KR100500746B1 - A cleansing fabrics, and a process of preparing the same - Google Patents
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Abstract
본 발명은 오염물 제거용 직물 및 그의 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명의 직물은 경사 및 위사가 0.001∼0.2 데니어의 초극세사(단사 파브릴)들로 이루어진 합성섬유 멀티필라멘트 또는 그의 가연 가공사인 직물의 표면과 이면 중 어느 하나 이상에 엠보싱 가공에 의한 요철무늬가 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a contaminant-removing fabric and a method for manufacturing the same, wherein the fabric of the present invention is a surface of a fabric of synthetic fiber multifilament made of ultrafine yarns (single-fabric) of warp and weft yarn or single combustible processed yarn thereof. It is characterized in that the uneven pattern by embossing is formed in at least one of the and back surface.
본 발명의 오염물 제거용 직물은 오염물 제거능력이 매우 우수하고, 촉감이 부드럽고, 오염물 제거 후 오염제거 대상체의 표면을 손상시키지도 않아 피부에 잔존하는 화장품 크린징용 직물이나 정밀제품 및 광학소자등의 외이핑용 직물 등으로 유용하다.The contaminant removing fabric of the present invention is very excellent in removing contaminants, has a soft touch, and does not damage the surface of the decontamination object after removing the contaminants, and is used for external wipes such as cosmetic cleansing fabrics or precision products and optical elements remaining on the skin. It is useful as a fabric.
Description
본 발명은 오염물 제거용 직물(Cleansing Fabric) 및 그의 제조 방법에 관한것으로서, 보다 구체적으로는 오염물 제거 성능이 우수하고, 촉감이 부드럽고, 오염물제거 대상체의 표면 손상을 방지 할수 있어서 피부에 남은 화장품을 제거하는 화장용 세안포나 광학소자 및 광학저장매체등의 와이핑용 직물로 특히 유용한 직물 및 그의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a cleansing fabric (Cleansing Fabric) and a method for manufacturing the same, more specifically, excellent in removing the contaminants, soft to the touch, to prevent surface damage of the decontamination object to remove the cosmetics remaining on the skin The present invention relates to a fabric particularly useful as a fabric for wiping, such as a cosmetic cleansing cloth, an optical element and an optical storage medium, and a manufacturing method thereof.
오염물 제거용 직물에 대한 종래 기술로서 대한민국 공개특허 제1994-14987호 에서는 고수축성 폴리에스테르사와 2성분 폴리에스테르 복합사를 공기교락시킨 원사를 위사로 사용하여 청소용 폴리에스테르 직물을 제조하는 방법을 제안하고 있다. 그러나 상기의 방법으로 제조된 폴리에스테르 직물은 경위사를 구성하는 모노필라멘트의 단사섬도가 0.3 데니어를 초과하기 때문에 오염물 제거성능과 촉감이 저하되는 문제가 있었다.As a conventional technology for the fabric for removing contaminants, Korean Patent Laid-Open Publication No. 1994-1987 proposes a method for manufacturing a cleaning polyester fabric using a yarn which is air-entangled with a highly shrinkable polyester yarn and a two-component polyester composite yarn as a weft yarn. have. However, the polyester fabric prepared by the above method has a problem in that the monofilament of the monofilament constituting the weft yarn exceeds 0.3 denier, thereby degrading pollutant removal performance and feel.
한편, 일본 공개 특허 제2003-95868호에서는 단사섬도가 0.5 dtex 이하인 극세섬유를 표면적 대비 20%이상 함유하는 부직포인 화장용 와이퍼(Wiper)를 제안하고 있다.On the other hand, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2003-95868 proposes a cosmetic wiper which is a nonwoven fabric containing 20% or more of the ultrafine fibers having a single yarn fineness of 0.5 dtex or less relative to the surface area.
그러나 상기의 화장용 와이퍼는 직물이 아닌 부직포이기 때문에 장기간 사용시 형태가 변형되어, 다시 말해 섬유밀도가 불균일 해져, 오염물 제거성능이 크게 저하되는 문제가 있었다.However, since the cosmetic wiper is a non-woven fabric rather than a fabric, the shape is deformed when used for a long time, that is, the fiber density becomes non-uniform, resulting in a large deterioration of the dirt removal performance.
본 발명의 목적은 이와 같은 종래 문제점들을 해결함으로서 정밀제품 및 광학소자등의 청소용 직물이나 화장용 크린징 직물등으로 유용한 오염물 제거용 직물을 제공하기 위한 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a fabric for removing contaminants useful for cleaning fabrics or cosmetic cleansing fabrics such as precision products and optical devices by solving such conventional problems.
본 발명은 오염물 제거 성능이 우수함과 동시에 촉감이 부드럽고 오염물 제거 대상체의 표면을 손상시키지 않아 화장용 크린징 직물이나 정밀제품 및 광학소자등의 와이핑용 직물등에 특히 유용한 오염물 제거용 직물을 제공하고자 한다. The present invention is to provide a contaminant-removing fabric, particularly useful for cosmetic cleansing fabrics, wiping fabrics such as precision products and optical devices, such as excellent in the removal of contaminants and soft to the touch and does not damage the surface of the decontamination object.
