KR100570655B1 - Plasma display panel and method for manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 레이저 식각 방법으로 투명전극 물질막을 패터닝하여 투명전극을 형성할 때, 중첩되는 레이저 패턴의 경계선을 비방전 영역에 형성시켜 얼룩 현상을 제거하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법을 제공하는 데 있다.The present invention provides a method of manufacturing a plasma display panel that removes spots by forming boundary lines of overlapping laser patterns in a non-discharge region when patterning a transparent electrode material film by laser etching to form a transparent electrode.

본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법은, 방전유지전극을 제1 기판 상에 형성하는 방전유지전극 형성단계; 상기 방전유지전극과 직각을 이루는 어드레스전극과 격벽을 제2 기판 상에 형성하는 어드레스전극/격벽 형성단계; 상기 제1, 제2 기판을 정렬하여 합착하는 합착단계를 포함하며, 상기 방전유지전극 형성단계는 투명전극 물질막이 형성된 상기 제1 기판에 대하여 임의의 레이저 패턴으로 레이저를 주사시켜 투명전극 물질막을 가공하여 투명전극을 형성하는 단계와 이 투명전극 상에 형성되는 금속 도전막을 가공하여 버스전극을 형성하는 단계로 이루어지고, 상기 투명전극 형성단계는 레이저 패턴의 경계선을 비방전 영역에 대응하는 제1 기판 상에 위치시킨다.A plasma display panel manufacturing method according to the present invention includes: a discharge sustaining electrode forming step of forming a discharge sustaining electrode on a first substrate; Forming an address electrode and a partition on the second substrate, wherein the address electrode and the partition are perpendicular to the discharge sustain electrode; And a bonding step of aligning and bonding the first and second substrates, wherein the discharge sustaining electrode forming step processes a transparent electrode material film by scanning a laser with an arbitrary laser pattern on the first substrate on which the transparent electrode material film is formed. Forming a transparent electrode, and forming a bus electrode by processing a metal conductive film formed on the transparent electrode, wherein the forming of the transparent electrode includes forming a boundary line of a laser pattern on a first substrate corresponding to a non-discharge area. Place it in

플라즈마 디스플레이, 비방전 영역, 투명전극, 레이저 패턴Plasma display, non-discharge area, transparent electrode, laser pattern

Description

플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법{PLASMA DISPLAY PANEL AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}Plasma display panel and manufacturing method thereof {PLASMA DISPLAY PANEL AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}

도 1은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 일부를 개략적으로 도시한 부분 분해 사시도이다.1 is a partially exploded perspective view schematically showing a part of a plasma display panel according to the present invention.

도 2는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법에 의하여 제1 기판에 투명전극 물질막 패턴을 레이저 식각(laser ablation) 방법으로 형성하는 공정을 개략적으로 도시한 제1 기판의 단면도이다.FIG. 2 is a cross-sectional view of a first substrate schematically illustrating a process of forming a transparent electrode material film pattern on a first substrate by a laser ablation method by a method of manufacturing a plasma display panel according to the present invention.

도 3은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법에 의하여 제1 기판에 투명전극 물질막 패턴을 레이저 식각 방법으로 형성하는 공정을 개략적으로 도시한 제1 기판의 평면도이다.3 is a plan view of a first substrate schematically illustrating a process of forming a transparent electrode material film pattern on a first substrate by a laser etching method by a method of manufacturing a plasma display panel according to the present invention.

도 4는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법에서 제1 기판에 투명전극 물질막 패턴을 레이저 식각 방법으로 형성하는 레이저 패턴과 방전셀과의 일치 관계를 도시한 평면도이다.FIG. 4 is a plan view illustrating a matching relationship between a laser pattern and a discharge cell in which a transparent electrode material film pattern is formed on a first substrate by a laser etching method in a method of manufacturing a plasma display panel according to the present invention.

도 5는 도 4의 레이저 패턴에 의하여 레이저 식각된 투명전극 물질막 패턴이 형성된 제1 기판의 부분 평면도이다.FIG. 5 is a partial plan view of a first substrate on which a transparent electrode material film pattern laser-etched by the laser pattern of FIG. 4 is formed.

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 레이저 식각(laser ablation) 방법으로 방전유지전극을 형성하는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel and a method for manufacturing the same, and more particularly, to a plasma display panel for forming a discharge sustaining electrode by a laser ablation method and a method for manufacturing the same.

일반적으로 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel; 이하 'PDP'라 한다)은 가스방전현상을 이용하여 화상을 표시하기 위한 것으로서, 표시용량, 휘도, 콘트라스트, 잔상, 시야각 등의 각종 표시능력이 우수하여, CRT(Cathode Ray Tube)를 대체할 수 있는 장치로 각광을 받고 있다. 이 PDP는 전극에 인가되는 직류 또는 교류 전압에 의하여 전극 사이에서 가스 방전이 발생하고, 여기에서 수반되는 자외선의 방사에 의하여 형광체를 여기시켜 발광하게 된다.In general, a plasma display panel (hereinafter referred to as a 'PDP') is used to display an image using a gas discharge phenomenon, and has excellent display capability such as display capacity, brightness, contrast, afterimage, viewing angle, It is in the spotlight as a device that can replace the CRT (Cathode Ray Tube). The PDP generates a gas discharge between the electrodes by a direct current or an alternating voltage applied to the electrode, and excites the phosphor by the radiation of ultraviolet rays, which emits light.

