KR100502157B1 - Mask for manufacturing color filter substrate of LCD device - Google Patents

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KR100502157B1 KR1019980010858A KR19980010858A KR100502157B1 KR 100502157 B1 KR100502157 B1 KR 100502157B1 KR 1019980010858 A KR1019980010858 A KR 1019980010858A KR 19980010858 A KR19980010858 A KR 19980010858A KR 100502157 B1 KR100502157 B1 KR 100502157B1
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Abstract

본 발명은 LCD 장치의 칼라 필터 기판 제조용 마스크에 관한 것으로, 본 발명에서는 스웰링 현상을 고려하여 디자인된 마스킹 패턴층을 통해, 유기 블랙 매트릭스의 패턴을 형성하기 위한 노광공정이 진행될 때, 스웰링 현상에 의한 자연스런 평탄화가 달성될 수 있도록 함으로써, 유기 블랙 매트릭스의 평탄화를 복잡한 디포커싱 작업 없이도 간편하게 달성시킬 수 있다.The present invention relates to a mask for manufacturing a color filter substrate of an LCD device, and in the present invention, a swelling phenomenon when an exposure process for forming a pattern of an organic black matrix is performed through a masking pattern layer designed in consideration of a swelling phenomenon. By allowing natural flattening by to be achieved, flattening of the organic black matrix can be achieved simply without complicated defocusing operations.

Description

엘씨디 장치의 칼라 필터 기판 제조용 마스크Mask for manufacturing color filter substrate of LCD device

본 발명은 엘씨디(LCD) 장치의 칼라 필터 기판 제조용 마스크에 관한 것으로, 좀더 상세하게는 유기 블랙 매트릭스의 스웰링 현상을 고려하여 디자인된 마스킹 패턴층을 통해, 노광 공정을 진행시킴으로써, 복잡한 디포커싱 작업을 진행시키지 않고서도 간편하게 유기 블랙 매트릭스를 평탄화할 수 있도록 하는 LCD 장치의 칼라 필터 기판 제조용 마스크에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a mask for manufacturing a color filter substrate of an LCD device, and more particularly, to a complex defocusing operation by performing an exposure process through a masking pattern layer designed in consideration of a swelling phenomenon of an organic black matrix. The present invention relates to a mask for manufacturing a color filter substrate of an LCD device, which allows the organic black matrix to be flattened easily without proceeding.

근래에 고품위 TV(high definition TV) 등의 새로운 첨단 영상기기가 개발됨에 따라 브라운관(CRT) 대신에 LCD, ELD(electro luminescence display), VFD(vacuum fluorescence display), PDP(plasma display panel) 등과 같은 평판 표시기에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다.In recent years, as new advanced imaging devices such as high definition TVs have been developed, flat panels such as LCD, electro luminescence display (ELD), vacuum fluorescence display (VFD), and plasma display panel (PDP) are used instead of CRT. There is active research on indicators.

그중에서도 LCD는 평판 표시기의 대표적인 기술로써 박형, 저가, 저소비 전력 구동이 가능할 뿐 아니라 집적회로와의 정합성이 좋은 등의 특징을 가져 랩 톱 컴퓨터(lap top computer)나 포켓 컴퓨터(pocket computer)의 표시외에 차량 적재용, 칼라 TV의 화상용으로서도 그 용도를 급속하게 확대하고 있다.Among them, LCD is a representative technology of flat panel display. It is not only capable of driving thin, low cost, low power consumption, but also good matching with integrated circuit, so that besides the display of lap top computer or pocket computer Its use is rapidly expanding as a vehicle loading and a color TV image.

이러한 특성을 갖는 LCD는 상부기판인 C/F(color filter) 기판과 하부기판인 TFT 기판이 서로 대향되도록 배치되고, 그 사이에 유전 이방성을 갖는 액정이 삽입되는 구조를 가져, 화소 선택용 어드레스(address) 배선(예컨대, 데이터 구동회로 및 게이트 구동회로)을 통해 수십만개의 화소에 부가된 TFT를 스위칭 동작시켜 해당 화소에 전압을 인가해 주는 방식으로 구동되게 된다.The LCD having such characteristics has a structure in which a C / F (color filter) substrate as an upper substrate and a TFT substrate as a lower substrate are disposed to face each other, and a liquid crystal having dielectric anisotropy is inserted therebetween. It is driven by switching a TFT added to hundreds of thousands of pixels through an address) wiring (for example, a data driving circuit and a gate driving circuit) to apply a voltage to the corresponding pixel.

