KR100536685B1 - 홀로그래픽 롬 시스템 - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따른 홀로그래픽 롬 시스템은, 홀로그래픽에 요구되는 레이저광을 발생시키는 광원과, 광원으로부터 발생된 레이저광에서 신호광과 기준광으로 분리시키되, 신호광은 투과시키고 기준광은 반사시키는 편광 분리기(Polarizer Beam Splitter)와, 편광 분리기를 통해 반사된 기준광을 제 1 및 제 2 광경로를 거쳐 조사하는 제 2 반사 미러와, 제 2 반사 미러에서 반사되는 기준광의 광경로를 굴절률에 의해 조절하여 광 기록매체에 조사하는 코니컬 미러와, 편광 분리기를 통해 투과된 신호광을 제 3 광경로로 반사시키는 제 3 반사 미러와, 제 3 반사 미러에 의해 반사된 신호광을 굴절율에 따라 굴절시키는 제 1 환형 프리즘과, 제 1 환형 프리즘에서 굴절되는 신호광을 기준광이 입사되는 광 기록매체 영역에 대응되는 위치로 굴절시키는 제 2 환형 프리즘과, 제 2 환형 프리즘에서 굴절되는 신호광을 소정 데이터 패턴으로 변조하여 광 기록매체에 조사하는 마스크를 구비한다.
본 발명은 광 확장기 대신에 제 1, 2 환형 프리즘으로 이루어진 광 경로 변경 수단으로 신호광의 경로를 변경하여 신호광을 기준광이 입사되는 광 기록매체의 영역에 대응되는 위치에 입사시킴으로써, 시스템의 제조 단가를 낮출 수 있다.

Description

홀로그래픽 롬 시스템{HOLOGRAPHIC ROM SYSTEM}
본 발명은 홀로그래픽 롬 시스템에 관한 것으로, 특히, 신호광의 경로 변경을 통해 시스템의 제조 단가를 낮출 수 있는 홀로그래픽 롬 시스템에 관한 것이다.
도 1은 종래의 전형적인 홀로그래픽 롬 시스템의 구성도로서, 광원(100), HWP(Half Wave Plate)(102, 114), 광 확장기(beam expander)(104, 112), 편광 분리기(Polarizer Beam Splitter)(106), 편광기(108, 116), 반사 미러(110, 118, 120), 코니컬 미러(122), 마스크(124), 광 기록 매체(126)를 포함한다.
광원(100)은 일정 파장, 예컨대, 532nm의 파장을 갖는 레이저 원으로서, 홀로그래픽에 요구되는 레이저광을 발생시킨다.
광원(100)으로부터 발생된 레이저광은 HWP(102), 광 확장기(104) 등을 거쳐 편광 분리기(106)로 제공된다.
편광 분리기(106)는 굴절률이 서로 상이한 두 종류 이상의 물질을 반복적으로 증착한 구조로서, 신호광은 투과시키고 기준광은 반사시키는 역할을 수행한다.
편광 분리기(106)를 투과한 신호광은 편광기(108)를 거쳐 반사 미러(110)에서 반사된다. 이때 홀로그래픽 롬 시스템은 반사 미러(110)에서 반사된 신호광을 광 기록매체(126)의 기록영역(기준광이 입사되는 영역)에 입사시키기 위해서 광 경로 변경이 필요하며, 이런 이유로 반사 미러(110)와 마스크(124) 사이에 광 확장기(112)를 설치한다.
반사 미러(110)에서 반사된 신호광은 광 확장기(112)에 의해서 확장되며, 확장된 신호광은 마스크(124)에 의해 소정 패턴으로 변조되어 광 기록매체(126)에 조사된다.
이때, 광 확장기(112)는 임의의 직경을 갖는 다수의 렌즈들로 구성되는 링 형태를 가지며, 반사된 신호광을 광 기록매체(126) 크기의 두 배 정도로 확장시킬 수 있어야 한다. 예를 들어 홀로그래픽 롬 시스템에서 광의 직경이 120mm인 신호광을 광 기록매체(126)에 조사하기 위해서 렌즈의 직경이 200mm 정도로 크게 한 다수의 렌즈의 조합으로 된 광 확장기가 필요하다.
편광 분리기(106)를 통해 반사된 기준광은 HWP(114), 편광기(116)를 거쳐 반사 미러(118, 120)에서 반사되어 코니컬 미러(122)로 조사된다.
이러한 코니컬 미러(120)는 홀로그래픽 롬 시스템의 재생시 동일 각도에서 재생이 가능하도록 조절하는 수단으로서, 다른 각도를 갖는 코니컬 미러를 이용하여 재생 각도의 다중화가 가능하다.
이와 같이, 홀로그래픽 롬 시스템은 광 확장기(112)에 의해서 확장되며 마스크(124)에 의해 변조된 신호광과 코니컬 미러(120)를 통해 입사되는 기준광간의 간섭에 의해 생기는 간섭 무늬를 광 기록매체(126)에 기록한다.
