KR100498977B1 - Method of plating the conductive layer on the wall of the cavity in E-BGA PCB - Google Patents

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Abstract

본 발명은 그래픽 지원용 칩 등 열 발생량이 많은 환경에서 사용되는 기판으로서, 열 방출을 위한 방열판(heat sink)을 갖는 칩 기판인 소위 인헨스드 BGA(Enhanced BGA; E-BGA) 인쇄회로기판의 제조 방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로는, E-BGA 인쇄회로기판 중 내벽이 도금된 공동(wall plated cavity)을 갖는 E-BGA 인쇄회로기판의 제조 방법에 관한 것이다. 보다 더 구체적으로는, 상기 공동의 내벽을 도금하는 방법에 관한 것이다.The present invention is a substrate used in a high heat generation environment, such as a graphic support chip, a method of manufacturing a so-called enhanced BGA (E-BGA) printed circuit board which is a chip substrate having a heat sink for heat dissipation. It is about. More specifically, the present invention relates to a method of manufacturing an E-BGA printed circuit board having a wall plated cavity of an E-BGA printed circuit board. More specifically, it relates to a method of plating the inner wall of the cavity.

본 발명은 종래의 공동 내벽을 도금하지 않는 E-BGA의 제조 공정을 활용하여 상기 공동의 내벽에 에칭액에 의해서도 에칭되지 않는 얇은 Au을 도금하므로써 에칭처리에 의해서도 공동의 벽에 형성된 도금층을 보호할 수 있는 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention utilizes a conventional manufacturing process of E-BGA, which does not plate the inner wall of the cavity, by plating a thin Au that is not etched by the etching solution on the inner wall of the cavity to protect the plating layer formed on the wall of the cavity even by etching. It is an object to provide a manufacturing method.

Description

E-BGA 인쇄회로기판의 공동 내벽을 도금하는 방법{Method of plating the conductive layer on the wall of the cavity in E-BGA PCB}Method of plating the conductive layer on the wall of the cavity in E-BGA PCB

본 발명은 그래픽 지원용 칩 등 열 발생량이 많은 환경에서 사용되는 기판으로서 열 방출을 위한 방열판(heat sink)을 갖는 칩 기판인 소위 인헨스드 BGA(Enhanced BGA; E-BGA) 인쇄회로기판의 제조 방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로는, E-BGA 인쇄회로기판 중 도금된 벽을 갖는 공동(wall plated cavity)을 갖는 E-BGA 인쇄회로기판의 제조 방법에 관한 것이다. 더 구체적으로는, 상기 공동을 둘러싸는 내벽을 도금하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a so-called enhanced BGA (E-BGA) printed circuit board, which is a chip substrate having a heat sink for heat dissipation, which is used in a heat generating environment such as a graphic support chip. It is about. More specifically, the present invention relates to a method of manufacturing an E-BGA printed circuit board having a wall plated cavity of the E-BGA printed circuit board. More specifically, it relates to a method of plating the inner wall surrounding the cavity.

인쇄회로기판에는 절연기판의 한쪽 면에만 배선을 형성한 단면 PCB, 양쪽 면에 배선을 형성한 양면 PCB 및 다층으로 배선한 MLB(다층 인쇄회로기판;Multi Layered Board)가 있다. 과거에는 부품 소자들이 단순하고 회로 패턴도 간단하여 단면 PCB를 사용하였으나, 최근에는 회로의 복잡도가 증가하고 고밀도 및 소형화 회로에 대한 요구가 증가하여 대부분 양면 PCB 또는 MLB를 사용하는 것이 일반적이다. 다층 인쇄회로기판이라 함은 통상적으로 4층 이상의 PCB를 의미하며, 각 회로층 간에는 절연을 위해 프리프레그와 같은 절연재가 삽입된다.The printed circuit board includes a single-sided PCB in which wiring is formed only on one side of the insulated substrate, a double-sided PCB in which wiring is formed on both sides, and an MLB (Multi Layered Board) that is wired in multiple layers. In the past, single-sided PCBs were used because of simple components and simple circuit patterns. However, in recent years, due to increased complexity of circuits and increasing demand for high density and miniaturized circuits, it is common to use double-sided PCBs or MLBs. The multilayer printed circuit board generally means a PCB having four or more layers, and an insulating material such as a prepreg is inserted between the circuit layers for insulation.

BGA 인쇄회로기판이라는 것은 패키지 아랫면에 볼 범프(bump)를 매트릭스 형상으로 배치한 표면실장형의 패키지를 총칭하는 것이다.A BGA printed circuit board is a generic term for a surface mount package in which ball bumps are arranged in a matrix form on the bottom surface of a package.

향후 전자제품에 적용되는 패키지는 기존의 단일칩 패키지에서 멀티칩 패키지 또는 모듈화가 진행되어 가고 있다.In the future, the package applied to electronic products is going from a single chip package to a multichip package or modularization.

인쇄회로기판을 활용한 가장 범용적이며 효율성을 증대시킨 패키지로는 솔더볼을 통해 패키지와 마더 보드간을 연결하는 이른바 영역 어레이(Area Array) 방식의 CSP(Chip Scale Package) 또는 BGA(Ball Grid Array)가 있다. 이중 BGA 기판은 단위면적당 핀수를 최대화시킬 수 있는 패키지 형태로 1990년대 이후 가장 보편적이며 효율적인 패키지로 평가받고 있다. The most common and efficient package utilizing printed circuit boards is a so-called area array (CSP) or ball grid array (BGA) that uses a solder ball to connect the package to the motherboard. There is. Dual BGA boards have been evaluated as the most common and efficient packages since the 1990s because they can maximize the number of pins per unit area.

