KR100499793B1 - Electroless plating method - Google Patents

Electroless plating method Download PDF

Info

Publication number
KR100499793B1
KR100499793B1 KR1020040074044A KR20040074044A KR100499793B1 KR 100499793 B1 KR100499793 B1 KR 100499793B1 KR 1020040074044 A KR1020040074044 A KR 1020040074044A KR 20040074044 A KR20040074044 A KR 20040074044A KR 100499793 B1 KR100499793 B1 KR 100499793B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
plated
layer
plating
electroless plating
plating layer
Prior art date
Application number
KR1020040074044A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
유용상
Original Assignee
주식회사 부광
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 부광 filed Critical 주식회사 부광
Priority to KR1020040074044A priority Critical patent/KR100499793B1/en
Priority to PCT/KR2004/002659 priority patent/WO2006030999A1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100499793B1 publication Critical patent/KR100499793B1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/48After-treatment of electroplated surfaces
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1633Process of electroless plating
    • C23C18/1646Characteristics of the product obtained
    • C23C18/165Multilayered product
    • C23C18/1651Two or more layers only obtained by electroless plating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/1803Pretreatment of the material to be coated of metallic material surfaces or of a non-specific material surfaces
    • C23C18/1848Pretreatment of the material to be coated of metallic material surfaces or of a non-specific material surfaces by electrochemical pretreatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals

Abstract

본 발명은 귀금속, 스테인레스강, 몰리브덴강으로 구성되는 그룹으로부터 선택된 재료로 이루어진 피도금물 상에 니켈막을 무전해 도금방법으로 형성하는 방법을 개시한다. 이 방법은, 피도금물의 표면을 전해연마처리하는 단계; 상기 전해연마처리된 피도금물을 전기니켈 스트라이크 도금처리를 하여 제1도금층을 형성하는 단계; 상기 피도금물의 무전해니켈 도금을 수행하여 상기 제1도금층 위에 제2도금층을 형성하는 단계; 및 상기 피도금물을 불소수지를 함유한 무전해니켈액에 침지하여 제3도금층을 형성하는 단계를 포함한다.  The present invention discloses a method of forming a nickel film by an electroless plating method on a plated object made of a material selected from the group consisting of precious metals, stainless steels, and molybdenum steels. The method comprises the steps of electropolishing the surface of the workpiece; Forming a first plated layer by performing an electro-nickel strike plating process on the electroplated workpiece. Forming a second plating layer on the first plating layer by performing electroless nickel plating on the plated object; And immersing the plated object in an electroless nickel liquid containing a fluorine resin to form a third plating layer.

Description

무전해 도금처리 방법{Electroless plating method}Electroless Plating Method

본 발명은 무전해 도금에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 전해연마된 피도금물의 표면 상에 무전해 도금을 이용하여 무전해 도금막을 형성하는 무전해 도금처리방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to electroless plating, and more particularly, to an electroless plating treatment method for forming an electroless plating film using electroless plating on the surface of an electropolished object.

불소 수지는 화학 약품에 대한 내구성이 매우 강하고, 전기적 성질도 우수하며, 고온에도 안정적이라는 특성을 구비하여, 기계 부품, 전기, 전자 부품 등의 표면 상에 불소 수지막의 코팅이 일반적으로 행해지고 있다. 이러한 불소 수지막의 피처리물에 대한 밀착성을 향상시키기 위해, 미리 피처리물의 표면을 거칠게 하는 처리를 한 후에, 불소 수지를 코팅하는 방법이 일반적으로 행해지고 있다. 또한, 피도금물을 무기 또는 유기 바인더를 이용하여 처리를 행한 후, 층 두께가 100~200㎛정도가 되도록 불소 수지를 비교적 두껍게 코팅하는 방법도 행해진다(예를 들면, 일본특허공개공보 2001-328121호, 일본특허공개공보2000-328256호, 일본특허공개공보 평4-365875, 일본특허공표공보 평1-60584, 일본특허공개공보 소61-234202호, 일본특허공개공보 소51-1112348 참조). 그러나 상기의 종래의 기술과 같이, 피처리물의 표면을 거칠게 형성 처리한 후, 거친면에 불소 수지를 코팅하는 방법은 요철 형상에 따라서는 다음과 같은 문제가 발생하는 경우가 있다. 즉 오목부와 돌출부와의 고저의 차가 1μ정도의 그다지 높지 않은 요철 형상을 한 거친면이 형성된 경우, 불소 수지에 의한 도금층이 오목부를 다 메꿔서 요철의 높이가 거의 없어지고, 불소 수지의 밀착성이 현저히 낮아지고, 박리 등이 발생한다는 문제가 있었다. 또한, 불소 수지는 비교적 고가이기 때문에, 불소 수지의 층 두께를 얇게 하고, 불소 수지의 사용량을 소량화하여 저비용을 도모하는 것이 시장에서 요청되고 있다. 그러나 불소 수지의 코팅을 단순히 얇게 하는 것은 불소 수지와 불소 수지 코팅물의 마찰계수가 낮기 때문에 밀착성이 극히 나쁘고, 또한 피막에 핀홀이 발생하기 쉽고, 층두께가 얇은 불소 수지 코팅 피막을 형성하는 것은 불가능하다는 문제점이 있었다.Fluorine resins have characteristics that are extremely resistant to chemicals, have excellent electrical properties, and are stable even at high temperatures, and coating of the fluororesin film on the surfaces of mechanical parts, electrical parts, and electronic parts is generally performed. In order to improve the adhesiveness with respect to the to-be-processed object of such a fluororesin film, after the process which roughens the surface of a to-be-processed object beforehand, the method of coating a fluororesin is generally performed. Further, after the plated object is treated with an inorganic or organic binder, a method of coating the fluorine resin relatively thick so that the layer thickness is about 100 to 200 µm is also performed (for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2001-A). 328121, Japanese Patent Laid-Open No. 2000-328256, Japanese Patent Laid-Open No. 4-365875, Japanese Patent Laid-Open No. Hei 1-60584, Japanese Patent Laid-Open No. 61-234202, Japanese Patent Laid-Open No. 51-1112348) . However, in the method of coating the fluorine resin on the rough surface after roughly forming the surface of the object to be treated as in the conventional art described above, the following problems may occur depending on the uneven shape. In other words, when a rough surface having an uneven shape in which the height between the recess and the protrusion is not very high is about 1 μm, the plating layer made of fluorine resin fills the recess so that the height of the unevenness is almost eliminated, and the adhesion of the fluorine resin It was remarkably low and there existed a problem that peeling etc. generate | occur | produce. In addition, since the fluorine resin is relatively expensive, there is a demand in the market to reduce the layer thickness of the fluorine resin, to reduce the amount of the fluorine resin used, and to achieve low cost. However, simply thinning the coating of the fluororesin is extremely poor in adhesion due to the low coefficient of friction between the fluororesin and the fluororesin coating, and it is impossible to form a fluororesin coating film having a thin layer thickness and easy pinholes. There was a problem.

