KR100542985B1 - Flat Panel Display with improved white balance - Google Patents

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KR100542985B1
KR100542985B1 KR1020030024428A KR20030024428A KR100542985B1 KR 100542985 B1 KR100542985 B1 KR 100542985B1 KR 1020030024428 A KR1020030024428 A KR 1020030024428A KR 20030024428 A KR20030024428 A KR 20030024428A KR 100542985 B1 KR100542985 B1 KR 100542985B1
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구재본
박상일
이을호
김진수
정진웅
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삼성에스디아이 주식회사
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    • G09G2320/00Control of display operating conditions
    • G09G2320/02Improving the quality of display appearance

Abstract

본 발명은 각 화소의 R, G, B 단위화소에 있어서, 구동 트랜지스터의 멀티 게이트 사이의 오프셋영역의 오프셋길이를 달리하여 오프셋영역의 기하학적인 구조를 변경시켜 줌으로써, 화이트 밸런스를 개선할 수 있는 평판표시장치를 개시한다.According to the present invention, a flat plate capable of improving white balance by changing the geometric structure of the offset region by changing the offset length of the offset region between the multi gates of the driving transistors in R, G, and B unit pixels of each pixel. A display device is started.

본 발명의 평판표시장치는 각각 적색(R), 녹색(G), 청색(B)을 구현하기 위한 R, G, B 단위화소를 구비하고, 상기 각 단위화소는 멀티 게이트를 갖는 트랜지스터를 구비하는 다수의 화소를 포함하며, 상기 R, G, B 단위화소 중 적어도 2개의 단위화소의 트랜지스터는 멀티 게이트 사이에 서로 다른 기하학적인 구조를 갖는 오프셋영역을 구비한다.The flat panel display device of the present invention includes R, G, and B unit pixels for implementing red (R), green (G), and blue (B), and each unit pixel includes a transistor having a multi-gate. A transistor of at least two unit pixels among the R, G, and B unit pixels includes a plurality of pixels and includes offset regions having different geometric structures between the multi gates.

상기 R, G, B 단위화소의 트랜지스터의 멀티게이트 사이의 오프셋영역의 총길이는 모두 동일하며, 상기 오프셋영역중 불순물이 도핑되지 않은 부분의 오프셋 길이가 서로 다른 것을 특징으로 한다. 상기 R, G, B 단위화소는 상기 트랜지스터중 발광효율이 가장 높은 발광소자를 구동시켜주기 위한 트랜지스터의 오프셋영역은 상기 발광소자보다 발광효율이 낮은 발광소자를 구동시켜 주기 위한 트랜지스터의 오프셋영역보다 오프셋길이가 긴 것을 특징으로 한다.The total lengths of the offset regions between the multi-gates of the transistors of the R, G, and B unit pixels are all the same, and the offset lengths of the portions in which the impurities are not doped in the offset regions are different from each other. The R, G, and B unit pixels have offset regions of transistors for driving light emitting devices having the highest luminous efficiency among the transistors than offset regions of transistors for driving light emitting devices having lower luminous efficiency than the light emitting devices. It is characterized by a long length.

Description

화이트 밸런스가 개선된 평판표시장치{Flat Panel Display with improved white balance}Flat Panel Display with improved white balance

도 1은 통상적인 평판표시장치의 R, G, B 단위화소의 배열상태를 도시한 도면.1 is a diagram showing an arrangement of R, G, and B unit pixels of a conventional flat panel display.

도 2a 및 도 2b는 본 발명의 실시예에 따른 평판표시장치에 있어서, R 단위화소의 구동 트랜지스터의 평면구조 및 단면구조를 도시한 도면.2A and 2B illustrate a planar structure and a cross-sectional structure of a driving transistor of an R unit pixel in a flat panel display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 3a 및 도 3b는 본 발명의 실시예에 따른 평판표시장치에 있어서, G 단위화소의 구동 트랜지스터의 평면구조 및 단면구조를 도시한 도면.3A and 3B illustrate a planar structure and a cross-sectional structure of a driving transistor of a G unit pixel in a flat panel display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 4a 및 도 4b는 본 발명의 실시예에 따른 평판표시장치에 있어서, B 단위화소의 구동 트랜지스터의 평면구조 및 단면구조를 도시한 도면.4A and 4B illustrate a planar structure and a cross-sectional structure of a driving transistor of a B unit pixel in a flat panel display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

220, 320, 420 : 반도체층 230, 330, 430 : 오프셋영역220, 320, 420: semiconductor layers 230, 330, 430: offset region

240, 241, 245, 340, 341, 345, 440, 441, 445 : 게이트240, 241, 245, 340, 341, 345, 440, 441, 445: gate

221, 225, 321, 325, 421, 425 : 소오스/드레인 영역221, 225, 321, 325, 421, 425: source / drain regions

251, 255, 351, 355, 451, 455 : 소오스/드레인 콘택251, 255, 351, 355, 451, 455 for source / drain contacts

261, 265, 361, 365, 461, 465 : 소오스/드레인 전극261, 265, 361, 365, 461, 465: source / drain electrodes

270, 370 : 마스크 235, 335, 435 : 도핑영역270, 370 mask 235, 335, 435 doping area

본 발명은 풀칼라 평판표시장치에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 멀티게이트 사이의 오프셋영역의 오프셋길이를 달리하여 오프셋영역의 기학학적인 구조를 변경하여 줌으로써 화이트 밸런스를 구현할 수 있는 평판표시장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a full color flat panel display. More particularly, the present invention relates to a flat display apparatus capable of realizing white balance by changing a geometrical structure of an offset region by changing an offset length of an offset region between multiple gates. will be.