BGA 인쇄회로기판에도 FP BGA(fine pitch BGA), T BGA(taped BGA), P BGA(plastic BGA)등 여러 가지 종류가 있다.There are various kinds of BGA printed circuit boards such as FP BGA (fine pitch BGA), T BGA (taped BGA), and P BGA (plastic BGA).

E-BGA 인쇄회로기판은 이와 같은 종래의 BGA 인쇄회로기판과 다른 새로운 형태의 BGA 인쇄회로기판으로서, E-BGA(Enhanced BGA) 인쇄회로기판은 현재 게임기나 컴퓨터에 장착되는 그래픽 지원용 칩 등에 주로 사용되는 기판이다. E-BGA 인쇄회로기판은 종래의 BGA 인쇄회로기판과 달리 한쪽면 전체는 열 방출을 위한 방열판이 접착제에 의해 접착되어 덮여 있고, 칩 실장 및 다른 기판 또는 마더 보드와의 접속을 위한 솔더 범프는 모두 나머지 다른 면에 배치되는 구조를 갖는다. 칩이 실장될 부분은 공동(cavity)으로 비어있다.The E-BGA printed circuit board is a new type of BGA printed circuit board different from the conventional BGA printed circuit board. The E-BGA (Enhanced BGA) printed circuit board is mainly used for graphic support chips installed in game machines or computers. It is a substrate. Unlike conventional BGA printed circuit boards, the E-BGA printed circuit board has a heat sink for heat dissipation and is covered with an adhesive. The solder bumps for chip mounting and other boards or motherboards are all covered. It has a structure disposed on the other side. The part where the chip is to be mounted is empty in a cavity.

도1은 종래 기술의 한 예로서 칩이 실장될 공동(11)의 종래의 내벽에 도금이 되어 있지 않은, 4층의 다층 인쇄회로기판으로 구성된 그래픽 지원용 E-BGA 인쇄회로기판 제품의 사진이다. 도시된 제품 사진의 반대쪽(미도시)은 열방출을 위한 방열판으로서 칩이나 솔더 범프가 실장되지 않는 금속막이 형성되어 있으며, 제품 사진에 도시된 쪽에만 칩이나 솔더 범프가 실장될 금속막인 단자부(12)가 형성되어 있다. Fig. 1 is a photograph of an E-BGA printed circuit board product for graphic support composed of four layers of multilayer printed circuit boards, which is not plated on a conventional inner wall of a cavity 11 in which a chip is to be mounted as an example of the prior art. The opposite side (not shown) of the illustrated product picture is a heat sink for heat dissipation, in which a metal film on which chips or solder bumps are not mounted is formed, and a terminal part which is a metal film on which a chip or solder bump is mounted only on the side shown in the product picture ( 12) is formed.

공동(11) 주위에는 기판내의 회로들에 연결되는 접지부(13) 및 전원 공급을 위한 전극인 전원부(14)가 배치되어 있다. 칩을 실장한 뒤에 전원 및 접지를 접속하기 위해 와이어 본딩을 행하여야 한다.Around the cavity 11, a ground 13 connected to circuits in the substrate and a power supply 14, which is an electrode for power supply, are disposed. After mounting the chip, wire bonding must be done to connect the power and ground.

도2는 도1에 도시된 제품을 A-A'에서 절단한 단면도이다. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of the product shown in FIG. 1.

내층 회로(L2,L3) 및 외층 회로(L1,L4)로 구성된 4층짜리 다층 PCB이다.It is a four-layer multilayer PCB composed of inner layer circuits L2 and L3 and outer layer circuits L1 and L4.

중앙의 공동(21;cavity)은 추후에 칩이 실장될 부분으로서 비어있고, 공동 내벽(22)의 재질은 프리프레그, RCC(Resin Coated Copper)등의 주로 수지재(Resin)나 글래스 파이버(Glass Fiber)로 이루어진 절연재로 구성되어 있다.The cavity 21 (cavity) in the center is empty as a part where the chip will be mounted later, and the material of the cavity inner wall 22 is mainly made of resin or glass fiber such as prepreg and resin coated copper (RCC). It consists of an insulating material made of fiber).

(24)는 솔더 레지스트이고, (25)는 동도금의 표면 처리를 위한 Ni/Au 도금층이다.Reference numeral 24 denotes a solder resist, and reference numeral 25 denotes a Ni / Au plating layer for surface treatment of copper plating.

솔더 레지스트로 덮이지 않고 노출된 동박부위가 산화되는 것을 방지하고, 실장되는 부품의 납땜성을 향상시키며 좋은 전도성을 부여하기 위한 표면처리를 한다.Surface treatment is performed to prevent oxidation of the exposed copper foil without being covered with the solder resist, to improve solderability of the mounted component, and to provide good conductivity.

이때, 동도금된 기판의 표면 처리 방법으로는 HASL(Hot Solder Air Leveling), OSP(Organic Solderability Percervatives)(플리플럭스(Pre-flux) 코팅 방식), 무전해 Ni/Au 도금, 무전해 Pd 도금, 무전해 Ag 도금, 무전해 주석 도금 등의 방식이 있으며, 이 중 무전해 Ni/Au 도금 방식은 최근의 휴대폰, 비디오 카메라 등에 많이 사용되고 있으며, 금의 접착성을 높이기 위하여 먼저 니켈을 도금하고 이어서 금을 도금하는 방식을 취한다.At this time, the surface treatment method of the copper plated substrate is Hot Solder Air Leveling (HASL), Organic Solderability Percervatives (OSP) (Pre-flux coating method), Electroless Ni / Au plating, Electroless Pd plating, Electroless Electrolytic Ag plating and electroless tin plating are used. Among them, electroless Ni / Au plating is widely used in mobile phones and video cameras, etc., and nickel is first coated in order to improve the adhesion of gold. Take the method of plating.