이때, C/F 기판의 상부에는 칼라 필터층이 배치되며, 이러한 칼라 필터층은 염색법, 안료 분산법, 코팅법, 전착법 등의 여러 가지 방법으로 제조되게 된다.In this case, a color filter layer is disposed on the C / F substrate, and the color filter layer is manufactured by various methods such as a dyeing method, a pigment dispersion method, a coating method, and an electrodeposition method.

통상, 이러한 칼라 필터층을 제조할 때, R,G,B 칼라 패턴들을 포함한 C/F 기판의 상부에는 R,G,B 칼라 패턴들로 유입되는 빛을 차단하기 위한 유기 블랙 매트릭스가 배치되는 것이 일반적이다.In general, when manufacturing such a color filter layer, an organic black matrix is generally disposed on a C / F substrate including R, G, and B color patterns to block light flowing into the R, G, and B color patterns. to be.

그런데, 종래의 제조방법을 이용하여 상술한 유기 블랙 매트릭스를 형성하는 경우, C/F 기판상에서 유기 블랙 매트릭스를 평탄화하는 일은 결코 쉬운일이 아니며, 이를 이루기 위해서는 여러번의 디포커싱(Defocusing) 작업을 반복적으로 시행하여야 하는 어려움이 있다.However, in the case of forming the organic black matrix described above using a conventional manufacturing method, it is not easy to planarize the organic black matrix on a C / F substrate, and to accomplish this, a plurality of defocusing operations are repeatedly performed. There is a difficulty to be implemented.

이러한 결과, 생산라인의 작업효율이 현저히 저하할 뿐만 아니라, 제품의 생산량도 현저히 저하하는 문제점이 초래된다.As a result, not only the work efficiency of the production line is remarkably lowered, but also the problem that the yield of the product is remarkably lowered is caused.

따라서, 본 발명의 목적은 패턴층의 슬릿 간격이 스웰링 현상(Swelling appearance)을 고려하여 디자인된 마스크를 구비하고, 이를 통해, 유기 블랙 매트릭스의 패턴을 형성하기 위한 노광공정이 진행될 때, 스웰링 현상에 의한 자연스런 평탄화가 달성되도록 함으로써, 유기 블랙 매트릭스의 평탄화가 복잡한 디포커싱 작업 없이도 간편하게 이루어질 수 있도록 하는 데 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a mask in which the slit spacing of the pattern layer is designed in consideration of the swelling appearance, and through this, when the exposure process for forming the pattern of the organic black matrix is performed, swelling The natural flattening by the phenomenon is achieved, so that the flattening of the organic black matrix can be easily performed without complicated defocusing operation.

본 발명의 다른 목적은 이러한 마스크의 이용을 통해, 유기 블랙 매트릭스의 평탄화를 간편하게 달성시킴으로써, 전체적인 제품의 생산효율 및 생산량을 현저히 향상시키는 데 있다.Another object of the present invention is to simply achieve the flattening of the organic black matrix through the use of such a mask, thereby remarkably improving the overall production efficiency and yield.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 기판상에 제1 간격으로 이격되도록 형성된 칼라 패턴들을 커버하고 있는 유기 블랙 매트릭스를 노광시키기 위한 LCD 장치의 칼라 필터 기판 제조용 마스크에 있어서, 상기 칼라 패턴들과 일정간격 이격되도록 상부에 배치되고, 관통 슬릿을 갖는 베이스 패널과; 상기 칼라 패턴들과 마주하는 상기 베이스 패널의 일측면에 형성되고, 상기 관통 슬릿의 일부가 차단되도록 제2 간격으로 이격된 마스킹 패턴층들을 포함하며, 상기 마스킹 패턴층들간의 상기 제2 간격은 상기 칼라 패턴들 간의 상기 제1 간격보다 작은 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a mask for manufacturing a color filter substrate of an LCD device for exposing an organic black matrix covering color patterns spaced at a first interval on a substrate, wherein the color patterns and A base panel disposed at an upper portion to be spaced apart by a predetermined interval and having a through slit; Masking pattern layers formed on one side of the base panel facing the color patterns and spaced apart at a second interval such that a portion of the through slit is blocked, and the second gap between the masking pattern layers is And smaller than the first gap between the color patterns.

