KR100565190B1 - 격벽 제조방법 및 격벽 성형용 금형 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 플라즈마 표시장치 격벽 제조방법 및 격벽 성형용 금형에 관한 것으로, 격벽 제조방법은 기판의 상부에 고온에서 소성되는 특성을 갖는 물질을 적용시켜 고온소성을 통해 유전체층을 형성하는 단계와, 상기 유전체층의 상부면에 전극인쇄기를 이용하여 전극층을 형성하는 단계와, 상기 유전체층의 상부에 격벽과 역상을 갖는 금형을 이용하여 저온에서 소성되는 특성을 갖는 물질을 소성온도로 적용한 후 상온으로 냉각시켜 격벽을 형성하는 단계를 포함하며, 격벽 성형용 금형은 액상유리가 주입될 수 있도록 형성된 다수개의 관통홈을 구비한다.
이러한, 격벽 제조방법 및 격벽 성형용 금형에 의하면 고종횡비를 갖는 고정세용 격벽을 형성할 수 있게 된다.

Description

격벽 제조방법 및 격벽 성형용 금형{Method of Fabricating Barrier Rib and Mold for Forming Barrier Rib}
도 1은 종래의 플라즈마 표시장치의 구조를 도시한 도면.
도 2는 플라즈마 표시장치의 제조방법을 설명하기 위해 도시한 도면.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 격벽 제조방법을 설명하기 위해 도시한 도면.
도 4는 도 3에 이용되는 금형을 도시한 도면.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 격벽 제조방법을 설명하기 위해 도시한 도면.
도 6은 도 5에 이용되는 금형을 도시한 도면.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 >
2,24,46 : 어드레스 전극 4 : 투명전극쌍
6 : 형광체 8,30,60 : 격벽
10 : 보호막 12,18,42 : 유전체층
14,22,40 : 하부기판 16 : 상부기판
26 : 전극보호층 28,50,58 : 금형
52 : 이형막 54 : 노즐
56 : 액상유리 58a : 관통홈
본 발명은 플라즈마 표시장치 격벽 제조방법 및 격벽 성형용 금형에 관한 것이다.
최근, 액정표시장치(Liquid Crystal Display; 이하 "LCD"라 함), 전계방출 표시장치(Field Emission Display; 이하 "FED"라 함) 및 플라즈마 표시장치(Plasma Display Panel; 이하 "PDP"라 함)등의 평면 표시장치가 활발히 개발되고 있으며, 이들중 PDP는 단순구조에 의한 제작의 용이성, 고휘도 및 고발광 효율의 우수, 메모리 기능 및 160。 이상의 광시야각을 갖는 점과 아울러 40 인치이상의 대화면을 구현할수 있는 장점을 가지고 있다.
도 1을 참조하면, 종래기술에 따른 PDP는 어드레스 전극(2)을 실장한 하부기판(14)과, 상기 하부기판(14)의 상부에 소정의 두께로 도포되어 벽전하(Wall Charge)를 형성하는 유전체층(18)과, 유전체층(18)의 상부에 형성되어 각각의 방전셀을 분할하는 격벽(8)과, 플라즈마 방전으로 발생된 빛에 의해 여기되어 발광하는 형광체(6)와, 상부기판(16)의 상부에 형성된 투명전극쌍(4)과, 상기 상부기판(16) 및 투명전극쌍(4)의 상부에 소정의 두께로 도포되어 벽전하를 형성하는 유전체층(12)과, 유전체층(12)의 상부에 도포된 방전에 의한 스퍼터링으로부터 유전체층(12)을 보호하는 보호막(10)을 구비한다. 투명전극쌍(4) 중 어느 하나의 전극과 어드레스 전극(2) 사이에 소정의 전압레벨을 갖는 구동전압이 인가될때, 어드레스 전극(2)에서 방출되는 전자에 의해 플라즈마 방전이 셀의 내부에서 일어나게 된다. 이어서, 투명전극쌍(4) 사이에 소정의 전압레벨을 갖는 구동전압을 인가하여 플라즈마 방전이 방전셀 내에서 지속되게 한다. 이때, 투명전극쌍(4)에서 방출된 전자들은 방전셀에 주입되어진 He+Xe의 혼합가스 또는 Ne+Xe의 혼합가스의 원자와 충돌하여 그 혼합가스의 원자들이 이온화 되게함과 아울러 2차전자들이 방출되게 된다. 2차전자들은 다른 혼합가스의 원자들과 충돌함으로써 다른 혼합가스의 원자들이 이온화되게 한다. 이와같은 2차전자들과 상기 혼합가스의 원자들간의 반복적인 충돌에 의하여 전자들과 가스이온들이 증가하는 애벌런치(Avalanche) 현상이 발생하게 된다. 이러한 애벌런치 현상에 의해 자외선이 발생되게 되고 이 자외선에 의해 적색(Red; 이하 "R"라 함), 녹색(Green; 이하 "G"라 함), 청색(Blue;이하 "B"라 함)의 형광체들이 발광함으로써 R,G,B의 가시광선이 방출되어진다. 상기 가시광선이 상부기판(16)을 경유하여 방사됨으로써 문자 또는 그래픽을 포함한 화상이 표시되어 진다.
