KR100543875B1 - Composite substrate carrier - Google Patents
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Abstract
웨이퍼 캐리어가 적어도 둘의 상이한 융해 가공가능의 플라스틱 재료로 형성되고 둘의 플라스틱 재료는 최선의 성능을 위해 전략적으로 배치되어 부가성형 과정중에 창출되는 열물리적 결합을 가진다. 본 발명은 상기 상이한 융해 가공가능의 플라스틱 재료로 만들어진 캐리어들을 포함하며 또 그러한 캐리어들을 제조하는 방법을 포함한다. 우선의 실시양태에 있어서 H바 웨이퍼 캐리어는 제 1의 형 중공부에서 폴리카보네이트로 성형된 제 1의 구조 부분을 가지게 되고, 다음 제 2의 형 중공부에 배치되는 폴리카보네이트 성형의 부분을 가지게 되며, 폴리에테르에테르케톤이 사출성형되어 H바 캐리어 상에 웨이퍼 접촉 부분을 형성하게 된다. 프로세스 온도와 형 온도가 제어되어 부동의 재료들 간에 최적의 결합을 마련하게 된다. 따라서, 복합의 재료의 일체 웨이퍼 캐리어가 형성된다. 추가의 실시양태는 웨이퍼들의 보지를 위해 둘의 부동의 플라스틱으로 성형되는 선반들 또는 측벽 삽입물 등의 구성요소들을 활용하며 상기 구성요소들은 운송 모듈 따위의 디스크 울타리의 안쪽에 조립된다.The wafer carrier is formed of at least two different melt processible plastic materials and the two plastic materials are strategically placed for best performance and have thermophysical bonds created during the addition molding process. The present invention includes carriers made of said different melt processible plastics materials and includes a method of making such carriers. In a first embodiment, the H-bar wafer carrier has a first structural portion molded of polycarbonate at the first mold hollow, and then has a portion of polycarbonate molding disposed at the second mold hollow. The polyether ether ketone is injection molded to form a wafer contact portion on the H-bar carrier. Process temperature and mold temperature are controlled to provide optimum coupling between the floating materials. Thus, an integral wafer carrier of composite material is formed. A further embodiment utilizes components such as shelves or sidewall inserts molded from two floating plastics for holding the wafers, which are assembled inside a disk fence such as a transport module.
웨이퍼 캐리어Wafer carrier
Description
도 1은 본 발명에 따른 H바 웨이퍼 캐리어이다.1 is an H-bar wafer carrier according to the present invention.
도 2는, 도 1의 캐리어의 오버몰딩된 부분을 보이는 그림이다.FIG. 2 shows an overmolded portion of the carrier of FIG. 1.
도 3은 선행기술의 워크 인 프로세스(WIP : work-in-process) 박스의 사시도이다. 3 is a perspective view of a work-in-process (WIP) box of the prior art.
도 4는 본 발명에 따른 WIP 박스와 H바 캐리어의 사시도이다.4 is a perspective view of a WIP box and an H-bar carrier according to the present invention.
도 5는 본 발명에 따른 WIP 박스의 측면도이다.5 is a side view of a WIP box according to the present invention.
도 6은 선행기술의 디스크 시퍼(disk shipper)의 사시도이다.6 is a perspective view of a disk shipper of the prior art.
도 7은 본 발명에 따른 디스크 시퍼의 동체이다.7 is a fuselage body of a disc siffer according to the present invention.
도 8은 선행기술의 운송 모듈의 도면이다.8 is a view of a transportation module of the prior art.
도 9는 도 8에 보인 것과 유사한 본 발명에 따른 운송 모듈의 분해도이다.9 is an exploded view of a transport module according to the invention similar to that shown in FIG. 8.
도 10은 복합의 웨이퍼 캐리어의 사시도이다.10 is a perspective view of a composite wafer carrier.
도 11은 도 10의 웨이퍼 캐리어의 분해도이다.FIG. 11 is an exploded view of the wafer carrier of FIG. 10.
도 12는 본 발명에 따른 프로세스 증진 캐리어의 사시도이다.12 is a perspective view of a process enhancing carrier according to the present invention.
도 13은 본 발명의 방법을 설명하는 모형도이다. 13 is a model diagram illustrating the method of the present invention.
본 발명은 메모리 디스크, 실리콘 웨이퍼 등을 수용하여 운반, 보관, 처리를 행하기 위한 기구에 관한 것이다. 더 상세하게는 본 발명은 복합식의 웨이퍼 또는 디스크 캐리어에 관한 것이다.The present invention relates to a mechanism for receiving, transporting, storing, and processing a memory disk, a silicon wafer, or the like. More particularly, the present invention relates to a composite wafer or disk carrier.
디스크 또는 웨이퍼의 처리 전, 처리 중, 및 처리 후 실리콘 웨이퍼나 자기 디스크의 패치를 운반하기도 하고 보관하기도 하기 위해 캐리어가 이용되고 있다. 웨이퍼는 집적회로로 가공되어 컴퓨터용의 자기 기억장치를 이용하여 디스크가 처리된다. 이 명세서에서 사용되는 경우의 웨이퍼들은 실리콘 웨이퍼, 자기 기판 등을 말한다. Carriers are used to transport and store patches of silicon wafers or magnetic disks prior to, during, and after processing of disks or wafers. The wafer is processed into an integrated circuit and the disk is processed using a magnetic memory device for a computer. As used herein, wafers refer to silicon wafers, magnetic substrates, and the like.
