KR100516053B1 - Flat panel liquid crystal display and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

기판 위에 가로 방향으로 게이트선이 형성되어 있고 그 일부가 게이트 전극이 되며, 게이트선을 중심으로 분리된 공통 전극선이 세로 방향으로 형성되어 있다. 공통 전극선의 양쪽으로 다수의 공통 전극이 수직하게 연장되어 있으며, 그 위에는 공통 전극선을 드러내는 접촉구가 뚫린 절연막이 형성되어 있다. 절연막 위에는 비정질 규소층이 게이트 전극 위에 형성되어 있으며, 세로 방향으로 데이터선이 형성되어 있다. 게이트 전극을 중심으로 소스 전극 및 드레인 전극이 비정질 규소층의 양쪽 가장자리와 중첩되며, 소스 및 드레인 전극과 비정질 규소층 사이에는 도핑된 비정질 규소층이 형성된다. 드레인 전극으로부터 연장된 화소 전극선이 공통 전극선과 중첩되며, 화소 전극선으로부터 양쪽으로 연장된 다수의 화소 전극이 가로 방향으로 형성되어 있다. 또한, 데이터선을 중심으로 분리되어 있는 공통 전극선의 끝부분 및 데이터선과 중첩되는 연결 패턴이 접촉구를 통하여 공통 전극선과 연결되어 있다.A gate line is formed on the substrate in a horizontal direction, a part of which is a gate electrode, and a common electrode line separated around the gate line is formed in the vertical direction. A plurality of common electrodes extend vertically to both sides of the common electrode line, and an insulating film is formed thereon through which contact holes exposing the common electrode line are formed. An amorphous silicon layer is formed on the gate electrode on the insulating film, and data lines are formed in the vertical direction. The source electrode and the drain electrode overlap both edges of the amorphous silicon layer around the gate electrode, and a doped amorphous silicon layer is formed between the source and drain electrode and the amorphous silicon layer. The pixel electrode line extending from the drain electrode overlaps the common electrode line, and a plurality of pixel electrodes extending from the pixel electrode line to both sides are formed in the horizontal direction. In addition, an end portion of the common electrode line separated around the data line and a connection pattern overlapping the data line are connected to the common electrode line through the contact hole.

Description

평면 구동 액정 표시 장치 및 그 제조 방법Flat panel liquid crystal display and manufacturing method thereof

본 발명은 평면 구동 방식(in-plane switching mode) 액정 표시 장치 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 특히 수직 크로스토크(crosstalk)를 방지하는 구조의 액정 표시 장치 및 그 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an in-plane switching mode liquid crystal display device and a manufacturing method thereof, and more particularly, to a liquid crystal display device having a structure preventing vertical crosstalk and a method of manufacturing the same.

액정 표시 장치는 크게 비틀린 네마틱(twisted nematic) 방식 액정 표시 장치와 평면 구동 방식 액정 표시 장치로 나뉜다. 비틀린 네마틱 방식은 서로 마주보고 있는 두 기판 중 하나의 투명 기판에 박막 트랜지스터, 화소 전극, 게이트선 및 데이터선 등이 형성되어 있고, 다른 하나의 투명 기판에 공통 전극이 형성되어 있어 기판에 대해 수직한 전계가 형성되는 액정 표시 장치로서, 구동 전압이 비교적 낮은 장점이 있지만, 시야각이 좁은 단점이 있다. 이와는 달리, 평면 구동 방식에서는 하나의 투명 기판 내에 화소 전극 및 공통 전극이 동시에 형성되어 있어서 기판에 평행한 전기장이 형성되기 때문에 시야각이 넓어진다.The liquid crystal display is divided into a twisted nematic liquid crystal display and a planar driving liquid crystal display. In the twisted nematic method, a thin film transistor, a pixel electrode, a gate line, and a data line are formed on a transparent substrate of one of two substrates facing each other, and a common electrode is formed on the other transparent substrate, thereby being perpendicular to the substrate. As a liquid crystal display device in which an electric field is formed, there is an advantage in that the driving voltage is relatively low, but there is a disadvantage in that the viewing angle is narrow. In contrast, in the planar driving method, the viewing angle is widened because the pixel electrode and the common electrode are simultaneously formed in one transparent substrate to form an electric field parallel to the substrate.

