KR100549944B1 - Wafer Loading Boat - Google Patents

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양창집
김태철
안재혁
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삼성전자주식회사
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    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/67303—Vertical boat type carrier whereby the substrates are horizontally supported, e.g. comprising rod-shaped elements
    • H01L21/67309—Vertical boat type carrier whereby the substrates are horizontally supported, e.g. comprising rod-shaped elements characterized by the substrate support

Abstract

본 발명은 웨이퍼 보트에 관한 것으로서, 특히 세워 설치된 복수 개의 기둥(20)과, 상기 기둥(20)의 내측에 고정된 지지판(31)과, 상기 지지판(31) 상에 세워 설치되어 웨이퍼(W)를 지지하는 복수 개의 지지핀(32) 및 웨이퍼(W)의 가장자리에 위치되는 안내핀(33)을 포함한다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer boat, in particular, a plurality of pillars 20 which are standing up, a support plate 31 fixed to the inside of the pillar 20, and a wafer W that are installed on the support plate 31. It includes a plurality of support pins 32 for supporting the guide pins 33 located at the edge of the wafer (W).

따라서, 본 발명에서는 가스를 분사하는 분사구 및 배출하는 배기홀을 평행하게 설계하는 것이 가능하여 가스의 흐름이 균일하게 되고 각 슬롯마다에 독립적인 막질의 증착이 이루어짐으로써 가스의 증착율 및 막질의 균일성이 현저하게 향상됨과 동시에 보트의 고속 회전 시에 웨이퍼가 이탈되는 것을 방지하게 된다.Therefore, in the present invention, it is possible to design the injection holes for injecting the gas and the exhaust hole for discharging in parallel, so that the flow of gas is uniform and the film quality is deposited in each slot, so that the deposition rate of the gas and the uniformity of film quality are achieved. This remarkably improves and at the same time prevents the wafer from escaping during high speed rotation of the boat.

웨이퍼, 보트, 지지판, 안내핀, 지지핀Wafer, Boat, Support Plate, Guide Pin, Support Pin

Description

웨이퍼 보트{Wafer Loading Boat} Wafer Boat             

도 1 은 종래의 웨이퍼 보트를 나타내는 일부 종단면도이다.1 is a partial longitudinal sectional view showing a conventional wafer boat.

도 2 는 도 1 의 횡단면도이다.2 is a cross-sectional view of FIG. 1.

도 3 은 본 발명에 의한 웨이퍼 보트를 나타내는 일부 종단면도이다.3 is a partial longitudinal sectional view showing a wafer boat according to the present invention.

도 4 는 본 발명에 의한 웨이퍼 보트의 횡단면도이다.4 is a cross-sectional view of a wafer boat according to the present invention.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 * Explanation of symbols on the main parts of the drawings

30: 기둥 31: 지지판30: pillar 31: support plate

32: 지지핀 33: 안내핀32: support pin 33: guide pin

W: 웨이퍼W: wafer

본 발명은 웨이퍼 보트에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 웨이퍼 보트의 구조를 간략화 함과 동시에 고속 회전에 따른 웨이퍼의 이탈을 방지하고 각 슬롯마다 막질 증착을 실현할 수 있는 웨이퍼 보트에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer boat, and more particularly, to a wafer boat that can simplify the structure of the wafer boat and at the same time prevent separation of the wafer due to high-speed rotation and realize film deposition in each slot.

일반적으로 반도체 제조 공정, 특히 확산 공정이나 화학 기상 증착 공정에서는 복수 개의 웨이퍼를 로딩하기 위해서는 필수적으로 웨이퍼 보트를 사용하게 된다.In general, a semiconductor boat manufacturing process, particularly a diffusion process or a chemical vapor deposition process is essentially a wafer boat to load a plurality of wafers.

종래에 복수 개의 웨이퍼를 로딩하기 위한 보트는 도 1 및 도 2 에 도시한 바와 같이 복수 개의 기둥(10)이 적정의 간격을 두고 세워 설치되고, 상기 기둥(10)에는 링 형상의 받침대(11)가 각각 삽입 고정되며, 상기 받침대(11)에는 각각 3개소에 지지핀(12)이 고정되고, 상기 지지핀(12) 상에는 각각 웨이퍼(W)가 안착되며, 상기 기둥(10)의 상측에는 상부판(13)이 결합된 구성으로 이루어진다.Conventionally, a boat for loading a plurality of wafers, as shown in Figs. 1 and 2, a plurality of pillars 10 are installed upright at appropriate intervals, the pillar 10 is a ring-shaped pedestal 11 Are respectively fixed and inserted into the pedestal 11, the support pin 12 is fixed to each of three places, the wafer (W) is seated on the support pin 12, respectively, the upper portion of the column 10 The plate 13 is made of a combined configuration.