웨이퍼 디스크의 집적회로 칩으로의 가공에는 여러 공정이 포함되고 이들 공정에 있어서 디스크는 반복처리되어 보관되어 운반된다. 디스크는 상당히 세밀하고 또한 상당히 고가 이기 때문에, 이의 일련의 처리 중에 있어서 디스크가 적절히 보호되는 것이 중요하다. 웨이퍼 캐리어의 하나의 목적은 이런 보호를 제공하는 데 있는 것이다. 게다가, 웨이퍼 디스크의 처리는 일반적으로 자동화되기 때문에, 로벗에 의해 웨이퍼를 제거하기도 하고 끼우기도 하는 경우에, 디스크를 처리장치에 대하여 정확히 배치하는 것이 중요하다. 웨이퍼 캐리어의 두번째 목적은 웨이퍼 디스크를 운반할 때에 웨이퍼 디스크를 확실하게 유지하는 것이다.The processing of a wafer disk into an integrated circuit chip involves several processes, in which the disk is repeatedly processed and stored. Since the disk is quite fine and quite expensive, it is important that the disk is properly protected during its series of processing. One purpose of the wafer carrier is to provide such protection. In addition, since the processing of wafer disks is generally automated, it is important to position the disk correctly relative to the processing apparatus when the wafer is removed or inserted by the robot. The second purpose of the wafer carrier is to securely hold the wafer disk when carrying the wafer disk.
캐리어는 웨이퍼나 디스크를 슬롯 중에 축방향으로 나란하게 하여, 웨이퍼 또는 디스크를 그 근방 에지 또는 그에 가깝게 지지하도록 구성으로 되어 있다. 웨이퍼나 디스크는 통상적으로 캐리어로부터 반경방향에서 위쪽 또는 측방향으로 제거된다. 캐리어는 웨이퍼나 또는 디스크를 에워싸는 보조부재로써 커버, 저부 커버, 또는 엔클러저를 가지고 있다. The carrier is configured to align the wafer or disk in the axial direction in the slot to support the wafer or disk at or near its edge. The wafer or disk is typically removed radially upwards or laterally from the carrier. The carrier has a cover, bottom cover, or enclosure as an auxiliary member surrounding the wafer or disk.
웨이퍼 캐리어에 대하여서는 유용하여 잇점이 있는 재료 특성이 많이 존재하지만, 이는 캐리어의 타입이나 대상으로 하고 있는 캐리어의 특성이 부분에 따라서 다르다.There are many material properties that are useful and advantageous for wafer carriers, but this varies depending on the type of carrier and the characteristics of the carrier to be targeted.
반도체 웨이퍼이나 자기 디스크를 처리할 때에, 입자가 존재하거나 입자가 발생하면 중대한 오염문제가 발생한다. 반도체 산업에 있어서는, 오염을 단일의 가장 큰 산률 손실(yield loss)의 원인으로 인식되고 있다. 집적회로의 사이즈가 작게 됨에 따라서, 집적회로를 오염하는 입자의 치수도 작아지기 때문에, 오염물질의 감소는 매우 중요하다. 입자형태의 오염물질은 캐리어가 웨이퍼, 또는 디스크, 캐리어 커버 또는 엔클러저, 보관 선반, 기타의 캐리어, 또는 처리장치에 의해, 그리고 문지르거나 긁는 따위의 마손에 의하여 발생된다. 따라서, 캐리어의 가장 바람직한 특성은 플라스틱 성형 재료의 마손, 문지름, 또는 긁음 시에 입자의 발생을 방지하는 것이다. 미국특허 제 5,780,127 호에는 웨이퍼 캐리어들을 위한 그러한 재료의 적절히 관계하는 플라스틱의 재 특성이 기재되어 있다. 상기 특허를 참고로 반영한다.When processing semiconductor wafers or magnetic disks, the presence of particles or the generation of particles creates significant contamination problems. In the semiconductor industry, pollution is recognized as the single largest cause of yield loss. As the size of integrated circuits becomes smaller, the reduction of contaminants is very important because the dimensions of the particles that contaminate the integrated circuit also become smaller. Particulate contaminants are generated by carriers by wafers or discs, carrier covers or enclosures, storage shelves, other carriers, or processing equipment, and by rubbing or scraping. Thus, the most desirable property of the carrier is to prevent the generation of particles upon wear, rub, or scratching of the plastic molding material. U. S. Patent No. 5,780, 127 describes the proper properties of plastics of such materials for wafer carriers. The patent is incorporated by reference.
캐리어 재료는 휘발성분의 방출, 즉 방출 가스 또한, 최소한으로 억제될 필요가 있다. 이러한 이유는 휘발성은 필름을 성형하며, 이는 웨이퍼나 디스크에 손상을 주는 오염물질로 되어 있기 때문이다. The carrier material needs to be suppressed with the release of volatiles, i.e., the release gas, as well. This is because volatility forms films, which are contaminants that damage wafers or disks.