(26)은 열방출을 위한 방열판이다.Reference numeral 26 denotes a heat sink for heat dissipation.

(27)은 방열판과 기판을 접착시키기 위한 접착제 층이다.Reference numeral 27 denotes an adhesive layer for bonding the heat sink and the substrate.

(28)은 내층 회로와 외층 회로간의 전기적 접속을 위한 도금 도통홀이다.Reference numeral 28 denotes a plating through hole for electrical connection between the inner layer circuit and the outer layer circuit.

일단 기판을 형성한 뒤에, 방열판(26)에 흑화처리 등의 표면처리를 실시하고 접착제(27)로 방열판과 기판을 접착하여, 도1에 도시된 형태의 E-BGA를 만들게 된다.After the substrate is formed once, the heat sink 26 is subjected to surface treatment such as blackening treatment and the heat sink and the substrate are adhered with the adhesive 27 to form the E-BGA of the type shown in FIG.

이하 도1 및 도2에 도시된 종래 기술에 따른 E-BGA의 제조 방법을 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing the E-BGA according to the related art shown in FIGS. 1 and 2 will be described.

도3에는 종래 기술에 따른 공동의 내벽이 도금되지 않은 E-BGA의 제조 방법이 도시되어 있다. 3 shows a method for producing an E-BGA in which the inner wall of the cavity is not plated according to the prior art.

(A)는 내층 회로를 형성하고, 그 위에 절연재(32) 및 외층 회로의 형성을 위한 Cu 도금(31)까지 끝난 상태의 4층 인쇄회로기판의 단면도이다.(A) is a cross-sectional view of a four-layer printed circuit board in which an inner layer circuit is formed and finished up to Cu plating 31 for forming an insulating material 32 and an outer layer circuit thereon.

(B)에서, 기판의 중심에 펀칭에 의해 직경 1㎝가량의 공동(33)을 형성하고, 레이저 드릴링에 의해 블라인드 비아홀(34)을 가공한다.In (B), a cavity 33 having a diameter of about 1 cm is formed in the center of the substrate by punching, and the blind via hole 34 is processed by laser drilling.

다층 인쇄회로기판 및 양면 인쇄회로기판에서는 층간 및 양면간의 전기적 접속이 비아홀의 내벽을 통해 이루어지게 된다.In multilayer printed circuit boards and double-sided printed circuit boards, electrical connections between layers and both sides are made through the inner walls of the via holes.

비아홀이라 함은 2층 이상의 PCB에서 층간을 접속하기 위하여 기판에 홀을 가공한 후 그 내부를 도금한 것으로 부품은 삽입되지 않는 홀을 의미한다. 다층 인쇄회로기판(4층 이상의 인쇄회로기판)에서는 이러한 비아홀 외에, 블라인드 비아홀도 가공된다. The via hole means a hole in which two or more PCBs are plated inside after processing holes in the substrate in order to connect interlayers, and parts are not inserted. In the multilayer printed circuit board (4 or more layers printed circuit board), blind via holes are also processed in addition to the via holes.

블라인드 비아홀은 다층 인쇄회로기판의 외층과 내층을 접속하기 위한 도통홀을 의미하는 것으로서, 말 그대로 한쪽이 막혀 있는 형태의 비아홀이다. PCB의 외층과 내층간을 접속하므로 외층의 한쪽 면에서는 홀이 관찰되지 않는다. The blind via hole means a through hole for connecting an outer layer and an inner layer of a multilayer printed circuit board. The blind via hole is a via hole having a shape in which one side is blocked. Since the outer layer and inner layer of the PCB are connected, no hole is observed on one side of the outer layer.

도3으로 돌아가서, (C)에서, Cu 도금(35)으로 블라인드 비아홀의 홀벽을 도금한다.Returning to Fig. 3, in (C), the hole wall of the blind via hole is plated with Cu plating 35.

(D)에서, 드라이 필름으로 에칭 레지스트 패턴(36)을 형성한다.In (D), the etching resist pattern 36 is formed of a dry film.

에칭 레지스트 패턴은, 설계된 회로 패턴이 인쇄된 아트워크 필름을 접착시키고 여기에 자외선을 조사하여 형성한다.The etching resist pattern is formed by adhering an artwork film on which a designed circuit pattern is printed and irradiating ultraviolet rays thereto.

자외선을 조사하면, 아트워크 필름의 인쇄되지 않은 부분의 드라이 필름은 자외선에 의해 경화되고, 인쇄된 부분의 드라이 필름은 자외선이 통과하지 않아서 경화되지 않는다. 여기에 현상액으로 경화되지 않은 부분의 드라이 필름을 제거하면 경화된 부분의 드라이 필름만 남아서 에칭 레지스트 패턴이 형성된다. 현상액으로는 탄산나트륨(1%의 Na2CO3)나 탄산칼륨(K2CO3)이 사용된다.When irradiated with ultraviolet rays, the dry film of the unprinted portion of the artwork film is cured by ultraviolet rays, and the dry film of the printed portion is not cured because ultraviolet rays do not pass. When the dry film of the part which is not hardened with the developing solution is removed here, only the dry film of the hardened part remains and an etching resist pattern is formed. As a developer, sodium carbonate (1% Na 2 CO 3 ) or potassium carbonate (K 2 CO 3 ) is used.