그러나, 이와 같은 종래의 웨이퍼 보트는 링 형상의 받침대(11)가 웨이퍼(W)의 에지부로 확산되는 가스의 흐름을 차단 또는 방해함으로써 가스의 분포가 균일하지 않게 되고, 이에 따라 증착되는 막질의 두께가 균일하지 않을 뿐만 아니라 받침대(11)의 내부에 가스의 유동이 발생함으로써 각각의 슬롯에 독립적인 증착이 이루어지지 않게 되며, 또한 받침대(11)가 기둥(10)에 고정됨에 따라 보트를 이동시키기 위한 포크의 공간 확보를 위해 슬롯의 피치를 크게 형성해야 함으로써 동일한 높이에서 웨이퍼를 로딩하기 위한 슬롯의 개수가 적게되는 등의 문제점들이 내재되어 있었다.However, in the conventional wafer boat, the ring-shaped pedestal 11 blocks or obstructs the flow of gas diffused to the edge portion of the wafer W, so that the distribution of the gas is not uniform, and thus the thickness of the deposited film. Not only is not uniform, but the flow of gas inside the pedestal 11 prevents the deposition of each slot independently, and also moves the boat as the pedestal 11 is fixed to the column 10. Problems such as the number of slots for loading the wafer at the same height is small because the pitch of the slot must be formed to secure the space of the fork for.

또한, 보트 내에 웨이퍼를 로딩시킨 상태에서 보트를 고속으로 회전시키는 경우에는 웨이퍼가 보트로부터 이탈될 염려가 있는 문제점도 내재되어 있었다.In addition, when the boat is rotated at a high speed while the wafer is loaded in the boat, there is a problem that the wafer may be detached from the boat.

따라서, 본 발명은 상술한 종래 기술의 문제점들을 해결하기 위하여 발명된 것으로서, 본 발명의 목적은 고속 회전시 웨이퍼의 이탈을 방지하고, 특히 튜브 내부로부터 유입되는 가스의 흐름을 균일하도록 하여 가스의 증착율 및 막질의 균일성을 향상시킬 수 있는 웨이퍼 보트를 제공하는데 있다.
Accordingly, the present invention has been invented to solve the above-mentioned problems of the prior art, and an object of the present invention is to prevent the detachment of the wafer during high-speed rotation, and in particular, to uniform the flow of the gas flowing from the inside of the tube so that the deposition rate of the gas And to provide a wafer boat that can improve the uniformity of the film quality.

이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 웨이퍼 보트는, 세워 설치된 복수 개의 기둥과, 상기 기둥의 내측에 고정된 지지판과, 상기 지지판 상에 세워 설치되어 웨이퍼를 지지하는 된 복수 개의 지지핀 및 웨이퍼의 가장자리에 위치되는 안내핀을 포함한다.The wafer boat according to the present invention for achieving the above object is a plurality of pillars installed upright, a support plate fixed to the inside of the pillar, a plurality of support pins and wafers installed on the support plate to support the wafer It includes a guide pin located at the edge of the.

따라서, 본 발명에서는 가스를 분사하는 분사구 및 배출하는 배기홀을 평행하게 설계하는 것이 가능하여 가스의 흐름이 균일하게 되고 각 슬롯마다에 독립적인 막질의 증착이 이루어짐으로써 가스의 증착율 및 막질의 균일성이 현저하게 향상됨과 동시에 보트의 고속 회전 시에 웨이퍼가 이탈되는 것을 방지하게 되는 것이다.Therefore, in the present invention, it is possible to design the injection holes for injecting the gas and the exhaust hole for discharging in parallel, so that the flow of gas is uniform and the film quality is deposited in each slot, so that the deposition rate of the gas and the uniformity of film quality are achieved. This remarkably improves and at the same time prevents the wafer from escaping during the high speed rotation of the boat.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면에 의하여 더욱 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

도 3 은 본 발명에 의한 웨이퍼 보트를 나타내는 종단면도이고, 도 4 는 본 발명에 의한 웨이퍼 보트의 횡단면도로서, 부호 (30)은 복수 개, 즉 3개로 이루어지는 기둥을 나타내고 있다.Fig. 3 is a longitudinal sectional view showing a wafer boat according to the present invention, and Fig. 4 is a cross sectional view of the wafer boat according to the present invention, and the reference numeral 30 denotes a plurality of pillars.

상기 기둥(30)의 내측에는 복수 개의 지지판(31)이 적정의 간격을 두고 횡 방향으로 삽입 고정된다.A plurality of support plates 31 are inserted and fixed in the transverse direction at appropriate intervals inside the pillar 30.

상기 지지판(31)은 박판의 석영재로 아루어지며, 평판 상으로 형성된다.The support plate 31 is made of a thin quartz material and is formed on a flat plate.

상기 지지판(31)의 상측에는 내측에 웨이퍼(W)를 지지하는 복수 개의 지지핀(32)이 세워 설치되고, 그 외측에는 상기 웨이퍼(W)의 가장자리 외측에 위치되는 안내핀(33)이 세워 설치된다.On the upper side of the support plate 31, a plurality of support pins 32 for supporting the wafer W are installed on the inner side, and guide pins 33 positioned outside the edge of the wafer W on the outside thereof. Is installed.

