KR100510223B1 - Abrasive Material for the Needle Point of a Probe Card - Google Patents

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KR100510223B1
KR100510223B1 KR10-1999-7009720A KR19997009720A KR100510223B1 KR 100510223 B1 KR100510223 B1 KR 100510223B1 KR 19997009720 A KR19997009720 A KR 19997009720A KR 100510223 B1 KR100510223 B1 KR 100510223B1
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나오야 가마따
가즈오 다나까
레이지 요시즈미
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미네소타 마이닝 앤드 매뉴팩춰링 캄파니
닛본 덴끼 가부시끼가이샤
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Abstract

탐침의 지침에 부착되어 있는 이물질을 효과적으로 제거하고 지침을 손상 및 변형으로부터 보호하고 탐침 수명을 연장시킬 수 있는 탐침 카드의 지침 (needle point)용 연마재가 개시되어 있다. 탐침 카드의 지침용 연마재는 기재에 도포된 마이크로 분말화 연마 입자층을 포함하는 연마층, 및 완충 작용 및 탄성을 갖는 쿠션층을 포함한다.Abrasives for needle points of probe cards are disclosed that can effectively remove foreign matter adhering to the probe's instructions, protect the instructions from damage and deformation, and extend the probe life. The guide abrasive of the probe card includes an abrasive layer comprising a layer of micro powdered abrasive particles applied to a substrate, and a cushion layer having a buffering action and elasticity.

Description

탐침 카드의 지침용 연마재{Abrasive Material for the Needle Point of a Probe Card}Abrasive Material for the Needle Point of a Probe Card

본 발명은 일반적으로 탐침 카드의 지침 (needle point) 세정용 연마재, 특히 반도체 웨이퍼상에 형성된 반도체 칩의 전기적 특징을 측정하는데 사용되는 탐침 카드의 지침에 부착되어 있는 이물질을 제거할 수 있는 연마재에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention generally relates to an abrasive for cleaning a needle point of a probe card, particularly an abrasive capable of removing foreign matter adhering to the guidelines of a probe card used to measure electrical characteristics of a semiconductor chip formed on a semiconductor wafer. will be.

반도체 웨이퍼상에 형성된 반도체 칩의 전기적 특징을 측정하기 위한 탐침 카드의 탐침은 반도체 칩의 패드에 대향하여 압착되어 그와 접촉된다. 이 때, 반도체 칩의 패드로부터 벗겨진 알루미늄 분말은 탐침의 팁 (지침)에 부착된다. 알루미늄 분말이 지침으로부터 제거되지 않으면, 지침상에 남아있는 알루미늄은 산화알루미늄으로 산화되어 탐침과 패드 사이의 저항이 증가하게 된다. 전기적 접촉이 손상되기 때문에, 연속 결함이 발생되어 전기적 특징을 정확하게 측정할 수 없게 된다. 이를 위해, 모든 소정의 갯수의 탐침으로부터 알루미늄 분말을 제거하여 지침을 세정시키는 방법이 있다. 다음의 방법들은 알루미늄 분말을 제거하는데 사용된다.The probe of the probe card for measuring the electrical characteristics of the semiconductor chip formed on the semiconductor wafer is pressed against and contacted with the pad of the semiconductor chip. At this time, the aluminum powder peeled off from the pad of the semiconductor chip is attached to the tip (guide) of the probe. If the aluminum powder is not removed from the guide, the aluminum remaining on the guide is oxidized to aluminum oxide, increasing the resistance between the probe and the pad. Since the electrical contact is damaged, continuous defects occur and the electrical characteristics cannot be measured accurately. To this end, there is a method of cleaning the instructions by removing aluminum powder from any given number of probes. The following methods are used to remove aluminum powder.

