JP2005003222A - Oven cooking range - Google Patents

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JP2005003222A
JP2005003222A JP2003164031A JP2003164031A JP2005003222A JP 2005003222 A JP2005003222 A JP 2005003222A JP 2003164031 A JP2003164031 A JP 2003164031A JP 2003164031 A JP2003164031 A JP 2003164031A JP 2005003222 A JP2005003222 A JP 2005003222A
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bottom plate
heating chamber
far
microwave
infrared ray
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JP2003164031A
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Japanese (ja)
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Yoshio Okamura
嘉夫 岡村
Shigeki Matsui
重樹 松井
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Toshiba Corp
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Toshiba Corp
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B6/00Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
    • H05B6/64Heating using microwaves
    • H05B6/647Aspects related to microwave heating combined with other heating techniques
    • H05B6/6482Aspects related to microwave heating combined with other heating techniques combined with radiant heating, e.g. infrared heating

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an oven cooking range generating the far infrared ray without using accessories. <P>SOLUTION: In this oven cooking range including a function of an oven in addition to a function of a range, a bottom plate 8 of a heating chamber 9 is provided with a far infrared ray generating function, which dispenses with the accessories for generating the far infrared ray, and simplifies a constitution. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、遠赤外線発生機能を有するオーブンレンジに関する。
【0002】
【従来の技術】
従来より、電子レンジにおいては、加熱室に、マイクロ波を吸収して遠赤外線を放出する調理器具を設置し、調理器具に被調理物を入れることにより、被調理物をマイクロ波および遠赤外線輻射により加熱調理する構成のものがある(例えば特許文献1参照)。
【0003】
【特許文献1】
特開平11−87045号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
上記構成においては、遠赤外線をともなう加熱調理をする場合、遠赤外線を発生する調理器具である付属品が別途必要である。
【0005】
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、電気ヒータ加熱とマイクロ波加熱とが可能なオーブンレンジにおいて、加熱室の底板に遠赤外線発生機能を持たせることで、付属品なしで遠赤外線を発生させることを特徴とするオーブンレンジを提供するにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
請求項1記載のオーブンレンジは、加熱室内で被調理物の電気ヒータ加熱とマイクロ波加熱とが可能なオーブンレンジにおいて、加熱室の底部に遠赤外線を発生させる底板を設けたことを特徴とする。
上記構成によれば、オーブンレンジの加熱室の底板が遠赤外線を発生するので、付属品を使わずに遠赤外線をともなう加熱調理をすることができる。
【0007】
請求項2記載のオーブンレンジは、加熱室の底部に形成された励振口に導波管を介してマイクロ波を供給するマグネトロンと、前記加熱室の底部に前記励振口を覆うように設けられ、マイクロ波透過材で形成される底板と、前記加熱室の底部に前記底板の下方に位置して設けられた電気ヒータとを具備し、前記底板には遠赤外線発生塗膜が塗布されていることを特徴とする。
上記構成によれば、底板の下方に位置して設けられた電気ヒータにより、加熱室の底板に塗布された遠赤外線発生塗膜を加熱することで、遠赤外線を発生させることができ請求項1と同様の効果を得ることができる。
