택되는 적어도 하나 이상의 투명한 물질이고, 상기 제 2 성분은 Fe, Co, V, Ti, Al, Ag, Si, Ge, Y, Zn, Zr, W, Ta, Cu, Pt로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나 이상의 금속 물질로 구비된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  17. 제 1 항에 있어서,
    상기 외광 흡수층은 CrOx(x≥1) 및 Cr으로 구비된 박막인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  18. 삭제
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