(1) 연삭석을 사용하는 방법 (일본 특허 출원 공개 제209896/1993호, 동 제96342/1992호 및 동 제2657/1988호, 및 일본 실용 신안 출원 공개 제11167/1992호 참조),(1) a method of using grinding stone (see Japanese Patent Application Publication Nos. 209896/1993, 9696/1992 and 2657/1988, and Japanese Utility Model Application Publication No. 11167/1992),

(2) 모래연마판을 사용하는 방법 (일본 특허 출원 공개 제166893/1993호, 동 제177849/1992호, 동 제105940/1991호, 동 제10176/1991호 및 동 제152034/1986호, 및 일본 실용 신안 출원 공개 제26772/1995호 참조),(2) a method of using a sand polished plate (Japanese Patent Application Publication Nos. 16,893 / 1993, 177849/1992, 105940/1991, 10176/1991, and 152034/1986, and Japanese Utility Model Application Publication No. 26772/1995),

(3) 세라믹판을 사용하는 방법 (일본 특허 출원 공개 제4969/1986호 및 동 제282829/1989호, 일본 실용 신안 출원 공개 제55338/1986호, 일본 특허 출원 공개 제2939/1990호, 동 제55835/1989호 및 동 제170933/1988호 참조),(3) Method of using ceramic plate (Japanese Patent Application Publication Nos. 4969/1986 and 282829/1989, Japanese Utility Model Application Publication No. 55338/1986, Japanese Patent Application Publication No. 2939/1990, 55835/1989 and 170933/1988),

(4) 연마 입자를 사용하는 방법 (일본 실용 신안 출원 공개 제97840/1986호 참조),(4) a method of using abrasive particles (see Japanese Utility Model Application Laid-Open No. 97840/1986),

(5) 갈은 유리 (frosted glass)를 사용하는 방법 (일본 특허 출원 공개 제199141/1995호 참조), 및(5) a method of using frosted glass (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 199141/1995), and

(6) 유리 코팅물을 사용하는 방법 (일본 특허 출원 공개 제76242/1991호 참조).(6) A method of using a glass coating (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 76242/1991).

이들 방법에서, 지침은 탐침 조작에서와 동일한 방식으로 패드에 대향하여 압착되어 알루미늄 분말이 제거된다.In these methods, the instructions are pressed against the pads in the same manner as in probe operation to remove aluminum powder.

그러나, 이들 방법에는 다음의 문제점들이 있다.However, these methods have the following problems.

(1) 지침이 파괴됨,(1) the instructions are broken,

(2) 간극 틈에 부착되어 있는 알루미늄 분말은 제거될 수 없으며, 이는 세라믹판 표면의 요부와 철부 사이의 간격 범위가 1 내지 12 ㎛인 반면, 지침(접촉면)의 간격은 대략 0.35 ㎛이기 때문임,(2) The aluminum powder adhering to the gap gap cannot be removed because the interval range between the recessed portion and the iron portion of the surface of the ceramic plate is 1 to 12 μm, while the distance between the guides (contact surface) is about 0.35 μm. ,

(3) 지침이 마멸되어 탐침의 수명이 단축됨, 및(3) the instructions are abraded to shorten the life of the probe, and

(4) 지침의 형상이 탐침 조작에서와 동일한 하중 (약 2.5 ㎏f)하에 변형되는 경향이 있음.(4) The shape of the instructions tends to deform under the same load (about 2.5 kgf) as in probe operation.

또한, 마이크로 분말화 연마재가 기재 물질에 배합되는 세정 물질을 사용하는 방법이 개시되어 있다 (일본 특허 출원 공개 제244074/1995호 참조).Also disclosed is a method of using a cleaning material in which a micropowdered abrasive is blended into a base material (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 244074/1995).

이 방법에서, 세정 물질은 탐침의 수명을 연장시킬 수 있다. 그러나, 상기 문제점 (1), (2) 및 (4)는 이 세정 물질을 사용해도 해결될 수 없다.In this way, the cleaning material can extend the life of the probe. However, the above problems (1), (2) and (4) cannot be solved even by using this cleaning material.

본 발명은 이러한 상황의 관점에서 달성되었으며, 본 발명의 목적은 탐침의 지침에 부착되어 있는 이물질을 효과적으로 제거하고 지침에 대한 손상 및 그의 변형을 피하고 탐침의 수명을 연장시킬 수 있는 탐침 카드의 지침용 연마재를 제공하는 것이다.The present invention has been accomplished in view of this situation, and an object of the present invention is to provide a guide for a probe card that can effectively remove foreign substances adhering to the guide of the probe, avoid damage to the guide and modification thereof, and extend the life of the probe. It is to provide an abrasive.