また、加熱室の底板は、マイクロ波透過材で形成されており、マイクロ波を透過させるので、マイクロ波加熱調理(レンジ調理)に支障をきたすことはない。この場合、底板は励振口を覆うようになっているので、電気ヒータによる加熱調理(オーブン調理)時に加熱室の熱が励振口から漏洩することはない。
【0008】
請求項3記載のオーブンレンジは、加熱室の天井部に上部電気ヒータを設けたことを特徴とする。
上記構成によれば、底板の下方の電気ヒータに加えて、上部ヒータにより、上下面の両方から熱を加えることが可能となる。
【0009】
請求項4記載のオーブンレンジは、底板の下面にマイクロ波発熱体が塗布されたことを特徴とする。
上記構成によれば、マイクロ波発熱体はマイクロ波を受けて発熱し、これによりにより加熱された遠赤外線発生塗膜が遠赤外線を発生し、マイクロ波および遠赤外線による加熱調理をすることができる。
【0010】
請求項5に記載のオーブンレンジは、加熱室全面に遠赤外線発生塗膜が塗布されていることを特徴とする。
上記構成によれば、底板と加熱室の全面である左、右側板、背面板および天井板とより遠赤外線を放出することができる。
【0011】
【発明の実施の形態】
(第1の実施例)
以下、本発明の第1の実施例について、図1ないし図3を参照しながら説明する。
まず、オーブンレンジの概略的外観を示す図2において、オーブンレンジ本体1は矩形外箱2内に前面が開口した矩形状の内箱3を配設してなるもので、前面部に内箱3の開口部を開閉するための下開きタイプのドア4が回動可能に枢設されている。オーブンレンジ本体1内には、内箱3に側方から隣接した位置に機械室5が形成されており、この機械室5には、後述するマグネトロンなどが収納されている。オーブンレンジ本体1における機械室5の前面側位置には操作パネル6およびディスプレイ7が設けられている。
【0012】
図1に示すように、内箱3の下部は、支持段部3aを有する皿形状に形成されていて、この支持段部3aには、底板8が設置され、以って、内箱3の内部は底板8により二つの部屋である加熱室9と加熱室9の底部10とに上下に仕切られている。この底板8は、オーブンレンジの機能であるレンジ機能使用時に、マイクロ波を透過させることを目的としてマイクロ波透過部材例えばセラミックで形成されている。さらに、底板8はいわゆるフラットテーブルであり、図3に示すように少なくとも加熱室9側たる上面の全面に遠赤外線発生塗膜8aが塗布されることで、遠赤外線発生機能を有する。
遠赤外線発生塗膜8aは、遠赤外線輻射作用を有する釉薬を塗布することで形成されており、この釉薬は、例えば酸化シリコン(SiO)を主成分として酸化アルミニウム(AL)や酸化リチウム(LiO)等を配合する組成としたものである。本来セラミックス材料は遠赤外線放射効果に優れているが、この釉薬に無機顔料を加えることで、一層効率よく遠赤外線を放射する。
【0013】
なお、加熱室9の左、右側板、背板および天井板の少なくとも内側全面にも遠赤外線塗膜が塗布される。
【0014】
しかして、前記機械室5には、マイクロ波を発生させる装置であるマグネトロン11が設置されている。また、加熱室9の底部10の下面には、励振口12が設けられる。そして、マグネトロンと励振口12との間には、マグネトロン11より発生したマイクロ波を反射させながら励振口12まで導くための導波管13が設けられている。以上のように、底部10に励振口12が設けられることにより、底板8が支持段部3aに設置されると、その底板8は励振口12を覆うようになる。また、底部10には、励振口12まで到達したマイクロ波を加熱室9内に反射させるための回転アンテナ14が回転自在に配設されており、この回転アンテナ14は、軸15を介してモータ16によって回転されるようになっている。この回転アンテナ14は、マイクロ波を反射させるためマイクロ波を吸収しにくい材質により形成され、マイクロ波発振時回転することで、励振口12から加熱室9内に放射させるマイクロ波を拡散する。これにより、加熱室9内で被加熱物19を均一加熱する。
【0015】
また、底部10には、底板8の下方に位置して電気ヒータ例えば矩形枠状のシーズヒータ17が設けられ、加熱室2の天井部例えば天井板の上面には、上部電気ヒータ例えば平面ヒータ18が設けられている。
【0016】
次に、実施例の作用について説明する。
まず、オーブン調理を行う場合には、底板8上に被調理物19(実施例1ではパン)を載せ、操作パネルの操作によりシーズヒータ17および平面ヒータ18が通電されて発熱し、加熱室9内の被調理物19を加熱調理する。そして、底板8の遠赤外線発生塗膜8aからは、シーズヒータ17により加熱されることで遠赤外線を発生する。また、加熱室9の内面の遠赤外線発生塗膜からも、平面ヒータ18およびシーズヒータ17により加熱されることで遠赤外線を発生する。
【0017】
こうして、底板8上に置かれた被調理物19は、底板8と加熱室9の内面全面とから発生する遠赤外線およびシーズヒータ17と平面ヒータ18とで加熱され、換言すると、遠赤外線輻射およびヒータ加熱することができる。
次に、レンジ調理を行う場合には、操作パネル6を操作によりマグネトロン11が通電されてマイクロ波を発生し、マイクロ波は、導波管13および励振口12を経て底部10内に導かれ、回転アンテナ14により反射されて底板8を透過して加熱室9内に放射されて、以って、被調理物19の加熱調理が行われる。
【0018】
このように、本実施例によれば、加熱室9を形成するために必要な底板8から遠赤外線を発生するようにしたので、従来のような遠赤外線を発生する付属品たる調理器具が不要である。そして、底板8と加熱室9内面全面に塗布された遠赤外線発生塗膜8aから放射される遠赤外線の効果により、被調理物19の中は、ふっくらと、シーズヒータ17と平面ヒータ18との加熱により、外はこんがりと焼き上げることができる。また、底板8は底部10に形成された励振口12を覆うようにすることで、オーブン調理時に加熱室9内の熱が励振口12から漏洩することを防止できる。