한편, PDP를 고화질 디스플레이 장치에 적용하는 추세에 따라 격벽은 고정세화됨과 아울러, 고종횡비(High-Aspect Ratio)를 요구하게 되었다. 이러한 요구에 부응하여 공정을 단순화함과 아울러, 고정세, 고종횡비의 격벽을 제조할수 있는 LTCCM(Low Temperature Cofired Ceramic on Metal; 이하 "LTCCM"이라 함)방식이 제안되고 있다. 이하, LTCCM방식을 이용한 격벽 제조방법에 대해서 살펴보기로 한다.
도 2를 참조하면, 종래기술에 따른 격벽 제조방법의 수순이 도시되어 있다.
먼저, 그린시트(Green Sheet;20)를 형성한다. 그린시트(20)는 슬러리(Slurry)를 제조한후, 상기 슬러리를 테잎 캐스팅장치를 이용하여 소정의 두께를 갖도록하여 형성하게 된다. 이때, 슬러리는 글래스분말에 유기물을 소정의 비율로 혼합함에 의해 형성된다. 이 경우, 유기물은 유리분말의 점도를 유지하는 결합제와, 슬러리의 경화를 방지하여 소정의 유연성을 갖도록하는 가소제와, 상기 결합제와 가소제를 용해시키기 위한 용매와, 소정량의 첨가제를 의미한다. 상기 슬러리는 액상의 상태를 유지하며 테이프 캐스팅(Tape Casting)용으로 사용된다. 이와같이 슬러리를 테잎캐스팅장치를 이용하여 소정의 두께로 형성하는 제조방법을 "닥터 브레이드법"이라 한다. 상기 과정에 의해 형성된 그린시트(20)가 도 2의 (a)에 도시되어 있다.
이어서, 그린시트(20)를 기판(22)에 적층한다. 상기 그린시트(20)를 테잎 캐스팅장치로 부터 분리한후 소정의 두께를 갖는 기판(22)의 상부에 적층하여 부착시키게 된다. 상기 기판(22)의 재질로는 글래스, 글래스-세라믹, 세라믹, 금속 등을 사용하게 된다. 특히 금속재질의 경우 티타늄(Titanium)이 주로 사용된다. 이때, 기판(22)의 상부에 적층된 그린시트(20)가 도 2의 (b)에 도시되어 있다.
다음으로, 그린시트(20)에 전극(24)을 형성한다. 상기 기판(22)에 적층된 그린시트(20)를 인쇄기(도시되지 않음)에 투입하여 전극(24)을 인쇄하여 형성하게 된다. 이때, 그린시트(20)의 상부에 형성된 전극(24)이 도 2의 (c)에 도시되어 있다.
이어서, 전극(24)의 상부에 전극보호층(26)을 형성한다. 전극(24)의 상부에 전극을 보호하기 위한 전극보호층(26)을 형성하게 된다. 이때, 전극(24)의 상부에 형성된 전극보호층(26)이 도 2의 (d)에 도시되어 있다.