(E)에서, 에칭을 하게 되면, 에칭 레지스트가 없는 부분만 부식되어 회로 패턴이 형성되고, (F)에서 에칭 레지스트를 박리하면 회로 패턴이 완성된다. 박리액으로는 NaOH 또는 KOH가 사용된다. (G)에서 다른 기판이나 칩과 접속될 부분을 제외한 나머지 부분에 포토 솔더 레지스트(37;PSR) 패턴을 형성하고, 여기에 (H)에서 Ni/Au(38)를 도금하면, 상기 포토 솔더 레지스트 패턴이 도금 레지스트로 작용하여 다른 기판이나 칩과 접속될 부분에만 Ni/Au가 도금된다. In (E), when etching, only a portion without the etching resist is corroded to form a circuit pattern. In (F), the etching pattern is peeled off to complete the circuit pattern. NaOH or KOH is used as the stripping solution. A photo solder resist 37 (PSR) pattern is formed on the remaining portions except for portions to be connected with other substrates or chips in (G), and Ni / Au 38 is plated in (H). The pattern acts as a plating resist, and Ni / Au is plated only at the portion to be connected with another substrate or chip.

Ni/Au 도금은 기판에 대한 최종적인 마무리 처리로서, 솔더 레지스트로 덮이지 않고 노출된 동박부위가 산화되는 것을 방지하고, 실장되는 부품의 납땜성을 향상시키며, 좋은 전도성을 부여하기 위한 것이다. 먼저 Ni을 도금하고나서, Au를 도금한다.Ni / Au plating is a final finishing treatment for the substrate, and is intended to prevent oxidation of the exposed copper foil without being covered with solder resist, to improve solderability of components to be mounted, and to impart good conductivity. First, Ni is plated and then Au is plated.

여기에, 방열판의 표면을 흑화처리하여, 접착제로 상기 기판에 부착하면 도1에 제시된 바와 같은, 종래의 공동 내벽에 도금이 필요없는 E-BGA가 완성된다.Here, when the surface of the heat sink is blackened and attached to the substrate with an adhesive, an E-BGA without plating is completed on a conventional cavity inner wall, as shown in FIG.

흑화(Black Oxide) 처리라는 것은 기판을 접착시키기 전에 접착력 및 내열성의 강화를 위해 행하는 공정이다. 이 공정은 화학적인 방법으로 동박의 표면을 산화시켜 조도(거칠기)를 부여한다. Black oxide treatment is a process performed to enhance adhesion and heat resistance before bonding a substrate. This process oxidizes the surface of copper foil by chemical method, and gives roughness (roughness).

보다 구체적으로, 동박의 표면에 Cu2O(갈색) 또는 CuO(흑색)를 석출시키는 것으로, 이들의 조성비에 따라 적색, 황색, 흑색을 띄게 된다. 흑화처리에서는 산화막의 두께보다 막이 얼마나 치밀하고 균일한 결정구조를 갖는지가 중요하다. 이들 요소들이 흑화처리의 목적인 접착성 및 내열성의 향상에 영향을 미치기 때문이다.More specifically, by depositing Cu 2 O (brown) or CuO (black) on the surface of the copper foil, it becomes red, yellow, black depending on their composition ratio. In the blackening process, it is more important how dense and uniform the crystal structure is than the thickness of the oxide film. This is because these factors affect the improvement of adhesion and heat resistance, which is the purpose of the blackening treatment.

다시 도2를 참조하면, 위와 같은 회로에는 내층 및 외층에 형성된 회로의 접지를 위한 단자가 필요하게 되는데, 통상적으로 내층 회로(L2 또는 L3) 중 하나를 접지층(ground layer)으로 구성하게 된다. 도2에는 L2가 접지층(23)으로 사용되었다.Referring back to FIG. 2, the above circuit requires a terminal for grounding the circuits formed in the inner layer and the outer layer. Typically, one of the inner layer circuits L2 or L3 is configured as a ground layer. In FIG. 2, L2 is used as the ground layer 23.

이 접지층은 기판에 가공된 도금 도통홀(plated through hole)(28)들 중 하나를 통해 다른 회로층과 전기적으로 접속되게 된다. 즉, 이 내벽이 도금된 도통홀들은 그 직경이 좁은 미세홀들인데, 이 도금 도통홀들의 내벽을 통해 전기 신호가 흐르게 되는 것이다.This ground layer is to be electrically connected to another circuit layer through one of the plated through holes 28 fabricated in the substrate. That is, the through holes plated with the inner wall are micro holes having a narrow diameter, and an electrical signal flows through the inner walls of the plated through holes.

최근에는 IT발달에 따른 좀더 고급의 정보제공을 위해 고주파신호를 쓰는 것이 추세이며, 이렇게 고주파로 감에따라 임피던스에 의한 간섭이 심해져 기판의 다른 회로와 간섭을 일으키게 된다.Recently, the trend is to use high-frequency signals to provide more advanced information in accordance with IT development. As the high-frequency signal increases, interference by impedance increases, causing interference with other circuits on the board.

전류는 도체의 표면을 따라 흐르는데, 특히 고주파 전류가 표면적이 적은 도체를 통해 흐르는 경우에 그 도체의 면적에 반비례하여 임피던스가 발생하고, 그에 따른 임피던스에 의해 다른 회로와 간섭되어 회로의 오작동을 유발하게 된다.The current flows along the surface of the conductor, especially when high frequency current flows through the conductor with a small surface area, an impedance is inversely proportional to the area of the conductor, and the impedance interferes with other circuits causing the circuit to malfunction. do.