그러면, 첨부한 도면을 참고로 하여 종래의 기술에 따른 평면 구동 액정 표시 장치에 대하여 설명한다.Next, a planar driving liquid crystal display according to the related art will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 종래의 기술에 따른 평면 구동 방식 액정 표시 장치의 박막 트랜지스터 기판에 대한 배치도이고, 도 2는 도 1의 II-II' 선, 즉 박막 트랜지스터에 대한 단면도이고, 도 3은 도 1의 III-III' 선에 대한 단면도이다.FIG. 1 is a layout view of a thin film transistor substrate of a planar driving type liquid crystal display according to the related art, FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II-II ′ of FIG. 1, that is, a thin film transistor, and FIG. 3 is III of FIG. 1. A cross-sectional view of the -III 'line.

도 1에 도시한 바와 같이, 투명한 기판(100) 위에 가로 방향으로 게이트선(200)이 형성되어 있고, 게이트선(200)와 평행하게 제1 공통 전극선(301)이 형성되어 있다. 제1 공통 전극선(301)으로부터 수직하게 다수의 공통 전극(310)이 길게 연장되어 있으며, 공통 전극(310)의 끝은 제2 공통 전극선(302)에 연결되어 있다. 게이트선(200), 제1 및 제2 공통 전극선(301, 302) 및 공통 전극(310)을 게이트 절연막(400)이 덮고 있으며, 게이트 절연막(400) 위에는 게이트선(200)의 일부, 즉 게이트 전극(201) 위에 비정질 규소층(500)이 형성되어 있으며, 게이트선(200)이 연장된 부분이 비정질 규소층(500)과 일부 중첩되어 소스 전극(710)을 이룬다. 또한, 게이트 전극(201)을 중심으로 소스 전극(710)의 반대편에는 드레인 전극(720)이 비정질 규소층(500)과 겹치도록 형성되어 있다. 소스 및 드레인 전극(710, 720)과 비정질 규소층(500)의 사이에는 접촉 특성을 향상시키기 위한 도핑된 비정질 규소층(610, 620)이 형성되어 있다. 드레인 전극(720)이 제1 공통 전극선(301)을 따라 연장되어 화소 전극선(800)을 이루며, 이로부터 화소 전극(810)이 데이터선(700) 및 공통 전극(310)과 평행하게 연장되어 있다. 이때, 화소 전극(810)은 공통 전극(310)의 사이에 빗살 형태로 형성되어 있다. As shown in FIG. 1, the gate line 200 is formed in the horizontal direction on the transparent substrate 100, and the first common electrode line 301 is formed in parallel with the gate line 200. A plurality of common electrodes 310 extends vertically from the first common electrode line 301, and an end of the common electrode 310 is connected to the second common electrode line 302. The gate insulating layer 400 covers the gate line 200, the first and second common electrode lines 301 and 302, and the common electrode 310, and a portion of the gate line 200, that is, the gate, is disposed on the gate insulating layer 400. An amorphous silicon layer 500 is formed on the electrode 201, and a portion where the gate line 200 extends partially overlaps the amorphous silicon layer 500 to form a source electrode 710. In addition, the drain electrode 720 is formed on the opposite side of the source electrode 710 around the gate electrode 201 so as to overlap the amorphous silicon layer 500. Doped amorphous silicon layers 610 and 620 are formed between the source and drain electrodes 710 and 720 and the amorphous silicon layer 500 to improve contact characteristics. The drain electrode 720 extends along the first common electrode line 301 to form the pixel electrode line 800, from which the pixel electrode 810 extends in parallel with the data line 700 and the common electrode 310. . In this case, the pixel electrode 810 is formed in the shape of a comb between the common electrode 310.

이러한 박막 트랜지스터 기판(100)은 블랙 매트릭스(도시하지 않음)가 형성되어 있는 대향 기판과 마주보도록 조립되는데, 블랙 매트릭스는 화소와 화소의 경계, 즉 데이터선(700)의 위치에 대응된다. 두 기판 사이에는 액정 분자(LC)가 주입되며, 액정 분자(LC)는 화소 전극(810)과 공통 전극(310) 사이에서 발생하는 수평 전계에 의해 배열된다. The thin film transistor substrate 100 is assembled to face an opposing substrate on which a black matrix (not shown) is formed. The black matrix corresponds to a pixel-pixel boundary, that is, a position of the data line 700. Liquid crystal molecules LC are injected between the two substrates, and the liquid crystal molecules LC are arranged by a horizontal electric field generated between the pixel electrode 810 and the common electrode 310.