이와 같은 과제를 달성하기 위한 본 발명의 오염물 제거용 직물은, 경사 및 위사가 0.001∼0.2 데니어의 초극세사들로 이루어진 합성섬유 멀티필라멘트 또는 그의 가연 가공사인 직물에 있어서, 상기 직물의 표면과 이면 중 어느 하나 이상에 엠보싱 가공에 의한 요철무늬가 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.The contaminant removing fabric of the present invention for achieving the above object is a synthetic fiber multifilament made of ultra-fine yarn of 0.001 to 0.2 denier or a false twisted yarn thereof, the warp and weft yarn, any of the surface and the back surface of the fabric It is characterized in that the uneven pattern by embossing is formed in at least one.
또한, 본 발명은 해성분 용출 또는 분할 처리후 초극세사(단사 피브릴)의 단사섬도가 0.001∼0.2 데니어인 2성분 복합사로 이루어진 합성섬유 멀티필라멘트 또는 그의 가연 가공사를 경사 및 위사로 사용하여 직물을 제직하고, 제직된 직물을 알칼리 수용액에서 정련과 동시에 해성분을 용출하거나 분할 처리한 다음 염색하거나 제직된 직물을 염색한 다음 알칼리수용액에서 해성분을 용출하거나 분할 처리하고, 염색된 직물 요철 무늬를 갖는 요철 가공기로 엠보싱 처리하여 오염물 제거용 직물을 제조함을 특징으로 한다.In addition, the present invention uses a synthetic fiber multifilament made of a bicomponent composite yarn having a single yarn fineness of 0.001 to 0.2 denier or a false twisted yarn thereof as a warp and weft yarn after dissolving or dividing the sea component. The woven fabric is rinsed in an aqueous alkali solution and eluted or divided into sea components at the same time, and then dyed or dyed woven fabric and then eluted or divided into sea water in an alkaline aqueous solution, and the unevenness of the dyed fabric uneven pattern Embossing treatment with a processor, characterized in that for producing a fabric for removing contaminants.
이하, 본 발명을 상세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated in detail.
본 발명의 오염물 제거용 직물(이하 "본 발명의 직물"이라고 약칭한다)을 구성하는 경사 및 위사는 0.001~0.2 데니어의 초극세사(단사 피브릴)들로 이루어진 합성섬유 멀티 필라멘트 또는 그의 가연가공사 이다.The warp and weft yarn constituting the contaminant removing fabric (hereinafter abbreviated as "fabric of the present invention") is a synthetic fiber multifilament made of ultra-fine fibers (single-fiber fibrils) of 0.001 to 0.2 denier or its flammable work.
상기 초극세사(단사 피브릴)의 섬도가 0.005~0.05 데니어 인 것이 더욱 바람직하다.It is more preferable that the fineness of the said ultra-fine yarn (single yarn fibrils) is 0.005-0.05 denier.
상기 초극세사의 경사방향 밀도는 100,000본/인치 내지 1,000,000본/인치이고, 상기 초극세사의 위사방향 밀도는 50,000본/인치 내지 500,000본/인치이다.The inclined direction density of the ultra-fine yarn is 100,000 bones / inch to 1,000,000 bones / inch, and the weft direction density of the ultra microfibers is 50,000 bones / inch to 500,000 bones / inch.
상기 경사방향 밀도 및 위사방향 밀도가 상기 범위보다 낮으면 직물의 형태안정성이 저하되어 장기간 사용시 직물이 문드러지는 등의 문제가 발생 될 수 있고, 상기 범위를 초과하는 경우에는 제직등의 제조공정이 어렵게되고 제조원가도 상승하는 문제가 발생될 수도 있다.When the warp density and the weft direction density are lower than the above ranges, the shape stability of the fabric may be deteriorated, causing problems such as rubbing of the fabrics over long periods of use, and when exceeding the above ranges, manufacturing processes such as weaving may be difficult. In addition, manufacturing costs may also increase.
상기의 초극세사(단사 피브릴)은 섬도가 매우 낮아 자유도가 높아지게 되므로 이들을 충분히 파괴하기 위해서는 치밀한 조직으로 제직해야 한다. 따라서, 본 발명의 직물 조직은 평직, 주자직 또는 능직이거나, 평직, 주자직 또는 능직의 지조직과 문직의 무늬형성용 조직이 부분적으로 함께 사용된 조직이다. 보다 바람직하기로는 평직이 좋고, 반복구간이 짧은 능직도 사용 가능하다.Since the ultrafine yarn (single-fibrils) has very low fineness, the degree of freedom is high, and in order to destroy them sufficiently, it is necessary to weave a dense tissue. Therefore, the textile tissue of the present invention is a plain weave, runner or twill, or a tissue in which the plain tissue of the plain weave, runner or twill and the pattern forming tissue of the texture are used together. More preferably, the plain weave is good, and a twill weave with a short repeat section can be used.
종래 청소용 직물의 경우 오염물 제거 성능을 향상시키기 위해 주로 능직으로 제직되었으나, 본 발명의 직물은 평직 또는 반복구간이 짧은 능직인 경우가 보다 바람직하다.Conventional cleaning fabrics were mainly woven in twill to improve dirt removal performance, but the fabric of the present invention is more preferably a plain weave or a short twill weave.