구동방식에 따라 직류형과 구별되는 교류형 PDP는 전면기판의 내표면에는 방전유지전극에 해당하는 X 전극 및 Y 전극을 형성하고, 배면기판의 내표면에는 어드레스전극 및 격벽을 형성한다. 상기 X, Y 전극은 하나의 방전셀에 대하여 한 쌍으로 배치되며, 상기 X 전극 및 Y 전극 사이에서는 PDP 작동 시에 유지 방전이 일어난다. 일반적으로 이 X 전극 및 Y 전극과 어드레스전극은 전면기판 및 배면기판의 내표면에 각각 스트라이프 형상으로 형성되며, 전면기판과 배면기판이 상호 조립되었을 때 서로에 대하여 직각으로 교차하게 된다.AC type PDPs, which are distinguished from the direct current type according to the driving method, form X electrodes and Y electrodes corresponding to discharge sustaining electrodes on the inner surface of the front substrate, and address electrodes and partition walls on the inner surface of the rear substrate. The X and Y electrodes are arranged in pairs with respect to one discharge cell, and sustain discharge occurs between the X and Y electrodes during PDP operation. In general, the X electrode, the Y electrode and the address electrode are formed in a stripe shape on the inner surface of the front substrate and the rear substrate, respectively, and cross each other at right angles to each other when the front substrate and the rear substrate are assembled to each other.

이 전면기판의 내표면에는 유전층과 보호막이 차례로 적층된다. 한편, 배면기판에는 유전층의 상부 표면에 격벽이 형성되며, 이 격벽에 의해 방전셀이 형성된다. 이 방전셀 내에는 네온(Ne) 및 제논(Xe) 같은 불활성 가스가 충전된다. 또한 각각의 방전셀을 형성하는 격벽의 내측면 및 상기 유전층의 표면에는 형광체가 도포되어 형광층이 된다. 한편, X 전극 및 Y 전극은 통상 투명전극과 이 투명전극에 전기적으로 연결된 버스전극으로 구성된다.On the inner surface of the front substrate, a dielectric layer and a protective film are sequentially stacked. On the other hand, a partition wall is formed on the top surface of the dielectric layer on the back substrate, and the discharge cell is formed by the partition wall. In this discharge cell, an inert gas such as neon (Ne) and xenon (Xe) is filled. In addition, a phosphor is coated on the inner surface of the partition wall forming each discharge cell and the surface of the dielectric layer to form a phosphor layer. On the other hand, the X electrode and the Y electrode are usually composed of a transparent electrode and a bus electrode electrically connected to the transparent electrode.

이 PDP의 작동을 개략적으로 설명하면, 먼저 어드레스전극과 Y 전극에 각각어드레스전압과 스캔전압을 인가하면 그 사이에서 어드레스 방전이 일어나면서 방전셀 내에 벽전하가 형성된다. 다음으로 상기 Y 전극과 X 전극 사이에 방전유지전압을 인가하면 상기 벽전하에 의하여 형성되는 벽전압에 더하여지면서 방전개시전압을 넘어서면 상기 방전셀 내에서는 유지방전이 일어나게 된다. 이러한 유지 방전 상태에서는 방전광 중에서 자외선 영역의 광들이 형광체에 충돌하여 가시광선을 발광하게 되며, 그에 따라서 방전셀 별로 형성되는 각각의 화소는 화상을 구현한다.When the operation of the PDP is schematically explained, first, an address voltage and a scan voltage are applied to the address electrode and the Y electrode, respectively, and address charges are generated therebetween, thereby forming wall charges in the discharge cells. Next, when a discharge sustain voltage is applied between the Y electrode and the X electrode, a sustain discharge occurs in the discharge cell when the discharge start voltage is exceeded while being added to the wall voltage formed by the wall charge. In this sustain discharge state, light in the ultraviolet region of the discharge light collides with the phosphor to emit visible light, and accordingly, each pixel formed for each discharge cell implements an image.

이렇게 구현된 화상은 투명전극 및 버스전극이 구비된 전면기판을 통하여 전방으로 표시된다. 여기서 투명전극은 개구율을 높이기 위하여 투명전극 물질막, 예를 들어 ITO(Indium Tin Oxide)막으로 형성되고, 버스전극은 금속 도전막으로 형성된다.The image thus implemented is displayed forward through the front substrate provided with the transparent electrode and the bus electrode. The transparent electrode is formed of a transparent electrode material film, for example, an indium tin oxide (ITO) film, and the bus electrode is formed of a metal conductive film in order to increase the aperture ratio.

상기에서 투명전극을 형성하는 방법으로는 포토 리소그래피(photo lithography) 방법 및 레이저 식각(laser ablation) 방법이 적용되고 있다.As a method of forming the transparent electrode, a photo lithography method and a laser ablation method are applied.

이의 방법에 대하여 간단히 설명하면, 먼저, 포토 리소그래피 방법은 전면기판에 투명전극 물질막을 형성한 후, 이 위에 포토 레지스트층을 형성하고, 이에 대하여 원하는 패턴으로 노광, 에칭하여 상기 투명전극 물질막을 원하는 형상의 투명전극으로 가공하는 것이다. 그러나 이 포토 리소그래피 방법은 포로 레지스트 도 포, 패터닝, 및 에칭 공정을 반복적으로 수행하게 되어 공정수를 증가시키고 이로 인하여 공정시간을 증가시킨다.Briefly, the photolithography method first forms a transparent electrode material film on a front substrate, and then forms a photoresist layer thereon, and exposes and etches the transparent electrode material film in a desired pattern to form a desired shape. It is processed into a transparent electrode. However, this photolithography method repeatedly performs captive resist coating, patterning, and etching processes, thereby increasing the number of processes and thereby increasing the processing time.

상기 레이저 식각 방법은 포토 리소그래피 방법에 비하여 공정수를 감소시키고 공정 시간을 줄이며 투명전극 물질막을 패터닝할 때, 투명전극 물질막이 제거되고 남은 부위의 단부가 매끄럽게 형성되는 이른 바, 제거 단부의 직진성을 향상시키는 이점을 가지므로 많이 사용된다. 이 레이저 식각 방법은 투명전극 물질막에 쉽게 흡수되어 열로 변화되면서 이 투명전극 물질을 증발시킬 수 있는 파장을 갖는 레이저를 이용하여 투명전극 물질막을 직접 식각하여 투명전극 물질막을 패터닝 함으로써 원하는 형상의 투명전극을 형성한다.Compared to the photolithography method, the laser etching method reduces the number of processes, reduces the process time, and when the transparent electrode material film is patterned, the transparent electrode material film is removed and the ends of the remaining portions are smoothly formed. It is used a lot because it has an advantage. In this laser etching method, the transparent electrode material film is directly etched using a laser having a wavelength capable of evaporating the transparent electrode material as it is easily absorbed by the transparent electrode material film and is converted into heat, thereby patterning the transparent electrode material film. To form.