<발명의 요약>Summary of the Invention

본 발명에서의 상기 목적은 The above object in the present invention

기재에 도포된 마이크로 분말화 연마 입자층을 포함하는 연마층, 및An abrasive layer comprising a micropowdered abrasive grain layer applied to a substrate, and

완충 작용 및 탄성을 갖는 쿠션층Cushion layer having a cushioning action and elasticity

을 포함하는 탐침 카드의 지침용 연마재를 제공하므로써 달성될 수 있다.It can be achieved by providing an abrasive for guidance of the probe card comprising a.

본 발명의 바람직한 실시양태에서, 탐침 카드의 지침과 접촉하는 연마층 표면은 탐침 카드의 지침 패턴에 상응하는 불규칙한 패턴을 갖고, 쿠션층은 모드아크릴계 수지로 이루어진다.In a preferred embodiment of the invention, the polishing layer surface in contact with the instructions of the probe card has an irregular pattern corresponding to the instructions pattern of the probe card, and the cushion layer is made of modacrylic resin.

도 1은 본 발명의 탐침 카드의 지침용 연마재의 일 실시양태의 개략 단면도.1 is a schematic cross-sectional view of one embodiment of a guide abrasive of the probe card of the present invention.

도 2는 본 발명에서의 탐침 카드의 지침 형상과 연마층 형상 사이의 관계를 나타내는 개략 단면도.Fig. 2 is a schematic cross-sectional view showing the relationship between the guide shape of the probe card and the abrasive layer shape in the present invention.

본 발명은 첨부된 도면을 참고로 본 발명의 일 실시양태에 의해 상세히 설명될 것이다.The invention will be explained in detail by one embodiment of the invention with reference to the accompanying drawings.

도 1 및 도 2에 나타내지는 바와 같이, 본 발명에서의 탐침 카드의 지침용 연마재는 기재 (1)상에 배열된 마이크로 분말화 연마 입자 (5)가 제공되는 연마층 (3), 및 완충 작용 및 탄성을 갖는 쿠션층 (4)을 포함한다.As shown in Figs. 1 and 2, the guiding abrasive of the probe card in the present invention has an abrasive layer 3 provided with micro powdered abrasive particles 5 arranged on a substrate 1, and a buffering action. And a cushion layer 4 having elasticity.

<연마층><Polishing layer>

본 발명에 사용되는 연마층 (3)은 기재 (1)에 도포된 연마 입자층 (2)을 포함한다.The abrasive layer 3 used in the present invention comprises an abrasive grain layer 2 applied to the substrate 1.

<기재><Base material>

기재 (1)는 연마 입자층 (2)에 특정 강성도를 제공하는 것이 바람직하며, 이는 본 발명의 연마재가 탐침 카드와 함께 특정 기계상에 탑재되고, 자동적으로 이동되어 탑재 및 탈착되기 때문이다. 구체적으로는, 기재 (1)용 물질로서 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (PET), 폴리에틸렌 나프탈레이트, 염화비닐, 폴리프로필렌 및 펄프포가 제공된다.The substrate 1 preferably provides a specific stiffness to the abrasive grain layer 2, since the abrasive of the present invention is mounted on a specific machine together with the probe card, and is automatically moved to mount and detach. Specifically, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate, vinyl chloride, polypropylene and pulp cloth are provided as materials for the base material 1.

기재 (1)의 두께는 예를 들어, 12 내지 250 ㎛ 범위인 것이 바람직하지만 이에 제한되는 것은 아니다.The thickness of the substrate 1 is preferably, for example, in the range of 12 to 250 μm, but is not limited thereto.