경사 및/또는 위사로 앞에서 설명한 초극세사들로 이루어진 합성섬유 멀티필라멘트, 다시 말해 방사 및 연신후 가연 가공처리 되지 않는 원사를 사용할 수 있으나, 직물 조직상에서 경사와 위사가 서로 미끄러져 미짐현상이 나타나는 것을 방지하고 오염물 제거성능을 보다 개선하기 위하여 상기 합성섬유 멀티필라멘트를 가연 가공하여 제조한 가연 가공사를 경사 및/또는 위사로 사용하는 것이 더욱 바람직하다.Synthetic fiber multifilament made of the ultrafine yarns described above as warp and / or weft yarns, that is, yarns that are not flammable after spinning and stretching, may be used, but the warp and weft yarns may slip against each other in the fabric structure to prevent the appearance of undesired phenomenon. In order to further improve the pollutant removal performance, it is more preferable to use a twisted yarn manufactured by twisting the synthetic fiber multifilament as warp and / or weft yarn.
구체적으로, 경사로는 상기 가연 가공사를 사용하고 위사로는 가연처리 되지 않는 상기 합성섬유 멀티필라멘트를 사용하거나, 경사와 위사 모두에 상기 가연 가공사를 사용하는 것이 바람직하다.Specifically, it is preferable to use the twisted yarn as the warp yarn and to use the synthetic fiber multifilament that is not flammable as the weft yarn, or to use the twisted yarn as both the warp yarn and the weft yarn.
상기 가연 가공사는 2성분 복합사를 도 14와 같은 공정으로 가공하여 제조할수 있다.The false twisted yarn can be manufactured by processing a two-component composite yarn in the same process as in FIG.
상기 2성분 복합사는 해도형 복합사 또는 분할형 복합사 등이고, 상기 합성섬유 멀티필라멘트는 폴리에스테르 멀티필라멘트인 것이 가장 바람직하나, 그 소재를 특별하게 한정하는 것은 아니다.The two-component composite yarn is island-in-the-sea composite yarn or split composite yarn, and the synthetic fiber multifilament is most preferably polyester multifilament, but the material is not particularly limited.
한편, 본 발명의 직물은 그 표면 및/또는 이면에 요철무늬가 형성되어 있다.On the other hand, the woven fabric of the present invention is formed with an uneven pattern on the surface and / or back.
상기 요철무늬는 엠보싱 가공에 의해 형성된다.요철무늬를 형성하는 엠보싱 가공은 무늬모양이 식각된 엠보싱 로울러 사이로 상기의 직물을 통과시켜 주면서 가열 및 가압해 주는 방식으로 실시된다.이때, 엠보싱 압력은 100~300kgf, 엠보싱 온도는 13~150℃, 엠보싱 작업속도는 5~15m/분인 것이 바람직하다.상기 엠보싱 로울러는 경원기계 주식회사에서 제조한 제품등을 사용하며, 엠보싱 로울러의 직경은 20인치, 엠보싱 로울러의 폭은 62인치 수준인 것이 좋다.그러나, 본 발명에서는 엠보싱 가공 조건을 특별하게 한정하는 것은 아니다.The concave-convex pattern is formed by embossing. Embossing to form the concave-convex pattern is carried out by heating and pressurizing the fabric while passing the fabric between the etched embossed rollers. ~ 300kgf, embossing temperature is 13 ~ 150 ℃, the embossing work speed is preferably 5 ~ 15m / min. The embossing roller is a product manufactured by Kyungwon Machinery Co., Ltd., the diameter of the embossing roller 20 inches, embossing roller The width of is preferably about 62 inches. However, in the present invention, the embossing processing conditions are not particularly limited.
요철무늬가 도 9와 같이 서로 떨어진 상태로 반복되는 경우에는 서로 인접한 요철무늬간의 간격은 2~20㎜인 것이 심미감 및 형태안정성 개선에 보다 바람직하다.When the uneven pattern is repeated in a state separated from each other as shown in FIG. 9, it is more preferable that the spacing between the uneven patterns adjacent to each other is 2 to 20 mm to improve aesthetics and shape stability.
한편 요철무늬가 도 8과 같이 서로 붙은 상태로 반복되는 경우에는 1개의 요철무늬를 형성하는 선(Line)들 사이의 최대간격, 다시 말해 요철무늬의 최대폭은 2~20㎜인 것이 심미감 및 형태안정성 개선에 바람직하다.On the other hand, if the uneven pattern is repeated with each other as shown in Figure 8, the maximum spacing between the lines forming one uneven pattern, that is, the maximum width of the uneven pattern is 2 ~ 20㎜ aesthetics and shape It is preferable for improving stability.
본 발명의 직물은 상기와 같이 표면 및/또는 이면에 요철무늬가 형성되어 심미감이 향상됨과 동시에 직물의 조직점을 견고하게 잡아주어 조직의 형태 안정성이 양호하다.As the fabric of the present invention as described above, irregularities are formed on the surface and / or the back to improve the aesthetics and at the same time firmly hold the tissue point of the fabric is good morphological stability of the tissue.
한편, 본 발명의 직물은 심미감과 촉감 개선을 위해 그 표면이 마찰재로 표면가공 처리되어 있는 것이 더욱 바람직하다.On the other hand, the fabric of the present invention is more preferably surface-treated with a friction material in order to improve the aesthetics and feel.
상기 표면가공은 직물의 표면을 직물, 편물, 부직포, 피혁, 샌드페이퍼, 침포, 세라믹 재질, 금속, 종이, 목재등의 마찰재가 부착된 롤러, 원판 또는 에이프런으로 문질러 주는 방식으로 실시될 수 있다.The surface treatment may be performed by rubbing the surface of the fabric with a roller, a disc or an apron attached to a friction material such as fabric, knitted fabric, nonwoven fabric, leather, sandpaper, needle cloth, ceramic material, metal, paper, and wood.