이 레이저 식각 방법에서는 최종적으로 형성될 투명전극의 형상에 대응하는 레이저 패턴을 갖는 레이저 토치(Laser Torch)가 사용되는 바, 종래에는 이러한 레이저 토치를 가지고 투명전극을 형성할 때, 레이저 에너지의 효율적인 사용을 위하여 하나의 방전셀에 대응하는 부위에 대하여 적어도 2회 이상 레이저를 주사시키고 있다. 즉, 상기 레이저 토치를 일정 피치로 이동시켜 하나의 방전셀 부위에 레이저 패턴이 중첩되도록 위치시키면서 레이저를 주사하여 투명전극 물질막을 식각시키고 있다.In this laser etching method, a laser torch having a laser pattern corresponding to the shape of the transparent electrode to be finally formed is used. Conventionally, when the transparent electrode is formed with such a laser torch, efficient use of laser energy is used. For this purpose, the laser is scanned at least twice in a region corresponding to one discharge cell. In other words, the laser torch is moved by a predetermined pitch, and the transparent electrode material film is etched by scanning the laser while positioning the laser pattern in one discharge cell region.

그러나, 상기한 레이저 식각 방법에 있어서는, 레이저가 주사되는 레이저 패턴의 경계부가 방전셀의 중심부에 위치함에 따라 레이저 주사시, 그 열에 의하여 상기 레이저 패턴의 경계부에 대한 레이저 주사 흔적이 전면기판 상에 그대로 남게 된다.However, in the above-described laser etching method, since the boundary portion of the laser pattern to which the laser is scanned is located at the center of the discharge cell, the laser scanning traces on the boundary portion of the laser pattern are kept on the front substrate by the heat during the laser scanning. Will remain.

이에 따라 종래의 PDP에서는 상기한 흔적으로 인해 전면기판의 표면 변질이 초래되어 이에 의한 얼룩현상이 일어나게 될뿐더러 상기 흔적이 방전영역(또는 표시영역)인 방전셀 내에 위치하므로 실질적인 PDP의 작용시, 방전 영역에서 발광된 빛이 전면 기판을 통과할 때 상기 흔적으로 인하여 그 투과율에 대한 미세한 차이를 일으켜 이로부터 얼룩 현상이 초래된다.Accordingly, in the conventional PDP, the surface traces of the front substrate are caused by the above traces, thereby causing unevenness, and the traces are located in the discharge cells, which are discharge regions (or display regions). As the light emitted from the region passes through the front substrate, the trace causes a slight difference in its transmittance, resulting in a staining phenomenon.

본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 창안된 것으로, 그 목적은 레이저 식각 방법으로 투명전극 물질막을 패터닝하여 투명전극을 형성할 때, 중첩되는 레이저 패턴의 경계선을 비방전 영역에 형성시켜 얼룩 현상을 제거하는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법을 제공하는 데 있다.The present invention was devised to solve the above problems, and its object is to form a transparent electrode by patterning a transparent electrode material film by a laser etching method. To provide a plasma display panel and a method of manufacturing the same.

상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법은,Plasma display panel manufacturing method according to the present invention in order to achieve the above object,

방전유지전극을 제1 기판 상에 형성하는 방전유지전극 형성단계;A discharge sustaining electrode forming step of forming a discharge sustaining electrode on the first substrate;

상기 방전유지전극과 직각을 이루는 어드레스전극과 격벽을 제2 기판 상에 형성하는 어드레스전극/격벽 형성단계;Forming an address electrode and a partition on the second substrate, wherein the address electrode and the partition are perpendicular to the discharge sustain electrode;

상기 제1, 제2 기판을 정렬하여 합착하는 합착단계를 포함하며,And a bonding step of aligning and bonding the first and second substrates.

상기 방전유지전극 형성단계는 투명전극 물질막이 형성된 상기 제1 기판에 대하여 임의의 레이저 패턴으로 레이저를 주사시켜 투명전극 물질막을 가공하여 투명전극을 형성하는 단계와 이 투명전극 상에 형성되는 금속 도전막을 가공하여 버 스전극을 형성하는 단계로 이루어지고,The discharging sustain electrode forming step may include forming a transparent electrode by processing a transparent electrode material film by scanning a laser with an arbitrary laser pattern on the first substrate on which the transparent electrode material film is formed, and forming a metal conductive film formed on the transparent electrode. Processing to form a bus electrode,

상기 투명전극 형성단계는 레이저 패턴의 경계선을 비방전 영역에 대응하는 제1 기판 상에 위치시킨다.In the transparent electrode forming step, the boundary line of the laser pattern is positioned on the first substrate corresponding to the non-discharge area.

상기 투명전극 형성단계는 레이저 패턴의 일부를 중첩하여 투명전극 물질막 패턴을 형성한다.In the transparent electrode forming step, a part of the laser pattern is overlapped to form a transparent electrode material layer pattern.

상기 투명전극 형성단계는 레이저 패턴 경계선을 스트라이프형 방전셀의 세로 격벽에 대응하는 위치에 배치한다.In the transparent electrode forming step, the laser pattern boundary line is disposed at a position corresponding to the vertical partition wall of the stripe discharge cell.

상기 투명전극 형성단계는 레이저 패턴 경계선을 폐쇄형 방전셀의 가로 격벽 및 세로 격벽에 대응하는 위치에 형성한다.In the transparent electrode forming step, a laser pattern boundary line is formed at a position corresponding to a horizontal partition wall and a vertical partition wall of the closed discharge cell.

상기 투명전극 형성단계는 1회 레이저 식각으로 형성되는 투명전극 물질막 패턴이 방전셀과 일치되게 형성한다.In the transparent electrode forming step, the transparent electrode material film pattern formed by laser etching is formed to match the discharge cell.