또한, 국제공개번호 WO 2004/024985에는 피처리물을 암모니아수 및 티오 유산염을 함유하는 조성액 및 티오 요소로부터 선택되는 적어도 하나를 함유하는 제1 도금액에 노출시켜 제1 도금층을 형성하고, 이 제1 도금층의 표면에 불소 수지를 함유하는 제2 도금액에 노출시켜 제2 도금층을 형성함으로써, 밀착성이 양호한 불소 수지 피막의 박막을 형성하는 것이 개시되어 있다. 그러나 상기한 선행기술은 피처리물의 재질이 귀금속이나 스테인레스 강 또는 몰리브덴강인 경우 도금층의 박리가 쉽게 발생한다. 즉, 도 1에 도시된 것처럼, 피도금물(10)의 표면상에 형성된 요철의 돌출부(12)와 오목부(14) 사이의 높이 차이가 매우 커서 제1도금층이 형성될 때 요철홈 내에 핀홀이 쉽게 발생하는데, 이 핀홀들은 도금층의 박리 가능성을 높이는 원인으로 작용한다. In addition, International Publication No. WO 2004/024985 discloses a first plating layer by exposing an object to be treated with a first plating solution containing at least one selected from a composition solution containing aqueous ammonia and thiourate, and thiourea. It is disclosed to form a thin film of a fluororesin coating film having good adhesion by exposing to a second plating solution containing a fluorine resin on the surface of the second plating layer. However, the above prior art easily peels off the plating layer when the material to be processed is a noble metal, stainless steel or molybdenum steel. That is, as shown in FIG. 1, the height difference between the protrusions 12 and the recesses 14 of the unevenness formed on the surface of the plated object 10 is so great that a pinhole in the uneven groove is formed when the first plating layer is formed. This easily occurs, and these pinholes act to increase the likelihood of peeling of the plating layer.

따라서, 본 발명은 상기한 문제점들을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 일 목적은 귀금속, 스테인레스 강 또는 몰리브덴강으로 이루어진 피처리물에 적용될 수 있는 무전해 도금처리 방법을 제공하는데 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems, an object of the present invention is to provide an electroless plating method that can be applied to the object to be made of precious metals, stainless steel or molybdenum steel.

본 발명의 다른 목적은 도금층과 피도금물 사이에서 핀홀 발생을 억제하여 피도금물에 대한 도금층의 응착력을 높일 수 있는 무전해 도금처리 방법을 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide an electroless plating method which can increase the adhesion of the plated layer to the plated material by suppressing pinhole generation between the plated layer and the plated object.

상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일측면에 따르는 무전해 도금처리 방법은, 피도금물을 전해액 속에 침지하여 양극으로 기능하도록 양의 전압을 인가하여 상기 피도금물의 표면을 전해연마(electro polishing)처리하는 단계와, 상기 전해연마처리된 피도금물을 전기 스트라이크 도금처리하여 보호층으로 기능하는 제1도금층을 형성하는 단계와, 상기 제1 도금층을 포함하는 상기 피도금물을 금속염을 포함하는 제1무전해 도금액 속에서 무전해 도금처리하여 불소수지를 함유한 제2도금층을 형성하는 단계를 포함하며; 상기 제1도금층은, 상기 피도금물이 스테인레스 강인 경우, 니켈층이고, 상기 제2도금층은 불소수지를 포함하는 니켈층인 것을 특징으로 한다.본 발명의 다른 측면에 따르는 무전해 도금처리 방법은, 피도금물을 전해액 속에 침지하여 양극으로 기능하도록 양의 전압을 인가하여 상기 피도금물의 표면을 전해연마(electro polishing)처리하는 단계와, 상기 전해연마처리된 피도금물을 전기 스트라이크 도금처리하여 보호층으로 기능하는 제1도금층을 형성하는 단계와, 상기 제1 도금층을 포함하는 상기 피도금물을 금속염을 포함하는 제1무전해 도금액 속에서 무전해 도금처리하여 불소수지를 함유한 제2도금층을 형성하는 단계를 포함하며; 상기 제1도금층은, 상기 피도금물이 알루미늄 합금인 경우, 아연층이고, 상기 제2도금층은 불소 수지를 함유하는 니켈층인 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the electroless plating method according to an aspect of the present invention, the electropolishing the surface of the plated by applying a positive voltage to immerse the plated in the electrolyte solution to function as an anode ( electroplating), electroplating the electroplated workpiece to form a first plating layer functioning as a protective layer, and forming a metal salt on the plating target including the first plating layer. Forming a second plating layer containing a fluororesin by electroless plating in a first electroless plating solution including; The first plating layer is a nickel layer when the plated material is stainless steel, the second plating layer is a nickel layer containing a fluorine resin. The electroless plating method according to another aspect of the present invention And electropolishing the surface of the plated object by applying a positive voltage so as to function as an anode by immersing the plated object in an electrolyte solution, and electroplating the electroplated object to be electroplated. Forming a first plating layer functioning as a protective layer, and electroless plating the first plating layer including the first plating layer in a first electroless plating solution containing a metal salt to contain a second fluorine resin. Forming a plating layer; The first plating layer is a zinc layer when the plated object is an aluminum alloy, and the second plating layer is a nickel layer containing a fluororesin.