그러나, 상술한 바와 같이, 종래의 홀로그래픽 롬 시스템은 신호광의 직경을 광 기록매체 크기의 두 배로 확장시키기 위해서 직경이 200mm 정도인 다수의 렌즈를 구성된 광 확장기가 필요한데, 이러한 광 확장기는 제조 비용이 많이 들어가기 때문에 전체적으로 시스템의 제조 단가를 높이는 문제점이 있다.
따라서, 본 발명은 상술한 문제를 해결하기 위해 안출한 것으로, 신호광을 확장시키는 광 확장기 대신에 신호광의 경로를 변경할 수 있는 코니컬 미러와 환형 미러를 적용함으로써, 시스템의 제조 단가를 낮출 수 있는 홀로그래픽 롬 시스템을 제공하는데 그 목적이 있다.
이러한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 홀로그래픽 롬 시스템(Holographic ROM system)에 있어서, 홀로그래픽에 요구되는 레이저광을 발생시키는 광원과, 상기 광원으로부터 발생된 레이저광을 신호광과 기준광으로 분리시키되, 상기 신호광은 투과시키고 상기 기준광은 반사시키는 편광 분리기(Polarizer Beam Splitter)와, 상기 편광 분리기를 통해 반사된 기준광을 제 1 및 제 2 광경로를 거쳐 조사하는 제 2 반사 미러와, 상기 제 2 반사 미러에서 반사되는 기준광의 광경로를 굴절률에 의해 조절하여 상기 광 기록매체에 조사하는 코니컬 미러와, 상기 편광 분리기를 통해 투과된 신호광을 제 3 광경로로 반사시키는 제 3 반사 미러와, 상기 제 3 반사 미러에 의해 반사된 신호광을 굴절율에 따라 굴절시키는 제 1 환형 프리즘과, 상기 제 1 환형 프리즘에서 굴절되는 신호광을 상기 기준광이 입사되는 광 기록매체 영역에 대응되는 위치로 굴절시키는 제 2 환형 프리즘과, 상기 제 2 환형 프리즘에서 굴절되는 신호광을 소정 데이터 패턴으로 변조하여 상기 광 기록매체에 조사하는 마스크를 구비한다.
본 발명의 상기 및 기타 목적과 여러 가지 장점은 이 기술분야에 숙련된 사람들에 의해 첨부된 도면을 참조하여 하기에 기술되는 본 발명의 바람직한 실시 예로부터 더욱 명확하게 될 것이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 상세하게 설명한다. 도 2는 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 홀로그래픽 롬 시스템의 구성도이다.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 홀로그래픽 롬 시스템의 구성도로서, 광원(200), HWP(202, 214), 광 확장기(204), 편광 분리기(206), 편광기(208, 216), 제 1 반사 미러(218), 제 2 반사 미러(220), 제 3 반사 미러(210), 광 경로 변경 수단(212), 코니컬 미러(222), 광 기록매체(224), 마스크(226)를 포함한다.
본 발명에서는 종래의 광 확장기 대신에 광 경로 변경 수단(212)을 사용하여 반사 미러(210)에서 반사된 신호광의 경로를 변경시켜 기준광이 입사되는 광 기록매체(224)의 영역에 입사시킨다는 것으로, 광 경로 변경 수단(212)은 두개의 환형 프리즘(212a, 212b)으로 이루어져 있다.
광원(200)은 일정 파장인 532nm의 파장을 갖는 레이저 원으로서, 홀로그래픽에 요구되는 레이저광을 발생시키고, 레이저 광은 HWP(202), 광 확장기(204) 등을 거쳐 편광 분리기(206)로 제공된다.
편광 분리기(206)는 굴절률이 서로 상이한 두 종류 이상의 물질을 반복적으로 증착한 구조로서, 광원(200)에서 발생된 레이저 광을 신호광과 기준광으로 분리시킨다. 이때 편광 분리기(206)를 투과한 신호광은 제 3 광경로를 통해 제 3 반사 미러(210)에 제공되고, 편광 분리기(206)에서 반사된 기준광은 제 1, 2 광경로를 통해 제 2 반사 미러(220)에 제공된다.
편광 분리기(206)를 통해 반사된 기준광은 제 1 및 제 2 광경로를 통해 코니컬 미러(222)에 조사된다. 이때, 제 1 광 경로 상에는 HWP(214), 편광기(216)를 거쳐 제 1 반사 미러(218)가 있으며, 제 1 반사 미러(218)는 편광 분리기(206)에서 반사된 기준광을 소정 방향으로 편향시켜 제 2 광경로로 제공한다. 제 2 광경로에는 제 2 반사 미러(220)가 설치되어 있으며, 제 2 반사 미러(220)는 제 1 반사 미러(218)에서 편향되어 입사되는 기준광을 반사시켜 코니컬 미러(222)에 조사시킨다.