일반적으로, 평판표시장치인 유기전계 발광표시장치는 도 1에 도시된 바와같이 매트릭스형태로 배열된 다수의 화소(100)를 구비하며, 각 화소(100)가 적색(R)을 구현하기 위한 단위화소(110R), 녹색(G)을 구현하기 위한 단위화소(120G), 청색(B)을 구현하기 위한 단위화소(130B)의 3개의 단위화소로 이루어진다. In general, an organic light emitting display device, which is a flat panel display device, includes a plurality of pixels 100 arranged in a matrix form as shown in FIG. 1, and each pixel 100 is a unit for implementing red (R). It consists of three unit pixels: a pixel 110R, a unit pixel 120G for implementing green (G), and a unit pixel 130B for implementing blue (B).

상기 R 단위화소(110R)는 적색(R) 발광층을 구비한 적색 EL소자(115)와, 상기 적색 EL소자(115)에 전류를 공급하기 위한 구동 트랜지스터(113)와, 상기 구동 트랜지스터(113)로부터 적색 EL소자(115)로의 전류공급을 스위칭하기 위한 스위칭 트랜지스터(111)로 이루어진다. 상기 G 단위화소(120G)는 녹색(G) 발광층을 구비한 녹색 EL소자(125)와, 상기 녹색 EL소자(125)에 전류를 공급하기 위한 구동 트랜지스터(123)와, 상기 구동트랜지스터(123)로부터 녹색EL소자(125)로의 전류공급을 스위칭하기 위한 스위칭 트랜지스터(121)로 이루어진다. 상기 B 단위화소(130B)는 청색(B) 발광층을 구비한 청색 EL소자(135)와, 상기 청색 EL소자(135)에 전류를 공급하기 위한 구동 트랜지스터(133)와, 상기 구동트랜지스터(133)로부터 상기 청색EL소자(135)로의 전류공급을 스위칭하기 위한 스위칭 트랜지스터(131)로 이루어진다. The R unit pixel 110R includes a red EL element 115 having a red (R) light emitting layer, a driving transistor 113 for supplying current to the red EL element 115, and the driving transistor 113. To the red EL element 115 from the switching transistor 111. The G unit pixel 120G includes a green EL element 125 having a green (G) light emitting layer, a driving transistor 123 for supplying current to the green EL element 125, and the driving transistor 123. Switching transistor 121 for switching the supply of current to the green EL element 125. The B unit pixel 130B includes a blue EL element 135 having a blue (B) light emitting layer, a driving transistor 133 for supplying current to the blue EL element 135, and the driving transistor 133. And a switching transistor 131 for switching the current supply to the blue EL element 135 from the above.

통상적으로, OELD 의 R, G, B 단위화소(110R, 120G, 130B)는 구동 트랜지스터(113, 123, 133)의 크기 즉, 채널층의 길이(L)에 대한 폭(W)의 비(W/L)가 모두 일정하고, EL소자는 B, R, G 단위화소순으로 높은 발광효율을 갖는다. 그러므로, R, G, B 단위화소(110R, 120G, 130B)의 구동 트랜지스터(113, 123, 133)의 채널층의 크기(W/L)는 모두 동일한 반면에 각 R, G, B EL층(115, 125, 135)의 발광효율은 서로 다르기 때문에, 화이트 밸런스(white balance)를 구현하기 어려웠다.Typically, the R, G, and B unit pixels 110R, 120G, and 130B of the OELD have a size W of the driving transistors 113, 123, and 133, that is, a ratio W of the width W to the length L of the channel layer. / L) are all constant, and the EL element has high luminous efficiency in the order of B, R, and G unit pixels. Therefore, while the size (W / L) of the channel layers of the driving transistors 113, 123, and 133 of the R, G, and B unit pixels 110R, 120G, and 130B are all the same, the respective R, G, and B EL layers ( Since the luminous efficiencies of the 115, 125, and 135 are different from each other, it is difficult to realize a white balance.

화이트 밸런스를 구현하기 위해서는, 발광효율이 높은 EL소자, 예를 들어 녹색 EL소자에는 상대적으로 작은 양의 전류를 공급하여야 하며, 발광효율이 낮은 적색 및 청색 EL소자에는 상대적으로 커다란 양의 전류를 공급해주어야 한다.In order to realize the white balance, a relatively small amount of current must be supplied to an EL device having a high luminous efficiency, for example, a green EL device, and a relatively large amount of current is supplied to a red and blue EL device having a low luminous efficiency. You should.

이때, 구동 트랜지스터를 통해 EL소자로 흐르는 전류(Id)는 구동 트랜지스터가 포화상태에서 동작할 때이므로, 식 (1)과 같이 표현된다 At this time, the current Id flowing through the driving transistor to the EL element is expressed by Equation (1) since the driving transistor is operated in a saturated state.