마찰재로 표면가공 처리하면 본 발명의 직물의 초극세사(단사 피브릴)들은 경사에 평행한 방향의 외력 뿐만 아니라 경사와 수직인 방향의 외력도 동시에 받게 되어서 직물내에서 경위사 집합체로서 편중되어 분포하던 초극세사(단사 피브릴)들은 분산/확산/재집결하게 되어서 직물의 전체 공간에 골고루 분산되게 된다. Surface treatment with a friction material, the microfibers (single-fiber fibrill) of the fabric of the present invention receives not only the external force in the direction parallel to the inclination but also the external force in the direction perpendicular to the inclination, so that the microfibers are unbalanced and distributed as a weft yarn assembly in the fabric. Single yarn fibrils are dispersed / diffused / re-aggregated so that they are evenly distributed throughout the fabric.
이러한 일련의 초극세사(단사 피브릴)들의 분산/확산/재집결로 표면가공전 직물내에 초극세사(단사 피브릴)들이 채워져 있지 않던 공간을 초극세사 (단사 피브릴)들로 채우게 되고 직물내의 평균적인 공간은 더욱 증대하고 볼륨감이 향상되게 된다. 이로 인해서 촉감은 더욱 향상되고 오염물질을 포집할 수 있는 공간도Dispersion / diffusion / re-aggregation of this series of microfibers (single-fibrils) fills the space where the microfibers (single-fibrils) are not filled in the fabric before the surface processing, and the average space in the fabric is more The volume is increased and the volume is improved. This improves touch and also provides space for collecting contaminants.
확장되게 된다. 또한 초극세사(단사 피브릴)들은 분산/확산/재집결하는 과정에 서로 교락되어 직물에 가해지는 외력에 대해서 충분한 형태안정성을 갖게된다.Will be expanded. In addition, microfibers (single-fiber fibrils) are entangled with each other during the dispersion / diffusion / reaggregation process, and have sufficient form stability against external force applied to the fabric.
이와 같은 사실은 도 10과 도 12 또는 도 11과 도 13을 비교해 보면 더욱 더 분명하게 된다.This fact becomes even more apparent when comparing FIG. 10 and FIG. 12 or FIG. 11 and FIG.
도 10은 도 8의 도안으로 요철가공 처리후 표면가공을 거치지 않는 직물중 요철무늬가 형성된 부분의 표면상태를 나타내는 전자현미경 사진이고, 도 11은 표면 가공을 거치지 않는 상기 직물중 요철무늬가 형성되지 않는 부분의 표면상태를 나타내는 전자현미경사진이다.FIG. 10 is an electron micrograph showing the surface state of the uneven pattern formed part of the fabric which is not subjected to the surface processing after the uneven processing as shown in FIG. 8, and FIG. 11 is not formed of the uneven pattern of the fabric not subjected to the surface treatment. Electron micrograph showing the surface state of the part not.
한편, 도 12는 도 10의 직물 부분을 표면가공 처리한 상태를 나타내는 전자현미경 사진이고, 도 13은 도 11의 직물 부분을 표면가공처리한 상태를 나타내는 전자현미경 사진이다.12 is an electron micrograph showing a state in which the fabric portion of FIG. 10 is surface processed, and FIG. 13 is an electron micrograph showing a state in which the fabric portion of FIG. 11 is surface processed.
이상에서 설명한 본 발명의 오염물 제거용 직물은 경사 및 위사가 0.001~0.2데니어의 초극세사(단사피브릴)들로 구성되어 이들 사이에 형성된 미세한 공극에 의해 미세한 오염물들을 효과적으로 포집할수 있고, 촉감이 부드럽고 외관이 우수하며, 오염물 제거 대상체의 표면을 손상시키지 않는다.Fabric for removing contaminants of the present invention described above is composed of ultra-fine yarns (single-fibrils) of warp and weft yarn of 0.001 ~ 0.2 denier effectively collect the fine contaminants by the fine pores formed between them, the touch is smooth and appearance It is excellent and does not damage the surface of the dirt removal object.
더욱, 본 발명의 오염물 제거용 직물은 그의 표면 및/또는 이면상에 엠보싱 가공에 의한 요철무늬가 형성되어 있어 심미감과 형태안정성이 우수하고, 그의 표면이 마찰재로 표면가공된 경우에는 심미감과 부드러운 촉감이 더욱 더 향상된다. 다음으로 본 발명의 직물을 제조하는 방법을 상세하게 살펴본다.Furthermore, the contaminant removing fabric of the present invention has an uneven pattern formed by embossing on its surface and / or its back surface, so that it has excellent aesthetics and shape stability, and when its surface is surface-treated with friction material, it has an aesthetic and soft touch. This is further improved. Next look at in detail the method of manufacturing the fabric of the present invention.
본 발명에서는 해성분 용출 또는 분할 처리 후 초극세사(단사 피브릴)의 단사섬도가 0.001∼0.2 데니어인 2성분 복합사로 이루어진 합성섬유 멀티필라멘트 또는 그의 가연 가공사를 경사 및 위사로 사용하여 직물을 제직하고, 제직된 직물을 알칼리 수용액에서 정련과 동시에 해성분을 용출하거나 분할 처리한 다음 염색하거나 제직된 직물을 정련 및 염색한 다음 알칼리 수용액에서 해성분을 용출하거나 분할 처리하고, 염색된 직물 요철 무늬를 갖는 요철 가공기로 엠보싱 처리하여 본 발명의 오염물 제거용 직물을 제조한다. In the present invention, weaving the fabric using a synthetic fiber multifilament made of a two-component composite yarn having a single yarn fineness of 0.001 to 0.2 denier or a false twisted yarn thereof as warp and weft yarn after sea component elution or split treatment. Simultaneously eluting or dividing the sea component in the aqueous alkali solution, and then dyeing or refining and dyeing the woven fabric, then eluting or dividing the sea component in the aqueous alkali solution, An embossing process is carried out with a processing machine to produce a contaminant removing fabric of the present invention.