이와 같은 문제를 개선하기 위해, 최근의 E-BGA에는 이러한 고주파 사용에 따른 간섭 문제 때문에 관통홀 대신 직경이 훨씬 큰 공동의 내벽을 도금하여 그 도금층으로 관통홀을 대체하고 있는 추세이다. In order to improve such a problem, in recent E-BGA, due to the interference problem caused by the use of high frequency, the trend is to replace the through-holes by plating the inner wall of the cavity having a much larger diameter instead of the through-holes.

관통홀의 직경은 70㎛ 내외이고, 공동의 직경은 104㎛으로 관통홀의 내벽의 표면적에 비해 공동 내벽의 표면적은 훨씬 넓고 따라서 이러한 공동 내벽을 통과하는 전류에 의해 발생하는 고주파에 의한 간섭은 관통홀에 의한 것에 비하면 무시할 수 있는 수준이다.The through hole has a diameter of about 70 μm, and the diameter of the cavity is 10 4 μm, and the surface area of the inner wall of the cavity is much larger than the surface area of the inner wall of the through hole. It is negligible compared to that by.

이러한 최근의 추세에 따라, 소위 ED(Electro-Deposit) 공정이라 불리는, 액상 타입의 드라이 필름을 사용하여 E-BGA 인쇄회로기판의 공동 내벽을 도금할 수 있는 공정이 알려져 있으나, 이를 위해서 전술한 종래 방법의 공정을 버리고 새로운 공정을 채용한다는 것은 비용면에서 매우 비효율적이다. According to this recent trend, a process for plating a cavity inner wall of an E-BGA printed circuit board using a liquid type dry film, which is called an ED (Electro-Deposit) process, is known. Discarding the process and adopting a new process is very inefficient in terms of cost.

따라서, 종래의 제조 방법에서 큰 변형 없이도 공동의 내벽에 도금을 할 수 있는 방법이 요구된다.Therefore, there is a need for a method capable of plating an inner wall of a cavity without significant deformation in the conventional manufacturing method.

종래의 제조 방법으로 공동의 내벽에 도금을 하는 경우에는 다음과 같이 블라인드 비아홀의 내벽에 도금된 도금층을 보호하는 방법을 적용하여 공동 내벽의 도금층을 보호할 수 있다면 종래의 제조 방법을 크게 변형하지 않아도 된다.In the case of plating the inner wall of the cavity by the conventional manufacturing method, if the plating layer of the inner wall of the cavity can be protected by applying the method of protecting the plating layer plated on the inner wall of the blind via hole as follows, it is not necessary to greatly modify the conventional manufacturing method. do.

즉, 도4에 도시된 방법은, 종래 방법의 (D)단계(도3의 (D)단계)에서, 드라이 필름(41)이 공동을 덮도록 텐팅(tenting)층을 형성하여 공동의 내벽에 도금된 도금층을 보호함으로써, (E)단계의 에칭에서도 공동 내벽의 도금층(42)은 에칭되지 않고 남도록 하는 방법이다.That is, in the method shown in Fig. 4, in the step (D) of the conventional method (step (D) in Fig. 3), a tenting layer is formed on the inner wall of the cavity so that the dry film 41 covers the cavity. By protecting the plated plating layer, the plating layer 42 of the cavity inner wall remains unetched even in the etching of step (E).

그러나, 도4의 (D),(E),(F),(G)는 이론에 불과한 것으로, 이것은 실현될 수 없다. 그 이유는 다음과 같다.However, Figs. 4 (D), (E), (F), and (G) are only theories, and this cannot be realized. The reason for this is as follows.

도5에 도시된 바와 같이, 공동의 직경은 약 1㎝이고, 이 공동을 덮도록 형성된 드라이 필름을 지지하도록 구성된 텐팅층 지지대의 폭은 회로 패턴에 따라 다르겠지만 매우 좁다. 다른 블라인드 비아홀들의 직경은 70㎛ 내외로서, 텐팅층에 의해 충분히 보호될 수 있다. 그러나, 직경이 약 1㎝에 달하는 공동의 내벽에 도금된 도금층은 이와 같은 방식에 의해 보호될 수 없다.As shown in Fig. 5, the diameter of the cavity is about 1 cm, and the width of the tenting layer support configured to support the dry film formed to cover the cavity is very narrow depending on the circuit pattern. The diameters of the other blind via holes are around 70 μm, which can be sufficiently protected by the tenting layer. However, the plating layer plated on the inner wall of the cavity up to about 1 cm in diameter cannot be protected in this manner.

공동 내벽의 도금층을 보호하기 위한 드라이 필름은 두께가 25㎛정도로 매우 얇고, 그것을 받치는 지지부분도 좁으므로 에칭시에 에칭액의 압력을 견디지 못하고 도5의 (B)에 도시된 바와 같이, 도금층을 보호하지 못한다. The dry film for protecting the plating layer of the cavity inner wall is very thin, about 25 μm, and the support portion supporting the cavity is also narrow, so that it does not withstand the pressure of the etching solution during etching and protects the plating layer as shown in FIG. 5 (B). can not do.

결과적으로, 에칭시에 에칭액이 누수되어 (C)에 도시된 바와 같이, 텐팅을 뚫고 공동의 내벽에 침입하여 내벽의 도금층을 불규칙하게 부식시켜서, 내벽의 도금층을 손상시킨다.As a result, the etching liquid leaks at the time of etching and penetrates the tent and penetrates into the inner wall of the cavity to irregularly corrode the plating layer of the inner wall, thereby damaging the plating layer of the inner wall.