さらに、底板8をマイクロ波透過部材たるセラミックにより形成することで、レンジ調理時に、マイクロ波透過になんら支障がない。
【0019】
(第2の実施例)
図3は本発明の第2の実施例であり、前記第1の実施例と異なるところは、底板8の代わりに底板20を設けたことにある。底板20は、底板8と同材料にて形成され、上面全面に遠赤外線発生塗膜8aと同様の遠赤外線発生塗膜20aが塗布され、下面にマイクロ波発熱体20bが塗布されている。この場合、底板20の下面において、外周四辺部および中央の円形部がマイクロ波発熱体20bが塗布されない無塗布部20cおよび20dとされ、以って塗布密度を変化させるようになっている。
【0020】
なお、上記第2の実施例において、説明の便宜上図1を参照すると、マグネトロン11により発生したマイクロ波が底部10内に放出されると、底板20に塗布されたマイクロ波発熱体20bはマイクロ波を受けて発熱し遠赤外線発生塗膜20aを加熱する。加熱された遠赤外線発生塗膜20aは、遠赤外線を発生させる。底板20の中央部の無塗布部20d付近では、回転アンテナ14により拡散反射されたマイクロ波が、透過して、加熱室9に入り加熱調理に利用される。こうして、レンジ機能使用時にもマイクロ波および遠赤外線により被調理物を調理することができる。
【0021】
(第3の実施例)
図5は本発明の第3の実施例であり、前記第1もしくは第2の実施例と異なるところは、加熱室9の左右両側板に棚支持部9aを形成させることで網21を支持し底板20より浮かせることができるようにした構成である。その他の構成は、前記第1もしくは第2の実施例と同様である。
この第3の実施例は、特に、冷えてしまった被調理物22(実施例では魚)を再加熱調理したい場合や調理物の裏面をふやかせることなく調理したい場合に適するもので、このような構成によっても、前記第1もしくは第2の実施例同様の効果を得ることができる。
【0022】
なお、上記第3の実施例において、加熱室9の内部に形成された棚支持部9aに網21を設置し被調理物22例えば魚を調理する場合、魚(22)から滲み出る液体が網上には溜まらないため、魚(22)の裏側を浸すことなく調理することができる。このような構成により、魚(22)の裏側がふやけることなく調理でき、かつ、内部まで遠赤外線加熱によりふっくらと加熱調理することが可能となる。
【0023】
(その他の実施例)
なお、本発明は、上記し且つ図面に示す実施例にのみ限定されるものではなく、次のような拡張、変形が可能である。
第1の実施例において、底板8の下面にも遠赤外線を塗布してもよく、また、加熱室9の左、右側板、背板および天井板の少なくとも内側全面にも遠赤外線塗膜8aを塗布したが、外面にも塗布してもよい。
第2の実施例においては、底板20の中央部に円形状の無塗布部20dを形成しているが、代わりに三角形状、楕円形状、四角形状、或いは菱形状になるような無塗布部を形成してもよい。
また、第2の実施例では、底板20に無塗布部20dを形成してマイクロ波発熱体20bの密度を変化させるようにしたが、例えば、塗布厚みを変化させることにより密度を変化させるようにしてもよい。
【0024】
【発明の効果】
本発明は以上の説明から明らかなように、レンジ機能に加えてオーブン機能も含むオーブンレンジにおいて、加熱室の底板に遠赤外線発生機能を持たせることで、遠赤外線を発生させるための付属品を排除し、構成を単純化することができるという効果を奏するものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例を示す全体の縦断面図
【図2】斜視図
【図3】底板の上面図(a)および縦断面図(b)
【図4】本発明の第2の実施例を示す底板の上面図(a)、縦断面図(b)および裏面図(c)
【図5】本発明の第3の実施例を示す図1相当図
【符号の説明】
1はオーブンレンジ本体、3は内箱、8は底板、8aは遠赤外線発生塗膜、9は加熱室、9aは棚支持部、10は加熱室の底部、11はマグネトロン、12は励振口、13は導波管、14は回転アンテナ、17はシーズヒータ、18平面ヒータ、20は底板、20aは遠赤外線発生塗膜、20bはマイクロ波発熱体、20dは無塗布部、21は網を示す。
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a microwave oven having a function of generating far infrared rays.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, in a microwave oven, a cooking utensil that absorbs microwaves and emits far-infrared radiation is installed in a heating chamber, and the cooking object is placed in the cooking utensil, thereby radiating microwaves and far-infrared radiation. There exists a thing of the structure cooked by heating (for example, refer patent document 1).
[0003]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Laid-Open No. 11-87045
[Problems to be solved by the invention]
In the said structure, when cooking with far infrared rays, the accessory which is a cooking appliance which generate | occur | produces far infrared rays is required separately.