상기 2성분 복합사는 해도형 복합사 또는 분할형 복합사이다.The two-component composite yarn is an island-in-the-sea composite yarn or a split composite yarn.
상기의 해도형 복합사는 도성분과 해성분으로 구성된다.The island-in-the-sea composite yarn is composed of island and sea components.
바람직한 예로서, 해도형 복합사를 구성하는 도성분은 폴리에틸렌테레프탈레이트이고, 해성분은 디메틸렌설포이소프탈산 나트륨이 1~10몰% 공중합된 공중합 폴리에스테르등인 것이 좋다. As a preferable example, the island component constituting the island-in-the-sea composite yarn is polyethylene terephthalate, and the sea component is preferably copolyester copolymerized with 1 to 10 mol% sodium dimethylene sulfoisophthalate.
상기의 분할형 복합사는 용출성분과 섬유형성성 성분이 쐐기형등으로 복합된 구조로서, 용출성분으로는 폴리아미드가 사용되고 섬유형성성 성분으로는 폴리에스테르가 사용되는 것이 바람직하다. 이와 같은 분할형 복합사는 알칼리 수용액 처리에 의해 용출성분인 폴리아미드는 용출되어 섬유형성성 성분인 폴리에스테르는 서로 분할되면서 초극세사가 된다.The split composite yarn is a structure in which the eluting component and the fiber forming component are formed in a wedge shape or the like, and it is preferable that polyamide is used as the eluting component and polyester is used as the fiber forming component. Such split type composite yarn is eluted by alkaline aqueous solution treatment, and the polyester, which is a fiber-forming component, is separated from each other to become ultrafine yarn.
상기 제직시에 조직은 평직, 주자직 또는 능직으로 하는 것이 좋다.In the above weaving, the tissue may be plain weave, runner or twill.
본 발명에서는 제직된 직물을 알칼리 수용액에서 정련과 동시에 해성분을 용출하거나 분할 처리한 다음 염색 할수도 있고, 제직된 직물을 정련한 다음 바로 염색하고 그후에 해성분을 용출하거나 분할 처리할 수도 있다.In the present invention, the woven fabric may be eluted or divided and then dyed after scouring in an aqueous alkali solution, or the woven fabric may be dyed immediately after scouring the woven fabric and then eluted or divided.
일반적으로 2성분 복합사를 이용하여 스웨이드조 직편물을 제조할때에는 원단에 두께감을 부여하기 위해서 고수축성의 원사를 2성분 복합사와 함께 사용하고 있다.In general, when producing a suede knitted fabric using a two-component composite yarn, a high shrinkable yarn is used together with a two-component composite yarn to give a thickness to the fabric.
그러나, 본 발명에서는 고수축성 원사를 병용하지 않고 2성분 복합사로만 직물을 제조하기 때문에 원단에 두께감을 부여하기 위해서 염색전과 염색후에 직물을 120~160℃에서 전열처리와 후열처리하여, 직물상에 수축으로 인한 권축(crimp)을 발생시켜주고, 알칼리 감량(해성분 용출 또는 분할)도 전체 중량의 28~38중량% 수준으로 조절하는 것이 바람직하다.However, in the present invention, since the fabric is made only of two-component composite yarns without using high shrinkable yarns together, the fabrics are subjected to heat treatment and post-heat treatment at 120 to 160 ° C. before and after dyeing to give a thickness to the fabrics. It is desirable to generate crimps due to shrinkage, and to reduce the alkali (elution or splitting of the sea component) to 28 to 38% by weight of the total weight.
도 1은 감량 공정 직후인 본 발명 직물의 표면상태를 나타내는 사진이다. 1 is a photograph showing the surface state of the fabric of the present invention immediately after the weight loss process.
다음으로, 염색 및 감량(감량 및 염색)공정을 거친 직물을 요철가공기로 엠보싱 가공(요철 가공)처리 하여 직물의 표면, 이면 또는 표면과 이면 모두에 요철무늬를 형성하여 직물의 형태안정성과 심미감을 향상시킨다.Next, the fabric, which has been dyed and reduced (reduced and dyed), is embossed (uneven) by a concavo-convex machine to form concavo-convex patterns on the surface, the back side, or both the front and back side of the fabric to form stability and aesthetics of the fabric. Improve.
상기 엠보싱 처리에 의해 직물상의 조직점들이 융착등의 방식으로 서로 단단하게 고정되어 직물의 형태안정성이 향상된다.By the embossing treatment, the tissue points on the fabric are firmly fixed to each other by fusion or the like to improve the shape stability of the fabric.
도 8 및 도 9는 본 발명 직물의 엠보싱 가공(요철 가공)에 사용되는 도안 예들을 나타내는 사진이고, 도 10은 도 8의 도안으로 요철가공 처리된 직물중 요철무늬가 형성된 부분의 전자현미경 사진이고, 도 11은 도 8의 도안으로 요철가공 처리된 직물중 요철무늬가 형성되지 아니한 부분의 표면상태를 나타내는 전자현미경 사진이다.8 and 9 are photographs showing examples of the pattern used in the embossing (uneven processing) of the fabric of the present invention, Figure 10 is an electron micrograph of a portion of the uneven pattern is formed of the uneven processing in the pattern of Figure 8 FIG. 11 is an electron micrograph showing the surface state of a portion of the fabric in which the uneven processing is not formed in the pattern of FIG. 8.