마지막으로, 격벽 반대형상의 금형(Mold;28)을 상기 기판(22)의 상부에 위치시킨후, 소정의 압력을 가해 격벽(30)을 성형한다. 상기 기판(22)의 상부에 격벽 반대형상의 홈(28a)을 가진 금형(28)을 위치시킨후, 소정의 압력(예를들면, 100㎏f/㎠)을 가해 그린시트(20)에 격벽(30)을 성형하게 된다. 이 경우, 금형(28)과 기판(22) 사이를 프레스(Press)하거나, 롤러 등을 사용하여 소정의 압력을 인가하게 된다. 이때, 그린시트(20)는 격벽 반대형상의 금형(28)에 의해 격벽의 형상으로 성형된다. 이때, 격벽을 성형하는 과정이 도 2의 (e)에 도시되어 있다. 또한, 성형이 완료된 격벽(30)은 소정의 온도에서 소성하게 된다. 이때, 소성에 의해 형성된 격벽(30)이 도 2의 (f)에 도시되어 있다. 한편, 도 2의 (e)에 도시된 성형과정에서 금형(28)의 표면과 그린시트(20)는 소정의 압력에 의해 가압됨에 의해 열압착되어 진다. 이로인해, 격벽(30)은 격벽 형성홈(28a)에 끼워진 상태가 되므로 격벽(30)과 금형(28)을 분리하는 과정에서 일부의 격벽(30)이 그린시트(20)로부터 떨어져 나가 문제점이 도출되고 있다. 이에따라, 공정수율을 향상시킴과 아울러, 고종횡비를 갖는 고정세용 격벽을 제조하기위한 방법이 요구되고 있다.
따라서, 본 발명의 목적은 고종횡비를 갖는 고정세 격벽을 형성하기 위한 격벽 제조방법을 제공 하는데 있다.
또한, 본 발명의 목적은 고종횡비를 갖는 고정세 격벽을 형성하기 위한 격벽 성형용 금형을 제공하는데 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일 실시예에 따른 격벽 제조방법은 기판의 상부에 고온에서 소성되는 특성을 갖는 물질을 적용시켜 고온소성을 통해 유전체층을 형성하는 단계와, 상기 유전체층의 상부면에 전극인쇄기를 이용하여 전극층을 형성하는 단계와, 상기 유전체층의 상부에 격벽과 역상을 갖는 금형을 이용하여 저온에서 소성되는 특성을 갖는 물질을 소성온도로 적용한 후 상온으로 냉각시켜 각 전극들의 중간에 격벽을 형성하는 단계를 포함한다.
여기서, 유전체층을 이루는 물질은 고온 소성 물질 분말을 유기용매와 혼합하여 슬러리 또는 페이스트 상으로 적용될 수도 있고, 슬러리 또는 페이스트 상으로 적용되는 유전체 물질은 소성온도가 700 - 800℃인 글래스-세라믹스를 이용할 수도 있다.
그리고, 저온소성의 격벽을 형성하는 단계는 상기 유전체층의 상부에 슬러리 또는 페이스트 상으로 격벽재료를 도포하고 상기 격벽재료가 도포된 기판을 소성 온도로 승온시켜 유지한 후에 실온으로 냉각되어 있는 금형을 가압한 후 금형을 제거하고 다시 기판을 상온으로 냉각시키는 단계를 포함할 수도 있다. 이때, 격벽 형성단계는 소성온도를 10℃/min으로 상승시켜 500 내지 600℃로 하여 1 내지 2분 동안 유지된 후에 금형을 가압할 수도 있다. 또한, 금형은 실온으로 냉각된 상태에서 격벽 형성 물질을 50kgf/cm2 의 압력으로 1분 동안 가압한 후 제거할 수도 있다.
다른 한편, 저온소성의 격벽을 형성하는 단계는 기판의 상부에 금형을 위치시키고 상기 기판을 예열시킨 후에 액상의 유리를 주입하고 다시 기판을 상온으로 냉각시킨 후 금형을 제거하는 단계를 포함할 수도 있다. 여기서, 예열온도는 300 내지 350℃로 할 수도 있다.
상온으로 냉각시키는 속도는 5℃/min로 냉각시킬 수도 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일 실시예에 따른 격벽 성형용 금형은 상기 격벽 성형용 금형은 액상유리가 주입될 수 있도록 형성된 다수개의 관통홈을 구비할 수도 있는데, 관통홈은 전극 사이에 위치되도록 상기 금형의 종방향으로 스트라이프 형상으로 형성되게 구성할 수도 있다.
상기 목적외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부도면을 참조한 실시예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.