[0005]
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a far-infrared ray generating function on a bottom plate of a heating chamber in an oven range capable of electric heater heating and microwave heating. It is in providing the microwave oven characterized by generating far infrared rays without.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
The microwave oven according to claim 1, wherein a bottom plate that generates far-infrared rays is provided at the bottom of the heating chamber in the microwave oven capable of heating an electric heater and microwave heating of an object to be cooked in the heating chamber. .
According to the said structure, since the baseplate of the heating chamber of a microwave oven generate | occur | produces a far infrared ray, it can cook with a far infrared ray, without using an accessory.
[0007]
The microwave oven according to claim 2 is provided so as to cover the excitation opening at the bottom of the heating chamber, and a magnetron for supplying microwaves to the excitation opening formed at the bottom of the heating chamber via a waveguide. A bottom plate formed of a microwave transmitting material, and an electric heater provided at the bottom of the heating chamber and positioned below the bottom plate, and a far-infrared ray generating coating film is applied to the bottom plate. It is characterized by.
According to the said structure, a far-infrared ray can be generated by heating the far-infrared ray generation coating film apply | coated to the bottom plate of a heating chamber with the electric heater provided in the downward direction of the bottom plate. The same effect can be obtained.
Moreover, since the bottom plate of the heating chamber is formed of a microwave transmitting material and transmits microwaves, it does not hinder microwave heating cooking (range cooking). In this case, since the bottom plate covers the excitation opening, the heat in the heating chamber does not leak from the excitation opening during cooking by the electric heater (oven cooking).
[0008]
The microwave oven according to claim 3 is characterized in that an upper electric heater is provided on the ceiling of the heating chamber.
According to the above configuration, heat can be applied from both the upper and lower surfaces by the upper heater in addition to the electric heater below the bottom plate.
[0009]
The microwave oven according to claim 4 is characterized in that a microwave heating element is applied to the lower surface of the bottom plate.