캐리어 재료는 또한, 캐리어를 적재할 때의 치수 안정성, 즉 강성을 유지할 필요가 있다. The carrier material also needs to maintain dimensional stability, ie rigidity, when loading the carrier.
치수 안정성은 웨이퍼 또는 디스크들에 대한 손상을 방지하고 캐리어 주위에서의 웨이퍼 또는 디스크의 움직임을 최소화하는 데 필요하다. 웨이퍼와 디스크을 유지하는 슬롯들의 공차는 극히 작기 때문에, 캐리어가 변형하면, 웨이퍼들 또는 디스크들을 캐리어 안팎으로, 또는 내부에서 이동시키는 때, 대단히 취약한 웨이퍼들을 직접 손상시킬 수 있거나 또는 마손에 따라서 입자 발생을 증대시킬 수 있다. 치수 안정성은 또한, 상당히 중요하다. 또한 캐리어 재료는 보관 중이 거나 세정 중에 일어나는 고온상태에 있어서 치수 안정성을 유지할 필요가 있다.
반도체 산업에 있어서 사용되는 종래의 캐리어는 정전하를 발생하여 대전하고 있다. 대전(charged)된 플라스틱 부분이 전자 디바이스나 처리장치와 접촉하면, 이 부분에 있어서 방전이 발생하고 정전기 방전(ESD:electrostatic dscharge)으로 알련진 파괴형상이 발생한다. 또한, 정전기로 대전된 캐리어는 입자, 특히 부유 입자를 끌어들여 부착시킨다. 게다가, 캐리어상에 정전기 축적(static buildup)이 발생하면, 반도체 처리 장치는 자동적으로 정지되고 만다. 캐리어들 상의 정전 집적은 반도체 처리 장비를 자동적으로 정지하게 하는 원인이 될 수도 있다. ESD를 배제하고 또 입자들을 끌어당기는 것을 피하려면 캐리어에 정전기 소산 특성을 가지게 하는 것이 가장 바람직하다.Dimensional stability is necessary to prevent damage to the wafer or disks and to minimize the movement of the wafer or disk around the carrier. Since the tolerances of the slots holding the wafer and the disk are extremely small, if the carrier deforms, it can directly damage very vulnerable wafers or cause particle generation upon wear or tear when the wafers or disks are moved in or out of the carrier. You can increase it. Dimensional stability is also of great importance. Carrier materials also need to maintain dimensional stability at high temperatures that occur during storage or cleaning.
Conventional carriers used in the semiconductor industry generate electrostatic charges to charge them. When a charged plastic part comes into contact with an electronic device or a processing device, a discharge occurs in this part and a destructive shape known as electrostatic discharge (ESD) occurs. In addition, the electrostatically charged carrier attracts and attaches particles, particularly suspended particles. In addition, when a static buildup occurs on the carrier, the semiconductor processing device is automatically stopped. Electrostatic integration on the carriers may cause the semiconductor processing equipment to stop automatically. It is most desirable to have the electrostatic dissipation characteristics of the carrier to exclude ESD and avoid attracting particles.
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미량 금속들은, 많은 웨이퍼 재료에 있어서의 일반적인 성분 또는 잔류물이다. 금속의 오염물질은 캐리어의 재료 선택이나 캐리어의 조립 방법에 있어서 고려되어야 한다. 캐리어 재료에 있어서의 음이온 오염은 오염과 부식의 문제를 발생한다. Trace metals are a common component or residue in many wafer materials. Metal contaminants should be considered in the choice of material for the carrier or in the assembly of the carrier. Anion contamination in the carrier material creates problems of contamination and corrosion.
캐리어에 사용되는 재료는 또한 그들이 지배될 수도 있는 어떠한 약품에 대하여 화학적 적합성을 가지는 것이 필요하다. 운반이나 보관만을 위한 웨이퍼 캐리어에서는 약품의 사용은 상정하고 있지 않지만 캐리어는 세정액이나 이소프로필 알코올 등 일반적으로 사용되고 있는 용제에 대해서는 내성을 가질 필요가 있다. 처리용 캐리어는 상당히 순도가 높은 산이나 강한 약품에 노출된다.The materials used for the carriers also need to be chemically compatible with any drug that they may be governed by. The use of chemicals is not assumed in wafer carriers for transport or storage only, but the carriers need to be resistant to solvents generally used, such as cleaning liquids and isopropyl alcohol. Treatment carriers are exposed to highly pure acids or strong chemicals.
폐쇄된 용기 중의 웨이퍼가 눈으로 볼수 있다는 것은 상당히 바람직하고, 엔드 유저에 의해 필요한 것이다. 폴리카보네이트 따위의 상기 용기에 적합한 투명 플라스틱은 비용이 낮다는 점에서는 바람직하나 그런 플라스틱은 바람직한 정전 소산 특성을 가지고 있지 않아서 바람직한 내마손성도 가지고 있지 않다.It is quite desirable that the wafer in the closed container is visible and is required by the end user. Transparent plastics suitable for such containers, such as polycarbonates, are preferred in terms of low cost, but such plastics do not have desirable electrostatic dissipation properties and thus do not have desirable wear resistance.
캐리어 재료의 그외의 중요한 특성으로는 코스트나 재료의 성형의 용이성에 있다. Other important properties of the carrier material are cost and ease of forming the material.
