KR100771293B1 - Printed circuit board and method for manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

A printed circuit board and a manufacturing method thereof are provided to form easily a micro circuit pattern by minimizing an amount of etching on a plating layer, when an unnecessary seed layer is removed. A printed circuit board includes a base substrate, an outerlayer circuit pattern(180), and a solder resist pattern(190). At least one inner circuit pattern is formed inside an insulation layer in the base substrate. The outerlayer circuit pattern is formed on at least one surface of the base substrate and electrically connected to the innerlayer circuit pattern. The outerlayer circuit pattern includes a metal layer and a metal protective layer which is formed on the metal layer. The solder resist pattern is formed on the outerlayer circuit pattern such that at least a portion of the outerlayer circuit pattern is exposed. Different etching conditions are applied on the metal protective layer and the metal layer.

Description

인쇄회로기판 및 그 제조방법{Printed Circuit Board and Method for manufacturing the same}Printed Circuit Board and Method for manufacturing the same

도 1a 내지 도 1e는 종래의 일례에 따른 인쇄회로기판의 제조방법을 도시한 공정도이다. 1A to 1E are process diagrams illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to a conventional example.

도 2a는 종래의 인쇄회로기판에서 외층 회로패턴의 불량이 발생한 인쇄회로기판을 도시한 단면도이다. 2A is a cross-sectional view illustrating a printed circuit board in which a failure of an outer layer circuit pattern occurs in a conventional printed circuit board.

도 2b는 종래의 인쇄회로기판에서 외층 회로패턴의 불량이 발생한 인쇄회로기판을 도시한 평면도이다. 2B is a plan view illustrating a printed circuit board in which a failure of an outer layer circuit pattern occurs in a conventional printed circuit board.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄회로기판을 도시한 단면도이다. 3 is a cross-sectional view illustrating a printed circuit board according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄회로기판의 제조방법을 도시한 순서도이다. 4 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 5a 내지 도 5m은 발명의 일 실시예에 따른 인쇄회로기판의 제조방법을 도시한 공정도이다. 5A to 5M are process diagrams illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to an exemplary embodiment of the present invention.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 * Explanation of symbols on the main parts of the drawings

100 : 동박적층판 110, 130 : 절연층100: copper foil laminated plate 110, 130: insulating layer

112 : 동박층 114 : 내부 비아홀112: copper foil layer 114: internal via hole

116 : 도금층 120 : 내층 회로패턴116 plating layer 120 inner circuit pattern

132 : 블라인드 비아홀 140 : 시드층132: blind via hole 140: seed layer

150 : 외층 레지스트 패턴 160 : 동도금층150: outer layer resist pattern 160: copper plating layer

170 : 금속 보호층 180 : 외층 회로패턴170: metal protective layer 180: outer circuit pattern

190 : 솔더 레지스트 패턴 200 : 인쇄회로기판190: solder resist pattern 200: printed circuit board

본 발명은 인쇄회로기판 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 외층 회로패턴을 형성하기 위한 도금층 상면에 금속 보호층을 더 형성하는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판 및 그 제조방법.The present invention relates to a printed circuit board and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a printed circuit board and a method of manufacturing a metal protective layer on the upper surface of the plating layer for forming the outer circuit pattern.

인쇄회로기판(Printed Circuit Borad; PCB)이란 전자부품 상호 간의 전기배선을 회로설계에 기초하여, 절연기판 위에 도체를 형성하는 프린트 배선판으로 PCB기판, 프린트회로판 또는 인쇄배선기판(Printed Wiring Board)이라고 한다. 일반적으로 인쇄회로기판은 페놀수지 절연판 또는 에폭시수지 절연판 등의 표면에 구리 박판을 부착시킨 후, 회로의 배선패턴에 따라 에칭하여 필요한 회로를 구성하고 그 위에 IC, 콘덴서, 저항 등의 여러 가지 전기전자부품을 조밀하게 탑재할 수 있게 하는 절연평판이다. 즉, 각 전자부품 상호 간을 연결하는 회로를 절연판의 표면에 배선도모양으로 형성시킨 것이다. 인쇄회로기판은 배선회로판의 면수에 따라 단면 기판, 양면기판, 다층기판 등으로 분류되고 있으며, 층수가 많을수록 부품의 실장력이 우수하고 고정밀제품에 사용된다. Printed Circuit Board (PCB) is a printed wiring board that forms conductors on insulating boards based on circuit design. The electrical wiring between electronic components is called a PCB board, printed circuit board, or printed wiring board. . In general, a printed circuit board is formed by attaching a copper thin plate to a surface of a phenol resin insulator or an epoxy resin insulator, and then etching it according to the wiring pattern of the circuit to form a necessary circuit, and various electrical and electronic devices such as IC, capacitor, and resistor thereon. It is an insulating flat plate that allows compact mounting of parts. That is, a circuit for connecting the electronic components with each other is formed in the shape of a wiring diagram on the surface of the insulating plate. Printed circuit boards are classified into single-sided boards, double-sided boards, and multi-layered boards according to the number of wiring circuit boards. The more layers, the better the mounting force of the parts and they are used for high precision products.

