KR100552223B1 - Range oven - Google Patents

Range oven Download PDF

Info

Publication number
KR100552223B1
KR100552223B1 KR1020030072896A KR20030072896A KR100552223B1 KR 100552223 B1 KR100552223 B1 KR 100552223B1 KR 1020030072896 A KR1020030072896 A KR 1020030072896A KR 20030072896 A KR20030072896 A KR 20030072896A KR 100552223 B1 KR100552223 B1 KR 100552223B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
bottom plate
heating chamber
far
oven
microwave
Prior art date
Application number
KR1020030072896A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20040106901A (en
Inventor
오카무라요시오
마츠이시게키
Original Assignee
가부시끼가이샤 도시바
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가부시끼가이샤 도시바 filed Critical 가부시끼가이샤 도시바
Publication of KR20040106901A publication Critical patent/KR20040106901A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100552223B1 publication Critical patent/KR100552223B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B6/00Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
    • H05B6/64Heating using microwaves
    • H05B6/647Aspects related to microwave heating combined with other heating techniques
    • H05B6/6482Aspects related to microwave heating combined with other heating techniques combined with radiant heating, e.g. infrared heating

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Electric Ovens (AREA)
  • Electric Stoves And Ranges (AREA)
  • Cookers (AREA)
  • Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)

Abstract

본 발명은 부속품을 이용하지 않고 원적외선을 발생시키는 오븐렌지에 관한 것으로, 렌지기능뿐만 아니라 오븐기능도 포함하는 오븐렌지에서 가열실(9)의 바닥판(8)이 원적외선 발생 기능을 가짐으로써 원적외선을 발생시키기 위한 부속품을 배제하여 구성을 단순화할 수 있는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to an oven for generating far-infrared rays without using an accessory, and the bottom plate (8) of the heating chamber (9) has far-infrared rays in the oven range including not only a stove function but also an oven function. The configuration can be simplified by excluding an accessory for generating.

Description

오븐렌지{RANGE OVEN}Oven range {RANGE OVEN}

도 1은 본 발명의 제 1 실시예를 나타내는 전체의 종단면도,1 is a longitudinal cross-sectional view of an entire embodiment showing a first embodiment of the present invention;

도 2는 사시도,2 is a perspective view,

도 3은 바닥판의 상면도(a) 및 종단면도(b),3 is a top view (a) and a longitudinal cross-sectional view (b) of the bottom plate,

도 4는 본 발명의 제 2 실시예를 나타내는 바닥판의 상면도(a), 종단면도(b) 및 내면도(c) 및4 is a top view (a), a longitudinal sectional view (b) and an inner view (c) of a bottom plate showing a second embodiment of the present invention and

도 5는 본 발명의 제 3 실시예를 나타내는 도 1 상당도이다.Fig. 5 is a diagram corresponding to Fig. 1 showing a third embodiment of the present invention.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings

1 : 오븐렌지 본체 3 : 내부상자1: oven body 3: inner box

8 : 바닥판 8a : 원적외선발생 도막8: bottom plate 8a: far infrared ray generating coating film

9 : 가열실 9a : 선반지지부9: heating chamber 9a: shelf support

10 : 가열실의 바닥부 11 : 마그네트론10: bottom part of the heating chamber 11: magnetron

12 : 여진구 13 : 도파관12: Yeojin-gu 13: Waveguide

14 : 회전안테나 17 : 시즈히터14: rotating antenna 17: sheath heater

18 : 평면히터 20 : 바닥판18: flat heater 20: bottom plate

20a : 원적외선발생 도막 20b : 마이크로파 발열체20a: Far infrared ray generating film 20b: Microwave heating element

20d : 무도포부 21 : 망20d: no coating 21: net

본 발명은 원적외선 발생 기능을 갖는 오븐렌지에 관한 것이다.The present invention relates to an oven having a far infrared ray generating function.

종래부터 전자렌지에서는 가열실에 마이크로파를 흡수하여 원적외선을 방출하는 조리기구를 설치하고, 조리기구에 피조리물을 넣는 것에 의해 피조리물을 마이크로파 및 원적외선 복사에 의해 가열조리하는 구성의 것이 있다(예를 들면 특허문헌 1 참조).Conventionally, in a microwave oven, there is a structure in which a cookware that absorbs microwaves and emits far infrared rays is installed in a heating chamber, and the cooked food is cooked by microwave and far-infrared radiation by inserting the cooked food into the cookware ( For example, refer patent document 1).