바람직하게, 상기 마스킹 패턴층들 간의 제2 간격은 0.4μm ~ 0.6μm인 것을 특징으로 한다.Preferably, the second interval between the masking pattern layer is characterized in that the 0.4μm ~ 0.6μm.

이에 따라, 본 발명에서는 유기 블랙 매트릭스의 평탄화가 복잡한 디포커싱 작업 없이도 간편하게 달성된다.Accordingly, in the present invention, the planarization of the organic black matrix is easily achieved without complicated defocusing operation.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 LCD 장치의 칼라 필터 기판 제조용 마스크를 좀더 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a mask for manufacturing a color filter substrate of an LCD device according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 칼라 필터 기판 제조용 마스크(10)는 관통 슬릿(13)을 갖는 베이스 패널(11)과, 베이스 패널(11)의 일측면에 형성되고, 관통 슬릿(13)의 일부가 차단되도록 제2 간격(a)으로 이격된 마스킹 패턴층들(12)을 포함한다.As shown in FIG. 1, the mask 10 for manufacturing a color filter substrate according to the present invention is formed on a base panel 11 having a through slit 13 and on one side of the base panel 11, and a through slit ( 13, the masking pattern layers 12 spaced apart from each other by the second gap a to be blocked.

이때, 베이스 패널(11)은 기판(1)의 상부에 형성된 R,G,B 칼라 패턴들(2)을 커버하고 있는 유기 블랙 매트릭스가 양호한 패턴을 형성하며 노광될 수 있도록 R,G,B 칼라 패턴들(2)과 일정 간격 이격되어 그것의 상부에 배치된다.At this time, the base panel 11 has R, G, and B colors so that the organic black matrix covering the R, G, and B color patterns 2 formed on the substrate 1 can be exposed while forming a good pattern. The patterns 2 are spaced apart from each other at a predetermined interval and disposed thereon.

여기서, 마스킹 패턴층들(12) 간의 제2 간격(a)은 R,G,B 칼라 패턴들(2) 간의 제1 간격(b) 보다 작게 형성된다.Here, the second spacing a between the masking pattern layers 12 is smaller than the first spacing b between the R, G, and B color patterns 2.

이는 본 발명의 요지를 차지하는 부분으로써, 본 발명의 마스크(10)가 이러한 구성을 이룰 경우, 후술하는 유기 블랙 매트릭스의 노광 공정이 진행될 때, 유기 블랙 매트릭스 패턴은 자신의 양 측면에서 이루어지는 스웰링 현상에 의해 자연스럽게 평탄화될 수 있다.This is part of the gist of the present invention, and when the mask 10 of the present invention has such a configuration, the swelling phenomenon in which the organic black matrix pattern is formed on both sides thereof when the exposure process of the organic black matrix described later is performed. It can be naturally flattened by.

이때, 바람직하게, 마스킹 패턴층들(12) 간의 제2 간격(a)은 0.4μm ~ 0.6μm이다.At this time, preferably, the second interval a between the masking pattern layers 12 is 0.4 μm to 0.6 μm.

이하, 상술한 구성의 마스크를 이용한 본 발명의 다른 측면에 따른 LCD 장치의 칼라 필터 기판을 제조 방법을 도 2a 내지 도 2d를 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a color filter substrate of an LCD device according to another aspect of the present invention using a mask having the above-described configuration will be described in detail with reference to FIGS. 2A to 2D.

먼저, 도 2a에 도시된 바와 같이, 소정의 공정 단계, 예컨대, 코팅 단계, 노광 단계를 순차적으로 진행하여 기판(1)의 상부에 R,G,B 칼라 패턴들(2)을 차례로 형성한다.First, as shown in FIG. 2A, predetermined process steps, for example, a coating step and an exposure step are sequentially performed to form R, G, and B color patterns 2 on the substrate 1 in order.