다음으로 상기와 같이 엠보싱 가공 처리된 직물 표면을 마찰재가 부착된 도 5의 로울러, 도 6의 원판 또는 도 7의 에이프런으로 문질러서 표면가공하면 직물의 심미감 및 촉감은 더욱 향상시킨다.Next, when the surface of the embossed fabric is rubbed with the roller of FIG. 5, the disc of FIG. 6, or the apron of FIG. 7 having the friction material attached thereto, the aesthetics and feel of the fabric are further improved.
마찰재로는 직물, 편물, 부직포, 피혁, 샌드페이퍼, 침포, 세라믹, 금속, 종이, 목재등을 사용할수 있다.Friction materials can be woven fabrics, knitted fabrics, nonwoven fabrics, leathers, sandpaper, needles, ceramics, metals, paper, wood, etc.
도 5∼도 7은 각각 표면가공에 사용된 로울러형 표면가공기, 원판형 표면가공기 및 에이프런형 표면가공기의 사시도이다.5 to 7 are perspective views of roller-type surface processors, disk-type surface processors, and apron-type surface processors respectively used for surface processing.
도 2는 표면가공 처리된 본 발명 직물의 표면상태를 나타내는 전자현미경 사진이고 도 4는 표면가공 처리된 본 발명 직물의 횡단면 상태를 나타내는 전자현미경 사진이고, 도 3은 엠보싱가공후 표면가공 처리를 하지 않는 직물의 횡단면 상태를 나타내는 전자현미경 사진이다.Figure 2 is an electron micrograph showing the surface state of the fabric of the present invention surface-treated, Figure 4 is an electron micrograph showing a cross-sectional state of the fabric of the present invention surface-treated, Figure 3 is not surface treatment after embossing Electron micrograph showing the cross-sectional state of a nonwoven fabric.
상기 표면가공은 선택적으로 실시되나 심미감 및 촉감 향상을 위해서는 실시하는 것이 더욱 바람직하다.The surface treatment is selectively performed, but more preferably performed to improve aesthetics and feel.
또한 엠보싱처리 공정 또는 표면 가공공정 이전 또는 이후에는 텀블러내에서 직물을 80~120℃의 온도로 20~60분간 처리해주면 더욱 바람직하다.In addition, before or after the embossing process or surface treatment process it is more preferable to treat the fabric in a tumbler at a temperature of 80 ~ 120 ℃ for 20 to 60 minutes.
이상에서 설명한 방법으로 제조한 본 발명의 오염물 제거용 직물은 오염물 제거 성능이 우수하고, 촉감이 매우 부드럽고, 오염물 제거 대상체의 표면을 손상 시키지 않아 화장용 크린징 직물이나 반도체 제품용 와이퍼등으로 매우 유용하다.The contaminant removing fabric of the present invention prepared by the method described above has excellent contaminant removal performance, is very soft to the touch, and does not damage the surface of the contaminant removing object, and thus is very useful as a cosmetic cleansing fabric or a wiper for semiconductor products. .
도 15는 본 발명의 직물을 사용하여 광학저장매체(Optical Disc)를 세척하는 상태를 나타내는 개략도 이다.Figure 15 is a schematic diagram showing a state of washing the optical disc (Optical Disc) using the fabric of the present invention.
이하, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 구체적으로 살펴본다. 그러나 본 발명이 하기 실시예에만 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. However, the present invention is not limited only to the following examples.
실시예 1Example 1
(ⅰ) 폴리에틸렌테레프탈레이트인 도성분과 (ⅱ)디메틸렌설포이소프탈산 나트륨 7몰%가 공중합되어 알칼리 가수분해성이 우수한 폴리에스테르 공중합 폴리머인 해성분으로 구성되며 해성분 용출후의 도성분(단사 피브릴)의 단사섬도가 0.01데니어인 해도형 복합사로 이루어진 75 데니어/16 필라멘트의 폴리에스테르 멀티필라멘트를 경사 및 위사로 사용하여 평직의 직물을 제조한다.(Iii) Polyethylene terephthalate island component and (ii) 7 mol% of dimethylene sulfoisophthalate are copolymerized to form a sea component which is a polyester copolymer polymer having excellent alkali hydrolyzability. ) Is a plain weave fabric using 75 denier / 16 filament polyester multifilament composed of island-in-the-sea composite yarn having a single yarn fineness of 0.01 denier as warp and weft yarn.
다음으로, 제직된 직물을 알칼리수용액에 첨가하여 정련과 동시에 해성분을 용출(알칼리 감량)한다.Next, the woven fabric is added to the alkaline aqueous solution to elute (reduce alkali) the sea component simultaneously with refining.