(특허문헌)(Patent literature)

일본특개평11-87045호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 11-87045

상기 구성에서는 원적외선을 수반한 가열조리를 하는 경우, 원적외선을 발생하는 조리기구인 부속품이 별도로 필요하다.In the above configuration, in the case of heating cooking with far infrared rays, an accessory which is a cooking utensil for generating far infrared rays is required separately.

본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로서, 그 목적은 전기히터 가열과 마이크로파 가열이 가능한 오븐렌지에 있어서, 가열실의 바닥판에 원적외선 발생기능을 갖게하여 부속품없이 원적외선을 발생시키는 것을 특징으로 하는 오븐렌지를 제공하는데 있다.The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a far infrared ray generating function in a bottom plate of a heating chamber in an oven oven capable of electric heater heating and microwave heating so as to generate far infrared rays without accessories. To provide a stove.

청구항 1에 기재된 오븐렌지는 가열실내에서 피조리물의 전기히터 가열과 마이크로파 가열이 가능한 오븐렌지에 있어서, 가열실의 바닥부에 원적외선을 발생시 키는 바닥판을 설치한 것을 특징으로 한다.The oven according to claim 1 is provided with a bottom plate for generating far-infrared rays at the bottom of the heating chamber in an oven which is capable of electric heater heating and microwave heating of a workpiece in a heating chamber.

상기 구성에 의하면 오븐렌지의 가열실의 바닥판이 원적외선을 발생하기 때문에 부속품을 사용하지 않고 원적외선을 수반한 가열조리를 할 수 있다.According to the above configuration, since the bottom plate of the heating chamber of the oven generates far infrared rays, heating cooking with far infrared rays can be performed without using accessories.

청구항 2에 기재된 오븐렌지는 가열실의 바닥부에 형성된 여진구에 도파관을 통해 마이크로파를 공급하는 마그네트론과, 상기 가열실의 바닥부에 상기 여진구를 덮도록 설치되고, 마이크로파 투과재로 형성되는 바닥판과, 상기 가열실의 바닥부에 상기 바닥판의 아래쪽에 위치하여 설치된 전기히터를 구비하고, 상기 바닥판에는 원적외선 발생 도막이 도포되어 있는 것을 특징으로 한다.The oven according to claim 2 is provided with a magnetron for supplying microwaves through a waveguide to the excitation port formed at the bottom of the heating chamber, and a bottom plate provided to cover the excitation port at the bottom of the heating chamber, and formed of a microwave transmission material. And an electric heater disposed below the bottom plate at the bottom of the heating chamber, and a far infrared ray generating film is coated on the bottom plate.

상기 구성에 의하면 바닥판의 아래쪽에 위치하여 설치된 전기히터에 의해 가열실의 바닥판에 도포된 원적외선 발생 도막을 가열하는 것으로 원적외선을 발생시킬 수 있어 청구항 1과 동일한 효과를 얻을 수 있다.According to the above constitution, far infrared rays can be generated by heating the far-infrared generating coating film applied to the bottom plate of the heating chamber by an electric heater disposed below the bottom plate, thereby obtaining the same effect as that of claim 1.

또, 가열실의 바닥판은 마이크로파 투과재로 형성되어 있고, 마이크로파를 투과시키기 때문에 마이크로파 가열조리(렌지조리)에 지장을 초래하는 일은 없다.In addition, since the bottom plate of the heating chamber is made of a microwave permeable material and transmits microwaves, it does not interfere with microwave heating cooking (range cooking).

이 경우 바닥판은 여진구를 덮도록 되어 있으므로, 전기히터에 의한 가열조리(오븐조리)시에 가열실의 열이 여진구에서 누설하는 일이 없다.In this case, since the bottom plate covers the excitation port, the heat of the heating chamber does not leak from the excitation port during heating cooking (oven cooking) by the electric heater.

청구항 3에 기재된 오븐렌지는 가열실의 천정부에 상부 전기히터가 설치된 것을 특징으로 한다.The oven according to claim 3 is characterized in that the upper electric heater is installed on the ceiling of the heating chamber.