삭제delete

삭제delete

삭제delete

삭제delete

삭제delete

삭제delete

이하, 본원 발명에 따른 무전해 도금 방법의 바람직한 형태에 대해서 상세히 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the preferable form of the electroless plating method which concerns on this invention is demonstrated in detail.

본 발명에 따른 무전해 도금처리 방법은, 피도금물의 표면을 전해연마처리하는 단계; 상기 전해연마처리된 피도금물을 상기 피도금물과의 표면 응착도(adhesive force)가 높은 금속으로 전기 스트라이크 도금처리를 하여 제1도금층을 형성하는 단계; 상기 제1도금층을 포함하는 피도금물을 금속염을 포함하는 제1무전해 도금액 속에서 무전해 도금처리하여 상기 제1도금층 위에 제2도금층을 형성하는 단계; 및 상기 제1, 제2도금층들을 포함하는 피도금물을 불소수지를 함유한 제2무전해 도금액 속에서 무전해 도금하여 제3도금층을 형성하는 단계를 포함한다.Electroless plating treatment method according to the invention, the step of electrolytic polishing the surface of the plated object; Forming a first plated layer by subjecting the electroplated workpiece to an electric strike plating process using a metal having a high adhesive strength with the plated article; Forming a second plating layer on the first plating layer by electroless plating the plated object including the first plating layer in a first electroless plating solution containing a metal salt; And electroless plating the plated material including the first and second plating layers in a second electroless plating solution containing a fluorine resin to form a third plating layer.

본 발명에 따르는 무전해 도금 방법의 제1 공정인 전해연마공정이 먼저 설명된다. The electropolishing process, which is the first process of the electroless plating method according to the present invention, is first described.

도 2에 도시된 것처럼, 전해연마 공정에서는 제1전극(20), 제2전극(30) 및 전해액이 준비된다. 제1전극(20)인 피도금물에는 양의 전압을 걸어주고, 즉 피도금물이 양극으로 작용하도록 하고, 제2전극(30)에는 음의 전압을 걸어서 제2전극(30)이 음극으로 작용하도록 한다. As illustrated in FIG. 2, in the electropolishing process, the first electrode 20, the second electrode 30, and the electrolyte are prepared. A positive voltage is applied to the plated object, which is the first electrode 20, that is, the plated object acts as an anode, and a negative voltage is applied to the second electrode 30 so that the second electrode 30 is a cathode. To work.

전압이 인가됨에 따라 양극으로 기능하는 피도금물(20)의 표면은 전기적으로 연마된다. 구체적으로, 전해연마전 피도금물(20)의 표면은 도 3에서 점선으로 도시된 것처럼, 돌출부와 오목부가 교번적으로 나타나는 구조를 가진다. 앞서 언급한 것처럼, 전해연마전 오목부의 깊이는 매우 깊지만, 본 발명의 전해연마공정동안 피도금물의 표면의 돌출부가 집중적으로 연마되어도 3에서 실선으로 도시된 것처럼, 돌출부는 완만하게 연마되어, 돌출부(22)의 상부 표면과 오목부(24)의 바닥표면 사이의 높이차이가 감소된다. 그 결과, 오목부에서 핀홀 발생가능성이 감소하고, 피도금물의 표면과 도금층 사이의 응착력은 증가한다. 이로 인하여 도금층의 박리 가능성은 현저하게 낮아진다. 즉, 전해연마공정이 완료된 피도금물의 표면 거칠기는 감소하고 광택은 현저하게 증가한다.As the voltage is applied, the surface of the plated object 20 serving as the anode is electrically polished. Specifically, the surface of the electroplated workpiece 20 has a structure in which protrusions and recesses alternately appear, as shown by a dotted line in FIG. 3. As mentioned above, the depth of the concave portion before electropolishing is very deep, but as shown by the solid line in FIG. The height difference between the top surface of the protrusion 22 and the bottom surface of the recess 24 is reduced. As a result, the likelihood of pinhole generation in the recess decreases, and the adhesion between the surface of the plated material and the plating layer increases. For this reason, the possibility of peeling of a plating layer becomes remarkably low. That is, the surface roughness of the plated material after the electropolishing process is completed is reduced and the gloss is significantly increased.

전해연마공정이 완료된 후, 바람직하게는, 피도금물은 3차에 걸쳐서 도금처리된다. 즉, 1회의 전기도금과 2회의 무전해도금이 수행된다. After the electropolishing process is completed, the plated material is preferably plated over three times. That is, one electroplating and two electroless platings are performed.