캐리어는 폴리카보네이트(PC), 아크릴로니트릴 부타디엔 스티렌(ABS), 폴리프로필렌(PP), 폴리에틸렌(PE), 페르플루오로알콕시(PFA), 및 폴리에테르에테르케톤(PEEK) 따위의 사출 성형 플라스틱으로 전형적으로 형성된다.Carriers are injection molded plastics such as polycarbonate (PC), acrylonitrile butadiene styrene (ABS), polypropylene (PP), polyethylene (PE), perfluoroalkoxy (PFA), and polyetheretherketone (PEEK). Typically formed.
정전기 소산특성을 제공하기 위해 사출성형 플라스틱이 첨가된 필러(filler)로서는 카본 파우더나 카본 파이버, 금속섬유, 금속피복된 흑연, 및 유기(아민 염기의) 첨가물이 있다. Fillers in which injection molded plastics have been added to provide electrostatic dissipation properties include carbon powder or carbon fiber, metal fibers, metallized graphite, and organic (amine base) additives.
운반이나 보관을 위해 사용되는 1개의 일반적인 웨이퍼 캐리어는 H바 캐리어라고 부르는 것으로, H바 인터패이스 부분을 가지는 전단부와, 판을 가지는 후단부와, 슬롯 및 웨이퍼의 곡선에 따른 하축곡선 부분 즉, 부속부분을 가지는 측면으로 이루어져 있고, 개구된 상부 및 개구된 저부를 구비한 단일의 성형부재로 성형되어 있다. H바 캐리어는 통상의 경우, 여러번 재 이용된 후에 폐기된다. 캐리어는 사용 중에 있어서는 일반적으로 온수나 다른 약품으로 세정되고 이후 온풍으로 건조된다. 웨이퍼를 세정, 건조, 운반, 처리하는 경우에 있어서, 고온으로 노출될 때에 캐리어가 그 형상을 유지할 수 있는 것은 상당히 중요한 특성이다.One common wafer carrier used for transport or storage is called the H-bar carrier, which includes a front end with an H-bar interface, a rear end with a plate, and a lower axis curve portion, i. It consists of a side having a portion and is molded into a single molding member having an open top and an open bottom. The H-bar carrier is normally discarded after several reuses. In use, the carrier is generally washed with hot water or other chemicals and then dried by warm air. In cleaning, drying, transporting and processing a wafer, it is a very important characteristic that the carrier can maintain its shape when exposed to high temperatures.
다른 일반적인 캐리어는 H바 캐리어를 유지하도록 한 구조를 가지는 박스이다. 이 박스는 일반적으로 워크 인 프로세스(work in process)(WIP)로 알려져 있다.Another common carrier is a box having a structure configured to hold an H bar carrier. This box is commonly known as a work in process (WIP).
또 다른 종래의 캐리어는 표준화 기계식 인터패이스(SMIF)박스이다, SMIF 박스는 처리장치와 기계적으로 인터패이스하는 H바캐리어를 실상태로 밀봉하여 에워싸는 박스를 가지고 있다. 일반적으로 SMIF박스는 저부에 열린 도어를 가지고 있으며, 웨이퍼를 가지는 H바 캐리어로 액세스할 수 있도록 되어 있다. H바 캐리어로 액세스하기 위해, 앞이 개구되도록 한 도어를 가지는 박스도 공지되어 있다. 다른 종래의 캐리어는 다른 몸체의 H캐리어에서는 없어서 웨이퍼를 지지하는 내부 선반을 가지는 박스 엔클러저로 이루어져 있으며, 앞이 개구된 도어를 가지는 운반 모듈이다.Another conventional carrier is a standardized mechanical interface (SMIF) box, which has a box that seals and encloses the H bar carrier mechanically interfaced with the processing device. In general, SMIF boxes have an open door at the bottom and are accessible by an H-bar carrier with a wafer. Boxes are also known which have doors that are open to the front for access to the H-bar carrier. Another conventional carrier consists of a box enclosure with an inner shelf supporting the wafer, which is not present in the H carrier of the other body, and is a transport module having an open door in front.
캐리어의 1개의 부재에 대하여 이상적인 재료는 동일한 캐리어의 다른 부분의 재료로서는 필요하여도 이상적인 재료와는 한계가 있다는 것을 인식하는 것이 필요하다. 예를 들어, PEEK는 웨이퍼 접촉 부분에 대해서는 이상적인 내마모성을 가지는 재료이지만, 성형이 곤란하고, 다른 플라스틱에 비하여 상당히 고가이다. 따라서, 구조부분의 재료로서는 PEEK는 바람직하다고 말할 수 없고 폴리카보네이트 등의 다른 플라스틱쪽이 적합하다.It is necessary to recognize that the ideal material for one member of the carrier is limited to the ideal material even though it is necessary for the material of another part of the same carrier. PEEK, for example, is a material that has ideal wear resistance for wafer contact portions, but is difficult to mold and is considerably more expensive than other plastics. Therefore, PEEK is not preferable as the material of the structural part, and other plastics such as polycarbonate are suitable.