상기 구성에 의하면 바닥판 아래쪽의 전기히터에 가하고, 상부 히터에 의해 상하면의 양쪽에서 열을 가하는 것이 가능해진다.According to the said structure, it is possible to apply to the electric heater below a bottom plate, and to apply heat to both upper and lower surfaces by an upper heater.

청구항 4에 기재된 오븐렌지는 바닥판의 하면에 마이크로파 발열체가 도포된 것을 특징으로 한다.The oven according to claim 4 is characterized in that a microwave heating element is applied to the bottom surface of the bottom plate.

상기 구성에 의하면 마이크로파 발열체는 마이크로파를 받아 발열하고, 이에 의해 보다 가열된 원적외선 발생 도막이 원적외선을 발생하여 마이크로파 및 원적외선에 의한 가열조리를 할 수 있다.According to the above configuration, the microwave heating element receives microwaves and generates heat, whereby the far-infrared ray generating coating film generated far-infrared rays can be heated and cooked by microwaves and far-infrared rays.

청구항 5에 기재된 오븐렌지는 가열실 전체면에 원적외선 발생 도막이 도포되어 있는 것을 특징으로 한다.The oven according to claim 5 is characterized in that a far-infrared ray generating coating film is coated on the entire surface of the heating chamber.

상기 구성에 의하면 바닥판과 가열실의 전체면인 좌측, 우측판, 배면판 및 천정판에 의해 원적외선을 방출할 수 있다.According to the above configuration, far infrared rays can be emitted by the left, right, back, and ceiling plates which are the entire surfaces of the bottom plate and the heating chamber.

(발명의 실시형태)Embodiment of the Invention

(제 1 실시예)(First embodiment)

이하, 본 발명의 제 1 실시예에 대해 도 1 내지 도 3을 참조하면서 설명한다.Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 3.

우선, 오븐렌지의 개략적 외관을 나타내는 도 2에서, 오븐렌지 본체(1)는 직사각형 외부상자(2)내에 전면이 개구된 직사각형 형상의 내부상자(3)를 설치하여 이루어진 것으로, 전면부에 내부상자(3)의 개구부를 개폐하기 위한 하부개방 타입의 도어(4)가 회동가능하게 축으로 지지되어 설치되어 있다. 오븐렌지 본체(1)내에는 내부상자(3)에 측방에서 인접한 위치에 기계실(5)이 형성되어 있고, 이 기계실(5)에는 후술하는 마그네트론 등이 수납되어 있다. 오븐렌지 본체(1)의 기계실(5)의 전면측 위치에는 조작패널(6) 및 디스플레이(7)가 설치되어 있다.First, in FIG. 2 showing the schematic appearance of the oven, the oven body 1 is formed by installing a rectangular inner box 3 having a front opening in a rectangular outer box 2, and an inner box at the front part. The lower opening type door 4 for opening and closing the opening part of (3) is supported by the shaft so that rotation is possible, and is provided. In the oven main body 1, the machine room 5 is formed in the position adjacent to the inner box 3 in the side, The magnetron etc. which are mentioned later are accommodated. The operation panel 6 and the display 7 are provided in the front position of the machine room 5 of the oven main body 1.

도 1에 도시한 바와 같이 내부상자(3)의 하부는 지지단부(3a)를 갖는 접시형 상으로 형성되어 있고, 상기 지지단부(3a)에는 바닥판(8)이 설치되고, 내부상자(3)의 내부는 바닥판(8)에 의해 2개의 방인 가열실(9)과 가열실(9)의 바닥부(10)로 상하로 간막이되어 있다. 상기 바닥판(8)은 오븐렌지의 기능인 렌지 기능 사용시에 마이크로파를 투과시키는 것을 목적으로 하여 마이크로파 투과부재, 예를 들면 세라믹으로 형성되어 있다. 또, 바닥판(8)은 이른바 편평한 테이블이고, 도 3에 도시한 바와 같이 적어도 가열실(9)측인 상면의 전체면에 원적외선 발생 도막(8a)이 도포되는 것으로 원적외선 발생 기능을 갖는다.As shown in FIG. 1, the lower part of the inner box 3 is formed in the shape of a plate having a support end 3a, and the bottom end 8 is installed on the support end 3a, and the inner box 3 is provided. The inside of) is partitioned up and down by the bottom plate 8 by the heating chamber 9 which is two rooms, and the bottom part 10 of the heating chamber 9. The bottom plate 8 is formed of a microwave transmitting member, for example, ceramic, for the purpose of transmitting microwaves when using a stove function, which is a function of an oven. The bottom plate 8 is a so-called flat table, and as shown in FIG. 3, the far-infrared light-generating film 8a is applied to the entire surface of the upper surface at least on the heating chamber 9 side, and has a far-infrared light generating function.