선택적으로, 전해연마공정의 완료후, 불소수지를 함유한 무전해도금공정이 1회만 수행될 수도 있다. Optionally, after completion of the electrolytic polishing process, the electroless plating process containing fluorine resin may be performed only once.

또한, 전해연마공정의 완료후, 불소수지를 함유하지 않은 무전해도금공정과 불소수지를 함유한 무전해 도금공정이 각각 1회씩 수행될 수도 있다.In addition, after completion of the electrolytic polishing process, the electroless plating process containing no fluorine resin and the electroless plating process containing fluorine resin may be performed once each.

본원 발명에 따른 무전해 도금액(제1, 제2무전해 도금액)은, 금속염과, 금속 착화제와, 환원제와, 암모니아수 및 티오 유산염을 함유하는 조성액을 함유한다. The electroless plating solution (first and second electroless plating solutions) according to the present invention contains a metal salt, a metal complexing agent, a reducing agent, and a composition liquid containing ammonia water and thio lactate.

본 발명에서 채용하는 무전해 도금(electroless plating)이란 전류를 통하지 않고 피처리물상에 도금하는 방법이다.Electroless plating employed in the present invention is a method of plating on a workpiece without passing through a current.

상기 피처리물로는 금속, 알루미늄, 고무, 합성 수지와 같이 여러 재료로 된 베이스 기판들이 사용될 수 있지만, 바람직하게는, 귀금속, 스테인레스강, 몰리브덴강과 같은 재료로 된 제품들이 사용된다. The substrate may be a base substrate made of various materials such as metal, aluminum, rubber, or synthetic resin. Preferably, products made of a material such as precious metal, stainless steel, and molybdenum steel are used.

상기 무전해 도금액 속에 함유되는 금속염에는, 니켈염, 아연염, 코발트염, 크롬염, 티탄염, 차아린산염 등이 포함되고, 단독 또는 조합하여 이용할 수 있지만 이에 한정되는 것은 아니다. 니켈염 및 아연염으로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종 이상인 것이 바람직하다.The metal salts contained in the electroless plating solution include nickel salts, zinc salts, cobalt salts, chromium salts, titanium salts, hypochlorite salts, and the like, but may be used alone or in combination, but is not limited thereto. It is preferable that it is at least 1 sort (s) or more chosen from the group which consists of a nickel salt and a zinc salt.

본 발명의 무전해 도금액에 함유되는 금속 착화제는 금속염과 착체를 형성하는 유기물 등으로서, 능금산, 숙신산 또는 젖산을 이용하는 것이 바람직하다. As the metal complexing agent contained in the electroless plating solution of the present invention, it is preferable to use nitric acid, succinic acid or lactic acid as an organic substance or the like forming a complex with a metal salt.

불소 수지는 불소기를 함유하는 수지를 말하고, 폴리 테트라 플루오르 에틸렌(PTFE) 등의 불소 수지를 이용하는 것이 가능하다. 제3무전해 도금액 속의 불소 수지의 함유 농도는 용도에 따라서 임의로 선택할 수 있다. The fluorine resin refers to a resin containing a fluorine group, and it is possible to use a fluorine resin such as polytetrafluoroethylene (PTFE). The content concentration of the fluororesin in the third electroless plating solution can be arbitrarily selected according to the use.

계면 활성제는 복합화되는 물질의 침전을 방지하고, 불소 수지의 분산제로서의 기능을 발휘한다. 이와 같이 계면 활성제로는 카티온계 계면 활성제 및 비이온 계면활성으로 이루어지는 군 중 적어도 하나를 이용하는 것이 바람직하다. 카티온계 계면활성제에는, 제4 암모니아염, 제2 암모니아류, 제3 아민류, 인다졸린(indazoline)류가 포함되고, 비이온 계면 활성에는, 폴리옥시에틸렌계, 폴리에틸렌계, 카르본산계, 설폰산계 비이온 계면 활성을 이용할 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 분자내에 탄소 원소나 불소 원자의 결합을 가지는 불소 계면 활성제를 이용하는 것도 바람직하다. 선택적으로, 제3무전해 도금액은, 제2도금층의 불소 수지의 분산 침입이 한층 양호하게 하기 위해 분산 보조제를 함유하는 것이 바람직하다. 이와 같은 분산 보조제에는 산화 세륨, 탄화 규소가 함유되지만, 이에 한정되는 것은 아니다.The surfactant prevents precipitation of the compound to be complexed and functions as a dispersant of the fluororesin. Thus, it is preferable to use at least one of the group which consists of a cationic surfactant and a nonionic surfactant as surfactant. The cationic surfactants include fourth ammonia salts, second ammonias, third amines, and indazolines, and nonionic surfactants include polyoxyethylene, polyethylene, carboxylic, and sulfonic acids. Nonionic surfactants can be used, but the present invention is not limited thereto. Moreover, it is also preferable to use the fluorine surfactant which has a bond of a carbon element or a fluorine atom in a molecule | numerator. Optionally, the third electroless plating solution preferably contains a dispersing aid in order to further improve dispersion penetration of the fluororesin in the second plating layer. Such dispersion aids include, but are not limited to, cerium oxide and silicon carbide.

상기 본 발명의 무전해 도금 처리공정은, 도금 업계에서 통상적으로 행해지는 무전해 도금 방법과 동일하게 행할 수 있다. The electroless plating process of this invention can be performed similarly to the electroless plating method normally performed in the plating industry.