According to the above configuration, the microwave heating element receives microwaves and generates heat, and the far-infrared ray generation coating film heated thereby generates far-infrared rays and can be cooked by microwaves and far-infrared rays. .
[0010]
The microwave oven according to claim 5 is characterized in that a far infrared ray generating coating film is applied to the entire heating chamber.
According to the above configuration, far-infrared rays can be emitted from the left and right plates, the back plate, and the ceiling plate, which are the entire surface of the bottom plate and the heating chamber.
[0011]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
(First embodiment)
A first embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.
First, in FIG. 2 showing a schematic appearance of the microwave oven, the microwave oven main body 1 is formed by disposing a rectangular inner box 3 whose front surface is opened in a rectangular outer box 2. A lower-opening type door 4 for opening and closing the opening is pivotally provided. A machine room 5 is formed in the microwave oven body 1 at a position adjacent to the inner box 3 from the side, and a magnetron or the like to be described later is housed in the machine room 5. An operation panel 6 and a display 7 are provided on the front side of the machine room 5 in the microwave oven body 1.
[0012]
As shown in FIG. 1, the lower portion of the inner box 3 is formed in a dish shape having a support step portion 3 a, and a bottom plate 8 is installed on the support step portion 3 a, so that the inner box 3 The interior is partitioned into two rooms, a heating chamber 9 and a bottom 10 of the heating chamber 9, by a bottom plate 8. The bottom plate 8 is formed of a microwave transmitting member such as ceramic for the purpose of transmitting microwaves when the range function, which is a function of an oven range, is used. Further, the bottom plate 8 is a so-called flat table, and has a far infrared ray generation function by applying a far infrared ray generation coating film 8a to at least the entire upper surface on the heating chamber 9 side as shown in FIG.
The far-infrared ray generating coating film 8a is formed by applying a glaze having a far-infrared radiation effect. This glaze is made of, for example, silicon oxide (SiO 2 ) as a main component, aluminum oxide (AL 2 O 3 ), or oxidation. The composition contains lithium (Li 2 O) or the like. Although ceramic materials are inherently excellent in far-infrared radiation effects, far-infrared radiation is radiated more efficiently by adding an inorganic pigment to this glaze.
[0013]
A far-infrared coating is also applied to at least the entire inner surfaces of the left, right side plate, back plate and ceiling plate of the heating chamber 9.
[0014]
The machine room 5 is provided with a magnetron 11 that is a device for generating microwaves. An excitation port 12 is provided on the lower surface of the bottom 10 of the heating chamber 9. A waveguide 13 is provided between the magnetron and the excitation port 12 to guide the microwave generated from the magnetron 11 to the excitation port 12 while reflecting the microwave. As described above, the excitation opening 12 is provided in the bottom portion 10, so that the bottom plate 8 covers the excitation opening 12 when the bottom plate 8 is installed in the support step portion 3 a. In addition, a rotating antenna 14 for reflecting the microwave reaching the excitation opening 12 into the heating chamber 9 is rotatably disposed on the bottom portion 10, and the rotating antenna 14 is connected to a motor via a shaft 15. 16 is rotated. The rotating antenna 14 is made of a material that hardly absorbs microwaves so as to reflect the microwaves, and rotates at the time of microwave oscillation to diffuse the microwaves radiated from the excitation port 12 into the heating chamber 9. As a result, the object to be heated 19 is uniformly heated in the heating chamber 9.
[0015]
An electric heater, for example, a rectangular frame-shaped sheathed heater 17 is provided on the bottom 10 below the bottom plate 8. An upper electric heater, for example, a flat heater 18, is provided on the ceiling of the heating chamber 2, for example, the upper surface of the ceiling plate. Is provided.
[0016]
Next, the operation of the embodiment will be described.