이때, 해성분 용출은 전체중량의 32중량%가 되도록 조절하였다. 다음으로, 정련 및 용출 처리된 직물을 염색하기전에 130℃에서 전열처리한후 염색한다. 다음으로 텀블러에서 100℃온도로 40분간 처리하고, 계속해서 120℃에서 후열처리한다. 도 7의 무늬를 갖는 요철가공기로 요철가공(엠보싱 가공)하여 직물의 표면상에 요철무늬를 형성한다. 이때 요철무늬의 패턴간격은 10㎜로 조절하였다.At this time, the sea component elution was adjusted to be 32% by weight of the total weight. Next, before dyeing the refined and eluted fabric is dyed after the heat treatment at 130 ℃. Next, it processes 40 minutes at 100 degreeC with a tumbler, and then heat-processes at 120 degreeC. The uneven processing (embossing) is performed by the uneven processing machine having the pattern of FIG. 7 to form the uneven pattern on the surface of the fabric. At this time, the pattern spacing of the uneven pattern was adjusted to 10mm.
다음으로, 요철가공된 직물의 표면을 경질의 무기질 입자가 분산분포하는 열가소성 수지 재질의 침포가 부착된 롤러로 문질러서 표면가공한후 120℃에서 후열처리하고, 계속해서 텀블러에서 100℃온도로 40분간 처리하여 두께가 0.15㎜인 오염물 제거용 직물을 제조하였다.Next, the surface of the unevenly processed fabric was rubbed with a roller with a thermoplastic resin cloth with a hard inorganic particle dispersed therein, followed by surface treatment at 120 ° C., followed by 40 minutes at 100 ° C. in a tumbler. The treatment produced a fabric for removing contaminants having a thickness of 0.15 mm.
제조된 오염물 제거용 직물의 형태안정성, 세척성능(오염물제거성능), 외관, 얼굴세정시 촉감 및 컴팩트 디스크 청소시 표면 흠집 방지성을 평가한 결과는 표 2와 같다.The results of evaluating the morphological stability, cleaning performance (contaminant removal performance), appearance, touch during face cleaning, and surface scratch prevention during compact disk cleaning are as shown in Table 2.
실시예 2 내지 실시예 5Examples 2-5
직물의 경사종류 및 위사종류, 직물의 두께 및 엠보싱가공(요철가공)여부를 표 1과 같이 변경한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 공정 및 조건으로 오염물 제거용 직물을 제조하였다.Fabrics for removing contaminants were prepared in the same process and conditions as in Example 1 except that the warp type and the weft type of the fabric, the thickness of the fabric, and the embossing (uneven processing) were changed as shown in Table 1.
제조된 오염물 제거용 직물의 형태안정성, 세척성능(오염물제거성능), 외관, 얼굴세정시촉감 및 컴팩트 디스크 청소시 표면 흠집 방지성을 평가한 결과는 표 2와 같다.The results of evaluating the morphological stability, cleaning performance (contaminant removal performance), appearance, facial cleansing, and surface scratch resistance during compact disc cleaning of the fabric for removing contaminants are shown in Table 2.
상기 표 2에서, 형태안정성, 얼굴세정시 촉감 및 외관은 전문가 5인의 육안 관찰 및 테스트 시험을 하여 4인 이상이 우수하다고 판정하면 매우양호로, 3인이 우수하다고 판정하면 양호로, 2인이 우수하다고 판정하면 보통으로, 1인 이하가 우수하다고 판정하면 불량으로 구분하였다.In Table 2, morphological stability, touch and appearance during facial cleansing are very good when four or more are judged to be excellent by visual observation and test by five experts, and good when two are excellent, and two are When it judged that it was excellent, it was normal, and when one or less judged that it was excellent, it was classified as bad.
한편, 오염물 제거 성능은 컴팩트 디스크 중 아무내용도 기록하지 않는 CD-ROM 디스크를 개봉한 후 그 위에 스프레이형 윤활제를 1m 거리에서 1초간 분사한 다음, 다시 그 위에 베이비 파우더를 0.1m 거리에서 골고루 떨군 다음, 압축공기를 분사시켜 불어낸 다음, 250g의 원주형 추에 두께 1mm의 면포를 덮고 그 위에 실시예 1∼실시예 5의 직물을 각각 감싼후 위쪽을 고무밴드로 묶은 다음, 이를 이용하여 디스크의 표면을 중심에서 외곽으로 10회 닦아준 후 디스크 표면상의 오염물 제거 정도를 전문가 5인이 육안으로 관찰하여 4인 이상이 우수하다고 판정하면 매우 양호로, 3인이 우수하다고 판정하면 양호로, 2인이 우수하다고 판정하면 보통으로, 1인 이하가 우수하다고 판정하면 불량으로 구분하였다.On the other hand, the decontamination performance is that after opening a CD-ROM disc which does not record any of the compact discs, spray spray lubricant on it for 1 second at a distance of 1 m, and then evenly drop the baby powder on it at a distance of 0.1 m. Next, after blowing by blowing compressed air, the cotton cloth of 1mm thickness was covered with a 250 g cylindrical weight, and the fabrics of Examples 1 to 5 were respectively wrapped thereon, and the upper part was tied with a rubber band, and then the disk was used. After wiping the surface of the surface 10 times from the center to the outside, 5 experts examine the degree of decontamination on the surface of the disc and visually determine that 4 or more are excellent. Usually, when it judged that phosphorus was excellent, it classified as bad when it judged that one or less people were excellent.