상기 투명전극 형성단계는 실질적으로 H 형상의 레이저 패턴이 형성된 레이저 토치를 사용한다.The transparent electrode forming step uses a laser torch having a substantially H-shaped laser pattern formed thereon.

또한, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은,In addition, the plasma display panel according to the present invention,

투명전극 물질막으로 가공되는 투명전극과 이 투명전극 위의 금속 도전막으로 가공되는 버스전극을 포함하는 방전유지전극이 복수로 형성되는 제1 기판과, 상기 방전유지전극과 직각을 이루는 어드레스전극과 격벽이 복수로 형성되는 제2 기판이 합착되어 형성되며,A first substrate having a plurality of discharge sustaining electrodes including a transparent electrode processed into a transparent electrode material film and a bus electrode processed into a metal conductive film on the transparent electrode, an address electrode perpendicular to the discharge sustaining electrode, The second substrate having a plurality of partition walls are formed by bonding,

상기 제1 기판의 비방전영역에 대응하는 부위에 상기 투명전극 물질막을 패터닝하기 위하여 사용되는 레이저 패턴의 경계선이 형성된다.A boundary line of a laser pattern used to pattern the transparent electrode material film is formed at a portion corresponding to the non-discharge region of the first substrate.

상기 제1 기판은 레이저 패턴 경계선을 스트라이프형 방전셀의 세로 격벽에 대응하는 위치에 구비한다.The first substrate includes a laser pattern boundary at a position corresponding to the vertical partition wall of the stripe discharge cell.

상기 제1 기판은 레이저 패턴 경계선을 폐쇄형 방전셀의 가로 격벽 및 세로 격벽에 대응하는 위치에 구비한다.The first substrate has a laser pattern boundary at a position corresponding to a horizontal partition wall and a vertical partition wall of the closed discharge cell.

상기 제1 기판은 1회 레이저 식각으로 형성되는 투명전극 물질막 패턴이 방전셀과 일치된다.In the first substrate, a transparent electrode material film pattern formed by laser etching is coincident with the discharge cell.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 다양한 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, various embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 일부를 개략적으로 도시한 부분 분해 사시도이다.1 is a partially exploded perspective view schematically showing a part of a plasma display panel according to the present invention.

도면을 참조하면, PDP는 전면기판(1, 이하 '제1 기판'이라 한다)의 내표면에는 방전유지전극으로 작용하는 X 전극(3) 및 Y 전극(5)을 형성하고, 배면기판(7, 이하 '제2 기판'이라 한다)의 내표면에는 어드레스전극(9) 및 격벽(11)을 형성한다. 상기 X, Y 전극(3, 5)은 복수의 쌍으로 이루어지며, 상기 X 전극(3) 및 Y 전극(5) 사이에서는 PDP 작동 시에 유지 방전이 일어난다. 이 X 전극(3) 및 Y 전극(5)과 어드레스전극(9)은 제1 기판(1) 및 제2 기판(7)의 내표면에 각각 스트라이프 형상으로 형성되어 제1 기판(1)과 제2 기판(7)이 상호 조립되었을 때 서로에 대하여 직각으로 교차하게 된다.Referring to the drawings, the PDP forms an X electrode 3 and a Y electrode 5 on the inner surface of the front substrate 1 (hereinafter referred to as a 'first substrate') and serve as discharge sustaining electrodes, and the rear substrate 7 The address electrode 9 and the partition 11 are formed on the inner surface of the second substrate hereinafter. The X and Y electrodes 3 and 5 are composed of a plurality of pairs, and sustain discharge occurs between the X electrode 3 and the Y electrode 5 during the operation of the PDP. The X electrode 3, the Y electrode 5, and the address electrode 9 are formed in stripe shapes on the inner surfaces of the first substrate 1 and the second substrate 7, respectively, to form the first substrate 1 and the first substrate. When the two substrates 7 are assembled together, they cross at right angles to each other.

이 제1 기판(1)의 내표면에는 유전층(13)과 보호막(15)이 차례로 적층된다. 한편, 제2 기판(7)에는 유전층(17)의 상부 표면에 상기한 격벽(11)이 형성되며, 이 격벽(11)에 의해 방전셀(19)이 형성된다. 이 방전셀(19) 내에는 네온(Ne) 및 제논(Xe) 같은 불활성 가스가 충전된다. 또한 각각의 방전셀(19)을 형성하는 격벽(11)의 내측에는 소정 부위에 형광체(21)가 도포된다. 한편, X 전극(3) 및 Y 전극(5)은 면방전을 일으키는 투명전극(3a, 5a)과 이 투명전극(3a, 5a)에 전류를 공급하는 버스전극(3b, 5b)으로 구성된다. 투명전극(3a, 5a)은 전방 개구율을 향상시키기 위하여 투명전극 물질막으로 형성되고, 버스전극(3b, 5b)은 저항을 줄이면서 투명전극(3a, 5a)으로 전류를 공급할 수 있도록 금속 도전막으로 형성된다.The dielectric layer 13 and the protective film 15 are sequentially stacked on the inner surface of the first substrate 1. On the other hand, the partition 11 is formed on the upper surface of the dielectric layer 17 on the second substrate 7, and the discharge cell 19 is formed by the partition 11. The discharge cell 19 is filled with an inert gas such as neon (Ne) and xenon (Xe). In addition, the phosphor 21 is coated on a predetermined portion inside the partition 11 forming each discharge cell 19. On the other hand, the X electrode 3 and the Y electrode 5 are composed of transparent electrodes 3a and 5a for causing surface discharge and bus electrodes 3b and 5b for supplying current to the transparent electrodes 3a and 5a. The transparent electrodes 3a and 5a are formed of a transparent electrode material film to improve the front opening ratio, and the bus electrodes 3b and 5b are metal conductive films to supply current to the transparent electrodes 3a and 5a while reducing resistance. Is formed.