First, in the case of performing oven cooking, an object to be cooked 19 (bread in the first embodiment) is placed on the bottom plate 8, the sheathed heater 17 and the flat heater 18 are energized by the operation of the operation panel, and generate heat. The cooking object 19 inside is heated and cooked. And the far-infrared ray generation coating film 8a of the bottom plate 8 generates far-infrared rays by being heated by the sheathed heater 17. Also, far infrared rays are generated from the far infrared ray generating coating film on the inner surface of the heating chamber 9 by being heated by the flat heater 18 and the sheathed heater 17.
[0017]
Thus, the object to be cooked 19 placed on the bottom plate 8 is heated by far infrared rays generated from the bottom plate 8 and the entire inner surface of the heating chamber 9 and by the sheathed heater 17 and the flat heater 18, in other words, far infrared radiation and Heater can be heated.
Next, when performing range cooking, the magnetron 11 is energized by operating the operation panel 6 to generate microwaves, and the microwaves are guided into the bottom 10 through the waveguide 13 and the excitation port 12, The object to be cooked 19 is cooked by being reflected by the rotating antenna 14 and transmitted through the bottom plate 8 and radiated into the heating chamber 9.
[0018]
As described above, according to the present embodiment, since far infrared rays are generated from the bottom plate 8 necessary for forming the heating chamber 9, there is no need for a conventional cooking utensil that generates far infrared rays. It is. Then, due to the effect of far infrared rays radiated from the far infrared ray generating coating film 8a applied to the entire inner surface of the bottom plate 8 and the heating chamber 9, the cooking object 19 includes a plump, a sheathed heater 17 and a flat heater 18. By heating, the outside can be baked. Further, the bottom plate 8 covers the excitation opening 12 formed in the bottom portion 10, so that the heat in the heating chamber 9 can be prevented from leaking from the excitation opening 12 during oven cooking.
Furthermore, the bottom plate 8 is made of ceramic which is a microwave transmitting member, so that there is no obstacle to microwave transmission during cooking.
[0019]
(Second embodiment)
FIG. 3 shows a second embodiment of the present invention. The difference from the first embodiment is that a bottom plate 20 is provided instead of the bottom plate 8. The bottom plate 20 is formed of the same material as that of the bottom plate 8, and a far infrared ray generating coating film 20a similar to the far infrared ray generating coating film 8a is applied to the entire upper surface, and a microwave heating element 20b is applied to the lower surface. In this case, on the lower surface of the bottom plate 20, the outer peripheral four sides and the central circular portion are the non-applied portions 20c and 20d where the microwave heating element 20b is not applied, thereby changing the coating density.
[0020]
In the second embodiment, referring to FIG. 1 for convenience of explanation, when the microwave generated by the magnetron 11 is emitted into the bottom portion 10, the microwave heating element 20b applied to the bottom plate 20 is microwaved. In response to heat generation, the far-infrared ray generating coating film 20a is heated. The heated far infrared ray generating coating film 20a generates far infrared rays. In the vicinity of the uncoated portion 20d at the center of the bottom plate 20, the microwave diffusely reflected by the rotating antenna 14 is transmitted and enters the heating chamber 9 for use in cooking. Thus, the object to be cooked can be cooked with microwaves and far infrared rays even when the range function is used.
[0021]
(Third embodiment)
FIG. 5 shows a third embodiment of the present invention. The difference from the first or second embodiment is that the net 21 is supported by forming shelf support portions 9 a on the left and right side plates of the heating chamber 9. In this configuration, it can be floated from the bottom plate 20. Other configurations are the same as those in the first or second embodiment.
This third embodiment is particularly suitable for the case where it is desired to reheat the food to be cooked 22 (fish in the embodiment) that has been cooled or to cook without cooking the back side of the food. Even with such a configuration, the same effect as in the first or second embodiment can be obtained.
[0022]
In addition, in the said 3rd Example, when installing the net | network 21 in the shelf support part 9a formed in the inside of the heating chamber 9, and cooking the to-be-cooked object 22, for example, fish, the liquid which oozes out from a fish (22) is a net | network. Since it does not accumulate on top, it can be cooked without immersing the back side of the fish (22). With such a configuration, the back side of the fish (22) can be cooked without being blown, and the inside can be cooked plumply by far-infrared heating.