상기 본 발명에 따른 무전해 도금 방법에 의해 도금된 도금 피처리물에 대해서 설명한다. 도금 피처리물의 제1도금층의 막 두께는 피도금물과의 밀착성을 위하여 적절한 두께를 선택한다. 또한, 제2도금층 및 제3 도금층의 각각의 막 두께는, 도금막의 경도와 비용등을 고려하여 적절한 두께를 선택한다.The plated object to be plated by the electroless plating method according to the present invention will be described. The film thickness of the first plated layer of the plated object is selected to be suitable for adhesion with the plated object. In addition, each film thickness of a 2nd plating layer and a 3rd plating layer selects an appropriate thickness in consideration of hardness, cost, etc. of a plating film.

상기의 방법에 의해 얻어지는 도금 피처리물은, 도4에 도시된 것처럼, 전해연마처리 및 보호층인 제1도금층(21)의 존재로 인하여 피처리물(20)에 대하여 뛰어난 밀착성을 가진다. 부호 23은 제2도금층이고, 부호 25는 제3도금층이다.The plated workpiece obtained by the above method has excellent adhesion to the workpiece 20 due to the presence of the first plating layer 21, which is an electropolishing treatment and a protective layer, as shown in FIG. Reference numeral 23 is a second plating layer, and reference numeral 25 is a third plating layer.

이하, 본 발명에 따른 무전해 도금처리 방법 및 도금 피처리물의 구체예를 나타내는데, 이 실시예는 본 발명의 실시 형태의 예시이며 이에 하등 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, although the electroless-plating method and the to-be-processed object which concern on this invention are shown, this Example is an illustration of embodiment of this invention and is not limited to this at all.

실시예 1Example 1

준비된 전해연마용 전해액 속에 스테인레스판과 다른 금속판을 침지시킨다. 이 때, 스테인레스판은 양극으로 작용하도록 양의 전압을 인가받고 다른 금속판은 음극으로 작용하도록 음의 전압을 인가받는다. Stainless plates and other metal plates are immersed in the prepared electrolytic polishing solution. At this time, the stainless plate is applied a positive voltage to act as a positive electrode and the other metal plate is applied a negative voltage to act as a cathode.

소정 시간의 경과후, 상기 스테인레스판을 전해연마용 전해액으로부터 추출하고, 세정한 후 상온 환경하에 방치하여 건조시켰다. 전해연마후 스테인레스 판의 표면은 전해연마전보다 오목부와 돌출부 사이의 높이가 감소되도록 돌출부의 표면이 집중적으로 연마되었다. After the lapse of a predetermined time, the stainless plate was extracted from the electrolytic polishing electrolytic solution, washed, and left to dry under an ambient temperature environment. After electropolishing, the surface of the stainless steel plate was intensively polished so that the height between the recess and the protrusion was reduced than before electropolishing.

이어서, 상기 스테인리스판을 86℃로 유지된 무전해 도금액 내에 소정 시간동안 침지한 후, 이 스테인리스판을 무전해 도금액으로부터 추출하고, 물로 씻은 후 상온 환경하에 방치하여 건조시켰다. 상기 무전해 도금액은 금속염으로서 유산 니켈, 환원제로서 차아린산 소다, 불소 수지로서 폴리테트라 플루오르 에틸렌(PTEF)를 함유하도록 하였다. 상기 스테인리스판 상에는 소정 두께의 도금층이 형성되었다. 이 도금층의 표면은 PTFE에 의해 평탄하게 되어 있었다. Subsequently, the stainless steel plate was immersed in the electroless plating solution maintained at 86 ° C. for a predetermined time, and then the stainless steel plate was extracted from the electroless plating solution, washed with water, and left to stand in a room temperature environment and dried. The electroless plating solution contained nickel lactate as the metal salt, sodium hypochlorite as the reducing agent, and polytetrafluoroethylene (PTEF) as the fluorine resin. On the stainless steel plate, a plating layer having a predetermined thickness was formed. The surface of this plating layer was flattened by PTFE.

상기 도금층이 표면에 피착 형성된 스테인리스판을 300℃ 이상으로 상승 유지시킨 퍼니스 내에 배치하고, 60분간 방치하여 베이킹 처리를 하고, 무전해 도금에 의한 박막이 표면에 형성된 최종 제품인 피도금 피처리물을 얻었다.The plated stainless steel plate deposited on the surface was placed in a furnace kept at 300 ° C. or higher, left to stand for 60 minutes, and baked to obtain a to-be-processed object, which was a final product in which a thin film by electroless plating was formed on the surface. .

상기 최종 피도금 피처리물은 선행기술의 그것에 비하여 매우 높은 평탄도와 도금 밀착 밀도를 가지고 있었다. The final plated workpiece had very high flatness and plating adhesion density compared to that of the prior art.

실시예2Example 2

준비된 전해연마용 전해액 속에 스테인레스판과 다른 금속판을 침지시킨다. 이 때, 스테인레스판은 양극으로 작용하도록 양의 전압을 인가받고 다른 금속판은 음극으로 작용하도록 음의 전압을 인가받는다. Stainless plates and other metal plates are immersed in the prepared electrolytic polishing solution. At this time, the stainless plate is applied a positive voltage to act as a positive electrode and the other metal plate is applied a negative voltage to act as a cathode.