<연마 입자층><Polishing Particle Layer>

연마 입자층 (2)에 사용되는 수지 (예컨대, 폴리에스테르 수지)(7)내 연마 입자 (5)로서, 탐침 기재 (8)의 일부인 지침 (6)의 형상이 랩핑 (lapping) 및 세정 효율을 증진시키기 위해 지침 (6)의 불규칙한 형상과 일치하는 평균 입경의 입자를 선택하여 배열하는 것이 바람직하다. 지침 (6)의 요부와 철부 사이의 간격 (이하, "불규칙 간격"으로 칭함)과 동일하거나 또는 그 보다 작은 크기의 평균 입경을 갖는 입자를 사용하는 것이 바람직하다. 불규칙 간격이 0.35 ㎛인 지침 (6)을 사용하는 경우, 연마층의 표면 조도 (Sm)는 바람직하게는 0.35 ㎛ 미만이다. 또한, 연마 입자 (5)의 평균 입경이 0.5 ㎛ 내지 3 ㎛인 것이 바람직하다.As the abrasive particles 5 in the resin (e.g., polyester resin) 7 used for the abrasive particle layer 2, the shape of the guide 6, which is part of the probe base 8, enhances lapping and cleaning efficiency. It is preferable to select and arrange particles of average particle diameter consistent with the irregular shape of the instruction (6). Preference is given to using particles having an average particle diameter of the same size or smaller than the spacing between the recessed portion and the convex portion (hereinafter referred to as “irregular spacing”) of the instruction (6). In the case of using the guideline 6 having an irregular spacing of 0.35 mu m, the surface roughness Sm of the abrasive layer is preferably less than 0.35 mu m. Moreover, it is preferable that the average particle diameter of the abrasive grain 5 is 0.5 micrometer-3 micrometers.

도 2에 나타내지는 구조에 의해 연마 입자 (5)의 팁은 이물질을 효과적으로 제거하기 위한 지침의 불규칙성과 일치하는 지침의 철부에 삽입될 수 있다.By means of the structure shown in FIG. 2, the tips of the abrasive grains 5 can be inserted into the convex portions of the instructions which match the irregularities of the instructions for effectively removing foreign matter.

알루미나, 실리콘 카바이드, 산화크롬, CBN, 다이아몬드 분말, 산화세륨, 산화규소 (SiO2) 및 산화지르코늄 (Zr2O3)과 같은 물질이 연마 입자층 (2)용으로 사용될 수 있지만 이에 제한되는 것은 아니다.Materials such as alumina, silicon carbide, chromium oxide, CBN, diamond powder, cerium oxide, silicon oxide (SiO 2 ) and zirconium oxide (Zr 2 O 3 ) can be used for the abrasive grain layer 2, but are not limited thereto. .

기재 (1)상의 연마 입자층 (2)의 도포에는, 예를 들어 그라비어 (gravure) 코팅, 나이프 코팅 등과 같은 슬러리 코팅, 정전기 코팅, 소적 코팅 등이 사용될 수 있지만 이에 제한되는 것은 아니다. 연마 입자층 (2)중의 연마 입자의 밀도 분포를 연마 입자의 평균 입경에 따라 배열하여 연마층 (3)의 표면 형상을 지침 (6)의 불규칙한 형상에 상응하게 하는 것이 바람직하다.In the application of the abrasive grain layer 2 on the substrate 1, for example, slurry coating such as gravure coating, knife coating or the like, electrostatic coating, droplet coating or the like can be used, but is not limited thereto. It is preferable to arrange the density distribution of the abrasive grains in the abrasive grain layer 2 according to the average particle diameter of the abrasive grains so that the surface shape of the abrasive layer 3 corresponds to the irregular shape of the guide 6.

기재 (1)의 두께는 바람직하게는 15 내지 300 ㎛ 범위이다. 두께가 15 ㎛ 미만인 경우, 연마층 (3)의 강도는 경감되어 연마층 (3)이 파괴되는 경향이 있다. 또한, 두께가 300 ㎛를 초과하는 경우, 취급 특징이 손상된다.The thickness of the substrate 1 is preferably in the range of 15 to 300 μm. When the thickness is less than 15 μm, the strength of the polishing layer 3 is reduced, and the polishing layer 3 tends to break. In addition, when the thickness exceeds 300 µm, handling characteristics are impaired.