상기 PDP는 X, Y 전극(3, 5)의 투명전극(3a, 5a)을 방전셀(19)의 중심을 향하여 돌출된 형태로 형성하고 있다. 즉 상기 투명전극(3a, 5a)은 상기 제1 기판(1)의 일방향(x)을 따라 길게 배치되는 베이스(30a, 50a)와 이 베이스(30a, 50a)로부터 임의의 사이 간격을 두고 상기 방전셀(19)의 중심을 향해 돌출된 상태로 배치되는 돌출부(32a, 52a)를 포함함에 따라, 여기서 돌출부(32a, 52a) 사이에 형성되는 공간은 이후 설명될 상기 투명전극(3a, 5a)의 돌출부(32a, 52a) 제조 공정시 레이저 식각에 의해 제거되는 절개부(23)를 나타낸다.In the PDP, transparent electrodes 3a and 5a of the X and Y electrodes 3 and 5 are formed to protrude toward the center of the discharge cell 19. That is, the transparent electrodes 3a and 5a are discharged at random intervals from the bases 30a and 50a disposed along the one direction x of the first substrate 1 and the bases 30a and 50a. As it includes protrusions 32a and 52a which are arranged to protrude toward the center of the cell 19, the space formed between the protrusions 32a and 52a is defined by the transparent electrodes 3a and 5a which will be described later. The cutout 23 is removed by laser etching during the manufacturing process of the protrusions 32a and 52a.

또한, 방전셀(19)을 형성하는 격벽(11)은 스트라이프 형상의 개방형 형태로 형성되고 있으나 이 또한 이로 한정되지 않고 격자형과 같은 폐쇄형으로 형성 가능하다. 상기 제1 기판(1)과 제2 기판(7)이 서로 조립될 때, 상기 절개부(23)의 중심부 및 이에 대응하는 상기 제1 기판(1) 부위의 중심부는 대략 상기 격벽(11)의 중심부에 맞추어 위치한다. 상기 PDP에서 제1 기판(1)의 특징적인 구성은 이하의 PDP 제조방법을 통해 상세히 설명한다.In addition, the partition wall 11 forming the discharge cell 19 is formed in an open shape having a stripe shape, but is not limited thereto and may be formed in a closed shape such as a lattice shape. When the first substrate 1 and the second substrate 7 are assembled with each other, the central portion of the cutout 23 and the central portion of the corresponding portion of the first substrate 1 may be approximately equal to that of the partition 11. It is located in the center. A characteristic configuration of the first substrate 1 in the PDP will be described in detail through the following PDP manufacturing method.

이 PDP 제조방법은 제1 기판(1)에 방전유지전극을 형성하고, 제2 기판(7)에 어드레스전극/격벽을 형성한 후, 이렇게 형성된 제1, 제2 기판(1, 7)을 서로 합착하여 PDP를 완성하는 단계로 크게 구분된다.In this PDP manufacturing method, the discharge sustaining electrode is formed on the first substrate 1, the address electrode / partition wall is formed on the second substrate 7, and the first and second substrates 1 and 7 thus formed are mutually connected. The process is largely divided into the steps to complete the PDP.

상기 방전유지전극 형성단계는 글라스로 형성되는 제1 기판(1)의 내표면에 X, Y 전극(3, 5)을 평행하게 배치하여 한 쌍으로 형성하고 이 X, Y 전극(3, 5) 쌍을 복수로 형성하며, 이렇게 형성된 X, Y 전극(3, 5) 쌍들을 유전층(13)과 보호막(15)으로 매립하는 단계를 더 거침으로써 방전유지전극을 완성한다.In the discharging sustain electrode forming step, the X and Y electrodes 3 and 5 are arranged in parallel on the inner surface of the first substrate 1 formed of glass and formed in a pair, and the X and Y electrodes 3 and 5 are formed. A plurality of pairs are formed, and the sustain electrode is completed by further embedding the pairs of the X and Y electrodes 3 and 5 thus formed into the dielectric layer 13 and the passivation layer 15.

이 X, Y 전극(3, 5)을 형성하는 단계는 투명전극(3a, 5a)을 형성하는 단계와 이 투명전극(3a, 5a) 상에 버스전극(3b, 5b)을 형성하는 단계로 이루어진다. 이 투명전극(3a, 5a) 형성단계는 제1 기판(1)의 내표면에 투명전극 물질막(17, 예를 들면, ITO)을 형성하고, 이 투명전극 물질막에 대해 레이저 패턴이 형성된 레이저 토치(28)를 이동시키면서 투명전극 물질막을 레이저 식각함으로서 투명전극(3a, 5a)을 형성한다. 버스전극(3b, 5b) 형성단계는 상기 투명전극(3a, 5a) 상에 금속 도전막을 형성하고 이 금속 도전막을 레이저 식각으로 가공함으로서 버스전극(3b, 5b)을 상기 투명전극(3a, 5a)에 적층 형성한다.Forming the X, Y electrodes 3, 5 comprises forming transparent electrodes 3a, 5a and forming bus electrodes 3b, 5b on the transparent electrodes 3a, 5a. . In the forming of the transparent electrodes 3a and 5a, a transparent electrode material film 17 (for example, ITO) is formed on the inner surface of the first substrate 1, and a laser pattern is formed on the transparent electrode material film. The transparent electrodes 3a and 5a are formed by laser etching the transparent electrode material film while the torch 28 is moved. In the forming of the bus electrodes 3b and 5b, a metal conductive film is formed on the transparent electrodes 3a and 5a and the metal conductive film is processed by laser etching, thereby forming the bus electrodes 3b and 5b into the transparent electrodes 3a and 5a. Laminated to form.

이를 위하여 버스전극(3b, 5b)을 가공하기 전, 제1 기판(1)에 투명전극(3a, 5a)을 형성할 때, 버스전극(3b, 5b) 형성을 위한 얼라인먼트 마크를 미리 형성하고, 이 얼라인먼트 마크를 기준으로 투명전극 물질막을 형성하고 이 투명전극 물질막을 레이저 식각으로 가공하여 투명전극(3a, 5a)을 형성하게 되면 이 투명전극(3a, 5a)과 후 공정에서 형성되는 버스전극(3b, 5b)은 상호 일치된다.To this end, before forming the transparent electrodes 3a and 5a on the first substrate 1 before processing the bus electrodes 3b and 5b, alignment marks for forming the bus electrodes 3b and 5b are formed in advance. When the transparent electrode material film is formed on the basis of the alignment mark and the transparent electrode material film is processed by laser etching to form the transparent electrodes 3a and 5a, the transparent electrodes 3a and 5a and the bus electrode formed in a subsequent process ( 3b and 5b) coincide with each other.