원적외선 발생 도막(8a)은 원적외선 복사 작용을 갖는 유약을 도포하는 것으로 형성되어 있고, 이 유약은 예를 들면 산화실리콘(SiO2)을 주성분으로 하여 산화알루미늄(AL2O3)이나 산화리튬(Li2O) 등을 배합하는 조성으로 한 것이다. 본래 세라믹스재료는 원적외선 방사효과가 우수하지만 이 유약에 무기안료를 더하는 것으로 더 효율적으로 원적외선을 방사한다.The far-infrared generating film 8a is formed by applying a glaze having a far-infrared radiation action. The glaze is made of, for example, aluminum oxide (AL 2 O 3 ) or lithium oxide (Li) based on, for example, silicon oxide (SiO 2 ). It is set as the composition which mix | blended 2O). Originally, ceramics materials have excellent far-infrared radiation effects, but by adding inorganic pigments to the glaze, they emit far-infrared rays more efficiently.

또, 가열실(9)의 좌, 우측판, 뒷판 및 천정판의 적어도 내측 전체면에도 원적외선 도막이 도포된다.Moreover, a far-infrared coating film is apply | coated also to the at least inner whole surface of the left side, right side plate, back plate, and ceiling plate of the heating chamber 9.

그리고, 상기 기계실(5)에는 마이크로파를 발생시키는 장치인 마그네트론(11)이 설치되어 있다. 또, 가열실(9)의 바닥부(10)의 하면에는 여진구(12)가 설치된다. 그리고, 마그네트론과 여진구(12) 사이에는 마그네트론(11)에서 발생한 마이크로파를 반사시키면서 여진구(12)까지 인도하기 위한 도파관(13)이 설치되어 있다. 이상과 같이 바닥부(10)에 여진구(12)가 설치 되는 것에 의해 바닥판(8)이 지지수단(3a)에 설치되면 그 바닥판(8)은 여진구(12)를 덮게 된다. 또, 바닥판(10)에는 여진구(12)까지 도달한 마이크로파를 가열실(9)내로 반사시키기 위한 회전 안테나(14)가 회전 자유롭게 설치되어 있고, 상기 회전 안테나(14)는 축(15)을 통해 모터(16)에 의해 회전되도록 되어 있다. 이 회전 안테나(14)는 마이크로파를 반사시키기 위한 마이크로파를 흡수하기 어려운 재질에 의해 형성되고, 마이크로파 발진시 회전하는 것으로 여진구(12)에서 가열실(9)내로 방사시키는 마이크로파를 확산한다. 이에 의해 가열실(9)내에서 피가열물(19)을 균일 가열한다.In the machine room 5, a magnetron 11, which is a device for generating microwaves, is provided. Moreover, the excitation port 12 is provided in the lower surface of the bottom part 10 of the heating chamber 9. A waveguide 13 is provided between the magnetron and the aftershock hole 12 to guide the excitation hole 12 while reflecting the microwaves generated by the magnetron 11. When the bottom plate 8 is installed on the support means 3a by the excitation opening 12 installed on the bottom portion 10 as described above, the bottom plate 8 covers the aftershock opening 12. The bottom plate 10 is provided with a rotating antenna 14 freely rotatable for reflecting the microwaves reaching the excitation port 12 into the heating chamber 9, and the rotating antenna 14 is arranged around the shaft 15. It is to be rotated by the motor 16 through. The rotary antenna 14 is formed of a material that is difficult to absorb microwaves for reflecting microwaves, and rotates during microwave oscillation to diffuse microwaves radiated from the excitation port 12 into the heating chamber 9. As a result, the heated object 19 is uniformly heated in the heating chamber 9.