도 3 내지 도 6을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명 하기로 한다.
도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 격벽 제조방법을 설명하기 위한 도면이 도시되어 있다.
먼저, 기판(40)의 상부에 유전체층(42)과 전극(46)을 순차적으로 형성한다. 기판(40)은 비교적 열충격성에 강한 금속기판을 사용하게 된다. 기판(40)의 재질로는 Ti, Mo등이 바람직하다. 도 3의 (a)에 도시된 바와 같이 기판(40)의 상부에 소정의 두께를 갖는 유전체층(42)을 형성한다. 이때, 기판(40)과 격벽(60) 간의 결합력을 높이도록 유전체층(42)은 고온의 소성온도를 가진 재질을 사용하는 것이 바람직하다. 이를위해, 유전체층(42)은 소성온도가 700 - 800℃인 글래스-세라믹스 재료를 사용하여 격벽제조시의 열충격에 견디고 금속기판과의 밀착력을 높이게 된다. 또한, 유전체층(42)은 페이스트 또는 슬러리를 사용하여 형성하게 된다.
이때, 페이스트 또는 슬러리는 격벽 성형시 전극재료의 확산을 방지하기위해 알카리 성분이 없는 글래스-세라믹스 분말에 유기용매를 혼합하여 형성되어 진다.
즉, 상기 유전체층(42)은 고온에서 소성되는 특성을 가지는 물질을 페이스트 또는 슬러리 상태로 상기 기판(40)의 상부에 도포시킨 후 고온으로 소성시켜 유전체층(42)을 형성시키게 되는 것이다. 이때, 상기 설명한 바와 같이 페이스트 또는 슬러리 상태로 도포되는 물질의 일 예로는 글래스-세라믹스 분말에 유기용매를 혼합시켜 형성될 수도 있다. 또한, 상기 소성온도는 약 700 - 800℃로 소성을 시킬 수도 있다.
상기 유전체층(42)을 형성시키기 위한 물질은 상기 실시예에서 설명한 물질로 한정되는 것은 아니고, 고온의 소성온도를 갖는 유전물질이 다양하게 적용될 수 있으며, 이들 물질 중 소성과정을 통해 기판(40)과 결합력이 높게 되면서도 높은 유전율을 갖는 물질이 선택되어 지는 것이 바람직하다.
또한, 전극(46)은 도 3의 (b)에 도시된 바와 같이 전극인쇄기(도시되지 않음)에 투입하여 유전체층(42)의 상부에 형성시키게 된다.
이어서, 유전체층(42)의 상부에 저온에서 소성되는 특성을 갖는 격벽재료를 소정의 두께로 도포한다. 이때, 격벽재료는 격벽재 페이스트(Paste) 또는 격벽재 슬러리(Slurry)를 사용하게 된다. 격벽재 페이스트는 스크린 프린트법 등의 방법을 사용하여 소정의 두께로 도 3의 ( c)에 도시된 바와 같이 유전체층(42)의 상부에 도포되어 진다. 또한, 격벽재 슬러리는 닥터 블레이드법을 사용하여 형성된 그린 테이프(Green Tape)를 유전체층(42)의 상부에 적층하게 된다. 이때, 그린테이프는 평판형 금형을 이용하여 소정의 온도(예를들면, 100℃)로 압착하여 소성함에 의해 유전체층(42)과 그린 테이프의 밀착력을 높이게 된다. 또한, 그린테이프의 밀착력을 높이기위해 제작자의 의도에 따라 원통형의 롤(Roll) 금형을 사용할수도 있을 것이다. 이 경우, 전극(46)을 유전체층(42) 상면에 도포한후 압착 소성할수도 있으며 유전체층(42) 중간에 도포한후 압착 성형할수도 있다. 이때, 격벽 성형시 격벽재료의 소성온도는 전극재료의 소성온도 이하로 유지하는 것이 바람직하다. 이와같이 상기 격벽재료의 소성온도가 전극재료의 소성온도(예를들면, 550℃) 이하로 유지될수 있는 재료를 사용함으로써 전극재료의 열화를 방지하게 된다.