상기 안내핀(33)의 길이는 지지핀(32)의 길이보다 길게 형성되어야 하며, 이는 보트가 고속으로 회전할 때 웨이퍼(W)가 이탈되는 것을 방지하게 된다.The length of the guide pin 33 should be longer than the length of the support pin 32, which prevents the wafer W from being separated when the boat rotates at high speed.

상기 지지핀(32) 및 안내핀(33)은 하나의 지지판(31) 상에 3개씩 설치됨이 가장 바람직하다. Most preferably, the support pins 32 and the guide pins 33 are installed three by one on the support plate 31.

상기 지지핀(32) 및 안내핀(33)은 지지판(31)의 상측에 일체로 형성되거나, 별도로 제작된 후 접착하거나 고정할 수도 있음은 물론이다.The support pin 32 and the guide pin 33 may be integrally formed on the upper side of the support plate 31 or may be separately manufactured and then bonded or fixed.

물론 상기 각 기둥(30)의 상, 하측에는 도시하지 않은 상부판 및 하부판이 고정되어 각각의 기둥(30)들을 지지하게 된다.Of course, the upper and lower plates (not shown) are fixed to the upper and lower sides of the pillars 30 to support the pillars 30.

그리고, 이와 같은 보트는 튜브 내에서 작업이 이루어지게 되는데, 일측에는 가스를 분사하는 복수 개의 분사구(40a)를 갖는 가스 분사관(40)이 위치되고, 타측에는 복수 개의 배기홀(41a)을 갖는 배기관(41)이 위치되어 진다.And, such a boat is made in the tube, the gas injection pipe 40 having a plurality of injection holes 40a for injecting gas is located on one side, the other side having a plurality of exhaust holes (41a) The exhaust pipe 41 is located.

이와 같이 구성된 본 발명에 의한 웨이퍼 보트는 도 3에 도시한 바와 같이 지지핀(32)의 상측에 각각 웨이퍼(W)가 안착되는데, 상기 웨이퍼(W)는 각각 가장자리에 안내핀(33) 위치됨에 따라 보트의 고속 회전시 웨이퍼(W)가 원심력 등에 의해 보트로부터 이탈되는 것을 방지하게 된다.In the wafer boat according to the present invention configured as described above, as shown in FIG. 3, the wafers W are respectively seated on the upper side of the support pins 32, and the wafers W are positioned at the edges of the guide pins 33. Accordingly, during the high speed rotation of the boat, the wafer W is prevented from being separated from the boat by the centrifugal force.

또한, 도 3 에 도시한 바와 같이 가스를 분사하는 가스 분사관(40)에 형성된 각각의 분사구(40a) 및 배기관(41)에 형성된 각각의 배기홀(41a)과 평행한 상태로 각각의 슬롯이 형성되고, 각각의 슬롯들은 지지판(31)에 의해 차단이 이루어짐으로써 각 슬롯마다 독립적인 막질의 증착이 이루어지게 되고, 이에 따라 가스의 증착율이 현저하게 향상됨과 동시에 막질의 균일성이 증대되는 것이다.In addition, as shown in FIG. 3, each slot is formed in parallel with the respective injection holes 40a formed in the gas injection pipe 40 for injecting gas and the respective exhaust holes 41a formed in the exhaust pipe 41. Each slot is blocked by the support plate 31 to deposit an independent film quality for each slot, thereby significantly increasing the deposition rate of the gas and increasing the uniformity of the film quality.

상술한 바와 같이 본 발명에 의하면, 가스를 분사하는 분사구 및 배출하는 배기홀을 평행하게 설계하는 것이 가능하여 가스의 흐름이 균일하게 되고 각 슬롯마다에 독립적인 막질의 증착이 이루어짐으로써 가스의 증착율 및 막질의 균일성이 현저하게 향상됨과 동시에 보트의 고속 회전 시에 웨이퍼가 이탈되는 것을 방지하는 등의 여러 가지 효과를 가지게 된다.






As described above, according to the present invention, it is possible to design the injection holes for injecting the gas and the exhaust holes for discharging in parallel, so that the flow of gas is uniform and the film quality is deposited in each slot. The uniformity of the film quality is remarkably improved and various effects such as preventing the wafer from being released during the high speed rotation of the boat are provided.






Claims (3)

세워 설치된 복수 개의 기둥과, 상기 기둥의 내측에 고정된 지지판과, 상기 지지판 상에 세워 설치되어 웨이퍼를 지지하는 된 복수 개의 지지핀 및 웨이퍼의 가장자리에 위치되는 안내핀을 포함하는 웨이퍼 보트.A wafer boat comprising a plurality of pillars mounted upright, a support plate fixed inside the pillar, a plurality of support pins standing on the support plate and supporting the wafer, and guide pins positioned at edges of the wafer. 제 1 항에 있어서, 상기 안내핀은 지지핀의 길이보다 크게 형성된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 보트.The wafer boat of claim 1, wherein the guide pin is larger than a length of the support pin. 제 1 항에 있어서, 상기 지지판은 평판 상으로 형성된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 보트.The wafer boat according to claim 1, wherein the support plate is formed on a flat plate.
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