이와 같은 텐팅에 의한 방법은 종래의 공정 설비를 그대로 이용할 수 있는 방법이긴 하지만, 텐팅에 의한 방법을 사용하여 공동 내벽의 도금층을 보호한다는 것은 전술한 바와 같이 비현실적인 방법으로서 실현될 수 없다. 따라서, 이러한 방법을 대체할 만한 방법이 요구된다.Although such a method by tenting is a method which can use a conventional process equipment as it is, using the method by tenting to protect the plating layer of the cavity inner wall cannot be realized as an unrealistic method as mentioned above. Therefore, there is a need for a method that replaces this method.

본 발명은 종래의 공동 내벽이 도금되지 않은 E-BGA의 제조 공정을 활용하여 최근의 추세에 부합하는 공동 내벽이 도금된 E-BGA를 제조할 수 있는 방법을 제공함으로써, 궁극적으로 공동 내벽이 도금된 E-BGA의 제조 비용을 대폭 절감하는 것을 목적으로 한다.The present invention provides a method for producing an E-BGA plated with a cavity inner wall in accordance with the recent trend by utilizing a manufacturing process of an E-BGA in which a conventional cavity inner wall is not plated, thereby ultimately the cavity inner wall is plated. The aim is to drastically reduce the manufacturing cost of E-BGA.

본 발명에 따른 방법은, 칩의 실장을 위한 공동(Cavity)이 형성된 E-BGA(Enhanced BGA) 다층 인쇄회로기판의 제조 방법으로서, 상기 공동의 내벽을 제외한 기판 전체에 드라이 필름을 도포하는 단계; 상기 공동의 내벽에 Au를 도금하는 단계; 및 상기 Au 도금된 공동 내벽에 금속 도금에 의해 표면처리하는 단계를 포함한다.According to the present invention, there is provided a method of manufacturing an E-BGA (Enhanced BGA) multilayer printed circuit board having a cavity for mounting a chip, the method comprising: applying a dry film to an entire substrate except an inner wall of the cavity; Plating Au on the inner wall of the cavity; And surface treating the Au plated cavity inner wall by metal plating.

도면을 참조하여, 본 발명을 보다 상세히 설명한다.With reference to the drawings, the present invention will be described in more detail.

도6a 내지 6b에는 본 발명에 따른 방법이 도시되어 있다.6a to 6b show a method according to the invention.

도6a의 (A) 내지 (C)까지는 도3에 도시된 종래 기술에 따른 방법과 동일하다.6A to 6C are the same as the method according to the prior art shown in FIG.

즉, (A)는 내층 회로를 형성하고, 그 위에 절연재(602) 및 외층 회로의 형성을 위한 Cu 도금(601)까지 끝난 상태의 다층 인쇄회로기판의 단면도이다. (B)에서, 기판의 중심에 펀칭에 의해 직경 1㎝가량의 공동(603)을 형성하고, 레이저 드릴링에 의해 블라인드 비아홀(604)을 가공한다. 공동의 크기는 실장하고자 하는 칩의 크기에 따라 달라지게 된다. (C)에서, Cu 도금(605)으로 블라인드 비아홀(604)의 홀벽을 도금한다.That is, (A) is a cross-sectional view of a multilayer printed circuit board which forms an inner layer circuit and is finished up to Cu plating 601 for forming an insulating material 602 and an outer layer circuit thereon. In (B), a cavity 603 having a diameter of about 1 cm is formed in the center of the substrate by punching, and the blind via hole 604 is processed by laser drilling. The size of the cavity depends on the size of the chip to be mounted. In (C), the hole wall of the blind via hole 604 is plated with Cu plating 605.

(D-1)에서, 상기 공동의 내벽을 제외한 기판 전체에 드라이 필름(606)을 도포하고 노광 및 현상한다. 이 드라이 필름은 도금 레지스트 역할을 하게 된다. In (D-1), the dry film 606 is apply | coated to the whole board | substrate except the inner wall of the said cavity, and it exposes and develops. This dry film serves as a plating resist.

(D-2)에서, Au를 도금한다. 드라이 필름이 도포된 부분에는 도금층이 형성되지 않고 나머지 부분에만 Au 도금층(607)이 형성된다.In (D-2), Au is plated. The plating layer is not formed at the portion where the dry film is applied, and the Au plating layer 607 is formed only at the remaining portion.

(D-3)에서, 드라이 필름 패턴을 노광, 현상에 의해 형성하여 외층의 회로 형성을 위한 에칭 드라이 필름 패턴(608)을 형성한다.In (D-3), the dry film pattern is formed by exposure and development to form an etching dry film pattern 608 for circuit formation of the outer layer.

(E)에서, 에칭을 실시한다. 이때, 에칭에 의해서도 Au 도금층(607)은 부식되지 않고 남게된다.In (E), etching is performed. At this time, the Au plating layer 607 is left without being corroded even by etching.

Au도금 표면은 화학적, 물리적으로 내구성, 내약품성 등이 강하여 구조적으로 안정한 레지스트 필름으로서의 역할을 충분히 수행할 수 있다. Au도금 마스킹은 에칭 용액등 많은 화학 약품에도 견고하게 남아 공동 벽면에 에칭 용액의 공격을 받지 않는다. The Au-plated surface has a strong chemical, physical durability, chemical resistance, etc., and can sufficiently serve as a structurally stable resist film. Au-plated masking remains robust against many chemicals such as etching solutions and is not attacked by the etching solution on the cavity walls.