여기서, 통상, 노광 공정을 위한 자외선 광이 임의의 패턴층에 접촉되면, 그 패턴층은 자신의 양측부가 부풀어 오르는 스웰링 현상을 일으키는게 일반적이기 때문에, 상술한 과정에서도 각 R,G,B 칼라 패턴들(2)로 노광 공정이 진행되면, 각 R,G,B 칼라 패턴들(2)은 스웰링 현상을 일으켜, 양 측부가 제3 간격(c) 만큼 부풀어오르게 된다.In general, when ultraviolet light for an exposure process comes into contact with an arbitrary pattern layer, the pattern layer generally causes swelling phenomenon in which both sides thereof swell. When the exposure process is performed on the patterns 2, each of the R, G, and B color patterns 2 causes a swelling phenomenon, and both sides thereof are inflated by the third interval c.

이어서, 도 2b에 도시된 바와 같이, 상술한 R,G,B 칼라 패턴들(2)을 포함한 C/F 기판(1)의 상부에 빛 차단을 위한 유기 블랙 매트릭스(20)를 도포한 후, 도 2c에 도시된 바와 같이, 노광 공정 및 현상 공정을 진행시켜 유기 블랙 매트릭스(20)를 패터닝한다.Subsequently, as shown in FIG. 2B, after applying the organic black matrix 20 for blocking light on the C / F substrate 1 including the R, G, and B color patterns 2 described above, As shown in FIG. 2C, the exposure process and the development process are performed to pattern the organic black matrix 20.

이때, 바람직하게, 유기 블랙 매트릭스는 차광성이 우수한 블랙 카본 성분을 포함하기 때문에, 자신에게 부여된 차광기능을 원할히 수행할 수 있다.At this time, preferably, since the organic black matrix includes a black carbon component having excellent light shielding properties, it is possible to smoothly perform the light shielding function imparted to itself.

이러한 과정에서, 상술한 본 발명의 마스크(10)가 사용된다.In this process, the mask 10 of the present invention described above is used.

이 과정을 살펴보면, 먼저, 외부의 자외선 광원(미도시)으로부터 출력된 자외선 광은 베이스 패널(11)의 관통 슬릿(13)을 통과하여 유기 블랙 매트릭스(20)에 이르게 되는데, 이때, 진행되는 노광 공정이 네가티브 공정인 경우, 자외선 광과 접촉된 유기 블랙 매트릭스(20)는 추후에 현상 공정이 진행될 때, 잔류하게 되고, 자외선 광과 접촉되지 않은 유기 블랙 매트릭스(20)는 추후에 현상 공정이 진행될 때 제거되게 된다.Looking at this process, first, the ultraviolet light output from the external ultraviolet light source (not shown) passes through the through slit 13 of the base panel 11 to reach the organic black matrix 20, at this time, the exposure that proceeds If the process is a negative process, the organic black matrix 20 in contact with the ultraviolet light will remain when the development process is performed later, and the organic black matrix 20 not in contact with the ultraviolet light will be developed later. When it is removed.

이때, 상술한 도 1의 설명에서와 같이, 베이스 패널(11)의 관통 슬릿(13)을 차단하고 있는 마스킹 패턴층들(12) 간의 제2 간격(a)은 R,G,B 칼라 패턴들(2) 간의 제1 간격(b) 보다 작게 형성되기 때문에, 자외선 광은 R,G,B 칼라 패턴들(2)의 사이를 채우고 있는 유기 블랙 매트릭스(20)의 일부하고만 접촉되게 되고, 나머지 일부하고는 접촉되지 않음으로써, 현상 공정 후, 유기 블랙 매트릭스 패턴들(21)이 도 2d에 도시된 바와 같이, R,G,B 칼라 패턴들(2)의 사이에 헐겁게 잔류하도록 한다.At this time, as described above in FIG. 1, the second gap a between the masking pattern layers 12 blocking the through slit 13 of the base panel 11 is R, G, B color patterns. Because it is formed smaller than the first spacing b between (2), ultraviolet light is brought into contact with only a part of the organic black matrix 20 filling between the R, G, and B color patterns 2, and the rest By not contacting in part, after the developing process, the organic black matrix patterns 21 loosely remain between the R, G, and B color patterns 2, as shown in FIG. 2D.