다른 재료가 디스크 캐리어의 다른 부분에 대하여 사용되는 유일의 경우에는 이 다른 부분 즉, 컴퍼넌트가 따로 성형되고 이후 이것이 캐리어로 조립되어 지는 경우이다. 이와 같은 조립된 캐리어의 성형에 있어서는 다른 컴퍼넌트의 표면과 접촉하여 입자를 발생하기도 하고 세정하는 것이 곤란한 오염물질의 부착 부분을 성형하기도 한다는 결점이 있다. 게다가, 조립의 공정에 있어서도 입자가 발생한다. 더구나, 다른 컴퍼넌트 부분을 형성하고 이를 조립하여 캐리어에 있어서는 노력이 필요하여 코스트가 비싸다. The only case where different materials are used for different parts of the disk carrier is when this other part, the component is molded separately and then assembled into the carrier. In the formation of such assembled carriers, there is a drawback in that they form particles in contact with the surface of other components and form contaminant attachment parts that are difficult to clean. In addition, particles are also generated in the granulation step. In addition, the formation of other component parts and the assembly thereof require expensive efforts for the carrier, which is expensive.
본 발명의 웨이퍼 캐리어는 2개이상의 다른 용융처리 가능한 플라스틱 재료로 성형되어 있다. 2개의 플라스틱 재료는 최적한 성능을 발휘하도록 배치되어 있고 오버몰드 프로세서에 의해 열물리적인 결합이 행해진다. 본 발명은 상기 상이한 용융해 가공 가능의 플라스틱 재료로 만들어진 캐리어를 포함하며 또 그러한 캐리어들을 제조하는 방법을 포함한다. 우선의 실시양태에 있어서 H바 웨이퍼 캐리어는 제 1의 형 중공부(mold cavity)에서 폴리카보네이트로 성형된 제 1의 구조 부분을 가지게 되고, 다음 제 2의 형 중공부에 배치되는 폴리카보네이트 성형의 부분을 가지게 되며, 폴리에테르에테르케톤이 사출 성형되어 H바 캐리어 상에 웨이퍼 접촉 부분을 형성하게 된다. 처리 온도와 성형 형 온도가 제어되어 상이한 재료들 간에 최적의 결합을 마련하게 된다. 따라서, 복합의 재료의 일체 웨이퍼 캐리어가 형성된다. 추가의 실시양태는 웨이퍼의 유지를 위해 두개의 다른 플라스틱으로 성형되는 선반들 또는 측벽 삽입물 따위의 구성요소들을 활용하며 상기 컴퍼넌트는 운송 모듈 따위의 디스크 엔클러저의 안쪽에 조립된다.The wafer carrier of the present invention is molded from two or more different meltable plastic materials. The two plastic materials are arranged for optimal performance and thermophysical bonding is performed by an overmolded processor. The present invention includes carriers made of such different melt processable plastics materials and includes methods of making such carriers. In a first embodiment the H-bar wafer carrier has a first structural portion molded of polycarbonate in a first mold cavity, and then of a polycarbonate molding disposed in a second mold hollow. And a polyetheretherketone is injection molded to form a wafer contact portion on the H-bar carrier. The processing temperature and mold temperature are controlled to provide the optimum coupling between the different materials. Thus, an integral wafer carrier of composite material is formed. A further embodiment utilizes components such as shelves or sidewall inserts molded from two different plastics for holding the wafer, the components being assembled inside the disk enclosure such as the transport module.
본 발명의 이점과 특징은 최소의 재료와 노동 비용의 최선의 성능 특성을 제공하는 캐리어가 형성된다는 것이다.An advantage and feature of the present invention is that a carrier is formed which provides the best performance characteristics of the least material and labor cost.
본 발명의 특별한 우선 실시양태들의 추가적인 장점과 이점은 컴퍼넌트의 의 조립이 없는 동시에 재료의 조합을 이용하는 이점을 유지하고 있다는 것이다.A further advantage and advantage of the particular preferred embodiments of the present invention is that there is no assembly of the components and at the same time maintains the advantage of using a combination of materials.
본 발명의 특별한 우선 실시양태들의 추가적인 장점과 목적은 함께 성형되는 두개의 플라스틱 부분에 의하여 사실상 일체 캐리어 또는 컴퍼넌트가 창출된다는 것이다.A further advantage and object of particular preferred embodiments of the present invention is that virtually an integral carrier or component is created by two plastic parts molded together.
본 발명의 또 다른 이점과 특징은 두개의 상이한 재료들 간의 이음매가 폐쇄되어 오염물질 또는 다른 화학약품의 잠재적 함정을 배제한다는 것이다.Another advantage and feature of the present invention is that the seam between two different materials is closed to eliminate potential traps of contaminants or other chemicals.
본 발명의 또 하나의 이점과 특징은 어닐링 따위의, 달리 필요할 수도 있는 웨이퍼 캐리어의 성형 후 조절을 프로세스가 배제할 수 있다는 것이다. Another advantage and feature of the present invention is that the process can exclude post-molding adjustment of the wafer carrier, which may otherwise be necessary, such as annealing.