Id=Cox mu W {(Vg-Vth) }^{2 }/2L .....(1) Id = Cox mu W {(Vg-Vth)} ^ {2} / 2L ..... (1)

그러므로, 화이트 밸런스를 구현하기 위해 EL소자로 흐르는 전류를 제어하기 위한 방법 중 하나로 R, G, B 단위화소의 구동 트랜지스터의 크기 즉, 트랜지스터의 채널층의 길이(L)에 대한 폭(W)의 비(W/L)를 다르게 하여 R, G, B 단위화소의 EL소자에 흐르는 전류량을 조절하는 방법이 있다. 이와같이 트랜지스터의 크기에 따라 EL소자로 흐르는 전류량을 조절하는 방법은 일본특허 공개공보 2001-109399호에 개시되었다. 일본특허는 R, G, B 단위화소별 EL소자의 발광효율에 따라 R, G, B 단위화소의 구동 트랜지스터의 크기를 다르게 형성하였다. 즉, 발광효율이 높은 녹색(G)을 구현하기 위한 단위화소의 구동 트랜지스터의 크기를 상대적으로 발광효율이 낮은 적색(R) 또는 청색(B)을 구현하기 위한 단위화소의 구동 트랜지스터보다 작게 형성하여 줌으로써, R, G, B 단위화소의 EL소자로 흐르는 전류량을 제어하였다.Therefore, one of the methods for controlling the current flowing to the EL element to realize the white balance is the size of the driving transistors of the R, G, and B unit pixels, that is, the width W of the channel length L of the transistor. There is a method of controlling the amount of current flowing through the EL elements of R, G, and B unit pixels by varying the ratio (W / L). Thus, a method of controlling the amount of current flowing to the EL element according to the size of the transistor is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2001-109399. The Japanese patent forms the size of the driving transistors of the R, G, and B unit pixels differently according to the luminous efficiency of the EL element for each of the R, G, and B unit pixels. That is, the size of the driving transistor of the unit pixel for implementing green (G) having high luminous efficiency is made smaller than that of the unit transistor for implementing red (R) or blue (B) having low luminous efficiency. The amount of current flowing to the EL elements of the R, G, and B unit pixels was controlled by zooming.

화이트 밸런스를 구현하기 위한 또 다른 방법으로 R, G, B 단위화소의 발광층의 면적을 다르게 형성하는 방법이 있는데, 이는 일본공개특허 2001-290441에 개시되었다. 상기 일본특허는 R, G, B 단위화소의 EL소자의 발광효율에 따라 발광면적을 서로 다르게 형성하여, R, G, B 단위화소의 휘도를 동일하게 발생시켰다. 즉, 발광효율이 높은 G 단위화소보다 발광효율이 낮은 R 단위화소 또는 B 단위화소의 발광면적을 상대적으로 크게 형성하여 R, G, B 단위화소를 통해 동일한 휘도가 발생되도록 하였다.Another method for implementing the white balance is a method of differently forming the area of the light emitting layer of the R, G, B unit pixels, which is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2001-290441. The Japanese patent forms light emitting areas differently according to the luminous efficiency of EL elements of R, G and B unit pixels, thereby generating the same luminance of R, G and B unit pixels. That is, the light emitting area of the R unit pixel or B unit pixel having low luminous efficiency than the G unit pixel having high luminous efficiency is formed to be relatively large so that the same luminance is generated through the R, G, and B unit pixels.

그러나, 상기한 바와 같은 종래의 화이트 밸런스를 구현하기 위한 방법은 R, G, B 단위화소중 발광효율이 낮은 단위화소의 발광면적을 크게 형성하거나, 또는 R, G, B 단위화소중 발광효율이 낮은 단위화소의 트랜지스터의 크기를 증가시켜 줌으로써, 각 화소가 차지하는 면적이 증가하게 되고, 이에 따라 고해상도에 적용하기 어려운 문제점이 있었다.However, the conventional method for implementing the white balance as described above is to form a large light emitting area of the unit pixel of low luminous efficiency among the R, G, B unit pixels, or the luminous efficiency of the R, G, B unit pixels By increasing the size of the transistor of a low unit pixel, the area occupied by each pixel increases, and thus there is a problem that it is difficult to apply to high resolution.

따라서, 본 발명은 상기한 바와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 화소면적을 증가시키 않고 화이트 밸런스를 구현할 수 있는 평판표시장치 및 그의 제조방법을 제공하는 데 그 목적이 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a flat panel display device and a method of manufacturing the same, which can implement white balance without increasing the pixel area.

본 발명의 다른 목적은 R, G, B 단위화소별 구동 트랜지스터의 멀티게이트 사이의 오프셋영역의 기하학적 구조를 달리하여 저항값을 변화시켜 줌으로써, 화이트 밸런스를 구현할 수 있는 평판표시장치를 제공하는 데 그 목적이 있다.Another object of the present invention is to provide a flat panel display device which can realize white balance by changing the resistance value by changing the geometry of the offset region between the multi-gates of the driving transistors for each R, G, and B unit pixels. There is a purpose.

본 발명의 다른 목적은 R, G, B 단위화소별 구동 트랜지스터의 멀티게이트 사이의 오프셋영역의 오프셋길이를 달리하여 화이트 밸런스를 구현할 수 있는 평판표시장치를 제공하는 데 있다.Another object of the present invention is to provide a flat panel display which can realize white balance by varying the offset length of the offset region between the multi-gates of the driving transistors for each R, G, and B unit pixels.

상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 각각 적색(R), 녹색(G), 청색(B)을 구현하기 위한 R, G, B 단위화소를 구비하고, 상기 각 단위화소는 멀티 게이트를 갖는 트랜지스터를 구비하는 다수의 화소를 포함하며, 상기 R, G, B 단위화소 중 적어도 2개의 단위화소의 트랜지스터는 멀티게이트 사이에 서로 다른 기하학적 구조를 갖는 오프셋영역을 구비하는 평판표시장치를 제공하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the object as described above, the present invention is each provided with R, G, B unit pixels for implementing red (R), green (G), blue (B), each unit pixel is a multi-gate Provides a flat panel display including a plurality of pixels having a transistor having a transistor, wherein at least two unit pixels of the R, G, B unit pixels have offset regions having different geometries between the multi-gates. Characterized in that.