<쿠션층>Cushion floor

본 발명에 사용되는 쿠션층 (4)의 경우, 탄성 및 완충 작용은 연마층 (3)이 지침 (6)과 접촉할 때 지침이 변형 및 손상되는 것을 피하고 탐침 수명을 연장시키는데 요구된다.In the case of the cushion layer 4 used in the present invention, elasticity and cushioning action are required to avoid the deformation and damage of the guide when the abrasive layer 3 is in contact with the guide 6 and to extend the probe life.

하기 물질 특징들이 쿠션층 (4)에 요구된다. 예를 들어, 바람직한 굴곡 탄성 모듈러스의 범위는 쿠션층으로서 발포체를 사용하는 경우에 1.2 x 103 내지 9.0 x 103 ㎏/㎠이고, 바람직한 쇼어 경도 A의 범위는 쿠션층으로서 고무 또는 모드아크릴계 물질을 사용하는 경우에 30 내지 90이다.The following material features are required for the cushion layer 4. For example, the preferred range of flexural modulus is from 1.2 x 10 3 to 9.0 x 10 3 kg / cm 2 when using foam as the cushion layer, and the preferred Shore hardness A ranges from rubber or modacrylic material as the cushion layer. 30 to 90 when used.

쿠션층 (4)용 물질의 구체적인 예로는 아크릴계 수지, 합성 고무 및 발포체가 있다.Specific examples of the material for the cushion layer 4 include acrylic resins, synthetic rubbers and foams.

이러한 구조에 의해, 쿠션층 (4)과 지침 (6) 사이에 가해지는 압력 (압력에 의한 하중)은 0.3 내지 0.5 ㎏/㎠ 범위일 수 있다. 두께는 바람직하게는 300 ㎛ 내지 500 ㎛ 범위이다. 300 ㎛ 미만인 경우에 압력에 의한 하중은 과부하되고, 500 ㎛를 넘는 경우에 쿠션층 자체를 취급하기가 어렵게 된다.With this structure, the pressure (load under pressure) applied between the cushion layer 4 and the guide 6 can be in the range of 0.3 to 0.5 kg / cm 2. The thickness is preferably in the range from 300 μm to 500 μm. If it is less than 300 m, the load due to pressure is overloaded, and if it is more than 500 m, it becomes difficult to handle the cushion layer itself.

연마층 (3)을 쿠션층 (4)에 적층시키는 방법으로서, 감압 접착 또는 접합을 이용하는 방법, 예를 들어 핫멜트 (hotmelt)를 사용할 수 있지만 이에 제한되는 것은 아니다.As a method of laminating the abrasive layer 3 on the cushion layer 4, a method using pressure bonding or bonding, for example, hotmelt, can be used, but is not limited thereto.

본 발명의 연마재는 연마층 (3) 및 쿠션층 (4)으로 이루어진 2층 구조이다. 따라서, 본 발명의 연마재는 적절한 강성도, 탄성 및 완충 작용을 갖는다. 또한, 본 발명은 독립적으로 연마층 (3) 및 쿠션층 (4)을 제공하고, 이들을 탐침 카드에 요구되는 특징 또는 사양에 따라 조합하므로써 바람직한 연마재를 효과적으로 제공할 수 있다.The abrasive of the present invention has a two-layer structure consisting of an abrasive layer 3 and a cushion layer 4. Thus, the abrasive of the present invention has an appropriate stiffness, elasticity and a cushioning action. In addition, the present invention can provide the abrasive layer 3 and the cushion layer 4 independently, and combine them according to the features or specifications required for the probe card, thereby effectively providing the desired abrasive.

본 발명은 하기 실시예에 의해 더욱 상세히 설명될 것이며, 이것은 본 발명을 제한하는 것으로 의도되지 않는다.The invention will be explained in more detail by the following examples, which are not intended to limit the invention.