상기 투명전극 형성단계는 레이저 패턴이 형성된 레이저 토치(28)를 소정의 피치로 이동시키면서 투명전극 물질막을 레이저 식각하여 투명전극(3a, 5a)을 형성하는 데, 이 때 주사되는 레이저 패턴의 경계선은 PDP의 비방전 영역, 가령 상기 격벽(11)의 중심 부위에 대응하는 위치의 제1 기판(1) 상에 형성되는 것이 바람직하다.In the transparent electrode forming step, the transparent electrode material layer is laser-etched while the laser torch 28 having the laser pattern is formed at a predetermined pitch to form transparent electrodes 3a and 5a. It is preferably formed on the first substrate 1 at a position corresponding to a non-discharge area of the PDP, for example, the center portion of the partition 11.

도 2는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법에 의하여 제1 기판에 투명전극 물질막 패턴을 레이저 식각(laser ablation) 방법으로 형성하는 공정을 개략적으로 도시한 제1 기판의 단면도이고, 도 3은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법에 의하여 제1 기판에 투명전극 물질막 패턴을 레이저 식각 방법으로 형성하는 공정을 개략적으로 도시한 제1 기판의 평면도이며, 도 4는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법에서 제1 기판에 투명전극 물질막 패턴을 레이저 식각 방법으로 형성하는 레이저 패턴과 방전셀과의 일치 관계를 도시한 평면도이고, 도 5는 도 4의 레이저 패턴에 의하여 레이저 식각된 투명전극 물질막 패턴이 형성된 제1 기판의 부분 평면도이다.FIG. 2 is a cross-sectional view of a first substrate schematically illustrating a process of forming a transparent electrode material film pattern on a first substrate by a laser ablation method by a method of manufacturing a plasma display panel according to the present invention. FIG. 4 is a plan view of a first substrate schematically illustrating a process of forming a transparent electrode material film pattern on a first substrate by a laser etching method by a method of manufacturing a plasma display panel according to the present invention, and FIG. 4 is a plasma display panel according to the present invention. FIG. 5 is a plan view illustrating a matching relationship between a laser pattern for forming a transparent electrode material film pattern on a first substrate by a laser etching method and a discharge cell in a manufacturing method, and FIG. 5 is a transparent electrode material laser-etched by the laser pattern of FIG. 4. A partial plan view of the first substrate on which a film pattern is formed.

도면을 참조하면, 도 2의 (a)는 투명전극(3a, 5a)을 형성하기 위하여, 먼저 제1 기판(1) 상에 레이저 식각 대상인 투명전극 물질막(27, 예를 들면, 투명 전도 필름)을 형성시킨다.Referring to FIG. 2A, in order to form the transparent electrodes 3a and 5a, first, a transparent electrode material film 27 (eg, a transparent conductive film) that is a laser etching target on the first substrate 1 is formed. ).

상기와 투명전극 물질막(27)은 투명전극 물질막 패턴(P)을 따른 레이저 식각 방법에 의하여, 제1 기판(1) 상에 투명전극(3a, 5a)으로 가공된다(도 2의 b, c 참조). 여기서, 레이저 식각 방법은 제1 기판(1)의 상측에서 1회 스캔(scan) 폭만큼 x 방향으로 진행한 후, 한 라인 y 방향으로 이동하여 반 x 방향으로 1회 스캔 폭만큼 진행한 후, 다시 한 라인 y 방향으로 이동하여 1회 스캔 폭만큼 x 방향으로 진행하는 과정을 반복하여, 1회 스캔 폭에 상응하는 y 방향의 투명전극 물질막 패턴(P)을 형성한다. 또한 이 레이저 식각 방법은 1회 스캔 폭에 상응하는 y 방향의 투명전극 물질막 패턴(P)을 형성한 후 1회 스캔 폭만큼 x 방향으로 더 이동되어 상기와 같은 과정을 반복 실행하여 제1 기판(1)의 전 투명전극 물질막(27)에 투명전극 물질막 패턴(P) 형성을 완료한다(도 3 참조).The transparent electrode material film 27 is processed into transparent electrodes 3a and 5a on the first substrate 1 by a laser etching method along the transparent electrode material film pattern P (b, FIG. c). Here, the laser etching method proceeds in the x direction by one scan width on the upper side of the first substrate 1, moves in one line y direction, and advances by one scan width in the half x direction. The process of moving to the line y direction again and proceeding in the x direction by one scan width is repeated to form the transparent electrode material film pattern P in the y direction corresponding to the one scan width. In addition, the laser etching method forms a transparent electrode material film pattern P in the y direction corresponding to one scan width, and then moves further in the x direction by one scan width, thereby repeating the above process to repeat the above process. The formation of the transparent electrode material film pattern P is completed on the entire transparent electrode material film 27 in (1) (see Fig. 3).

상기와 같이 투명전극 물질막(27)을 레이저로 식각하여 투명전극(3a, 5a)을 형성할 때, 레이저 토치(28)에 형성된 레이저 패턴(LP)은 이전 회에서 식각된 레이저 패턴(LP)과 일부 중첩되면서 레이저 식각 방향으로 이동된다(도 4 참조). 이 레이저 패턴(LP)은 1회의 레이저 식각으로 2개의 방전셀(19)에 해당하는 투명전극 물질막(27)을 식각하고, 식각된 1개의 방전셀(19)에 해당하는 폭만큼 중첩 이동되면서 투명전극 물질막(27)을 식각하는 과정을 반복적으로 수행하게 된다.When the transparent electrode material layer 27 is etched with a laser to form the transparent electrodes 3a and 5a as described above, the laser pattern LP formed on the laser torch 28 is the laser pattern LP etched in the previous time. While partially overlapping with the laser, the laser is moved in the laser etching direction (see FIG. 4). The laser pattern LP etches the transparent electrode material films 27 corresponding to the two discharge cells 19 by one laser etching, and overlaps the widths corresponding to the etched discharge cells 19. The process of etching the transparent electrode material layer 27 is repeatedly performed.