이러한 액정 표시 장치에 인가되는 신호를 대략적으로 살펴보자.Let's look at the signal applied to such a liquid crystal display device.

공통 전극(310)에는 늘 일정한 값의 전압이 공급되고, 데이터선(700)에는 프레임(frame)을 주기로하여 연속적으로 변하는 전압이 인가된다. 즉, 한 화소의 박막 트랜지스터가 열린 상태일때 화소 전극(810)에 화상 전압이 인가되고, 박막 트랜지스터가 닫히면 화소 전극(810)에 인가된 신호가 다시 박막 트랜지스터가 열릴 때까지 유지되며, 데이터선(700)에는 다음 화소 전극들을 동작시킬 다른 화상 전압이 연속적으로 변하며 인가된다.A voltage having a constant value is always supplied to the common electrode 310, and a voltage that is continuously changed with a frame is applied to the data line 700. That is, when a thin film transistor of one pixel is open, an image voltage is applied to the pixel electrode 810. When the thin film transistor is closed, a signal applied to the pixel electrode 810 is maintained until the thin film transistor is opened again. Different image voltages for operating the next pixel electrodes are continuously applied to the 700.

박막 트랜지스터가 닫힌 상태에서, 데이터선(700)과 인접한 화소 전극(810) 사이에 의도되지 않은 전계가 발생하는데, 이는 화소 전극(810)에 인가되어 유지되고 있는 전압과 데이터선(700)에 인가되는 전압이 다르기 때문이며, 데이터선(700)의 신호 변화가 인접한 공통 전극(310)의 신호에도 영향을 미치기 때문이다. 이때, 데이터선(700)과 인접한 화소 전극(810) 및 공통 전극(310) 사이에서 발생하는 전기장은 데이터선(700)과 화소 전극(810)의 전압차가 클수록, 데이터선(700)과 공통 전극(310)이 대면하는 면적이 크고 간격이 가까울수록 커진다.In the state where the thin film transistor is closed, an unintended electric field is generated between the data line 700 and the adjacent pixel electrode 810, which is applied to the data line 700 and the voltage being applied to the pixel electrode 810. This is because the voltages to be different are different, and the change in the signal of the data line 700 also affects the signal of the adjacent common electrode 310. At this time, the electric field generated between the data line 700 and the pixel electrode 810 and the common electrode 310 adjacent to each other increases as the voltage difference between the data line 700 and the pixel electrode 810 increases. The larger the area facing 310 and the closer the gap is, the larger the area becomes.

데이터선(700)과 공통 전극(310)이 나란히 형성되어 있는 이와같은 구조에서는 액정 분자(LC)들이 비틀리기에 충분한 전위차가 발생하므로, 데이터선(700)과 공통 전극(310) 및 화소 전극(810)의 사이에서 액정 분자(LC)의 이상 배열이 나타나며, 액정 분자(LC)의 이상 배열이 발생하면 화소가 오프(off)된 경우에도 빛이 누설되는 현상이 나타난다. 액정 분자(LC)의 이상 배열은 데이터선(700)을 따라 전 화소에 걸쳐 나타나므로, 노멀리 블랙(normally black) 상태의 화면상에 흰 줄이 생기는 수직 크로스토크(vertical crosstalk)가 발생한다.In such a structure in which the data line 700 and the common electrode 310 are formed side by side, a potential difference sufficient to twist the liquid crystal molecules LC is generated, so that the data line 700, the common electrode 310, and the pixel electrode ( An abnormal arrangement of the liquid crystal molecules LC appears between 810, and when an abnormal arrangement of the liquid crystal molecules LC occurs, light leaks even when the pixel is turned off. Since the abnormal arrangement of the liquid crystal molecules LC is displayed all the pixels along the data line 700, vertical crosstalk occurs in which white lines are formed on a screen in a normally black state.

또한, 게이트선(200)을 따라 상·하에 공통 전극선(301, 302)이 인접해 있기 때문에 게이트선(200)과 공통 전극선(301, 302) 사이에서의 단선 발생률이 높다.In addition, since the common electrode lines 301 and 302 are adjacent to each other along the gate line 200, the occurrence rate of disconnection between the gate line 200 and the common electrode lines 301 and 302 is high.