도 1을 참조하면, H바 웨이퍼 캐리어가 묘사되어 있으며 일반적으로 참조번호 20으로 나타나 있다. 이 H바 캐리어는 종래의 H바 캐리어와 마찬가지로, 전부(22), 후부(23), 측벽(24, 26), 웨이퍼를 수용하기 위한 슬롯(28), 개구된 상부(30), 및 H바(32)로서 형성된 장치 인터패이스를 가지고 있다. 각각의 슬롯은 한쌍의 웨이퍼 맞물림 이빨(34)의해 한정된다.Referring to FIG. 1, an H-bar wafer carrier is depicted and generally indicated at 20. This H-bar carrier, like the conventional H-bar carrier, has a whole 22, rear 23,
종래의 H바 웨이퍼 캐리어는 H바, 즉, 장치 인터패이스 외에, 코너(40)에 접촉부분을 가지는 4개의 피트(feet)를 구성하는 저부 장치 인터패이스(38)를 가지고 있다.
게다가, 로벗 용 픽업 핸들(42)과 로벗의 플랜지(44)가 또한 장치 인터패이스 기능을 한다. 이와 같은 복합형의 H바 케리어는 제 1의 베이스 부분(44)과, 웨이퍼 맞물림 부분(46)로서 구성된 제 2의 오버몰드 부분을 일반적으로 가지고 있다. 본 실시양태에 있어서 웨이퍼 캐리어(20)는 일체화된 단일의 컴퍼넌트(20)이다. The conventional H-bar wafer carrier has, in addition to the H-bar, i.e., the device interface, a
In addition, the pick-up
도 2에는 오버몰드된 부분(50)이 도시되어 있으며, 이 도면에는 일체된 베이스 부분(44)이 생략되어 있다. 오버몰드된 부분(50)은 웨이퍼 맞물림 부분(46)과 부속부품(52)를 가지고 있다. 부속부품(52)은 성형 프레스 때에 용융 상태의 오버몰드 재료가 흐르는 유로에 대응하는 부분이다. 이 부분은, 도시되어 있듯이, 오버몰드를 위한 주형 중공부의 구성을 나타낸다. In FIG. 2 an
우선의 실시양태에 있어서, 서포트(support) 또는, 베이스 부분(44)은 폴리카보네이트, 또는 카본 파이버 필러가 충전된 폴리카보네이트로서, 수치 안정성이 양호하고 형성이 용이하며 저가로 형성된 플라스틱이다. 다음에, 오버몰드된 부분(50)이 PEEK 또는 탄소 파이버 필러가 충전된 PEEK 등의 다른 용융 처리 가능한 결정성 플라스틱으로 성형된다. 이들 재료는 그들의 형태학적 구조(morphological struction) 및 처리 온도가 다르다. 이들 재료는 일예이며, 이와 동일한 기능을 발휘하여 얻어진 것이면, 형태학적으로 다른 재료의 조합을 사용하는 것도 가능하다. 무정형 재료(amorpuus materials)인 폴리카보네이트와 결정성 재료인 PEEK의 조합에 있어서는, 무정형 재료가 용융 상태의 결정성 재료와 접촉할 때에 열물리적인 결합을 형성한다. 이의 결합은 경계면에 있어서의 폴리머 유리의 표면의 에너지가 증대함으로써 형성된다고 믿어진다. 따라서, 고온의 무정형 용융물이 폴리머 유리, 폴리카보네이트와 접촉하는 때, 이에 의해, 폴리머 유리의 표면 에너지를 증대하여 고온의 용융물이 냉각됨에 따라서 경계면에 있어서 결정화한다. 이론적으로는, 이 결정화 과정이 두 재료의 결합에 기여한다. 폴리머 유리는 상당히 비열이 낮기 때문에, 폴리머 유리로 열이 매우 느린 속도로 소산하여 PEEK의 고온의 용융물의 냉각이 지연되고 경계면에 있어서의 결정화를 증대시킨다. 이 과정을 사출 성형으로 행해지는 경우, 성형품은 폴리머 결정과 성형금형과의 경계면에 있어서 보다도 폴리머 유리와의 경계면에 있어서 결정화 레벨이 높게 된다. 왜냐하면, 금속과 폴리머 유리사이에는 비열에 차이가 있기 때문이다. In a preferred embodiment, the support or
우선의 실시양태에 있어서는, 폴리카보네이트, 즉 폴리머 유리가 먼저 성형된 다음, 이 성형품이 사출성형 형(型)에 배치되어서 그 위에 PEEK가 성형된다. 이 과정에 있어서는 폴리카보네이트의 베이스의 부분이 변형되지 않도록 하기 위해 성형 온도는 폴리카보네이트의 유리 전이점(149℃)이하로 보전되는 것이 이상적이다. 웨이퍼 접촉 부로서의 오버몰드된 부분(50)이 전략적으로 배치되어 구성되어서 웨이퍼가 폴리카보네이트와 접촉하게 되는 일이 없을 것이다.In a preferred embodiment, the polycarbonate, ie, the polymer glass, is first molded and then the molded article is placed in an injection mold to form a PEEK thereon. In this process, the molding temperature is ideally maintained below the glass transition point (149 ° C.) of the polycarbonate so as not to deform the portion of the base of the polycarbonate. The
상기 이외의 무정형 재료는 폴리에데르이미드(PEI)가 있다. 이 경우의 결합에 있어서는 화학적 결합요소도 관계하고 있다.Amorphous materials other than the above are polyetherimide (PEI). In this case, the chemical bonding element is also involved.