상기 R, G, B 단위화소는 상기 트랜지스터에 의해 구동되는 발광소자를 구비하며, 상기 R, G, B 단위화소의 트랜지스터 중 발광효율이 가장 높은 발광소자를 구동시켜주기 위한 트랜지스터의 오프셋영역의 저항값은 상대적으로 발광효율이 낮은 발광소자를 구동시켜 주기 위한 트랜지스터의 오프셋영역의 저항값보다 큰 것을 특징으로 한다.The R, G, and B unit pixels include a light emitting device driven by the transistor, and resistance of an offset region of the transistor for driving the light emitting device having the highest luminous efficiency among the transistors of the R, G and B unit pixels. The value is larger than the resistance value of the offset region of the transistor for driving the light emitting device having a relatively low luminous efficiency.

상기 R, G, B 단위화소의 트랜지스터의 멀티게이트 사이의 오프셋영역의 총길이는 모두 동일하며, 상기 오프셋영역중 불순물이 도핑되지 않은 부분의 오프셋 길이가 서로 다른 것을 특징으로 한다. 상기 R, G, B 단위화소는 상기 트랜지스터중 발광효율이 가장 높은 발광소자를 구동시켜주기 위한 트랜지스터의 오프셋영역은 상기 발광소자보다 발광효율이 낮은 발광소자를 구동시켜 주기 위한 트랜지스터의 오프셋영역보다 오프셋길이가 긴 것을 특징으로 한다.The total lengths of the offset regions between the multi-gates of the transistors of the R, G, and B unit pixels are all the same, and the offset lengths of the portions in which the impurities are not doped in the offset regions are different from each other. The R, G, and B unit pixels have offset regions of transistors for driving light emitting devices having the highest luminous efficiency among the transistors than offset regions of transistors for driving light emitting devices having lower luminous efficiency than the light emitting devices. It is characterized by a long length.

상기 R, G, B 단위화소의 트랜지스터의 멀티게이트 사이의 오프셋영역의 총길이는 모두 동일하며 상기 오프셋영역의 폭이 서로 다르거나, 또는 상기 R, G, B 단위화소의 트랜지스터의 멀티게이트 사이의 오프셋영역의 폭은 모두 동일하며 상기 오프셋영역의 길이가 서로 다른 것을 특징으로 한다.The total lengths of the offset regions between the multi-gates of the transistors of the R, G, and B unit pixels are all the same, and the widths of the offset regions are different from each other, or the offsets between the multi-gates of the transistors of the R, G, and B unit pixels are different. The widths of the regions are all the same, and the lengths of the offset regions are different.

이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 2a는 본 발명의 실시예에 따른 유기전계 발광표시장치에 있어서, R 단위화소의 구동 트랜지스터의 평면구조를 도시한 것이고, 도 2b는 R 단위화소의 구동 트랜지스터의 단면구조를 도시한 것으로서, 도 2a 의 2A-2A' 선에 따른 단면구조이다.2A illustrates a planar structure of a driving transistor of an R unit pixel in an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 2B illustrates a cross-sectional structure of a driving transistor of an R unit pixel. It is a cross-sectional structure along the line 2A-2A 'of 2a.

도 2a 및 도 2b를 참조하면, R 단위화소의 구동 트랜지스터(R_DTR, 113)는 반도체층(220)과, 게이트 전극(240) 및 소오스/드레인 전극(261), (265)을 구비한다. 상기 게이트전극(240)은 상기 반도체층(220)에 대응하는 멀티 게이트(241), (245)를 구비한다. 상기 반도체층(220)은 멀티 게이트(241), (245)에 대응되는 부분에 형성된 멀티 채널층(223), (227)과, 상기 채널층(223), (227)의 일측에 형성된 소오스/드레인 영역(221), (225)을 구비한다. 상기 소오스/드레인 영역(221), (225)은 각각 콘택(251), (255)을 통해 소오스/드레인 전극(261), (265)과 전기적 으로 연결된다.2A and 2B, a driving transistor R_DTR 113 of an R unit pixel includes a semiconductor layer 220, a gate electrode 240, and source / drain electrodes 261 and 265. The gate electrode 240 includes multi gates 241 and 245 corresponding to the semiconductor layer 220. The semiconductor layer 220 may include the multi channel layers 223 and 227 formed at portions corresponding to the multi gates 241 and 245, and the source / side formed at one side of the channel layers 223 and 227. Drain regions 221 and 225 are provided. The source / drain regions 221 and 225 are electrically connected to the source / drain electrodes 261 and 265 through contacts 251 and 255, respectively.

또한, 상기 반도체층(220)은 상기 멀티 게이트(241), (245)사이 즉, 멀티 채널층(223), (227)사이에 오프셋영역(230)을 더 구비한다. 상기 오프셋영역(230)은 소오스/드레인 영역(221), (225)과 동일한 도전형의 고농도 불순물이 도핑된 부분(235)과 불순물이 도핑되지 않은 오프셋부분(231)으로 이루어지며, 오프셋 영역(230)의 길이(Lr)중 오프셋부분이 차지하는 길이는 Lroff 이다. In addition, the semiconductor layer 220 further includes an offset region 230 between the multi-gates 241 and 245, that is, between the multi-channel layers 223 and 227. The offset region 230 includes a portion 235 doped with a high concentration of impurities of the same conductivity type as the source / drain regions 221 and 225, and an offset portion 231 not doped with impurities. The length occupied by the offset portion of the length Lr of 230 is Lroff.