본 발명은 액정 분자의 이상 배열을 줄여 화면상의 수직 크로스토크 현상을 줄이는 것을 과제로 한다.An object of the present invention is to reduce the vertical alignment of the liquid crystal molecules to reduce the vertical crosstalk phenomenon on the screen.

이러한 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 액정 표시 장치에서는 게이트선 및 데이터선이 절연되어 서로 교차하며, 데이터선과 수직하게 다수의 공통 전극 및 다수의 화소 전극이 각각 형성되어 있다.In the liquid crystal display according to the present invention for solving this problem, the gate line and the data line are insulated from each other and cross each other, and a plurality of common electrodes and a plurality of pixel electrodes are formed to be perpendicular to the data line.

이때, 다수의 공통 전극을 하나로 연결하는 공통 전극선과 다수의 화소 전극을 하나로 연결하는 화소 전극선이 데이터선에 평행하게 형성되어 있을 수 있다.In this case, the common electrode line connecting the plurality of common electrodes to one and the pixel electrode line connecting the plurality of pixel electrodes to one may be parallel to the data line.

여기에서, 공통 전극선이 공통 전극의 가운데를 가로지르는 것이 바람직하다. 이 경우 공통 전극선이 게이트선을 중심으로 분리되어 있어야 하며, 분리된 공통 전극선을 전기적으로 연결하는 연결 패턴이 형성되어 있어야 한다.Here, it is preferable that a common electrode line crosses the center of a common electrode. In this case, the common electrode line should be separated from the gate line, and a connection pattern for electrically connecting the separated common electrode line should be formed.

이러한 구조의 액정 표시 장치는 게이트선을 형성하는 단계에서 공통 전극선을 게이트선에 대해 분리되도록 형성하고, 데이터선 및 화소 전극을 형성하는 단계에서 분리되어 있는 공통 전극선을 연결하는 연결 패턴을 형성함으로써 제조된다.A liquid crystal display device having such a structure is manufactured by forming a common electrode line so as to be separated from the gate line in forming the gate line, and forming a connection pattern connecting the common electrode line separated in the forming of the data line and the pixel electrode. do.

이처럼, 본 발명에 따른 액정 표시 장치 및 그 제조 방법은 데이터선에 수직하게 공통 전극 및 화소 전극을 형성함으로써 데이터선과 대면하는 화소 전극 및 공통 전극의 면적을 줄인다.As described above, the liquid crystal display and the manufacturing method thereof according to the present invention reduce the area of the pixel electrode and the common electrode facing the data line by forming the common electrode and the pixel electrode perpendicular to the data line.

그러면, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치 및 그 제조 방법을 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세하게 설명한다.Next, a liquid crystal display and a method of manufacturing the same according to an exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention.

도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 장치의 배치도이다.4 is a layout view of a liquid crystal display according to a first exemplary embodiment of the present invention.

도 4에 도시한 바와 같이, 기판 위에 가로 방향으로 게이트선(200)이 형성되어 있고, 게이트선(200)으로부터 게이트 전극(201)이 연장되어 있으며, 게이트선(200)을 중심으로 분리된 공통 전극선(303, 304)이 세로 방향으로 형성되어 있다. 공통 전극선(303, 304)의 양쪽으로 다수의 공통 전극(310)이 가로 방향으로 연장되어 있다.As shown in FIG. 4, a gate line 200 is formed on the substrate in a horizontal direction, the gate electrode 201 extends from the gate line 200, and is separated from the gate line 200. Electrode lines 303 and 304 are formed in the vertical direction. A plurality of common electrodes 310 extend in the horizontal direction on both sides of the common electrode lines 303 and 304.

그 위에 절연막(도시하지 않음)이 덮여 있으며, 공통 전극선(303, 304)을 드러내는 접촉구(C1, C2)가 형성되어 있다.An insulating film (not shown) is covered thereon, and contact holes C1 and C2 exposing the common electrode lines 303 and 304 are formed.