소정 시간의 경과 후, 상기 스테인레스판을 전해연마용 전해액으로부터 추출하고, 세정한 후 상온 환경하에 방치하여 건조시켰다. 전해연마 후 스테인레스 판의 표면은 전해연마전보다 오목부와 돌출부 사이의 높이가 감소되도록 돌출부의 표면이 집중적으로 연마되었다. 전해연마된 스테인레스판은 염화니켈 220 - 250 g/L, 염산 (비중 1.18) 110 ~ 140 ml/L, 전류밀도 5 ~ 10 A/dm2의 전기 도금액 속에 상온에서 1 ~ 10분 동안 침지한 후, 이 스테인리스 판을 전기 도금액으로부터 추출하고, 물로 씻은 후 상온 환경하에 방치하여 건조시켰다. 스테인리스판의 표면에는 소정 두께의 보호층인 제1 니켈 도금층이 형성되었다.After the lapse of a predetermined time, the stainless plate was extracted from the electrolytic polishing electrolytic solution, washed, and left to dry in an ambient temperature environment. After electropolishing, the surface of the stainless plate was intensively polished so that the height between the recess and the protrusion was reduced than before electropolishing. The electropolished stainless steel plate was immersed for 1 to 10 minutes at room temperature in an electroplating solution of nickel chloride 220-250 g / L, hydrochloric acid (specific gravity 1.18), 110 to 140 ml / L, and current density of 5 to 10 A / dm2. This stainless steel plate was extracted from the electroplating solution, washed with water, and left to dry in an ambient temperature environment. On the surface of the stainless steel plate, a first nickel plating layer as a protective layer of a predetermined thickness was formed.

이어서, 상기 제1도금층을 가지는 스테인리스판을 추가로 86℃로 유지된 무전해 도금액 내에 소정 시간동안 침지한 후, 이 스테인리스판을 무전해 도금액으로부터 추출하고, 물로 씻은 후 상온 환경하에 방치하여 건조시켰다. 상기 무전해 도금액은 금속염으로서 유산 니켈, 환원제로서 차아린산 소다, 불소 수지로서 폴리테트라 플루오르 에틸렌(PTEF)를 함유하도록 하였다. 상기 스테인리스판의 제1 니켈도금층상에는 소정 두께의 제2 니켈도금층이 형성되었다. 이 제2 니켈도금층의 표면은 PTFE에 의해 평탄하게 되어 있었다.Subsequently, after the stainless steel plate having the first plating layer was further immersed in the electroless plating solution maintained at 86 ° C. for a predetermined time, the stainless steel plate was extracted from the electroless plating solution, washed with water, and left to stand in a room temperature environment and dried. . The electroless plating solution contained nickel lactate as the metal salt, sodium hypochlorite as the reducing agent, and polytetrafluoroethylene (PTEF) as the fluorine resin. A second nickel plated layer having a predetermined thickness was formed on the first nickel plated layer of the stainless plate. The surface of this second nickel plated layer was flattened by PTFE.

제1 내지 제2 니켈도금층이 표면에 피착 형성된 스테인리스판을 300℃ 이상으로 상승 유지시킨 퍼니스 내에 배치하고, 60분간 방치하여 베이킹 처리를 하고, 무전해 도금에 의한 박막이 표면에 형성된 최종 제품인 피도금 피처리물을 얻었다.상기 최종 피도금 피처리물은 선행기술의 그것에 비하여 매우 높은 평탄도와 도금 밀착 밀도를 가지고 있었다. The stainless steel plate on which the first to second nickel plated layers are deposited on the surface is placed in a furnace in which the temperature is maintained at 300 ° C. or higher, and left for 60 minutes for baking, and the final product on which the thin film by electroless plating is formed on the surface is plated. The final target workpiece had a very high flatness and plating adhesion density compared to that of the prior art.

실시예3Example 3

준비된 전해연마용 전해액 속에 스테인레스판과 다른 금속판을 침지시킨다. 이 때, 스테인레스판은 양극으로 작용하도록 양의 전압을 인가받고 다른 금속판은 음극으로 작용하도록 음의 전압을 인가받는다. Stainless plates and other metal plates are immersed in the prepared electrolytic polishing solution. At this time, the stainless plate is applied a positive voltage to act as a positive electrode and the other metal plate is applied a negative voltage to act as a cathode.

소정 시간의 경과후, 상기 스테인레스판을 전해연마용 전해액으로부터 추출하고, 세정한 후 상온 환경하에 방치하여 건조시켰다. 전해연마후 스테인레스 판의 표면은 전해연마전보다 오목부와 돌출부 사이의 높이가 감소되도록 돌출부의 표면이 집중적으로 연마되었다. After the lapse of a predetermined time, the stainless plate was extracted from the electrolytic polishing electrolytic solution, washed, and left to dry under an ambient temperature environment. After electropolishing, the surface of the stainless steel plate was intensively polished so that the height between the recess and the protrusion was reduced than before electropolishing.

전해연마된 스테인레스판은 염화니켈 220 - 250 g/L, 염산 (비중 1.18) 110 ~ 140 ml/L, 전류밀도 5 ~ 10 A/dm2의 전기 도금액 속에 상온에서 1 ~ 10분 동안 침지한 후, 이 스테인리스 판을 전기 도금액으로부터 추출하고, 물로 씻은 후 상온 환경하에 방치하여 건조시켰다. 스테인리스판의 표면에는 소정 두께의 보호층인 제1 니켈도금층이 형성되었다.The electropolished stainless steel plate was immersed for 1 to 10 minutes at room temperature in an electroplating solution of nickel chloride 220-250 g / L, hydrochloric acid (specific gravity 1.18), 110 to 140 ml / L, and current density of 5 to 10 A / dm2. This stainless steel plate was extracted from the electroplating solution, washed with water, and left to dry in an ambient temperature environment. On the surface of a stainless steel plate, the 1st nickel plating layer which is a protective layer of predetermined thickness was formed.