또, 바닥부(10)에는 바닥판(8)의 아래쪽에 위치하여 전기히터, 예를 들면 직사각형 프레임형상의 시즈히터(sheathed heater)(17)가 설치되고, 가열실(2)의 천정부재, 예를 들면 천정판의 상면에는 상부 전기히터, 예를 들면 평면히터(18)가 설치되어 있다.In addition, the bottom portion 10 is provided with an electric heater, for example, a rectangular frame-shaped sheathed heater 17 located below the bottom plate 8, and includes a ceiling member of the heating chamber 2, For example, an upper electric heater, for example, a flat heater 18, is provided on the top surface of the ceiling plate.

계속해서, 실시예의 작용에 대해 설명한다.Subsequently, the operation of the embodiment will be described.

우선, 오븐조리를 실시할 경우에는 바닥판(8)상에 피조리물(19(실시예 1에서는 빵을 얹고, 조작패널의 조작에 의해 시즈히터(17) 및 평면피터(18)가 통전되어 발열하고, 가열실(9)내의 피조리물(19)을 가열조리한다. 그리고 바닥판(8)의 원적외선 발생 도막(8a)에서는 시즈히터(17)에 의해 가열되는 것으로 원적외선을 발생한다. 또, 가열실(9)의 내면의 원적외선 발생 도막에서도 평면히터(18) 및 시즈히터(17)에 의해 가열되는 것으로 원적외선을 발생한다.First, in the case of oven cooking, the cooked material 19 (in the first embodiment, bread is placed on the bottom plate 8), and the sheath heater 17 and the flat-panel 18 are energized by operation of the operation panel. It heats and heats and cooks the to-be-processed object 19 in the heating chamber 9. And in the far infrared generation coating film 8a of the bottom plate 8, it is heated by the sheath heater 17, and produces far-infrared rays. In the far-infrared ray generating coating film on the inner surface of the heating chamber 9, far infrared rays are generated by being heated by the planar heater 18 and the sheath heater 17.

이와 같이 하여 바닥판(8) 상에 놓여진 피조리물(19)은 바닥판(8)과 가열실(9)의 내면 전체면에서 발생하는 원적외선 및 시즈히터(17)와 평면히터(18)로 가열되고, 바꿔말하면 원적외선 복사 및 히터 가열할 수 있다.In this way, the workpiece 19 placed on the bottom plate 8 is formed by the far-infrared rays and sheath heater 17 and the plane heater 18 generated on the entire inner surface of the bottom plate 8 and the heating chamber 9. Heated, in other words, far-infrared radiation and heater heating.

계속해서 렌지조리를 실시할 경우에는 조작패널(6)을 조작에 의해 마그네트론(11)이 통전되어 마이크로파를 발생하고, 마이크로파는 도파관(13) 및 여진구(12)를 거쳐 바닥부(10)내로 인도되고, 회전 안테나(14)에 의해 반사되어 바닥판(8)을 투과하여 가열실(9)내로 방사되어 피조리물(19)의 가열조리가 실시된다.Subsequently, when the microwave cooking is carried out, the magnetron 11 is energized by operating the operation panel 6 to generate microwaves, and the microwaves are guided into the bottom portion 10 through the waveguide 13 and the excitation port 12. Then, it is reflected by the rotating antenna 14, penetrates the bottom plate 8, is radiated into the heating chamber 9, and heating cooking of the workpiece 19 is performed.

이와 같이 본 실시예에 의하면 가열실(9)을 형성하기 위해 필요한 바닥판(8)에서 원적외선을 발생하도록 했기 때문에 종래와 같은 원적외선을 발생하는 부속품인 조리기구가 불필요하다. 그리고, 바닥판(8)과 가열실(9) 내면 전체면에 도포된 원적외선 발생 도막(8a)에서 방사되는 원적외선 효과에 의해 피조리물(19) 중에는 부풀면 시즈히터(17)와 평면히터(18)의 가열에 의해 외부를 노르스름하게 구워낼 수 있다. 또, 바닥판(8)은 바닥부(10)에 형성된 여진구(12)를 덮도록 하는 것으로 오븐조리시에 가열실(9)내의 열이 여진구(12)에서 누설하는 것을 방지할 수 있다.As described above, according to the present embodiment, since the far infrared ray is generated from the bottom plate 8 necessary for forming the heating chamber 9, a cooking utensil which is a conventional accessory generating far infrared rays is unnecessary. In addition, the sieve heater 17 and the flat heater swell in the workpiece 19 due to the far-infrared effect emitted from the far-infrared ray-generating coating film 8a applied to the entire inner surface of the bottom plate 8 and the heating chamber 9. The outside can be baked yellow by the heating of 18). In addition, the bottom plate 8 covers the exciter openings 12 formed in the bottom portion 10, so that the heat in the heating chamber 9 can be prevented from leaking from the exciter openings 12 during oven cooking.