[0023]
(Other examples)
The present invention is not limited to the embodiments described above and shown in the drawings, and can be expanded and modified as follows.
In the first embodiment, far-infrared rays may be applied to the lower surface of the bottom plate 8, and the far-infrared coating film 8 a is applied to at least the entire inner surface of the left, right side plate, back plate and ceiling plate of the heating chamber 9. Although applied, it may also be applied to the outer surface.
In the second embodiment, the circular uncoated portion 20d is formed at the center of the bottom plate 20. Instead, a non-coated portion that has a triangular shape, an elliptical shape, a rectangular shape, or a rhombus shape is formed. It may be formed.
In the second embodiment, the non-coated portion 20d is formed on the bottom plate 20 to change the density of the microwave heating element 20b. For example, the density is changed by changing the coating thickness. May be.
[0024]
【The invention's effect】
As is apparent from the above description, in the microwave oven including the oven function in addition to the range function, the bottom plate of the heating chamber is provided with a far infrared ray generating function to provide an accessory for generating far infrared rays. This eliminates the effect of simplifying the configuration.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an overall longitudinal sectional view showing a first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a perspective view. FIG. 3 is a top view (a) and a longitudinal sectional view (b) of a bottom plate.
FIG. 4 is a top view (a), a longitudinal sectional view (b), and a back view (c) of a bottom plate showing a second embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a view corresponding to FIG. 1 showing a third embodiment of the present invention.
1 is a microwave oven body, 3 is an inner box, 8 is a bottom plate, 8a is a far infrared ray generation coating film, 9 is a heating chamber, 9a is a shelf support portion, 10 is a bottom portion of the heating chamber, 11 is a magnetron, 12 is an excitation port, 13 is a waveguide, 14 is a rotating antenna, 17 is a sheathed heater, 18 flat heater, 20 is a bottom plate, 20a is a far infrared ray generation coating film, 20b is a microwave heating element, 20d is an uncoated part, and 21 is a net. .

Claims (5)

加熱室内で被調理物の電気ヒータ加熱とマイクロ波加熱とが可能なオーブンレンジにおいて、加熱室の底部に遠赤外線を発生させる底板を設けたことを特徴とするオーブンレンジ。An oven range in which an electric heater and microwave heating of an object to be cooked can be performed in a heating chamber, wherein a bottom plate for generating far infrared rays is provided at the bottom of the heating chamber. 加熱室の底部に形成された励振口に導波管を介してマイクロ波を供給するマグネトロンと、
前記加熱室の底部に前記励振口を覆うように設けられ、マイクロ波透過材で形成される底板と、
前記加熱室の底部に前記底板の下方に位置して設けられた電気ヒータとを具備し、
前記底板には遠赤外線発生塗膜が塗布されていることを特徴とするオーブンレンジ。
A magnetron for supplying microwaves through a waveguide to an excitation port formed at the bottom of the heating chamber;
A bottom plate provided at the bottom of the heating chamber so as to cover the excitation port, and formed of a microwave transmitting material;
An electric heater provided at the bottom of the heating chamber and positioned below the bottom plate;
A microwave oven characterized in that a far-infrared ray generating coating film is applied to the bottom plate.
加熱室の天井部に上部電気ヒータを設けたことを特徴とする請求項2記載のオーブンレンジ。The microwave oven according to claim 2, wherein an upper electric heater is provided on a ceiling portion of the heating chamber. 底板の下面にマイクロ波発熱体が塗布されたことを特徴とする請求項2または3記載のオーブンレンジ。The microwave oven according to claim 2 or 3, wherein a microwave heating element is applied to the lower surface of the bottom plate. 加熱室全面に遠赤外線発生塗膜が塗布されていること特徴とする請求項2ないし4のいずれかに記載のオーブンレンジ。The microwave oven according to any one of claims 2 to 4, wherein a far-infrared ray generating coating film is applied to the entire surface of the heating chamber.
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