절연막 위에는 비정질 규소층(500)이 게이트 전극(201) 위에 형성되어 있으며, 세로 방향으로 데이터선(700)이 형성되어 있다. 데이터선(700)의 일부가 연장되어 게이트 전극(201) 위의 비정질 규소층(500)의 가장자리와 중첩되는 소스 전극(710)을 이루며, 게이트 전극(201)을 중심으로 소스 전극(710)의 반대편에는 드레인 전극(720)이 형성되어 있다. 소스 및 드레인 전극(710, 720)과 비정질 규소층(500) 사이에는 접촉 특성을 향상시키기 위한 도핑된 비정질 규소층(도시하지 않음)이 형성되어 있다.An amorphous silicon layer 500 is formed on the gate electrode 201 on the insulating film, and the data line 700 is formed in the vertical direction. A portion of the data line 700 extends to form a source electrode 710 overlapping an edge of the amorphous silicon layer 500 on the gate electrode 201, and the source electrode 710 around the gate electrode 201. The drain electrode 720 is formed on the opposite side. A doped amorphous silicon layer (not shown) is formed between the source and drain electrodes 710 and 720 and the amorphous silicon layer 500 to improve contact characteristics.

드레인 전극(720)으로부터 연장된 화소 전극선(830)이 공통 전극선(304)과 절연막을 매개로 중첩되어 있으며, 화소 전극선(830)으로부터 양쪽으로 연장된 다수의 화소 전극(810)이 가로 방향으로 형성되어 있다. 또한, 데이터선(200)을 중심으로 분리되어 있는 공통 전극선(303, 304)의 양단 및 데이터선(200)과 중첩되도록 형성되어 있는 연결 패턴(850)은 접촉구(C1, C2)를 통하여 공통 전극선(303, 304)와 연결되어 있다.The pixel electrode line 830 extending from the drain electrode 720 overlaps the common electrode line 304 with the insulating film, and the plurality of pixel electrodes 810 extending from both sides of the pixel electrode line 830 in the horizontal direction are formed in the horizontal direction. It is. In addition, the connection patterns 850 formed to overlap both ends of the common electrode lines 303 and 304 and the data line 200, which are separated around the data line 200, are common through the contact holes C1 and C2. It is connected with the electrode wires 303 and 304.

이러한 구조의 박막 트랜지스터 기판에서는 공통 전극(310) 및 화소 전극(810)이 데이터선(700)에 대해 수직으로 형성되어 있어서, 데이터선(700)과 대면하는 공통 전극(310)의 면적이 줄어든다. 그러므로, 데이터선(700)과 화소 전극(810)및 공통 전극(310) 사이에 형성되는 전위차가 액정 분자(LC)를 비틀 정도의 크기를 갖지 못하므로, 액정 분자(LC)의 이상 배열 또한 나타나지 않는다.In the thin film transistor substrate having the above structure, the common electrode 310 and the pixel electrode 810 are formed perpendicular to the data line 700, thereby reducing the area of the common electrode 310 facing the data line 700. Therefore, since the potential difference formed between the data line 700, the pixel electrode 810, and the common electrode 310 does not have the size of twisting the liquid crystal molecules LC, an abnormal arrangement of the liquid crystal molecules LC also appears. Do not.

따라서, 액정 분자(LC)의 이상 배열에 의한 수직 크로스토크 현상도 줄어든다. Therefore, the vertical crosstalk phenomenon caused by the abnormal arrangement of the liquid crystal molecules LC is also reduced.

그러면, 이러한 구조의 액정 표시 장치의 제조 방법을 도 5a 내지 도 5d를 참고로 하여 다음에서 설명한다.Next, a method of manufacturing a liquid crystal display device having such a structure will be described below with reference to FIGS. 5A to 5D.

도 5a 내지 도 5d는 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법을 순서적으로 도시한 배치도이다.5A through 5D are layout views sequentially illustrating a method of manufacturing a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

먼저, 기판 위에 제1 금속막을 증착하고 패터닝하여 게이트선(200) 및 게이트 전극(201), 공통 전극선(303, 304) 및 공통 전극(310) 등의 제1 금속 패턴을 형성한다. 이때, 공통 전극선(303, 304)은 게이트선(200)을 중심으로 분리되도록 형성한다(도 5a 참조).First, a first metal layer is deposited and patterned on a substrate to form first metal patterns such as the gate line 200, the gate electrode 201, the common electrode lines 303 and 304, and the common electrode 310. In this case, the common electrode lines 303 and 304 are formed to be separated from the gate line 200 (see FIG. 5A).