또한, 전술한 바와 같이, 도1에 도시된 종래의 공동 내벽에 도금층이 없는 E-BGA 인쇄회로기판의 경우 접지 및 전원 연결을 위해 접지부(13) 및 전원부(14)를 따로 마련하고 여기에 와이어 본딩을 하여야 하지만, 본 발명에 따른 E-BGA 기판에서는 칩이 공동 내벽의 도금층에 직접 접속되어 이들 접지부(13) 및 전원부(14) 중 하나를 대신할 수 있으므로, 공정이 보다 쉬워진다.In addition, as described above, in the case of the E-BGA printed circuit board having no plating layer on the inner wall of the conventional cavity shown in FIG. 1, a grounding part 13 and a power supply part 14 are separately provided for grounding and power connection. Although wire bonding must be performed, in the E-BGA substrate according to the present invention, the chip can be directly connected to the plating layer of the cavity inner wall to replace one of these ground portions 13 and the power supply portion 14, thereby making the process easier.

(F)에서, 드라이 필름을 박리한다.In (F), a dry film is peeled off.

(G)에서, 포토 솔더 레지스트(610)를 도포하고, (H)에서, Ni/Au층(611)을 도금한다.In (G), the photo solder resist 610 is applied, and in (H), the Ni / Au layer 611 is plated.

이와 같이, 레지스트로서 도금되는 Au 도금층 외에 추가로 입혀지는 Ni/Au 도금층에 의해서도 별다른 두께 차이의 문제를 일으키지 않는다. 즉, 에칭 레지스트용 Au 도금층은 두께가 0.1-5㎛ 정도이고, Ni/Au 도금층의 두께는 0.5-10㎛으로서 Au의 이중 도금에 따른 두께 차이 등의 문제는 발생하지 않는다. 또한, 공동의 내벽에는 와이어 본딩도 가해지지 않을 것이므로 편평성(flatness)의 문제도 발생하지 않고, 따라서 Au 이중 도금에 따른 문제의 가능성은 더욱 적다.In this manner, the Ni / Au plating layer additionally coated in addition to the Au plating layer to be plated as a resist does not cause any problem of thickness difference. That is, the Au plating layer for etching resists has a thickness of about 0.1-5 μm, and the Ni / Au plating layer has a thickness of 0.5-10 μm, so that problems such as thickness differences due to double plating of Au do not occur. In addition, since no wire bonding will be applied to the inner wall of the cavity, there is no problem of flatness, and therefore the possibility of a problem due to Au double plating is even less.

여기에, 열방출을 위한 방열판에 흑화 처리 등의 표면 처리를 행하고, 위와 같이 제조한 인쇄회로기판과 접착시키면 본 발명에 따른 공동 내벽이 도금된 E-BGA 인쇄회로기판이 완성된다.Here, the surface of the heat dissipation plate for heat dissipation, such as blackening treatment and the like, and bonded to the printed circuit board prepared as described above is completed the E-BGA printed circuit board plated with the cavity inner wall according to the present invention.

본 발명의 제조 방법에 따라 종래의 공동 내벽이 도금되지 않은 E-BGA의 제조 공정을 활용하여, 최근의 추세에 부합하는 공동 내벽이 도금된 E-BGA를 제조할 수 있는 방법을 제공함으로써, 기존의 공정을 활용하고 궁극적으로 비용을 대폭 절감할 수 있다.In accordance with the manufacturing method of the present invention, by utilizing the conventional manufacturing process of the E-BGA is not plated inner cavity wall, by providing a method for producing an E-BGA plated cavity inner wall in accordance with the recent trend, Process and ultimately reduce costs.

이상의 본 발명에 대한 설명은 본 발명을 제한하려는 의도가 아니며, 단지 설명에 불과한 것이다. 당업자라면 여기에 본 발명의 범위 내에서 다양한 변형을 가할 수 있을 것이다. 본 발명의 범위는 전술한 실시예에 의해 한정되지 않고, 이하의 청구범위의 해석을 통해서만 제한된다.The above description of the present invention is not intended to limit the present invention, but is merely a description. Those skilled in the art will be able to make various modifications thereto within the scope of the present invention. The scope of the present invention is not limited by the above-described embodiment, but is limited only by the interpretation of the following claims.

도1은 그래픽용 칩-기판인 E-BGA 인쇄회로기판의 제품 사진.1 is a product photograph of an E-BGA printed circuit board which is a graphics chip-substrate.

도2는 도1의 E-BGA 인쇄회로기판을 A-A'을 따라 절단한 단면도.FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of the E-BGA printed circuit board of FIG. 1; FIG.

도3은 종래의 공동 내벽에 도금층이 없는 E-BGA 인쇄회로기판 제조 방법을 나타내는 흐름도.Figure 3 is a flow chart showing a conventional E-BGA printed circuit board manufacturing method without a plating layer on the inner wall of the cavity.

도4는 종래의 제조 방법을 이용하여 공동 내벽의 도금층을 보호하기 위한 방법으로서, 이상적인 경우(ideal case)의 흐름도.4 is a flow chart of an ideal case as a method for protecting a plating layer of a cavity inner wall using a conventional manufacturing method.

도5는 도4에 제시된 방법의 문제점을 나타내는 도면.5 illustrates a problem with the method presented in FIG.

도6a 및 6b는 본 발명에 따른 종래의 공정을 활용하여 공동 내벽에 도금층을 형성하는 방법을 나타내는 흐름도.6A and 6B are flowcharts illustrating a method of forming a plating layer on a cavity inner wall utilizing a conventional process according to the present invention.