한편 컴팩트 디스크 청소시 표면 흠집 방지성은 컴팩트디스크중 아무내용도 기록하지 않은 CD-ROM 디스크를 개봉한 후, 250g의 원주형 추에 두께 1㎜의 면포를 덮고 그 위에 실시예 1∼실시예 5의 직물을 각각 감싼후 위쪽을 고무밴드로 묶은 다음, 이를 이용하여 디스크의 표면을 중심에서 외곽으로 10회 닦아준후 디스크 표면상에 흠집발생 정도를 전문가 5인이 육안으로 관찰하여 4인 이상이 흠집 방지성이 우수하다고 판정하면 매우 양호로, 3인이 우수하다고 판정하면 양호로, 2인이 우수하다고 판정하면 보통으로, 1인 이하가 우수하다고 판정하면 불량으로 구분하였다.On the other hand, when cleaning the compact disc, the surface scratch resistance is improved after opening a CD-ROM disc which does not record any contents of the compact disc, and covering a cloth cloth having a thickness of 1 mm with a 250 g cylindrical weight, Wrap each of the fabrics together, tie them up with a rubber band, and then use them to wipe the surface of the disk 10 times from the center to the outside. Then, five experts observe the naked eye on the surface of the disk to prevent scratches. Very good when it judged that the performance was excellent, it was good when three people judged that it was excellent, and when it judged that two people were excellent, it was normal, and when it judged that one or less was excellent, it was divided into bad.
본 발명은 오염물의 제거 성능이 우수함과 동시에 촉감이 부드럽고, 오염물 제거 대상체의 표면을 손상시키지 않는 장점이 있다.The present invention has the advantage of excellent removal performance of contaminants and soft touch, and does not damage the surface of the object to remove contaminants.
그로 인해, 본 발명은 화장용 크린징 직물이나 정밀제품 및 광학소자등의 와이핑용 직물등에 특히 유용하다.Therefore, the present invention is particularly useful for cosmetic cleansing fabrics, wiping fabrics such as precision products and optical elements.
도 1은 감량용출(용출성분제거) 공정 직후인 본 발명 직물의 표면상태를 나타내는 전자현미경 사진.1 is an electron micrograph showing the surface state of the fabric of the present invention immediately after the weight loss eluting (eluting component removal) process.
도 2는 표면 가공공정 직후인 본 발명 직물의 표면상태를 나타내는 전자현미경 사진.Figure 2 is an electron micrograph showing the surface state of the fabric of the present invention immediately after the surface processing step.
도 3은 표면 가공공정 직전인 본 발명 직물의 횡단면 상태를 나타내는 전자현미경 사진.Figure 3 is an electron micrograph showing a cross-sectional state of the fabric of the present invention immediately before the surface processing process.
도 4는 표면 가공공정 직후인 본 발명 직물의 횡단면 상태를 나타내는 전자현미경 사진.Figure 4 is an electron micrograph showing a cross-sectional state of the fabric of the present invention immediately after the surface processing step.
도 5는 본 발명 직물의 표면가공에 사용되는 롤러형 표면가공기의 사시도.5 is a perspective view of a roller-type surface processing machine used for the surface processing of the present invention fabric.
도 6은 본 발명 직물의 표면가공에 사용되는 원판형 표면가공기의 사시도.Figure 6 is a perspective view of a disk-shaped surface processing machine used for the surface processing of the present invention fabric.
도 7는 본 발명 직물의 표면가공에 사용되는 에이프런형 표면가공기의 사시도.7 is a perspective view of an apron type surface treatment machine used for the surface treatment of the present invention fabric.
도 8 및 도 9는 본 발명 직물의 요철가공에 사용되는 도안 일례를 나타내는 사진.8 and 9 are photographs showing an example of the pattern used in the uneven processing of the fabric of the present invention.
도 10은 도 8의 도안으로 요철가공 처리후 표면가공 처리전인 직물중 요철 무늬가 형성된 부분의 표면상태를 나타내는 전자현미경사진.10 is an electron micrograph showing the surface state of the uneven pattern formed part of the fabric before the surface processing after the uneven processing in the figure of FIG.
도 11은 도 7의 도안으로 요철가공 처리후 표면가공 처리전인 직물중 요철 무늬가 형성되지 아니한 부분의 표면상태를 나타내는 전자현미경 사진.FIG. 11 is an electron micrograph showing the surface state of a portion of the fabric in which the uneven pattern is not formed before the surface processing after the uneven processing.
도 12는 도 10의 직물 부분을 표면가공 처리한 상태를 나타내는 전자현미경 사진.12 is an electron micrograph showing a state of the surface treatment treatment of the fabric portion of FIG.
도 13는 도 11의 직물 부분을 표면가공 처리한 상태를 나타내는 전자현미경 사진.FIG. 13 is an electron micrograph showing a state in which the fabric portion of FIG. 11 is surface treated; FIG.
도 14는 본 발명에서 가연가공사를 제조하는 공정개략도.14 is a process schematic diagram of manufacturing a false work in the present invention.
도 15는 본 발명의 직물을 사용하여 광학저장매체(Optical Disc)를 표면 세척하는 상태를 나타내는 개략도.Figure 15 is a schematic diagram showing a state of surface cleaning the optical disc (Optical Disc) using the fabric of the present invention.
* 도면 중 주요 부분에 대한 부호 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings
A : 2성분 복합사 공급로울러 B : 가연가공사 권취로울러A: Two-component composite yarn feed roller B: Combustible coil winding roller
1 : 제1공급롤러 2 : 제 1히터1: first feed roller 2: 1st heater
3 : 가연부(핀 또는 디스크) 4 : 제2공급롤러3: flammable part (pin or disc) 4: second feed roller
5 : 열세팅 히터(제 2히터) 6 : 제3공급롤러5: heat setting heater (2nd heater) 6: 3rd supply roller
7 : 권취롤러7: winding roller
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