게이트 절연막(도시하지 않음)을 도포하고, 게이트 전극(201) 상부의 게이트 절연막 위에 비정질 규소층(500) 및 도핑된 비정질 규소층(도시하지 않음)을 차례로 형성한다.(도 5b 참조).A gate insulating film (not shown) is applied, and an amorphous silicon layer 500 and a doped amorphous silicon layer (not shown) are sequentially formed on the gate insulating film on the gate electrode 201 (see FIG. 5B).

다음, 게이트 절연막의 일부를 식각하여 공통 전극선(303, 304)의 끝 부분을 드러내는 접촉구(C1, C2)를 형성한다(도 5c 참조).Next, a portion of the gate insulating film is etched to form contact holes C1 and C2 exposing end portions of the common electrode lines 303 and 304 (see FIG. 5C).

마지막으로 제2 금속막을 적층하고 패터닝하여 데이터선(700), 소스 및 드레인 전극(710, 720), 화소 전극선(830) 및 화소 전극(810), 공통 전극선(303, 304)을 연결하기 위한 연결 패턴(850) 등의 제2 금속 패턴을 형성한다(도 5d 참조).Finally, the second metal layer is stacked and patterned to connect the data line 700, the source and drain electrodes 710 and 720, the pixel electrode line 830, the pixel electrode 810, and the common electrode line 303 and 304. A second metal pattern such as pattern 850 is formed (see FIG. 5D).

이러한 방법을 통해서 수직 크로스토크 현상을 줄일수 있는 구조의 액정 표시 장치를 구현할 수 있다. 또한, 게이트선(200)을 중심으로 공통 전극선(310)을 분리하며 수직으로 형성하기 때문에 두 선(200, 310) 사이의 단락 또한 줄일 수 있다.In this way, a liquid crystal display device having a structure capable of reducing vertical crosstalk may be implemented. In addition, since the common electrode line 310 is vertically formed around the gate line 200, a short circuit between the two lines 200 and 310 may be reduced.

제1 실시예와 마찬가지로 데이터선(700)과 화소 전극(810) 및 공통 전극(310)을 수직하게 형성하는 구조를 가지는 제2 및 제3 실시예에 따른 액정 표시 장치에 대하여 다음에서 도 6 및 도 7을 참고로 하여 설명한다.As with the first embodiment, the liquid crystal display according to the second and third embodiments having a structure in which the data line 700, the pixel electrode 810, and the common electrode 310 are vertically formed will be described with reference to FIGS. 6 and 6. It demonstrates with reference to FIG.

도 6 및 도 7은 본 발명의 제 2 및 제3 실시예에 따른 액정 표시 장치의 배치도이다.6 and 7 are layout views of the liquid crystal display according to the second and third embodiments of the present invention.

도 6에 도시한 바와 같이, 게이트선(200) 및 게이트 전극(201), 데이터선(700), 소스 및 드레인 전극(710, 720), 비정질 규소층(500) 게이트 절연막 등은 제1 실시예와 마찬가지의 구조로 형성되어 있다.As shown in FIG. 6, the gate line 200, the gate electrode 201, the data line 700, the source and drain electrodes 710 and 720, the amorphous silicon layer 500, the gate insulating film, and the like are the first embodiment. It is formed in the same structure as.

게이트선(200)과 평행하게 공통 전극선(300)이 형성되어 있고, 공통 전극선(300)으로부터 수직한 방향으로 보조 공통 전극선(300')이 뻗어 있으며, 보조 공통 전극선(300')으로부터 다수의 공통 전극(310)이 보조 공통 전극선(300')에 수직하게, 즉 데이터선(700)에 수직하게 연장되어 있다. 또한, 드레인 전극(720)으로부터 연장된 화소 전극선(800) 및 보조 화소 전극선(800')이 공통 전극선(300) 및 보조 공통 전극선(300')을 따라 평행하게 중첩하며, 다수의 화소 전극(810)이 화소 전극선(800)으로부터 데이터선(700)과 수직하게 연장되어 있다.The common electrode line 300 is formed in parallel with the gate line 200, and the auxiliary common electrode line 300 ′ extends in a direction perpendicular to the common electrode line 300, and a plurality of common lines are provided from the auxiliary common electrode line 300 ′. The electrode 310 extends perpendicular to the auxiliary common electrode line 300 ′, that is, perpendicular to the data line 700. In addition, the pixel electrode line 800 and the auxiliary pixel electrode line 800 ′ extending from the drain electrode 720 overlap in parallel along the common electrode line 300 and the auxiliary common electrode line 300 ′, and the plurality of pixel electrodes 810. ) Extends perpendicularly from the pixel electrode line 800 to the data line 700.