단면 인쇄회로기판은 주로 페놀원판을 기판으로 사용하며 TV, 라디오, 오디오, 전화기 등 간단한 가정용 전자기기와 계측기 등 회로구성이 비교적 복잡하지 않은 제품에 사용된다. 양면 인쇄회로기판은 주로 에폭시 수지로 만든 원판을 사용하며 컬러TV, VTR, 팩시밀리 등 비교적 회로가 복잡한 제품에 사용된다. 또한, 다층 인쇄회로기판은 32비트 이상의 컴퓨터, 전자교환기, 고성능 통신기기 등 고정밀기기에 사용된다.Single-sided printed circuit boards mainly use phenolic discs as substrates, and are used in products such as TVs, radios, audios, telephones, and other simple household electronics and instruments, which are relatively intricate in circuit configuration. The double-sided printed circuit board mainly uses a plate made of epoxy resin and is used for relatively complicated circuits such as color TV, VTR, and facsimile. In addition, multilayer printed circuit boards are used in high-precision devices, such as 32-bit or more computers, electronic switchgear, high-performance communication equipment.

한편 전자기기는 점점 소형화, 다기능화되고 있으며 기판에 탑재되는 저항, 콘덴서 등의 형태도 매우 작은 크기로 제조되어 다층 인쇄회로기판의 소자로써 이용되고 있으며, 이에 따른 인쇄회로기판의 배선회로 역시 고도화하기 위해 가늘고 정밀해지고 있으며, 이에 따른 다양한 기술을 필요로 하게 되었다. On the other hand, electronic devices are becoming smaller and more versatile, and the types of resistors and capacitors mounted on the boards are also manufactured in very small sizes and are used as elements of multilayer printed circuit boards. For this reason, it is becoming thinner and more precise, and thus requires various technologies.

도 1a 내지 도 1e는 종래의 일례에 따른 인쇄회로기판의 제조방법을 도시한 공정도로써, 이를 참조하여 설명한다. 1A to 1E are process diagrams illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to a conventional example, which will be described with reference to the drawings.

먼저, 도 1a에 도시된 바와 같이, 절연층(1)의 양면에 서로 전기적으로 연결되는 회로패턴(2)을 형성하고 절연층(3)을 적층한다. First, as shown in FIG. 1A, circuit patterns 2 electrically connected to each other are formed on both surfaces of the insulating layer 1, and the insulating layers 3 are stacked.

이후, 도 1b에 도시된 바와 같이, 절연층(3)에 블라인드 비아홀(4)을 형성하고 무전해 동도금을 수행하여 시드층(5)을 형성한다. Thereafter, as shown in FIG. 1B, the blind via hole 4 is formed in the insulating layer 3 and the seed layer 5 is formed by performing electroless copper plating.

다음으로, 도 1c에 도시된 바와 같이, 시드층(5) 상면에 레지스트 패턴(6)을 형성하고, 전해 동도금을 수행하여 도금층(7)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 1C, the resist pattern 6 is formed on the top surface of the seed layer 5, and the plating layer 7 is formed by performing electrolytic copper plating.

이때, 도금층(7)은 이후 레지스트 패턴(6)에 대응하는 시드층(5)의 에칭 공정시 함께 에칭되므로, 소망하는 높이에서 에칭 공정시 제거되는 높이를 고려하여 충분한 높이를 갖도록 형성한다. At this time, since the plating layer 7 is later etched together during the etching process of the seed layer 5 corresponding to the resist pattern 6, the plating layer 7 is formed to have a sufficient height in consideration of the height to be removed during the etching process.

이후, 도 1d에 도시된 바와 같이, 레지스트 패턴(6)을 제거하고 노출된 시드층(5)을 에칭하여 외층 회로패턴(8)을 형성한다. Thereafter, as shown in FIG. 1D, the resist pattern 6 is removed and the exposed seed layer 5 is etched to form the outer circuit pattern 8.

다음으로, 도 1e에 도시된 바와 같이, 외층 회로패턴(8) 중 외부 단자와 연결되는 영역을 제외하고 나머지 외층 회로패턴(8)을 보호하기 위한 솔더 레지스트 패턴(9)을 형성함으로써, 인쇄회로기판(10)을 완성한다. Next, as shown in FIG. 1E, by forming a solder resist pattern 9 for protecting the remaining outer circuit pattern 8 except for a region connected to an external terminal among the outer circuit patterns 8, a printed circuit The substrate 10 is completed.