여러가지 형식의 결합 컴퍼넌트가 오버몰드된 부분과 베이스 부분과의 결합에 관계한다. 용융된 오버몰드 재료가 용융되지 않은 베이스 부분과 접촉할 때에는 열물리적 결합이 일어난다고 믿어진다. 열물리적 결합은 두 부분의 분자가 분자 반경의 3배이하로 될때 일어난다. Various types of coupling components relate to joining the overmolded part with the base part. It is believed that thermophysical bonding occurs when the molten overmolded material contacts the unmelted base portion. Thermophysical bonding occurs when molecules in two parts are less than three times the radius of the molecule.
도 3, 4, 및 5를 참조하면, 워크 인 프로세스 박스(work in process box)가 개시되어 있으며 참조번호 60으로 일반적으로 가리켜져 있다. 그러한 워크 인 프로세스 박스는 도 1에 도시된 것과 같은 H바 웨이퍼 캐리어(62)를 전형적으로 유지하고 상부 커버(64), 베이스 부분(66), 및 베이스 부분(66)중에 맞물려서 그 위에 안착되어 있는 H바 웨이퍼 캐리어(62)의 주요 컴퍼너트를 갖는다. 이 경우에, "캐리어"는 엔클러저 박스나 H바 캐리어를 가진 엔클러저 박스를 의미한다. 몇몇 컴퍼넌트는 오버몰드 프로세스로 형성될 수도 있어 고유의 특징의 이점과 프로세스와 본발명의 이점들을 취하게 된다. 예를 들면, 도 5에 나타나 있듯이, 상기 커버 색션(64)은 폴리카보네이트로 형성되어 있다. 그리고, 힌지(68)는 PEEK로 오버몰되어 상부 카버색션(64)에 부착되어 있다. 또한, 도 4를 참조하면 알수 있듯이, 먼저, 폴리카보네이트 윈도우(70)가 소망의 구조 및 크기로 형성되어 상부 커버 색션(64)형성을 할 때에 폴리카보네이트가 원도우(70)에 대하여 몰드에 끼워진다. 이에 의해 상부 커부 색션(64)의 성형에 대하여 폴리카보네이트가 원도우(70)에 대하여 오버몰드되어 원도우 부착 상부 커버 색션(64)이 형성된다. 오버몰드에 의해 접착제나 기계적인 패스너를 이용하지 않고 상당히 품질이 높은 접합이 실현가능하게 된다.
도 6 및 7를 참조하면 알수 있듯이, 자기 디스크 시퍼 캐리어는 베이스 부분(76), 상부 커버 부분(78)로 이루어져 있다. 또한, 베이스 부분(76)은 서포트 부분(82)을 가지고 있으며, 이 서포트 부분으로서의 베이스 본체(79)가 성형된 후, 이 위에 디스크 맞물림 부분(84)이 사출성형된다. 서포트 부분(82)은 폴리카보네이트 또는 이와 동등한 재료로 형성되어 있고 지지 맞물림 부분은 PEEK 또는 이와 동등의 재료로 형성되어 있다. 또 디스크 접촉 부들은 PEEK 또는 유사한 재료로 형성될 수가 있다.3, 4, and 5, a work in process box is disclosed and generally indicated at 60. Such a walk-in process box typically holds an H-
As can be seen with reference to FIGS. 6 and 7, the magnetic disk cipher carrier consists of a
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도 8 및 9를 참조하면, 예를 들어 300mm정도의 큰 반도체 웨이퍼용으로 이용하기 위한 운반 모듈(200)이 도시되어 있다. 이 특정의 구성에 있어서는 웨이퍼 서포트 부분(90)은 인터패이스(92)가 구비된 베이스 부분(91)와, 저입자 발생 맞물림 컴퍼넌트로서의 웨이퍼 서포트 선반(96)을 구비한 수직 기둥(94)과, 상부(98)를 가지고 있다. 웨이퍼 맞물림 선반(96)은 오버몰드된 부분(99)을 가지고 있다. 이 오버몰드된 부분(99)은 운반 모듈에 수용된 웨이퍼와 접촉하는 부분이다. 또한, 저 입자 발생 맞물림 컴퍼넌트로서의 장치 인터패이스 장치(92)와 접촉하는 오버몰드된 부분을 가지고 있다. 운송 모듈(200)은 엔클러저 부분(201)과 이 엔클러저(201)를 폐쇄(closing)하는 도어(202)를 포함한다.8 and 9, there is shown a
도 12에는 웨이퍼의 처리성을 향상시킨 캐리어로서 형성된 웨이퍼 캐리어가 도시되어 있다. 이 캐리어는 참조번호 110으로 도시되어 있다. 이 캐리어(110)는 베이스 서포트 부분(112, 114)과 이 사이를 연장하는 암(116)을 가지고 있다. 각각의 암은 슬롯(120)을 형성하는 복수의 이빨(118)을 가지고 있다. 이 슬롯(120)은 웨이퍼 처리공정 때에 웨이퍼를 유지하기 위한 것이다. 이 특별한 실시양태에 있어서는 암(116)과 이빨의 외측부분은 베이스 지지의 프레임 워크(122)로 오버몰드되어 있으며, 본발명의 특성이 제공된다.12 shows a wafer carrier formed as a carrier having improved wafer processability. This carrier is shown at 110. The
도 10 및 11에는 조립된 상태의 컴퍼넌트(122)로 형성된 복합형의 웨이퍼 캐리어가 도시되어 있다. 구성요소는 측벽 부분(124)과 캐리어 프레임 워크(126)로 되어 있다. 측벽 삽입물(124)은 프레임 워크(26)중에 맞물려서 조립하여 고정된 웨이퍼 캐리어를 형성한다. 또한, 캐리어의 후단(134)에는 로벗용 플랜지, 즉 장치 인터패이스(132)가 설치되어 있다. 이 경우에는 측벽부분(124)의 각각에는 오버몰드된 웨이퍼 캐리어 부분(139)이 설치되어 있으며, 웨이퍼가 긁힘으로 인한 입자발생이 극소화 된다. 오버몰드는 베이스의 성형보다도 엄격한 치수제어하에서 실행되어 웨이퍼를 작은 공차로 위치시킬 수 있다.