도 2a에서, 참조번호 270은 멀티 게이트(241), (245)사이의 오프셋영역(230)중 오프셋 길이(Lroff)를 한정하기 위하여 사용되는 마스크를 나타낸다. 즉, 상기 마스크(270)는 오프셋영역(230)의 일부분(231)으로 불순물 도핑시 이온주입 마스크로 사용되며, 상기 마스크(270)와 오프셋영역(230)의 오버랩정도에 따라 오프셋길이(Lroff)가 결정된다.In FIG. 2A, reference numeral 270 denotes a mask used to define the offset length Lroff among the offset regions 230 between the multi-gates 241 and 245. That is, the mask 270 is used as an ion implantation mask when doping an impurity into a portion 231 of the offset region 230, and the offset length Lroff according to the overlapping degree between the mask 270 and the offset region 230. Is determined.

도 3a는 본 발명의 실시예에 따른 유기전계 발광표시장치에 있어서, G 단위화소의 구동 트랜지스터의 평면구조를 도시한 것이고, 도 3b는 G 단위화소의 구동 트랜지스터의 단면구조를 도시한 것으로서, 도 3a 의 3A-3A' 선에 따른 단면구조이다.3A illustrates a planar structure of a driving transistor of a G unit pixel in an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 3B illustrates a cross-sectional structure of a driving transistor of a G unit pixel. It is a cross-sectional structure along the line 3A-3A 'of 3a.

도 3a 및 도 3b를 참조하면, G 단위화소의 구동 트랜지스터(G_DTR, 123)는 반도체층(320)과, 게이트전극(340) 및 소오스/드레인 전극(361), (365)을 구비한다. 상기 게이트전극(340)은 상기 반도체층(320)에 대응되는 멀티 게이트(341), (345)를 구비한다. 상기 반도체층(320)은 멀티 게이트(341), (345)에 대응되는 멀티 채널층(323), (327)과, 상기 멀티 채널층(323), (327)의 일측에 형성된 소오스/ 드레인 영역(321), (325)을 구비한다. 상기 소오스/드레인 영역(321), (325)은 각각 콘택(351), (355)을 통해 소오스/드레인 전극(361), (365)과 전기적으로 연결된다.3A and 3B, the driving transistors G_DTR and 123 of the G unit pixel include a semiconductor layer 320, a gate electrode 340, and source / drain electrodes 361 and 365. The gate electrode 340 includes multi gates 341 and 345 corresponding to the semiconductor layer 320. The semiconductor layer 320 may include a multi channel layer 323 and 327 corresponding to the multi gates 341 and 345, and a source / drain region formed at one side of the multi channel layers 323 and 327. 321 and 325 are provided. The source / drain regions 321 and 325 are electrically connected to the source / drain electrodes 361 and 365 through the contacts 351 and 355, respectively.

또한, 상기 반도체층(320)은 상기 멀티 게이트(341), (345)사이 즉, 멀티 채널층(323), (327)사이에 오프셋영역(330)을 더 구비한다. 상기 오프셋영역(330)은 소오스/드레인 영역(321), (325)과 동일한 도전형의 고농도 불순물이 도핑된 부분(335)과 불순물이 도핑되지 않은 오프셋부분(331)으로 이루어지며, 오프셋 영역(330)의 길이(Lg)중 오프셋부분이 차지하는 길이는 Lgoff 이다. In addition, the semiconductor layer 320 further includes an offset region 330 between the multi-gates 341 and 345, that is, between the multi-channel layers 323 and 327. The offset region 330 includes a portion 335 doped with a high concentration of impurities of the same conductivity type as the source / drain regions 321 and 325 and an offset portion 331 not doped with impurities. The length occupied by the offset portion of the length Lg of 330 is Lgoff.

도 3a에서, 참조번호 370은 멀티 게이트(341), (345)사이의 오프셋영역(330)중 오프셋 길이(Lgoff)를 한정하기 위하여 사용되는 마스크를 나타낸다. 즉, 상기 마스크(370)는 오프셋영역(330)의 일부분(331)으로 불순물 도핑시 이온주입 마스크로 사용되며, 상기 마스크(370)와 오프셋영역(330)의 오버랩정도에 따라 오프셋길이(Lgoff)가 결정된다.In FIG. 3A, reference numeral 370 denotes a mask used to define the offset length Lgoff among the offset regions 330 between the multi gates 341 and 345. That is, the mask 370 is used as an ion implantation mask when doping impurities into a portion 331 of the offset region 330, and the offset length Lgoff according to the overlapping degree between the mask 370 and the offset region 330. Is determined.

R, G, B 단위화소중 발광효율이 가장 높은 G단위화소의 구동 트랜지스터는 멀티 게이트(341), (345)사이의 오프셋영역(330)중 오프셋길이(Lgoff)를 상대적으로 발광효율이 낮은 R 단위화소의 구동 트랜지스터의 멀티게이트(241), (245)사이의 오프셋영역(230)중 오프셋길이(Lroff)보다 길게 되도록 구동 트랜지스터를 형성한다. The driving transistor of the G unit pixel having the highest luminous efficiency among the R, G, and B unit pixels has a relatively low luminous efficiency of the offset length Lgoff among the offset regions 330 between the multi-gates 341 and 345. The driving transistor is formed to be longer than the offset length Lroff of the offset regions 230 between the multi-gates 241 and 245 of the driving transistor of the unit pixel.