다음으로, 금속염으로서 유산 니켈, 환원제로서 차린산소다, 착화제로서 능금산, 숙신산 또는 젖산과, 조정제, pH 조정제 등을 함유한 제1무전해 도금액 속에, 스테인레스판을 제1소정시간 동안 침지한 후, 이 스테인리스 판을 제1무전해 도금액으로부터 추출하고, 물로 씻은 후 상온 환경하에 방치하여 건조시켰다. 스테인리스판의 표면에는 소정 두께의 제2 니켈도금층이 형성되었다.이어서, 상기 제2 니켈도금층을 가지는 스테인리스판을 추가로 86℃로 유지된 제2무전해 도금액 내에 소정 시간동안 침지한 후, 이 스테인리스판을 제2무전해 도금액으로부터 추출하고, 물로 씻은 후 상온 환경하에 방치하여 건조시켰다. 상기 제2무전해 도금액은 금속염으로서 유산 니켈, 환원제로서 차아린산 소다, 불소 수지로서 폴리테트라 플루오르 에틸렌(PTEF)를 함유하도록 하였다. 상기 스테인리스판의 제2도금층상에는 소정 두께의 제3도금층이 형성되었다. 이 제3도금층의 표면은 PTFE에 의해 평탄하게 되어 있었다.Next, the stainless plate was immersed in the first electroless plating solution containing nickel lactic acid as a metal salt, sodium charine as a reducing agent, nitric acid, succinic acid or lactic acid as a complexing agent, a regulator, a pH regulator, and the like for a first predetermined time. The stainless steel plate was extracted from the first electroless plating solution, washed with water, and left to dry in an ambient temperature environment. A second nickel plating layer having a predetermined thickness was formed on the surface of the stainless steel plate. Subsequently, the stainless steel plate having the second nickel plating layer was further immersed in the second electroless plating liquid held at 86 ° C. for a predetermined time, and then the stainless steel plate was formed. The plate was extracted from the second electroless plating solution, washed with water and left to dry in an ambient temperature environment. The second electroless plating solution contained nickel lactate as the metal salt, sodium hypochlorite as the reducing agent, and polytetrafluoroethylene (PTEF) as the fluorine resin. On the second plating layer of the stainless steel plate, a third plating layer having a predetermined thickness was formed. The surface of this third plating layer was flattened by PTFE.

제1 내지 제3도금층이 표면에 피착 형성된 스테인리스판을 300℃ 이상으로 상승 유지시킨 퍼니스 내에 배치하고, 60분간 방치하여 베이킹 처리를 하고, 무전해 도금에 의한 박막이 표면에 형성된 최종 제품인 피도금 피처리물을 얻었다.The first to third plated layers were placed in a furnace in which the stainless steel plate deposited on the surface was held at 300 ° C. or higher, left to stand for 60 minutes, and baked, and the plated product, which was the final product on which the thin film by electroless plating was formed on the surface. The treated product was obtained.

상기 최종 피도금 피처리물은 선행기술의 그것에 비하여 매우 높은 평탄도와 도금 밀착 밀도를 가지고 있었다. The final plated workpiece had very high flatness and plating adhesion density compared to that of the prior art.

본 발명의 무전해 도금처리 방법에 따르면, 귀금속, 스테인레스 강 또는 몰리브덴강으로 이루어진 파이프 형태의 피도금물과 도금층 사이에서 핀홀 발생을 억제하여 피도금물에 대하여 높은 평탄도와 매우 높은 응착력을 갖는 무전해 도금막을 형성할 수 있다. According to the electroless plating method of the present invention, an electroless plate having a high flatness and a very high adhesion to the plated material can be suppressed by inhibiting the occurrence of pinholes between the plated plated material made of a precious metal, stainless steel or molybdenum steel and the plated layer. The plating film can be formed.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다. Although the present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, this is merely exemplary, and it will be understood by those skilled in the art that various modifications and equivalent other embodiments are possible. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.

도 1은 종래기술에 따른 피도금물의 표면상태를 나타내는 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing a surface state of a plated object according to the prior art.

도 2는 본 발명의 실시예에 따르는 무전해 도금처리 방법에서 전해연마공정을 설명하는 모식도이다.2 is a schematic diagram illustrating an electropolishing process in the electroless plating process according to the embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 실시예에 따라 제조된 피도금물의 표면상태를 나타내는 단면도이다.3 is a cross-sectional view showing a surface state of a plated object manufactured according to an embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 실시예에 따라 무전해 도금층이 피도금물에 코팅된 상태를 나타내는 단면도이다.4 is a cross-sectional view illustrating a state in which an electroless plating layer is coated on a plated object according to an embodiment of the present invention.