코니컬 미러(222)는 제 2 반사 미러(220)에서 반사된 기준광을 모두 동일한 각도를 가지면서 평행이 되도록 반사시켜 광 기록매체(224)에 입사시킨다. 즉, 광 기록매체(224)에는 코니컬 미러(222)를 통해 모두 동일한 각도로 평행으로 퍼져나온 기준광이 입사된다.
편광 분리기(206)를 투과한 신호광은 제 3 광경로 상에 설치된 편광기(208)를 거쳐 제 3 반사 미러(210)에서 반사되어 광 경로 변경 수단(212)에 조사된다.
광 경로 변경 수단(212)은 제 1, 2 환형 프리즘(212a, 212b)으로 이루어져 있으며, 제 1 환형 프리즘(212a)은 신호광의 광 축상에 설치되어 굴절율에 따라 제 3 반사 미러(210)를 통해 입사되는 신호광을 제 2 환형 프리즘(212b)으로 굴절시킨다.
제 2 환형 프리즘(212b)은 제 1 환형 프리즘(212a)에서 굴절되어 입사되는 신호광을 기준광이 입사되는 광 기록매체(224)의 영역에 대응되는 위치로 굴절시킨다.
이와 같이, 본 발명에 따른 홀로그래픽 롬 시스템은 제 1, 2 환형 프리즘(212a, 212b)을 이용하여 신호광의 광 경로를 변경시킴으로써, 신호광을 광 기록매체(224)의 기록영역, 즉 코니컬 미러(222)에 의해 반사된 기준광이 입사되는 영역에 입사시킬 수 있다.
제 2 환형 프리즘(212b)에 의해 굴절된 신호광은 마스크(226)를 통해 변조되어 광 기록매체(224)에 입사된다. 즉, 신호광은 제 1, 2 환형 프리즘(212a, 212b)으로 이루어진 광 경로 변경 수단(212)에 의해서 광 경로가 변경되고, 이에 따라 기준광이 입사되는 광 기록매체(226)의 영역에 대응되는 위치에 입사되게 된다.
광 기록매체(224) 상에는 이와 같은 광 경로를 통해 제공되는 신호광과 코니컬 미러(222)에 의해 소정 각도로 반사된 기준광간의 간섭에 의해 생성되는 간섭 무늬가 기록된다.
따라서 본 발명은 광 확장기 대신에 제 1, 2 환형 프리즘으로 이루어진 광 경로 변경 수단으로 신호광의 경로를 변경하여 신호광을 기준광이 입사되는 광 기록매체의 영역에 대응되는 위치에 입사시킴으로써, 시스템의 제조 단가를 낮출 수 있다.
이상, 본 발명을 실시예에 근거하여 구체적으로 설명하였지만, 본 발명은 이러한 실시예에 한정되는 것이 아니라, 하기에 기술하는 특허청구범위의 요지를 벗어나지 않는 범위내에서 여러 가지 변형이 가능한 것은 물론이다.
도 1은 종래의 전형적인 홀로그래픽 롬 시스템의 구성도이고,
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 홀로그래픽 롬 시스템의 구성도이다.
＜도면의 주요부분에 대한 부호의 설명＞
200 : 광원 202, 214 : HWP
204 : 광 확장기 206 : 편광 분리기
208, 216 : 편광기 210 : 제 3 반사 미러
218 : 제 1 반사 미러 220 : 제 2 반사 미러
212a, 212b : 제 1, 2 환형 프리즘 212 : 광 경로 변경 수단
222 : 코니컬 미러 224 : 광 기록매체
226 : 마스크

Claims (1)

  1. 홀로그래픽 롬 시스템(Holographic ROM system)에 있어서,
    홀로그래픽에 요구되는 레이저광을 발생시키는 광원과,
    상기 광원으로부터 발생된 레이저광을 기준광과 신호광으로 분리시키되, 상기 신호광은 투과시키고 상기 기준광은 반사시키는 편광 분리기(Polarizer Beam Splitter)와,
    상기 편광 분리기를 통해 반사된 기준광을 제 1 및 제 2 광경로를 거쳐 조사하는 제 2 반사 미러와,
    상기 제 2 반사 미러에서 반사되는 기준광의 광경로를 굴절률에 의해 조절하여 상기 광 기록매체에 조사하는 코니컬 미러와,
    상기 편광 분리기를 통해 투과된 신호광을 제 3 광경로로 반사시키는 제 3 반사 미러와,
    상기 제 3 반사 미러에 의해 반사된 신호광을 굴절율에 따라 굴절시키는 제 1 환형 프리즘과,
    상기 제 1 환형 프리즘에서 굴절되는 신호광을 상기 기준광이 입사되는 광 기록매체 영역에 대응되는 위치로 굴절시키는 제 2 환형 프리즘과,
    상기 제 2 환형 프리즘에서 굴절되는 신호광을 소정 데이터 패턴으로 변조하여 상기 광 기록매체에 조사하는 마스크
    를 구비하는 홀로그래픽 롬 시스템.
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