또, 바닥판(8)을 마이크로파 투과부재인 세라믹에 의해 형성하는 것으로 렌지조리시에 마이크로파 투과에 전혀 지장이 없다.In addition, since the bottom plate 8 is formed of a ceramic which is a microwave transmitting member, there is no problem in microwave transmission at the time of stove cooking.

(제 2 실시예)(Second embodiment)

도 3은 본 발명의 제 2 실시예이고, 상기 제 1 실시예와 다른 점은 바닥판(8) 대신에 바닥판(20)을 설치하는데 있다. 바닥판(20)은 바닥판(8)과 동일 재료로 형성되고, 상면 전체면에 원적외선 발생 도막(8a)과 동일한 원적외선 발생 도막(20a)이 도포되고, 하면에 마이크로파 발열체(20b)가 도포되어 있다. 이 경 우, 바닥판(20)의 하면에서 외부둘레 사변부 및 중앙의 원형부가 마이크로파 발열체(20b)가 도포되지 않은 무도포부(20c, 20d)가 되어 도포밀도를 변화시키도록 되어 있다.3 is a second embodiment of the present invention, which differs from the first embodiment in that the bottom plate 20 is provided in place of the bottom plate 8. The bottom plate 20 is formed of the same material as the bottom plate 8, and the same far-infrared ray-generating film 20a as the far-infrared ray-generating film 8a is applied to the entire upper surface, and the microwave heating element 20b is applied to the bottom surface. have. In this case, the outer peripheral edge portion and the central circular portion on the lower surface of the bottom plate 20 become uncoated portions 20c and 20d to which the microwave heating element 20b is not applied so as to change the coating density.

또, 상기 제 2 실시예에서 설명의 편의상 도 1을 참조하면 마그네트론(11)에 의해 발생한 마이크로파가 바닥판(10)내로 방출되면 바닥판(20)에 도포된 마이크로파 발열체(20b)는 마이크로파를 받아 발열하여 원적외선 발생 도막(20a)을 가열한다. 가열된 원적외선 발생 도막(20a)은 원적외선을 발생시킨다. 바닥판(20)의 중앙부의 무도포부(20d) 부근에서는 회전 안테나(14)에 의해 확산 반사된 마이크로파가 투과하여 가열실(9)에 들어가 가열조리에 이용된다. 이와 같이 하여 렌지 기능 사용시에도 마이크로파 및 원적외선 의해 피조리물을 조리할 수 있다.For convenience of description in the second embodiment, referring to FIG. 1, when the microwave generated by the magnetron 11 is emitted into the bottom plate 10, the microwave heating element 20b applied to the bottom plate 20 receives the microwaves. It generates heat and heats the far-infrared coating 20a. The heated far infrared rays generating film 20a generates far infrared rays. In the vicinity of the non-coating portion 20d at the center of the bottom plate 20, microwaves diffused and reflected by the rotary antenna 14 pass through the heating chamber 9 to be used for cooking. In this way, even when the stove function is used, the cooked object can be cooked by microwaves and far infrared rays.

(제 3 실시예)(Third embodiment)

도 5는 본 발명의 제 3 실시예이고, 상기 제 1 또는 제 2 실시예와 다른 점은 가열실(9)의 좌우 양측판에 선반지지부(9a)를 형성시키는 것으로 망(21)을 지지하여 바닥판(20)에서 뜨게 할 수 있도록 한 구성이다. 그외의 구성은 상기 제 1 또는 제 2 실시예와 동일하다.5 is a third embodiment of the present invention, which is different from the first or second embodiment in that the shelf 21 is formed on the left and right side plates of the heating chamber 9 to support the net 21. It is a configuration to be floated on the bottom plate (20). The rest of the configuration is the same as in the first or second embodiment.