이어서, 도 3의 (d)에 도시된 바와 같이 격벽 반대형상의 금형을 사용하여 스탬핑법으로 격벽(60)을 성형한다. 격벽 제조시 격벽재료(48)가 도포된 기판(40)을 승온속도 10℃/min 으로 소정의 소성온도(예를들면, 550℃)에서 1분이상 유지시킨다. 이때, 격벽재료(48)는 물성적으로 액상 상태로 상변환을 하게 된다. 상기와 같이 상변환이 된 상태에서 다시 상기 금형(50)을 실온으로 냉각시키게 된다. 상기와 같이 실온으로 냉각되어 있는 금형(50)으로 50㎏f/㎠ 이하의 압력으로 1분이상 성형한 다음 금형(50)을 제거한다. 성형된 기판(40)을 5℃/min 이하의 속도로 상온까지 냉각시키면 도 3의 (e)에 도시된 바와 같이 격벽(60)이 완성된다. 상기와 같은 방법에 의해 50㎛이하의 두께를 갖는 격벽(60)을 형성하게 된다. 이때, 제작자의 의도에 따라 금형(50)의 온도상승을 방지하도록 금형(50) 내부에 별도의 냉각장치를 설치할수도 있을 것이다. 이 경우, 성형될 격벽재료와 금형(50) 간의 온도차를 가지게 함에 의해 성형후 격벽(60)과 금형(50) 간의 이형성이 높아지게 된다. 또한, 이형성을 높이기위해 도 4에 도시된 바와 같은 금형(50)을 사용하는 것이 바람직하다. 상술한 바와 같이 본 발명의 일 실시예에 따른 격벽 제조방법은 금형(50)과 격벽(60)의 이형성을 높여 공정수율을 높임과 아울러, 고종횡비를 갖는 고정세용 PDP 격벽을 형성시키게 된다.
한편, 도 4를 참조하면, 본 발명의 격벽 제조방법에 사용되는 격벽 성형용 금형이 도시되어 있다. 본 발명의 격벽 성형용 금형은 자신의 내측벽에 도포되어 격벽(60)과 금형(50)의 분리를 용이하도록 하는 이형막(52)을 구비한다. 이때, 금형(50)의 재질로는 WC, 고장력강, 황동, 주철이 바람직하다. 또한, 이형막(52)의 재질로는 DLC(Diamond Like Carbon), DLN, CNX등의 카본계 박막, SiC, Si3N4 등의 세라믹 박막 또는 Pt, W, Cr등의 금속박막을 금속표면에 코팅함에 의해 형성하게 된다. 이에따라, 격벽 성형용 금형은 격벽(60)과 금형(50)의 이형성이 향상시킴과 아울러, 고종횡비를 갖는 고정세용 PDP 격벽을 형성시키게 된다.
도 5를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 격벽 제조방법을 설명하기위한 도면이 도시되어 있다.
기판(40)의 상부에 유전체층(42), 전극(46)을 순차적으로 형성한다. 기판(40)은 비교적 열충격성에 강한 금속기판을 사용하게 된다. 금속기판(40)의 재질로는 Ti, Mo등이 바람직하다. 도 5의 (a)에 도시된 바와 같이 기판(40)의 상부에 유전체층(42)을 형성한다. 이때, 기판(40)과 격벽(60) 간의 결합력을 높이도록 유전체층(42)은 고온의 소성온도를 가진 재질을 사용하는 것이 바람직하다. 유전체층(42)의 설명은 도 3에서 충분히 설명되었으므로 상세한 설명은 생략하기로 한다. 도 5의 (b)에 도시된 바와 같이 유전체층(42)의 상부에 전극(46)을 형성한다. 또한, 전극(46)은 전극인쇄기(도시되지 않음)에 투입하여 유전체층(42)의 상부에 형성시키게 된다.
기판(40)의 상부에 금형(58)을 정위치시키고 액상유리를 주입한다. 도 5의 (c)에 도시된 바와 같이 금형(58)의 상부에 노즐(54)을 위치시킨후, 노즐(54)에서 액상유리(56)를 금형(58)으로 분사하게 된다. 상기 금형(58)에는 관통홈(58a)이 형성되어 있어 액상유리가 금형(58)에 주입되게 된다. 이때, 액상의 격벽재료를 주입하는 경우에는 기판의 온도를 300 - 350℃의 온도에서 예열한 상태에서 액상재료를 주입함에의해 격벽재료의 열충격에의한 균열 및 변형을 방지할수 있다.