여기서, 상술한 바와 같이, 노광 공정을 위한 자외선 광이 임의의 패턴층에 접촉되면, 그 패턴층은 자신의 양측부가 부풀어 오르는 스웰링 현상을 일으키는게 일반적이기 때문에, 상술한 과정에서도 유기 블랙 매트릭스(20)로 노광 공정이 진행되면, 유기 블랙 매트릭스 패턴들(21)은 스웰링 현상을 일으켜, 양 측부가 부풀어오르게 되고, 그 결과, 도 2d에 도시된 바와 같이, 유기 블랙 매트릭스 패턴들(21)의 스웰링된 영역(23)은 헐거워진 공간을 채우게 됨으로써, 유기 블랙 매트릭스(20)의 자연스런 평탄화를 달성시키게 된다.Here, as described above, when the ultraviolet light for the exposure process is in contact with an arbitrary pattern layer, since the pattern layer generally causes a swelling phenomenon in which both sides thereof swell, the organic black matrix ( When the exposure process proceeds to 20, the organic black matrix patterns 21 cause a swelling phenomenon, and both sides thereof swell, and as a result, as shown in FIG. 2D, the organic black matrix patterns 21 are formed. The swelled region of 23 fills the loose space, thereby achieving a natural planarization of the organic black matrix 20.

종래의 경우, 유기 블랙 매트릭스를 평탄화하기 위해서는 여러번의 디포커싱 작업을 반복적으로 시행하여야 함으로써, 전체적인 제품의 생산성이 저하되는 문제점이 있었다.In the related art, in order to planarize the organic black matrix, a plurality of defocusing operations have to be repeatedly performed, thereby lowering the overall product productivity.

그러나, 본 발명의 경우, 상술한 바와 같이, 유기 블랙 매트릭스(20)의 스웰링 현상을 고려하여 디자인된 마스킹 패턴층들(12)을 통해, 노광 공정이 진행되어, 유기 블랙 매트릭스(20)의 자연스런 평탄화가 유도되기 때문에, 복잡한 디포커싱 작업을 진행시키지 않고서도 간편하게 유기 블랙 매트릭스(20)를 평탄화할 수 있다. 그 결과, 전체적인 제품의 생산성은 현저히 향상된다.However, in the case of the present invention, as described above, through the masking pattern layers 12 designed in consideration of the swelling phenomenon of the organic black matrix 20, an exposure process proceeds, Since natural planarization is induced, it is possible to simply planarize the organic black matrix 20 without proceeding with complicated defocusing operation. As a result, the overall product productivity is significantly improved.

계속해서, 상술한 유기 블랙 매트릭스(20)로 현상 공정이 진행됨으로써, 최종의 유기 블랙 매트릭스 패턴들(21)의 형성이 완료된다. 이때, 유기 블랙 매트릭스 패턴들(21)의 저부에는 상술한 노광 공정에 의해 제거되지 않은 유기 블랙 매트릭스 잔류 패턴들(22)이 배치되어 R,G,B 칼라 패턴들(2)의 사이를 충진시킴으로써, R,G,B 칼라 패턴들(2)에 대한 차광성을 보강한다.Subsequently, the development process proceeds to the organic black matrix 20 described above, whereby formation of the final organic black matrix patterns 21 is completed. At this time, organic black matrix residual patterns 22 which are not removed by the above-described exposure process are disposed at the bottom of the organic black matrix patterns 21 to fill the gaps between the R, G, and B color patterns 2. It enhances the light shielding property on the R, G, and B color patterns 2.

이후, 액정 구동을 위한 전압을 인가시켜 주기 위하여, 유기 블랙 매트릭스 패턴들(21)을 포함한 R,G,B 칼라 패턴들(2)의 상부에 투명전극(미도시)을 일정 두께로 형성해 줌으로써, 칼라 필터층의 제조를 완료한다.Subsequently, in order to apply a voltage for driving the liquid crystal, a transparent electrode (not shown) is formed on the R, G, and B color patterns 2 including the organic black matrix patterns 21 to a predetermined thickness. The preparation of the color filter layer is completed.

이와 같이, 본 발명에서는 유기 블랙 매트릭스의 스웰링 현상을 고려하여 디자인된 마스킹 패턴층을 통해, 노광 공정을 진행시킴으로써, 복잡한 디포커싱 작업을 진행시키지 않고서도 간편하게 유기 블랙 매트릭스를 평탄화할 수 있다.As described above, in the present invention, through the masking pattern layer designed in consideration of the swelling phenomenon of the organic black matrix, the organic black matrix can be simply planarized without performing a complicated defocusing operation.