※도면의 주요부분에 대한 설명※ Description of main parts of drawing

(21): 공동(cavity) (22): Au 도금층(21): cavity (22): Au plating layer

(61): Au 도금층(61): Au plating layer

Claims (7)

칩의 실장을 위한 공동(Cavity)이 형성된 E-BGA(Enhanced BGA) 다층 인쇄회로기판의 제조 방법에 있어서,In the manufacturing method of E-BGA (Enhanced BGA) multilayer printed circuit board having a cavity for mounting the chip, 상기 E-BGA 다층 인쇄회로기판의 내층 회로를 형성한 후 절연층 및 외층 회로를 위한 Cu를 적층하는 단계;Stacking Cu for an insulating layer and an outer layer circuit after forming an inner layer circuit of the E-BGA multilayer printed circuit board; 펀칭에 의해 칩이 실장될 부분에 상기 공동을 형성하는 단계;Forming the cavity in the portion where the chip is to be mounted by punching; 상기 기판의 표면 및 상기 공동의 내벽을 Cu 도금하는 단계;Cu plating the surface of the substrate and the inner wall of the cavity; 상기 공동의 내벽을 제외한 기판 전체에 드라이 필름을 도포하는 단계;Applying a dry film to the entire substrate except the inner wall of the cavity; 상기 공동의 내벽의 Cu 도금을 보호하도록, 상기 드라이 필름이 도포되지 않은 상기 공동의 내벽의 Cu 도금상에 Au를 도금하는 단계;Plating Au on Cu plating of the inner wall of the cavity not coated with the dry film to protect Cu plating of the inner wall of the cavity; 상기 기판에 외층 회로 형성을 위한 드라이 필름 패턴을 형성하는 단계;Forming a dry film pattern for forming an outer layer circuit on the substrate; 상기 기판을 에칭하는 단계;Etching the substrate; 상기 드라이 필름을 박리하는 단계;Peeling off the dry film; 포토 솔더 레지스트 층을 형성하는 단계; 및Forming a photo solder resist layer; And 금속 도금에 의해 표면처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 E-BGA 인쇄회로기판의 공동 내벽을 도금하는 방법.A method of plating a cavity inner wall of an E-BGA printed circuit board, comprising the step of surface treatment by metal plating. 삭제delete 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 펀칭에 의해 공동을 형성한 후에, 레이저 드릴링에 의해 블라인드 비아홀을 형성하는 단계; 및After forming the cavity by the punching, forming blind via holes by laser drilling; And 상기 Cu 도금에 의해 상기 기판의 표면 및 공동의 내벽을 도금하는 단계에서, 상기 블라인드 비아홀의 내벽도 동시에 Cu 도금하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 E-BGA 인쇄회로기판의 공동 내벽을 도금하는 방법.In the plating of the inner wall of the surface of the substrate and the cavity by the Cu plating, simultaneously plating the inner wall of the blind via hole further by plating the cavity inner wall of the E-BGA printed circuit board. Way. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 열방출을 위한 방열판(heat sink)에 표면처리를 하는 단계; 및Surface treatment on a heat sink for heat dissipation; And 상기 인쇄회로기판과 방열판을 접착제로 접착하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 E-BGA 인쇄회로기판의 공동 내벽을 도금하는 방법.And bonding the printed circuit board and the heat sink to each other with an adhesive. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 금속도금에 의한 표면처리단계에서 사용되는 금속의 재질은 Ni/Au 인 것을 특징으로 하는 E-BGA 인쇄회로기판의 공동 내벽을 도금하는 방법.The metal of the metal used in the surface treatment step by the metal plating is Ni / Au plating method for plating a cavity inner wall of the E-BGA printed circuit board. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 Au 도금층의 두께는 0.1-5㎛인 것을 특징으로 하는 E-BGA 인쇄회로기판의 공동 내벽을 도금하는 방법.The Au plating layer has a thickness of 0.1-5㎛ method for plating a cavity inner wall of the E-BGA printed circuit board. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 Ni/Au 도금층의 두께는 0.5-10㎛인 것을 특징으로 하는 E-BGA 인쇄회로기판의 공동 내벽을 도금하는 방법.The thickness of the Ni / Au plating layer is a method for plating a cavity inner wall of the E-BGA printed circuit board, characterized in that 0.5-10㎛.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100976202B1 (en) * 2008-04-29 2010-08-17 삼성전기주식회사 Manufacturing method for printed circuit board
WO2017179748A1 (en) * 2016-04-15 2017-10-19 손경애 Method for manufacturing printed circuit board and printed circuit board manufactured by same method
KR20170138220A (en) * 2016-06-07 2017-12-15 주식회사 엘지화학 High-current transfer methods utilizing the printed circuit board

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4520392B2 (en) * 2005-05-12 2010-08-04 株式会社丸和製作所 Printed circuit board manufacturing method
KR100771293B1 (en) * 2005-11-07 2007-10-29 삼성전기주식회사 Printed circuit board and method for manufacturing the same

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100976202B1 (en) * 2008-04-29 2010-08-17 삼성전기주식회사 Manufacturing method for printed circuit board
WO2017179748A1 (en) * 2016-04-15 2017-10-19 손경애 Method for manufacturing printed circuit board and printed circuit board manufactured by same method
KR20170138220A (en) * 2016-06-07 2017-12-15 주식회사 엘지화학 High-current transfer methods utilizing the printed circuit board
US10462911B2 (en) 2016-06-07 2019-10-29 Lg Chem, Ltd. High-current transmitting method utilizing printed circuit board
KR102046006B1 (en) * 2016-06-07 2019-11-18 주식회사 엘지화학 High-current transfer methods utilizing the printed circuit board

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