이 제 3 실시예는 특히 차가워진 피조리물(22)(실시예에서는 생선)에 재가열조리하고 싶은 경우나 조리물의 내면을 불리지 않게 조리하고 싶은 경우에 적합한 것으로, 이와 같은 구성에 의해서도 상기 제 1 또는 제 2 실시예와 동일한 효과를 얻을 수 있다.This third embodiment is particularly suitable for reheating cooked food 22 (fish in the embodiment) or for cooking without cooking the inner surface of the cooked food. Alternatively, the same effects as in the second embodiment can be obtained.

또, 상기 제 3 실시예에서 가열실(9)의 내부에 형성된 선반 지지부(9a)에 망(21)을 설치하여 피조리물(22), 예를 들면 생선을 조리할 경우, 생선(22)에서 새어나오는 액체가 망 위에는 고이지 않기 때문에 생선(22)의 내측을 적시지 않고 조리할 수 있다. 이와 같은 구성에 의해 생선(22)의 내측을 불리지 않게 조리할 수 있고, 또 내부까지 원적외선 가열에 의해 부드럽게 가열조리할 수 있다.In addition, in the third embodiment, when the cooked object 22, for example, fish is cooked by installing the net 21 on the shelf support 9a formed inside the heating chamber 9, the fish 22 is used. Because the liquid leaking out from the net does not accumulate, it can be cooked without wetting the inside of the fish 22. By such a structure, the inside of the fish 22 can be cooked so that it may not be called, and it can be heated and cooked smoothly by far-infrared heating to the inside.

(기타 실시예)(Other Examples)

또, 본 발명은 상기와 도면에 나타낸 실시예에만 한정되지 않고, 다음과 같은 확장, 변형이 가능하다.In addition, this invention is not limited only to the Example shown to the above-mentioned and drawings, The following expansion and modification are possible.

제 1 실시예에서 바닥판(8)의 하면에도 원적외선을 도포해도 좋고, 또 가열실(9)의 좌측, 우측판, 뒷판 및 천정판의 적어도 내측 전체면에도 원적외선 도막(8a)을 도포했지만, 외면에도 도포해도 좋다.In the first embodiment, far infrared rays may also be applied to the lower surface of the bottom plate 8, and the far infrared coating film 8a is also applied to at least the entire inner surface of the left side, the right side plate, the rear plate, and the ceiling plate of the heating chamber 9, You may apply it to the outer surface.

제 2 실시예에서는 바닥판(20)의 중앙부에 원형 형상의 무도포부(20d)를 형성하고 있지만, 대신에 삼각형상, 타원형상, 사각형상 또는 마름모형상이 되는 무도포부를 형성해도 좋다.In the second embodiment, a circular non-coated portion 20d is formed in the center of the bottom plate 20, but instead of the non-coated portion may be formed into a triangular, elliptical, rectangular or rhombus shape.

또, 제 2 실시예에서는 바닥판(20)에 무도포부(20d)를 형성해 마이크로파 발열체(20b)의 밀도를 변화시키도록 했지만, 예를 들면 도포 두께를 변화시키는 것에 의해 밀도를 변화시키도록 해도 좋다.In the second embodiment, the non-coating portion 20d is formed on the bottom plate 20 so as to change the density of the microwave heating element 20b. For example, the density may be changed by changing the coating thickness. .

본 발명은 이상의 설명으로 명확해진 바와 같이, 렌지 기능뿐만 아니라 오븐기능을 포함하는 오븐렌지에 있어서, 가열실의 바닥판에 원적외선 발생기능을 갖게 하는 것으로 원적외선을 발생시키기 위한 부속품을 배제하여 구성을 단순화할 수 있는 효과를 갖는다.As is clear from the above description, the present invention simplifies the configuration by eliminating accessories for generating far infrared rays by providing a far infrared ray generating function to the bottom plate of the heating chamber in an oven including not only a stove function but also an oven function. It has an effect that can be done.