도 13에서는 본 발명을 실행하기 위한 방법을 설명하는 도면이 나타나 있다. 우선, 성형 형(mold)을 이용하여 베이스 부분 즉, 서포트 부분이 형성된다. 서포트 부분은 캐리어 프레임 워크나 도면에 도시된 측벽의 베이스 부분(130)등의 다른 캐리어 부분이다. 성형된 베이스 부분은 다음에 다른 성형 형에 끼워진다. 대안적으로, 형성된 부재를 떼어내어 동일한 성형 형(mold) 중으로 끼워진다. 이 상태에서 성형 형이 폐쇄되고 PEEK 등의 다른 오버몰드 재료가 성형 중공내에 사출한다. 이 성형 중공은 오버몰드된 특정 부분에 행당한다. 이후, 베이스 부분과 오버몰드된 부분으로 이루어진 완성된 성형품이 제거된다. 베이스 부분이 컴퍼넌트 부재의 경우에는, 이 컴퍼넌트 부재는 캐리어(136)내에 조립된다.10 and 11 illustrate a composite wafer carrier formed from
Figure 13 shows a diagram illustrating a method for practicing the present invention. First, a base part, that is, a support part, is formed using a mold. The support portion is another carrier portion, such as a carrier framework or
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특별한 적용에 있어서, 제 1의 사출 성형 부분인 베이스 부분을 제 2의 부분, 즉, 오버몰드된 부분에 비하여 체적을 작게하는 하는데 적당하다. 또한 제 1의 부재를 예를들면, 웨이퍼 접촉 부분등과, 성형 형내의 소정의 부분에 증착시켜서 이 재료를 고화시켜서 몰드를 교환하지 않고 제 2의 지지부분을 제 1의 재료의 위에 오버몰드하는 것도 가능하다.In particular applications, the base portion, which is the first injection molded portion, is suitable for reducing the volume compared to the second portion, ie the overmolded portion. In addition, the first member may be deposited on, for example, a wafer contact portion and a predetermined portion in the molding die to solidify the material so that the second support portion is overmolded on the first material without replacing the mold. It is also possible.
또 다른 특별한 적용에 있어서는, 제 2의 재료를 고화시키지 않고 2개의 재료를 용융상태에서 접합시키켜도 좋다. 이 공 사출성형은 제 1의 부분과 제 2의 부분사이의 경계의 위치결정 정확도는 작지만, 제 2의 성형 형을 필요로 하지 않고 제 2의 부분을 고화시키는 공정, 성형 형으로 부터의 제 1부분을 제거하는 공정 및 제 2의 성형 형으로부터의 제1부분을 제거하는 공정 및 제2의 성형 형 중으로의 제 1의 부분을 설치하는 공정이 요구 되지 않는다. In another particular application, the two materials may be joined in a molten state without solidifying the second material. This injection molding has a small positioning accuracy of the boundary between the first part and the second part, but the process of solidifying the second part without requiring the second molding mould, the first from the molding mould. The step of removing the part, the step of removing the first part from the second molding die, and the step of installing the first part into the second molding die are not required.
본 발명은 최소의 재료와 노동 비용으로 최선의 성능의 캐리어를 형성하는 효과가 있다.The present invention has the effect of forming a carrier of best performance with minimal material and labor costs.
본 발명은 컴퍼넌트의 조립이 없는 동시에 재료의 조합을 이용하여 사실상, 일체 캐리어 또는 컴퍼넌트를 만들어내는 효과가 있다.The present invention is effective in producing an integral carrier or component without the assembly of the components and at the same time using a combination of materials.
본 발명은 둘의 부동의 재료들 간의 이음매가 폐쇄되어 오염물질 또는 기타의 화학약품의 잠재적 합성을 배제하는 효과가 있다.The present invention has the effect of eliminating the potential synthesis of contaminants or other chemicals by closing the seam between two dissimilar materials.
본 발명은 어닐링 따위의, 달리 필요할 수도 있는 웨이퍼 캐리어의 성형 후 조절을 프로세스가 배제할 수 있는 효과가 있다.
The present invention has the effect that the process can exclude post-molding adjustment of the wafer carrier, which may otherwise be necessary, such as annealing.
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