이때 레이저 패턴(LP)의 경계선(BL; BLa, BLb)을 상기한 비방전 영역, 즉 격벽(11)에 대응하는 위치의 제1 기판(1) 상에 형성하는 것이 바람직하다. 이 레이저 패턴(LP) 경계선(BL) 중 세로 방향의 경계선(BLa)은 스트라이프형 방전셀의 경우에는 세로 격벽(11)에 대응되는 위치에 배치되고, 폐쇄형 방전셀의 경우에 상기 세로 방향의 경계선(BLa) 및 가로 방향의 경계선(BLb)은 각기 세로 격벽 및 가로 격벽에 대응되는 위치에 배치되는 것이 바람직하다.At this time, it is preferable to form the boundary lines BL (BLa, BLb) of the laser pattern LP on the first substrate 1 at a position corresponding to the non-discharge area, that is, the partition wall 11. The longitudinal boundary BLa of the laser pattern LP boundary line BL is disposed at a position corresponding to the vertical partition wall 11 in the case of a stripe discharge cell, and in the longitudinal direction in the case of a closed discharge cell. The boundary line BLa and the boundary line BLb in the horizontal direction are preferably disposed at positions corresponding to the vertical partition walls and the horizontal partition walls, respectively.

이와 같은 레이저 패턴(LP)의 경계선(BL)은 조사되는 레이저의 과도한 열에 의하여 제1 기판(1)을 부분적으로 변질시키거나 레이저 식각으로 인한 투명전극 물질의 잔류량에 차이가 발생되더라도 스트라이프형 방전셀의 세로 격벽(11)과 폐쇄형 방전셀의 가로 및 세로 격벽, 즉 비방전 영역에 형성되므로 방전셀(19) 내에서 발광된 빛의 투과율에 영향을 미치지 않게 되고, 이로 인하여 방전 영역의 중간에서 얼룩이 발생되는 것을 방지할 수 있다.The boundary line BL of the laser pattern LP may have a stripe-type discharge cell even when the first substrate 1 is partially deteriorated due to excessive heat of the irradiated laser or a difference in the residual amount of the transparent electrode material due to laser etching occurs. Since it is formed in the vertical bulkhead 11 and the horizontal and vertical bulkheads of the closed type discharge cell, that is, in the non-discharge area, it does not affect the transmittance of the light emitted in the discharge cell 19, thereby causing stains in the middle of the discharge area. Can be prevented from occurring.

또한, 이 레이저 패턴(LP)의 경계선(BL)은 1회의 레이저 식각으로 형성되는 투명전극 물질막 패턴, 즉 투명전극(3a, 5a)이 방전셀(19)과 일치되는 상태로 형성되게 한다. 이와 같은 레이저 패턴(LP)은 대략 H 형상으로 이루어지며, 본 실시예의 도 4에는 연속된 H 형상으로 이루어진 것이 예시되어 있다.In addition, the boundary line BL of the laser pattern LP allows the transparent electrode material film pattern formed by one laser etching, that is, the transparent electrodes 3a and 5a to be formed in a state coinciding with the discharge cell 19. Such a laser pattern LP is formed in an approximately H shape, and in FIG. 4 of the present embodiment, one having a continuous H shape is illustrated.

상기와 같은 레이저 패턴(LP)을 도 4의 ①, ②, ③, ④와 같이 상기 레이저 토치(28)를 순차적으로 이동시면서 투명전극(3a, 5a)을 완성한 후(도 2의 c 참조), 이 투명전극(3a, 5a) 위에 금속 도전막(31)을 형성한다(도 2의 d 참조). 이 금속 도전막(31)을 에칭 처리로 가공하여 버스전극(3b, 5b)을 형성한다(도 2의 e 참조).After completing the transparent electrodes 3a and 5a while sequentially moving the laser torch 28 as shown in ①, ②, ③ and ④ of FIG. 4 (see c of FIG. 2), A metal conductive film 31 is formed on the transparent electrodes 3a and 5a (see d in FIG. 2). The metal conductive film 31 is processed by an etching process to form bus electrodes 3b and 5b (see e in FIG. 2).

상기와 같이 제1 기판(1)에 투명전극(3a, 5a) 및 버스전극(3b, 5b)을 가지는 X, Y 전극(3, 5)을 각각 형성한 후, 이 X, Y 전극(3, 5)을 유전층(13)과 보호층(15)으로 매립함으로서 방전유지전극을 완성한다.As described above, after forming the X, Y electrodes 3, 5 having the transparent electrodes 3a, 5a and the bus electrodes 3b, 5b on the first substrate 1, the X, Y electrodes 3, 5) is filled with the dielectric layer 13 and the protective layer 15 to complete the discharge sustaining electrode.

또한, 제2 기판(7)에 어드레스전극(9)을 형성한 후 유전층(17)을 형성하고, 이 유전층(17) 위에 격벽(11)을 형성한 후, 형광층(21)을 형성하여 어드레스전극/격벽을 완성한다.In addition, after the address electrode 9 is formed on the second substrate 7, the dielectric layer 17 is formed, the partition 11 is formed on the dielectric layer 17, and the fluorescent layer 21 is formed to form the address. Complete the electrode / bulk.

이와 같이 제작한 제1, 2 기판(1, 7)을 상호 합착하고, 이 제1, 2 기판(1, 7) 내부의 방전 공간을 배기시켜 고진공으로 형성한 후 소정의 압력으로 방전가스를 봉입하여 PDP를 완성한다.The first and second substrates 1 and 7 thus produced are bonded to each other, the discharge spaces inside the first and second substrates 1 and 7 are exhausted to form a high vacuum, and then the discharge gas is sealed at a predetermined pressure. To complete the PDP.