연마층으로서 초미세 필름 연마제 (스미또모 3M사 (Sumitomo 3M Ltd.)에 의해 제조된 임페리얼 랩핑 필름 (Imperial Lapping Film (상표명)) (산화알루미늄 0.0254 mm (1 mil) 1 ㎛형 DH))를 제공하였으며, 이것은 평균 직경 0.1 ㎛의 산화알루미늄으로 이루어진 연마 입자와 폴리에스테르 수지를 4:1의 비율로 배합시키고, 생성된 혼합 물질을 슬러리 코팅에 의해 두께 24 ㎛의 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름에 도포하여 제조되었다. 또한, 주성분으로서 아크릴계 수지를 함유하고 적절한 강성도를 가지며 쇼어 경도가 50인 두께 1.0 mm의 구조적 접합 테이프 (스미또모 3M사에 의해 제조된 VHB Y-4910J (상표명))를 쿠션층으로서 제공하였다. 초미세 필름 연마제 및 구조적 접합 테이프를 적층시키고 압착시켜 본 발명의 연마재를 제조하였다.Provided as an abrasive layer an ultra fine film abrasive (Imperial Lapping Film (trade name) manufactured by Sumitomo 3M Ltd.) (aluminum oxide 0.0254 mm (1 mil) 1 μm DH)) This was prepared by combining abrasive particles composed of aluminum oxide with an average diameter of 0.1 μm and a polyester resin in a ratio of 4: 1, and applying the resulting mixed material to a polyethylene terephthalate film having a thickness of 24 μm by slurry coating. . Also provided as a cushion layer was a structural bonding tape (VHB Y-4910J (trade name) manufactured by Sumitomo 3M) having a thickness of 1.0 mm containing an acrylic resin as a main component and having an appropriate stiffness and a Shore hardness of 50. The abrasive of the present invention was prepared by laminating and compressing the ultrafine film abrasive and the structural bonding tape.

이 연마재를 사용하여 탐침의 지침을 랩핑하고 세정하였다. 그 결과, 연마층의 요부와 철부 사이의 간격이 0.35 ㎛ 미만으로 감소되었으며, 압력 하중이 약 0.3 ㎏f로 감소될 수 있었다.This abrasive was used to wrap and clean the instructions of the probe. As a result, the gap between the recessed portion and the convex portion of the polishing layer was reduced to less than 0.35 탆, and the pressure load could be reduced to about 0.3 kgf.

탐침 카드의 지침을 랩핑 및 세정하기 위해 상기 연마재를 사용하므로써 지침 형상의 변형 없이 지침을 랩핑 및 세정하여 지침의 마멸을 경감시키고, 탐침 수명을 연장시키고, 접촉 저항을 경감시키는 것이 가능하였다.By using the abrasive to wrap and clean the instructions of the probe card, it was possible to wrap and clean the instructions without modifying the shape of the instructions to reduce the wear of the instructions, extend the probe life, and reduce the contact resistance.

상기 설명으로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명은 탐침의 지침에 부착되어 있는 이물질을 효과적으로 제거하고 지침을 손상 및 변형으로부터 효율적으로 보호하고 탐침 수명을 연장시킬 수 있는 탐침 카드의 지침용 연마재를 제공할 수 있다.As can be seen from the above description, the present invention provides a guide card abrasive of the probe card which can effectively remove the foreign matter attached to the guide of the probe, effectively protect the guide from damage and deformation, and prolong the probe life. Can be.

Claims (3)

기재에 도포된 마이크로 분말화 연마 입자층을 포함하는 연마층, 및An abrasive layer comprising a micropowdered abrasive grain layer applied to a substrate, and 완충 작용 및 탄성을 갖는 쿠션층Cushion layer having a cushioning action and elasticity 을 포함하며, 상기 쿠션층이 상기 연마층의 기재에 도포되어 있는 것인 탐침 카드의 지침 (needle point)용 연마재.Includes, wherein the cushion layer is applied to the substrate of the abrasive layer abrasive for the needle point (needle point) of the probe card. 제1항에 있어서, 탐침 카드의 지침과 접촉하는 연마층 표면이 탐침 카드의 지침 패턴에 상응하는 불규칙한 패턴을 갖는 연마재.The abrasive according to claim 1, wherein the abrasive layer surface in contact with the instructions of the probe card has an irregular pattern corresponding to the instructions pattern of the probe card. 제1 또는 2항에 있어서, 쿠션층이 모드아크릴계 수지로 이루어진 연마재.The abrasive according to claim 1 or 2, wherein the cushion layer is made of a modacrylic resin.
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