도 7에 도시한 제3 실시예는 제2 실시예와 유사한 구조를 가진다. 단, 화소 전극선(800)과 공통 전극선(300)이 서로 중첩되지 않으며, 게이트선(200)이 아닌 데이터선(700)에 평행하게 형성되어 있다는 점에 차이가 있다. 즉, 데이터선(700)과 평행하게 화소 전극선(800)과 공통 전극선(300)이 형성되어 있으며, 화소 전극선(800) 및 공통 전극선(300)으로부터 각각 수직하게 다수의 화소 전극(810) 및 공통 전극(310)이 연장되어 있다.The third embodiment shown in FIG. 7 has a structure similar to the second embodiment. However, there is a difference in that the pixel electrode line 800 and the common electrode line 300 do not overlap each other, and are formed parallel to the data line 700 instead of the gate line 200. That is, the pixel electrode line 800 and the common electrode line 300 are formed in parallel with the data line 700, and the plurality of pixel electrodes 810 and the common are respectively perpendicular to the pixel electrode line 800 and the common electrode line 300. The electrode 310 is extended.

제1 실시예에서와 마찬가지로, 제2 및 제3 실시예에서는 화소 전극(810) 및 공통 전극(310)이 데이터선(700)과 수직하게 형성되어 있으므로, 그 효과는 제1 실시예와 동일하다.As in the first embodiment, since the pixel electrode 810 and the common electrode 310 are formed perpendicular to the data line 700 in the second and third embodiments, the effect is the same as in the first embodiment. .

이상에서와 같이, 본 발명에 의하면 액정 분자의 이상 배열에 의한 수직 크로스토크 현상이 줄고, 게이트선과 공통 전극선 사이의 단락 불량의 감소에 따라 생산성도 향상된다.As described above, according to the present invention, the vertical crosstalk phenomenon due to the abnormal arrangement of the liquid crystal molecules is reduced, and the productivity is also improved by reducing the short circuit defect between the gate line and the common electrode line.

도 1은 종래의 기술에 따른 평면 구동 방식의 액정 표시 장치의 배치도이고,1 is a layout view of a liquid crystal display device of a planar driving method according to the related art,

도 2는 도 1의 II-II' 선, 즉 박막 트랜지스터에 대한 단면도이고,FIG. 2 is a cross-sectional view of the II-II 'line of FIG. 1, that is, a thin film transistor;

도 3은 도 1의 III-III' 선에 대한 단면도이고,3 is a cross-sectional view taken along line III-III ′ of FIG. 1;

도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 평면 구동 방식의 액정 표시 장치의 배치도이고,4 is a layout view of a liquid crystal display of a planar driving method according to a first exemplary embodiment of the present invention.

도 5a 내지 도 5d는 제1 실시예의 제조 방법을 공정 순서에 따라 나타낸 배치도이고,5A to 5D are layout views showing the manufacturing method of the first embodiment according to the process sequence;

도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 평면 구동 방식의 액정 표시 장치의 배치도이고,6 is a layout view of a liquid crystal display of a planar driving method according to a second exemplary embodiment of the present invention.

도 7은 본 발명의 제3 실시예에 따른 평면 구동 방식의 액정 표시 장치의 배치도이다. 7 is a layout view of a liquid crystal display of a planar driving method according to a third exemplary embodiment of the present invention.