도 4a는 본 발명의 실시예에 따른 유기전계 발광표시장치에 있어서, B 단위화소의 구동 트랜지스터의 평면구조를 도시한 것이고, 도 4b는 B 단위화소의 구동 트랜지스터의 단면구조를 도시한 것으로서, 도 4a 의 4A-4A' 선에 따른 단면구조이다.4A illustrates a planar structure of a driving transistor of B unit pixels in an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 4B illustrates a cross-sectional structure of a driving transistor of B unit pixels. It is a cross-sectional structure along the line 4A-4A 'of 4a.

도 4a 및 도 4b를 참조하면, B 단위화소의 구동 트랜지스터(B_DTR, 133)는 G 단위화소의 구동 트랜지스터(G_DTR, 123)는 반도체층(420)과, 게이트전극(440) 및 소오스/드레인 전극(461), (465)을 구비한다. 상기 게이트전극(440)은 상기 반도체층(420)에 대응되는 멀티 게이트(441), (445)를 구비한다. 상기 반도체층(420)은 멀티 게이트(441), (445)에 대응되는 멀티 채널층(423), (427)과, 상기 멀티 채널층(423), (427)의 일측에 형성된 소오스/드레인 영역(421), (425)을 구비한다. 상기 소오스/드레인 영역(421), (425)은 각각 콘택(451), (455)을 통해 소오스/드레인 전극(461), (465)과 전기적으로 연결된다.4A and 4B, the driving transistors B_DTR and 133 of the B unit pixel are the driving transistors G_DTR and 123 of the G unit pixel, and the semiconductor layer 420, the gate electrode 440, and the source / drain electrode. (461) and (465). The gate electrode 440 includes multi gates 441 and 445 corresponding to the semiconductor layer 420. The semiconductor layer 420 may include source / drain regions formed on one side of the multi channel layers 423 and 427 corresponding to the multi gates 441 and 445, and the multi channel layers 423 and 427. 421 and 425 are provided. The source / drain regions 421 and 425 are electrically connected to the source / drain electrodes 461 and 465 through the contacts 451 and 455, respectively.

또한, 상기 반도체층(420)은 상기 멀티 게이트(441), (445)사이 즉, 멀티 채널층(423), (427)사이에 오프셋영역(430)을 더 구비한다. 상기 오프셋영역(430)은 R 또는 G 단위화소와는 달리 전체적으로 소오스/드레인 영역(321), (325)과 동일한 도전형의 고농도 불순물이 도핑된다. 그러므로, 오프셋 영역(430)의 길이(Lb)중 오프셋부분이 차지하는 길이는 Lboff=0 이다. In addition, the semiconductor layer 420 further includes an offset region 430 between the multi-gates 441 and 445, that is, between the multi-channel layers 423 and 427. Unlike the R or G unit pixels, the offset region 430 is entirely doped with high concentration impurities of the same conductivity type as the source / drain regions 321 and 325. Therefore, the length occupied by the offset portion of the length Lb of the offset area 430 is Lboff = 0.

상기한 바와같이, R, G, B 단위화소중 발광효율이 가장 높은 G단위화소의 구동 트랜지스터는 멀티 게이트(341), (345)사이의 오프셋영역(330)중 오프셋길이(Lgoff)를 상대적으로 발광효율이 낮은 R 단위화소의 구동 트랜지스터의 멀티게이트(241), (245)사이의 오프셋영역(230)중 오프셋길이(Lroff)보다 길게 형성하고, 발광효율이 가장 낮은 B단위화소의 구동 트랜지스터는 멀티 게이트사이의 오프셋영역(430)을 모두 도핑시켜 Lboff=0f으로 만들어 줌으로써, R, G, B 단위화소의 멀티게이트 사이의 오프셋영역의 저항값을 다르게 설정하여 화이트 밸런스를 구현할 수 있다. As described above, the driving transistor of the G unit pixel having the highest luminous efficiency among the R, G, and B unit pixels has a relative offset length Lgoff among the offset regions 330 between the multi gates 341 and 345. The driving transistor of the B unit pixel having the lowest luminous efficiency is formed longer than the offset length Lroff of the offset regions 230 between the multi-gates 241 and 245 of the driving transistor of the R unit pixel having low luminous efficiency. By doping all of the offset regions 430 between the multi-gates to make Lboff = 0f, white balance can be realized by differently setting resistance values of the offset regions between the multi-gates of R, G, and B pixel units.

본 발명의 실시예에서는, R, G, B 단위화소의 각 구동 트랜지스터의 멀티게이트 사이의 오프셋영역이 서로 다른 기하학적인 구조를 갖도록 형성하여 줌으로써, 오프셋영역의 저항값을 변화시켜 화이트 밸런스를 구현하는 것이다.In an embodiment of the present invention, the offset region between the multi-gates of each of the driving transistors of the R, G, and B unit pixels is formed to have a different geometric structure, thereby changing the resistance value of the offset region to implement white balance. will be.

즉, 발광효율이 서로 다른 R, G, B 단위화소의 멀티 게이트사이의 오프셋영역의 길이(Lr, Lg, Lb)를 동일하게 만들어주고, 오프셋영역(230, 330, 430)중 불순물이 도핑되지 않은 오프셋길이(Lroff, Lgoff, Lboff)를 서로 다르게 만들어 줌으로써, 각 단위화소의 멀티게이트 사이의 오프셋영역이 서로 다른 저항값을 갖도록 형성하여 화이트 밸런스를 구현하였다. That is, the lengths (Lr, Lg, Lb) of the offset regions between the multi-gates of R, G, and B unit pixels having different luminous efficiencies are made the same, and impurities are not doped in the offset regions 230, 330, and 430. By making the offset lengths (Lroff, Lgoff, and Lboff) different from each other, the white balance is realized by forming offset regions between the multi-gates of each unit pixel to have different resistance values.