금형(58)을 제거하여 격벽(60)을 형성한다. 도 5의 (d)에 도시된 바와 같이 액상재료가 주입된후 5℃/min 이하의 속도로 상온까지 냉각시켜 금형(58)을 제거한다. 이러한 과정에 의해 고종횡비를 갖는 고정세 격벽을 형성하게 된다.
도 6을 참조하면, 본 발명의 격벽 성형용 금형이 도시되어 있다. 본 발명의 격벽 성형용 금형에는 액상유리가 주입되도록 종단으로 스트라이프 형으로 형성된 다수개의 관통홈(58a)을 구비한다. 상기 관통홈(58a)은 격벽(60)이 성형될 위치에 대응하도록 종단의 스트라이프 형태의 홈이 마련되어 있다. 이때, 액상유리는 관통 홈(58a)을 경유하여 금형(58)에 주입되어 격벽(60) 형상으로 형성되게 된다. 이에따라, 고종횡비를 갖는 고정세용 PDP 격벽을 형성하게 된다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 격벽 제조방법은 고종횡비를 갖는 고정세용 PDP 격벽을 형성할수 있는 장점이 있다.
이상 설명한 내용을 통해 당업자 라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니 라 특허 청구의 범위에 의해 정하여 져야만 할 것이다.

Claims (11)

  1. 기판의 상부에 고온에서 소성되는 특성을 갖는 물질을 적용시켜 고온소성 과정을 통해 유전체층을 형성하는 단계와,
    상기 유전체층의 상부면에 전극인쇄기를 이용하여 전극층을 형성하는 단계와,
    상기 유전체층의 상부에 격벽과 역상을 갖는 금형을 이용하여 저온에서 소성되는 특성을 갖는 물질을 소성온도로 적용한 후 상온으로 냉각시켜 각 전극들의 중간에 격벽을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 격벽 제조방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 유전체층을 이루는 물질은 고온 소성 물질 분말을 유기용매와 혼합하여 슬러리 또는 페이스트 상으로 적용되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 격벽 제조방법.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 슬러리 또는 페이스트 상으로 적용되는 유전체 물질은 소성온도가 700 - 800℃인 글래스-세라믹스인 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 격벽 제조방법.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 저온소성의 격벽을 형성하는 단계는 상기 유전체층의 상부에 슬러리 또는 페이스트 상으로 격벽재료를 도포하고 상기 격벽재료가 도포된 기판을 소성 온도로 승온시켜 유지한 후에 실온으로 냉각되어 있는 금형을 가압한 후 금형을 제거하고 다시 기판을 상온으로 냉각시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 격벽 제조방법.
  5. 제 4 항에 있어서, 상기 격벽 형성단계는 소성온도를 10℃/min으로 상승시켜 500 내지 600℃로 하여 1 내지 2분 동안 유지된 후에 금형을 가압하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 격벽 제조방법.
  6. 제 4 항 또는 제 5 항에 있어서, 상기 금형은 실온으로 냉각된 상태에서 격벽 형성 물질을 50kgf/cm2 의 압력으로 1분 동안 가압한 후 제거하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 격벽 제조방법.
  7. 플라즈마 표시장치용 격벽 성형에 이용되는 격벽 성형용 금형에 있어서,
    상기 격벽 성형용 금형은 액상유리가 주입될 수 있도록 형성된 다수개의 관통홈을 구비하는 것을 특징으로 하는 격벽 성형용 금형.
  8. 제 7 항에 있어서, 상기 관통홈은 전극 사이에 위치되도록 상기 금형의 종방향으로 스트라이프 형상으로 형성된 것을 특징으로 하는 격벽 성형용 금형.
  9. 제 1 항에 있어서, 상기 저온소성의 격벽을 형성하는 단계는 기판의 상부에 금형을 위치시키고 상기 기판을 예열시킨 후에 액상의 유리를 주입하고 다시 기판을 상온으로 냉각시킨 후 금형을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 격벽 제조방법.
  10. 제 9 항에 있어서, 상기 예열온도는 300 내지 350℃인 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 격벽 제조방법.
  11. 제 4 항 또는 제 9 항에 있어서, 상기 상온으로 냉각시키는 속도는 5℃/min인 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치용 격벽 제조방법.
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