Claims (5)

삭제delete 가열실의 바닥부에 형성된 여진구에 도파관을 통해 마이크로파를 공급하는 마그네트론;A magnetron for supplying microwaves through the waveguide to the excitation hole formed at the bottom of the heating chamber; 상기 가열실의 바닥부에 상기 여진구를 덮도록 설치되고, 마이크로파 투과재로 형성되는 바닥판; 및A bottom plate installed at a bottom of the heating chamber to cover the excitation port and formed of a microwave transmission material; And 상기 가열실의 바닥부에 상기 바닥판의 아래쪽에 위치하여 설치된 전기히터를 구비하며,An electric heater disposed below the bottom plate at the bottom of the heating chamber, 상기 바닥판에는 원적외선 발생 도막이 도포되는 것을 특징으로 하는 오븐렌지.The bottom plate is oven oven, characterized in that the far-infrared ray generating coating film is applied. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 가열실의 천정부에 상부 전기히터를 설치한 것을 특징으로 하는 오븐렌지.And an upper electric heater installed on the ceiling of the heating chamber. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,The method of claim 2 or 3, 상기 바닥판의 하면에 마이크로파 발열체의 도포부와 마이크로파 발열체의 무도포부가 설치된 것을 특징으로 하는 오븐렌지.The oven of the bottom plate is characterized in that the coating portion of the microwave heating element and the non-coating portion of the microwave heating element is installed. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,The method of claim 2 or 3, 상기 가열실 전체면에 원적외선 발생 도막이 도포되어 있는 것을 특징으로 하는 오븐렌지.A far infrared ray generating coating film is coated on the entire surface of the heating chamber.
KR1020030072896A 2003-06-09 2003-10-20 Range oven KR100552223B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2003-00164031 2003-06-09
JP2003164031A JP2005003222A (en) 2003-06-09 2003-06-09 Oven cooking range

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20040106901A KR20040106901A (en) 2004-12-18
KR100552223B1 true KR100552223B1 (en) 2006-02-14

Family

ID=34090955

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020030072896A KR100552223B1 (en) 2003-06-09 2003-10-20 Range oven

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2005003222A (en)
KR (1) KR100552223B1 (en)
CN (1) CN1270129C (en)
TW (1) TWI226923B (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4937174B2 (en) * 2008-03-27 2012-05-23 株式会社東芝 Cooker
JP2011060602A (en) * 2009-09-10 2011-03-24 Mitsubishi Electric Corp Heating cooker
CN108777893A (en) * 2018-06-26 2018-11-09 东莞市国研电热材料有限公司 A kind of electronic cigarette microwave heating equipment
US20210392724A1 (en) * 2020-06-15 2021-12-16 Whirlpool Corporation Microwave oven with integrated lower surface heating plate

Also Published As

Publication number Publication date
CN1573215A (en) 2005-02-02
KR20040106901A (en) 2004-12-18
TWI226923B (en) 2005-01-21
JP2005003222A (en) 2005-01-06
TW200427954A (en) 2004-12-16
CN1270129C (en) 2006-08-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4211909A (en) Combination microwave and gas oven
US20100282742A1 (en) Cooker
JP5152971B2 (en) Cooker
US6297485B1 (en) Microwave oven having bidirectional microwave flow channels
KR100552223B1 (en) Range oven
JP2004327260A (en) Heating cooker
USRE31637E (en) Combination microwave and gas oven
US20100270292A1 (en) Cooker
JP2004361021A (en) Heating cooker
JP5492646B2 (en) Induction heating cooker
KR100826702B1 (en) Oven
JP3760452B2 (en) microwave
JP2005257216A (en) Microwave oven
KR100589768B1 (en) Electric oven provided with a door built in a heating unit
KR200154602Y1 (en) Microwave dispersion structure for microwave oven
US20240049367A1 (en) Cooking appliance
JP2023009441A (en) Cooker
KR100293343B1 (en) Rotary type heater of microwave oven
KR20010096948A (en) Rapid heating structure of microwave oven
KR19990030655U (en) Microwave Door Device
JPH03168527A (en) Microwave heating cooking oven
KR20230046914A (en) Cooking apparatus
JPH0313731A (en) Heating device
KR101211585B1 (en) Microwave oven with controlling heater device
JPH0528715Y2 (en)

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120119

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130118

Year of fee payment: 8

LAPS Lapse due to unpaid annual fee