Claims (14)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 피도금물을 전해액 속에 침지하여 양극으로 기능하도록 양의 전압을 인가하여 상기 피도금물의 표면을 전해연마(electro polishing)처리하는 단계와,Electropolishing the surface of the plated object by applying a positive voltage to immerse the plated object in the electrolyte to function as an anode; 상기 전해연마처리된 피도금물을 전기 스트라이크 도금처리하여 보호층으로 기능하는 제1도금층을 형성하는 단계와,Forming a first plated layer functioning as a protective layer by electroplating the electroplated object to be electroplated; 상기 제1도금층을 포함하는 상기 피도금물을 금속염을 포함하는 제1무전해 도금액 속에서 무전해 도금처리하여 불소수지를 함유한 제2도금층을 형성하는 단계를 포함하며;Forming a second plating layer containing a fluorine resin by electroless plating the plated object including the first plating layer in a first electroless plating solution containing a metal salt; 상기 제1도금층은, 상기 피도금물이 스테인레스 강인 경우, 니켈층이고, 상기 제2도금층은 불소수지를 포함하는 니켈층인 것을 특징으로 하는 무전해 도금처리 방법.And the first plating layer is a nickel layer when the plated object is stainless steel, and the second plating layer is a nickel layer containing fluorine resin. 피도금물을 전해액 속에 침지하여 양극으로 기능하도록 양의 전압을 인가하여 상기 피도금물의 표면을 전해연마(electro polishing)처리하는 단계와,Electropolishing the surface of the plated object by applying a positive voltage to immerse the plated object in the electrolyte to function as an anode; 상기 전해연마처리된 피도금물을 전기 스트라이크 도금처리하여 보호층으로 기능하는 제1도금층을 형성하는 단계와,Forming a first plated layer functioning as a protective layer by electroplating the electroplated object to be electroplated; 상기 제1도금층을 포함하는 상기 피도금물을 금속염을 포함하는 제1무전해 도금액 속에서 무전해 도금처리하여 불소수지를 함유한 제2도금층을 형성하는 단계를 포함하며;Forming a second plating layer containing a fluorine resin by electroless plating the plated object including the first plating layer in a first electroless plating solution containing a metal salt; 상기 제1도금층은, 상기 피도금물이 알루미늄 합금인 경우, 아연층이고, 상기 제2도금층은 불소 수지를 함유하는 니켈층인 것을 특징으로 하는 무전해 도금처리 방법.The first plating layer is a zinc layer when the plated object is an aluminum alloy, and the second plating layer is a nickel layer containing a fluorine resin. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
KR1020040074044A 2004-09-16 2004-09-16 Electroless plating method KR100499793B1 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040074044A KR100499793B1 (en) 2004-09-16 2004-09-16 Electroless plating method
PCT/KR2004/002659 WO2006030999A1 (en) 2004-09-16 2004-10-16 Electroless plating method and plating film obtained by the electroless plating method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040074044A KR100499793B1 (en) 2004-09-16 2004-09-16 Electroless plating method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR100499793B1 true KR100499793B1 (en) 2005-07-07

Family

ID=36060228

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040074044A KR100499793B1 (en) 2004-09-16 2004-09-16 Electroless plating method

Country Status (2)

Country Link
KR (1) KR100499793B1 (en)
WO (1) WO2006030999A1 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5176337B2 (en) 2006-05-12 2013-04-03 株式会社デンソー Film structure and method for forming the same
CN114059053B (en) * 2021-11-09 2023-10-10 苏州汉宜纳米新材料有限公司 Electroless Ni-W-P plating solution and preparation method thereof, ni-W-P plating layer and preparation method thereof

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2681025B2 (en) * 1991-11-15 1997-11-19 住友電気工業株式会社 Method for producing fluororesin coating
JP3094000B2 (en) * 1997-09-12 2000-10-03 昭和電工株式会社 Metal material or metal film having fluorinated surface layer and fluoridation method
EP1146135B1 (en) * 1998-12-04 2010-04-28 Stella Chemifa Kabushiki Kaisha Stainless steel having passive fluoride film formed thereon and equipment manufactured therefrom

Also Published As

Publication number Publication date
WO2006030999A1 (en) 2006-03-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9347147B2 (en) Method and apparatus for controlling and monitoring the potential
US20180163315A1 (en) Coated articles, electrodeposition baths, and related systems
CN105386103A (en) Material and process for electrochemical deposition of nanolaminated brass alloys
JP4714945B2 (en) Manufacturing method of product made of magnesium or magnesium alloy
US4904352A (en) Electrodeposited multilayer coating for titanium
JP4736084B2 (en) Manufacturing method of product made of magnesium or magnesium alloy
TWI762503B (en) Method to create thin functional coatings on light alloys
KR20070005332A (en) Electroless plating method and plating film obtained by the electroless plating method
US6699379B1 (en) Method for reducing stress in nickel-based alloy plating
KR100499793B1 (en) Electroless plating method
TWI470123B (en) Black passivation treatment method of steel surface
KR101383323B1 (en) Electroless plating method and plating film obtained by the electroless plating method
JPS6187894A (en) Method for plating titanium blank
US3880730A (en) Electro-galvanic gold plating process
JP2017014589A (en) Silver plated material and manufacturing method thereof
JP2018505967A (en) Gold electroplating solution and method
JP3561504B2 (en) Stainless steel conductive member and method of manufacturing the same
Arslan et al. Comparison of structural properties of copper deposits from sulfate and pyrophosphate electrolytes
Yelton et al. Electroplated Coatings for Friction, Lubrication, and Wear Technology
JP2017014588A (en) Silver plated material and manufacturing method thereof
JP2023553958A (en) Silver-bismuth electrolyte for the deposition of hard silver layers
JP2005206904A (en) METHOD OF PRODUCING Ni-W ALLOY FILM
JP3321875B2 (en) Surface treatment preparation method for titanium and titanium alloy
KR20230041745A (en) Methods and Systems for Forming Multilayer Zinc Alloy Coatings and Metal Articles
KR20220129709A (en) Surface treatment method of glasses frame made of magnesium alloy material using rhodium

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
A302 Request for accelerated examination
E902 Notification of reason for refusal
E90F Notification of reason for final refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20090629

Year of fee payment: 5

LAPS Lapse due to unpaid annual fee