이러한 본 발명은 생산라인에서 제조되어지는 전 기종의 LCD 장치에서 전반적으로 유용한 효과를 나타낸다.The present invention has an overall useful effect in all kinds of LCD devices to be produced in the production line.

그리고, 본 발명의 특정한 실시예가 설명되고 도시되었지만 본 발명이 당업자에 의해 다양하게 변형되어 실시될 가능성이 있는 것은 자명한 일이다.And while certain embodiments of the invention have been described and illustrated, it will be apparent that the invention may be embodied in various modifications by those skilled in the art.

이와 같은 변형된 실시예들은 본 발명의 기술적사상이나 관점으로부터 개별적으로 이해되어서는 안되며 이와 같은 변형된 실시예들은 본 발명의 첨부된 특허청구의 범위안에 속한다 해야 할 것이다.Such modified embodiments should not be understood individually from the technical spirit or point of view of the present invention and such modified embodiments should fall within the scope of the appended claims of the present invention.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 LCD 장치의 칼라 필터 기판 제조용 마스크에서는 스웰링 현상을 고려하여 디자인된 마스킹 패턴층을 통해, 유기 블랙 매트릭스의 패턴을 형성하기 위한 노광공정이 진행될 때, 스웰링 현상에 의한 자연스런 평탄화가 달성될 수 있도록 함으로써, 유기 블랙 매트릭스의 평탄화를 복잡한 디포커싱 작업 없이도 간편하게 달성시킬 수 있으며, 또한, 전체적인 제품의 생산효율 및 생산량을 현저히 향상시킬 수 있다. As described in detail above, in the mask for manufacturing a color filter substrate of the LCD device according to the present invention, when the exposure process for forming the pattern of the organic black matrix is performed through the masking pattern layer designed in consideration of the swelling phenomenon, the swell By allowing the natural flattening by the ring phenomenon to be achieved, the flattening of the organic black matrix can be easily achieved without complicated defocusing operation, and the production efficiency and yield of the overall product can be significantly improved.

도 1은 본 발명에 따른 LCD 장치의 칼라 필터 기판 제조용 마스크의 형상을 개략적으로 도시한 단면도.1 is a cross-sectional view schematically showing the shape of a mask for manufacturing a color filter substrate of an LCD device according to the present invention.

도 2a 내지 도 2d는 본 발명에 따른 LCD 장치의 칼라 필터 기판 제조 방법을 개략적으로 도시한 단면 공정도.2A to 2D are cross-sectional process diagrams schematically showing a method for manufacturing a color filter substrate of an LCD device according to the present invention.

Claims (2)

기판상에 제1 간격으로 이격되도록 형성된 칼라 패턴들을 커버하고 있는 유기 블랙 매트릭스를 노광시키기 위한 LCD 장치의 칼라 필터 기판 제조용 마스크에 있어서, A mask for manufacturing a color filter substrate of an LCD device for exposing an organic black matrix covering color patterns formed to be spaced apart at a first interval on a substrate, wherein 상기 칼라 패턴들과 일정 간격 이격되도록 상부에 배치되고, 관통 슬릿을 갖는 베이스 패널과; A base panel disposed at an upper portion to be spaced apart from the collar patterns at a predetermined interval and having a through slit; 상기 칼라 패턴들과 마주하는 상기 베이스 패널의 일측면에 형성되고, 상기 관통 슬릿의 일부가 차단되도록 제2 간격으로 이격된 마스킹 패턴층들을 포함하며, Masking pattern layers formed on one side of the base panel facing the color patterns and spaced apart at a second interval so that a part of the through slit is blocked; 상기 마스킹 패턴층들 간의 상기 제2 간격은 상기 칼라 패턴들 간의 상기 제1 간격보다 작은 것을 특징으로 하는 LCD 장치의 칼라 필터 기판 제조용 마스크.And the second gap between the masking pattern layers is smaller than the first gap between the color patterns. 제 1 항에 있어서, 상기 제2 간격은 0.4μm ~ 0.6μm인 것을 특징으로 하는 LCD 장치의 칼라 필터 기판 제조용 마스크.The mask for manufacturing a color filter substrate of an LCD device according to claim 1, wherein the second interval is 0.4 µm to 0.6 µm.
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