다시 말하면, 발광효율이 가장 높은 G 단위화소는 오프셋영역(330)중 오프셋길이를 가장 길게하여 가장 커다란 저항값을 갖도록 형성한다. 한편, 발광효율이 가장 낮은 B 단위화소는 오프셋영역(430)을 전체적으로 도핑시켜 오프셋길이가 0 이 되도록 하여 가장 작은 저항값을 갖도록 형성하고, G 단위화소와 B 단위화소사이의 발광효율을 갖는 R 단위화소의 오프셋영역(230)은 상기 G 단위화소의 오프셋영역(330)의 오프셋길이(Lgoff)보다는 작은 오프셋길이(Lroff)를 갖도록 형성하여 줌으로써, G 단위화소와 B 단위화소사이의 저항값을 갖도록 형성한다.In other words, the G unit pixel having the highest luminous efficiency is formed to have the largest resistance value by making the offset length the longest among the offset regions 330. On the other hand, the B unit pixel having the lowest luminous efficiency is formed to have the smallest resistance value by doping the offset region 430 as a whole so that the offset length is 0, and R having the luminous efficiency between the G unit pixel and the B unit pixel. The offset region 230 of the unit pixel is formed to have an offset length Lroff smaller than the offset length Lgoff of the offset region 330 of the G unit pixel, thereby forming a resistance value between the G unit pixel and the B unit pixel. It is formed to have.

본 발명의 실시예에서는 멀티 게이트가 2개의 게이트로 이루어지는 것을 예시하였으나, 멀티 게이트의 구조 및 게이트수에 관계없이 R, G, B 단위화소의 구동 트랜지스터의 멀티 게이트사이의 오프셋영역이 서로 다른 기하학적이 구조를 가지므로써, 서로 다른 저항값을 갖도록 형성된 구조는 모두 가능하다.In the embodiment of the present invention, although the multi-gate is composed of two gates, the offset region between the multi-gates of the driving transistors of the R, G, and B unit pixels is different from each other regardless of the structure and the number of gates of the multi-gate. By having a structure, all structures formed to have different resistance values are possible.

본 발명의 다른 실시예로서, R, G, B 단위화소의 멀티 게이트사이의 오프셋영역의 크기(W/L)를 변화시켜 오프셋영역에서의 저항값을 변화시켜 줌으로써, 화이트 밸런스를 구현할 수도 있다. 예를 들어, R, G, B 단위화소의 멀티게이트 사이의 오프셋영역의 총길이는 동일하게 설정하고, 오프셋영역이 서로 다른 폭을 갖도록 형성하여 줌으로써, R, G, B 단위화소의 오프셋영역이 서로 다른 저항값을 갖도록 형성할 수도 있다. 또한, R, G, B 단위화소의 멀티게이트 사이의 오프셋영역의 폭은 동일하게 설정하고, 오프셋영역의 총길이를 다르게 형성하여 줌으로써, R, G, B 단위화소의 오프셋영역이 서로 다른 저항값을 갖도록 형성할 수도 있다.As another embodiment of the present invention, the white balance may be implemented by changing the resistance value in the offset region by changing the size (W / L) of the offset region between the multi-gates of the R, G, and B unit pixels. For example, by setting the total length of the offset regions between the multi-gates of the R, G, and B unit pixels to be the same, and forming the offset regions to have different widths, the offset regions of the R, G, and B unit pixels are mutually different. It may be formed to have different resistance values. In addition, the widths of the offset regions between the multi-gates of the R, G, and B unit pixels are set to be the same, and the total length of the offset regions is formed differently so that the offset regions of the R, G, and B unit pixels have different resistance values. It may be formed to have.

또한, 본 발명의 다른 실시예로서, R, G, B 단위화소의 멀티게이트 사이의 오프셋영역의 크기를 변화시켜 주면서, 동시에 상기 실시예에서와 마찬가지로 R, G, B 단위화소의 오프셋영역중 불순물이 도핑되지 않은 오프셋부분의 길이를 변화시켜 줌으로써, 멀티게이트 사이의 오프셋영역의 저항값을 변화시켜 화이트 밸런스를 구현할 수도 있다. Further, as another embodiment of the present invention, the size of the offset region between the multi-gates of the R, G, and B unit pixels is changed, and at the same time, the impurities in the offset region of the R, G, and B unit pixels are similar to those of the above embodiment. By changing the length of the undoped offset portion, the white balance may be realized by changing the resistance value of the offset region between the multigates.

상기한 바와같은 본 발명의 실시예에 따르면, R, G, B 단위화소의 멀티 게이트사이의 오프셋영역의 기하학적인 구조를 서로 다르게 형성하여 각 오프셋영역의 저항값을 변화시켜 줌으로써 화소면적의 증가없이 화이트밸런스를 구현할 수 있다.According to the embodiment of the present invention as described above, the geometric structure of the offset region between the multi-gate of the R, G, B unit pixel is formed differently to change the resistance value of each offset region without increasing the pixel area. White balance can be implemented.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although described above with reference to a preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art will be variously modified and changed within the scope of the invention without departing from the spirit and scope of the invention described in the claims below I can understand that you can.