이상을 통해 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited thereto, and various modifications and changes can be made within the scope of the claims and the detailed description of the invention and the accompanying drawings. Naturally, it belongs to the scope of the invention.

이상 설명한 바와 같이 본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 제1 기판에 투명전극 물질막을 패터닝하여 투명전극을 레이저 식각 방법으로 형성할 때 레이저가 주사되는 레이저 패턴의 경계선을 비방전 영역에 대응하는 제1 기판 상의 부위에 배치함으로써, 레이저 식각에 따른 장점을 가지면서, 레이저 식각으로 인한 글라스 변질 및 방전 영역에서 투명전극 물질 잔여량의 차이에 의한 투과율의 미세한 차이에 의한 얼룩 현상을 방지하는 효과가 있다.As described above, according to the present invention, when the transparent electrode material film is patterned on the first substrate of the plasma display panel to form the transparent electrode by a laser etching method, a portion of the first substrate corresponding to the non-discharge region forms a boundary line of the laser pattern to which the laser is scanned. By disposing it in, it has the advantage of laser etching, there is an effect of preventing the stain phenomenon due to the minute difference in transmittance due to the difference in the residual amount of the transparent electrode material in the glass deterioration and discharge region due to laser etching.

Claims (10)

방전유지전극을 제1 기판 상에 형성하는 방전유지전극 형성단계;A discharge sustaining electrode forming step of forming a discharge sustaining electrode on the first substrate; 상기 방전유지전극과 직각을 이루는 어드레스전극과 격벽을 제2 기판 상에 형성하는 어드레스전극/격벽 형성단계;Forming an address electrode and a partition on the second substrate, wherein the address electrode and the partition are perpendicular to the discharge sustain electrode; 상기 제1, 제2 기판을 정렬하여 합착하는 합착단계를 포함하며,And a bonding step of aligning and bonding the first and second substrates. 상기 방전유지전극 형성단계는 투명전극 물질막이 형성된 상기 제1 기판에 대하여 임의의 레이저 패턴으로 레이저를 주사시켜 투명전극 물질막을 가공하여 투명전극을 형성하는 단계와 이 투명전극 상에 형성되는 금속 도전막을 가공하여 버스전극을 형성하는 단계로 이루어지고,The discharging sustain electrode forming step may include forming a transparent electrode by processing a transparent electrode material film by scanning a laser with an arbitrary laser pattern on the first substrate on which the transparent electrode material film is formed, and forming a metal conductive film formed on the transparent electrode. Processing to form a bus electrode, 상기 투명전극 형성단계는 레이저 패턴의 경계선을 비방전 영역에 대응하는 제1 기판 상에 위치시키는 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법.In the transparent electrode forming step, the boundary line of the laser pattern is positioned on the first substrate corresponding to the non-discharge area. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 투명전극 형성단계는 레이저 패턴의 일부를 중첩하여 투명전극 물질막 패턴을 형성하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법.The transparent electrode forming step of forming a transparent electrode material film pattern by overlapping a portion of the laser pattern. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 투명전극 형성단계는 레이저 패턴 경계선을 스트라이프형 방전셀의 세로 격벽에 대응하는 위치에 배치하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법.The transparent electrode forming step of the plasma display panel manufacturing method for arranging the laser pattern boundary line at a position corresponding to the vertical partition wall of the stripe discharge cell. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 투명전극 형성단계는 레이저 패턴 경계선을 폐쇄형 방전셀의 가로 격벽 및 세로 격벽에 대응하는 위치에 형성하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법.The transparent electrode forming step is a plasma display panel manufacturing method for forming a laser pattern boundary line at a position corresponding to the horizontal partition wall and the vertical partition wall of the closed discharge cell. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 투명전극 형성단계는 1회 레이저 식각으로 형성되는 투명전극 물질막 패턴이 방전셀과 일치되게 형성하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법.The transparent electrode forming step is a plasma display panel manufacturing method for forming a transparent electrode material film pattern formed by laser etching in accordance with the discharge cell. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 투명전극 형성단계는 실질적으로 H 형상의 레이저 패턴이 형성된 레이저 토치를 사용하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법.The transparent electrode forming step is a plasma display panel manufacturing method using a laser torch having a substantially H-shaped laser pattern formed. 투명전극 물질막으로 가공되는 투명전극과 이 투명전극 위의 금속 도전막으로 가공되는 버스전극을 포함하는 방전유지전극이 복수로 형성되는 제1 기판과, 상기 방전유지전극과 직각을 이루는 어드레스전극과 격벽이 복수로 형성되는 제2 기판이 합착되어 형성되며,A first substrate having a plurality of discharge sustaining electrodes including a transparent electrode processed into a transparent electrode material film and a bus electrode processed into a metal conductive film on the transparent electrode, an address electrode perpendicular to the discharge sustaining electrode, The second substrate having a plurality of partition walls are formed by bonding, 상기 제1 기판의 비방전영역에 대응하는 부위에 상기 투명전극 물질막을 패터닝하기 위하여 사용되는 레이저 패턴의 경계선이 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널.And a boundary line of a laser pattern used to pattern the transparent electrode material film on a portion corresponding to the non-discharge area of the first substrate. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제1 기판은 레이저 패턴 경계선을 스트라이프형 방전셀의 세로 격벽에 대응하는 위치에 구비하는 플라즈마 디스플레이 패널.And the first substrate includes a laser pattern boundary at a position corresponding to a vertical partition of the stripe discharge cell. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제1 기판은 레이저 패턴 경계선을 폐쇄형 방전셀의 가로 격벽 및 세로 격벽에 대응하는 위치에 구비하는 플라즈마 디스플레이 패널.And the first substrate includes a laser pattern boundary at positions corresponding to horizontal and vertical barriers of the closed discharge cell. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제1 기판은 1회 레이저 식각으로 형성되는 투명전극 물질막 패턴이 방전셀과 일치되는 플라즈마 디스플레이 패널.The first substrate is a plasma display panel in which a transparent electrode material film pattern formed by laser etching coincides with a discharge cell.
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