Claims (7)

절연 기판,Insulation board, 상기 절연 기판 위에 형성되어 있으며, 절연막을 매개로하여 서로 교차하는 게이트선 및 데이터선,A gate line and a data line formed on the insulating substrate and crossing each other through an insulating film; 상기 데이터선과 평행하게 형성되어 있는 공통 전극선과 상기 공통 전극선으로부터 뻗어 나와 있으며, 상기 데이터선과 수직하게 형성되어 있는 다수의 공통 전극,A common electrode line formed in parallel with the data line and a plurality of common electrodes extending from the common electrode line and formed perpendicular to the data line, 상기 데이터선과 평행하게 형성되어 있는 화소 전극선과 상기 화소 전극선으로부터 뻗어 나와 있으며, 상기 데이터선과 수직하게 형성되어 있는 다수의 화소 전극을 포함하며,A pixel electrode line formed to be parallel to the data line and a plurality of pixel electrodes extending from the pixel electrode line and perpendicular to the data line; 상기 화소 전극선과 상기 공통 전극선은 상호 중첩되어 있는 액정 표시 장치.And the pixel electrode line and the common electrode line overlap each other. 제1항에서,In claim 1, 상기 공통 전극선은 상기 공통 전극의 가운데를 가로지르며 상기 게이트선을 중심으로 분리되어 있는 액정 표시 장치.The common electrode line crosses the center of the common electrode and is separated about the gate line. 제2항에서,In claim 2, 상기 게이트선의 일부와 상기 절연막을 매개로 하여 중첩하며 상기 게이트선을 중심으로 양쪽에서 상기 공통 전극선과 연결되는 연결 패턴을 더 포함하는 액정 표시 장치.And a connection pattern overlapping a portion of the gate line via the insulating layer and connected to the common electrode line at both sides of the gate line. 제3항에서,In claim 3, 상기 절연막에는 상기 공통 전극선을 드러내는 접촉구가 뚫려 있으며 상기 연결 패턴은 상기 접촉구를 통해 상기 공통 전극선과 접촉되어 있는 액정 표시 장치.A contact hole for exposing the common electrode line is formed in the insulating layer, and the connection pattern is in contact with the common electrode line through the contact hole. 제1항에서,In claim 1, 상기 공통 전극선과 평행하는 보조 공통 전극선을 더 포함하며,Further comprising an auxiliary common electrode line parallel to the common electrode line, 상기 공통 전극선과 상기 보조 공통 전극선은 상기 공통 전극에 의하여 연결되어 있는 액정 표시 장치.The common electrode line and the auxiliary common electrode line are connected by the common electrode. 기판 위에 제1 금속막을 적층하는 단계,Stacking a first metal film on the substrate, 상기 제1 금속막을 패터닝하여 게이트선 및 상기 게이트선을 중심으로 분리된 공통 전극선 및 공통 전극을 형성하는 단계,Patterning the first metal layer to form a common electrode line and a common electrode separated from the gate line and the gate line; 게이트 절연막을 적층하는 단계,Stacking a gate insulating film, 상기 게이트 절연막을 식각하여 상기 공통 전극선의 일부를 드러내는 접촉구를 형성하는 단계,Etching the gate insulating layer to form a contact hole exposing a part of the common electrode line; 제2 금속막을 적층하는 단계,Stacking a second metal film; 상기 제2 금속막을 패터닝하여 상기 접촉구를 통해 상기 공통 전극선을 연결하는 연결 패턴과 화소 전극선 및 화소 전극을 형성하는 단계Patterning the second metal layer to form a connection pattern, a pixel electrode line, and a pixel electrode connecting the common electrode line through the contact hole; 를 포함하며,Including; 상기 공통 전극은 상기 공통 전극선으로부터 뻗어 나와 있고, 상기 화소 전극은 상기 화소 전극선으로부터 뻗어 나와 있으며,The common electrode extends from the common electrode line, the pixel electrode extends from the pixel electrode line, 상기 화소 전극선과 상기 공통 전극선은 상호 중첩되어 있는 액정 표시 장치의 제조 방법.The pixel electrode line and the common electrode line overlap each other. 제6항에서,In claim 6, 상기 게이트선의 일부와 상기 게이트 절연막을 매개로 중첩하는 반도체층을 형성하는 단계, 상기 제2 금속막을 패터닝하여 소스 및 드레인 전극 및 데이터선을 형성하는 단계를 더 포함하며,Forming a semiconductor layer overlapping a portion of the gate line with the gate insulating layer; patterning the second metal layer to form source and drain electrodes and a data line; 상기 공통 전극선과 상기 화소 전극선은 상기 데이터선에 평행하며, 상기 공통 전극과 상기 화소 전극은 상기 데이터선과 수직하는 액정 표시 장치의 제조 방법.The common electrode line and the pixel electrode line are parallel to the data line, and the common electrode and the pixel electrode are perpendicular to the data line.
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