Claims (8)

각각 적색(R), 녹색(G), 청색(B)을 구현하기 위한 R, G, B 단위화소를 구비하고, 상기 각 단위화소는 멀티 게이트를 갖는 트랜지스터를 구비하는 다수의 화소를 포함하며,Each of which has R, G, and B unit pixels for implementing red (R), green (G), and blue (B), each unit pixel including a plurality of pixels including a transistor having a multi-gate; 상기 R, G, B 단위화소 중 적어도 2개의 단위화소의 트랜지스터는 멀티 게이트사이에 서로 다른 기하학적 구조를 갖는 오프셋영역을 구비하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치.And the transistors of at least two unit pixels of the R, G, and B unit pixels have offset regions having different geometries between the multi-gates. 제1항에 있어서, 상기 R, G, B 단위화소는 상기 트랜지스터에 의해 구동되는 발광소자를 구비하며, 상기 R, G, B 단위화소의 트랜지스터 중 발광효율이 가장 높은 발광소자를 구동시켜주기 위한 트랜지스터의 오프셋영역의 저항값은 상대적으로 발광효율이 낮은 발광소자를 구동시켜 주기 위한 트랜지스터의 오프셋영역의 저항값보다 큰 것을 특징으로 하는 평판표시장치.The method of claim 1, wherein the R, G, B unit pixels include a light emitting element driven by the transistor, and to drive the light emitting element having the highest luminous efficiency among the transistors of the R, G, B unit pixels. The resistance value of the offset region of the transistor is larger than the resistance value of the offset region of the transistor for driving a light emitting device having a relatively low luminous efficiency. 제1항에 있어서, 상기 R, G, B 단위화소의 트랜지스터의 멀티게이트 사이의 오프셋영역의 총길이는 모두 동일하며, 상기 오프셋영역 중 불순물이 도핑되지 않은 부분의 오프셋 길이가 서로 다른 것을 특징으로 하는 평판표시장치.The method of claim 1, wherein the total lengths of the offset regions between the multi-gates of the transistors of the R, G, and B unit pixels are all the same, and offset lengths of portions of the offset region that are not doped with impurities are different from each other. Flat Panel Display. 제3항에 있어서, 상기 R, G, B 단위화소는 상기 트랜지스터에 의해 구동되는 발광소자를 구비하며, 상기 발광소자중 발광효율이 가장 높은 발광소자를 구동시켜주기 위한 트랜지스터의 오프셋영역은 상기 발광소자보다 발광효율이 낮은 발광소자를 구동시켜 주기 위한 트랜지스터의 오프셋영역보다 오프셋길이가 긴 것을 특징으로 하는 평판표시장치.The light emitting device of claim 3, wherein each of the R, G, and B unit pixels includes a light emitting device driven by the transistor, and an offset region of the transistor for driving the light emitting device having the highest light emitting efficiency among the light emitting devices is the light emitting device. A flat panel display device having an offset length longer than that of an offset region of a transistor for driving a light emitting device having a lower luminous efficiency than the device. 제1항에 있어서, 상기 R, G, B 단위화소의 트랜지스터의 멀티게이트 사이의 오프셋영역의 총길이는 모두 동일하며, 상기 오프셋영역의 폭이 서로 다른 것을 특징으로 하는 평판표시장치.The flat panel display of claim 1, wherein the total lengths of the offset regions between the multi-gates of the transistors of the R, G, and B unit pixels are all the same, and the widths of the offset regions are different from each other. 제5항에 있어서, 상기 R, G, B 단위화소는 상기 트랜지스터에 의해 구동되는 발광소자를 구비하며, 상기 발광소자 중 발광효율이 가장 높은 발광소자를 구동시켜주기 위한 트랜지스터의 오프셋영역은 상기 발광소자보다 발광효율이 낮은 발광소자를 구동시켜 주기 위한 트랜지스터의 오프셋영역보다 오프셋길이가 긴 것을 특징으로 하는 평판표시장치.The light emitting device of claim 5, wherein the R, G, and B unit pixels include a light emitting device driven by the transistor, and an offset region of the transistor for driving the light emitting device having the highest light emitting efficiency among the light emitting devices is the light emitting device. A flat panel display device having an offset length longer than that of an offset region of a transistor for driving a light emitting device having a lower luminous efficiency than the device. 제1항에 있어서, 상기 R, G, B 단위화소의 트랜지스터의 멀티게이트 사이의 오프셋영역의 폭은 동일하며, 상기 오프셋영역의 길이가 서로 다른 것을 특징으로 하는 평판표시장치.The flat panel display of claim 1, wherein the widths of the offset regions between the multi-gates of the transistors of the R, G, and B unit pixels are the same, and the offset regions have different lengths. 제7항에 있어서, 상기 R, G, B 단위화소는 상기 트랜지스터에 의해 구동되는 발광소자를 구비하며, 상기 발광소자 중 발광효율이 가장 높은 발광소자를 구동시켜주기 위한 트랜지스터의 오프셋영역은 상기 발광소자보다 발광효율이 낮은 발광소자를 구동시켜 주기 위한 트랜지스터의 오프셋영역보다 오프셋길이가 긴 것을 특징으로 하는 평판표시장치.10. The light emitting device of claim 7, wherein the R, G, and B unit pixels have light emitting devices driven by the transistor, and an offset region of the transistor for driving the light emitting device having the highest light emitting efficiency among the light emitting devices is the light emission. A flat panel display device having an offset length longer than that of an offset region of a transistor for driving a light emitting device having a lower luminous efficiency than the device.
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