상술한 바와 같이 종래의 인쇄회로기판의 제조방법에 있어서는, 고밀도의 외층 회로패턴(8)을 형성하기 위하여, 절연층(3) 상면에 시드층(5)을 형성하고, 레지스트 패턴(6)을 형성한 후, 전해 동도금을 수행하여 도금층(7)을 형성하고, 레지스트 패턴(6) 및 레지스트 패턴(6)에 대응하는 시드층(5)을 제거한다. 이때, 시드층(5)과 도금층(7)은 모두 구리로 형성되어 있으므로, 레지스트 패턴(6)에 대응하는 시드층(5)을 제거하기 위하여 에칭 공정을 수행하면 도금층(7)도 함께 일부가 제거된다. 따라서, 도금층(7) 형성시, 레지스트 패턴(6)에 대응하는 시드층(5)을 제거하기 위하여 수행되는 에칭 공정에 의해 제거될 높이 만큼 더 형성해야하는 문제점이 있었다. As described above, in the conventional method of manufacturing a printed circuit board, in order to form a high-density outer circuit pattern 8, the seed layer 5 is formed on the upper surface of the insulating layer 3, and the resist pattern 6 is formed. After the formation, the plating layer 7 is formed by electrolytic copper plating, and the resist pattern 6 and the seed layer 5 corresponding to the resist pattern 6 are removed. At this time, since the seed layer 5 and the plating layer 7 are all formed of copper, when the etching process is performed to remove the seed layer 5 corresponding to the resist pattern 6, the plating layer 7 is partially removed. Removed. Therefore, when the plating layer 7 is formed, there is a problem in that it must be further formed by a height to be removed by an etching process performed to remove the seed layer 5 corresponding to the resist pattern 6.

또한, 이렇게 소망하는 높이에서 에칭 공정시 최대로 제거될 높이만큼 도금층(7)을 더 형성하게 되면, 에칭 공정을 수행할 때, 에칭액에 노출되는 도금층(7)의 표면적이 넓어져 에칭액의 어택(attack)을 많이 받게되므로 외층 회로패턴(8)의 불량을 발생시키는 문제점이 있었다. In addition, if the plating layer 7 is further formed at the desired height by the height to be removed at the maximum during the etching process, the surface area of the plating layer 7 exposed to the etching solution becomes wide when the etching process is performed, and thus the attack of the etching solution ( Since a large number of attacks were received, there was a problem of causing a failure of the outer circuit pattern 8.

도 2a 및 도 2b는 종래의 인쇄회로기판에서 외층 회로패턴의 불량이 발생한 인쇄회로기판의 단면도 및 평면도를 도시된 것으로, 이를 참조하면 도 2a는 시드층(5) 에층시, 회로패턴을 형성하는 도금층(7)의 측면이 과에칭 되어 언더컷(undercut)이 형성된 회로패턴(8)이 도시되어 있고, 도 2b는 언더컷으로 인하여 외층 회로패턴(8)과 절연층(3) 간의 층간 들뜸(delamination)이 일어나 외층 회로패턴(8)이 이탈된 것을 보여주고 있다. 2A and 2B illustrate a cross-sectional view and a plan view of a printed circuit board on which a failure of an outer layer circuit pattern occurs in a conventional printed circuit board. Referring to FIG. 2A, a circuit pattern is formed when a seed layer 5 is laminated. A circuit pattern 8 in which an undercut is formed by overetching the side surface of the plating layer 7 is illustrated, and FIG. 2B shows the interlayer delamination between the outer circuit pattern 8 and the insulating layer 3 due to the undercut. This has occurred and shows that the outer circuit pattern 8 is separated.

이처럼, 시드층(5) 에칭시 발생되는 도금층(7)의 에칭양을 고려하여 소망하는 도금층보다 더 크게 도금층(7)을 형성해야 하므로, 인쇄회로기판의 고밀도화 및 소형화 구현에 한계를 가져오게 되고, 미세회로패턴 형성을 위하여 도금층(7)의 크기를 작게 형성할 경우는 배선간의 단락 등 불량이 발생하여 인쇄회로기판의 신뢰성을 크게 저하시키는 문제점이 있었다. As described above, the plating layer 7 must be formed larger than the desired plating layer in consideration of the etching amount of the plating layer 7 generated during the etching of the seed layer 5, thereby limiting the implementation of high density and miniaturization of a printed circuit board. In the case where the size of the plating layer 7 is made small to form a fine circuit pattern, defects such as short circuits occur between wires, which greatly reduces the reliability of the printed circuit board.

본 발명은 상술한 바와 같은 문제를 해결하기 위하여, 외층 회로패턴 형성을 위한 시드층 에칭 공정시 도금층에 가해지는 에칭액의 어택(attack)을 최소화하여 회로패턴의 불량을 저하시킴으로써 인쇄회로기판의 신뢰성을 향상시키는 인쇄회로기판 및 그 제조방법을 제공한다. In order to solve the above problems, the present invention minimizes the attack of the etchant applied to the plating layer in the seed layer etching process for forming the outer layer circuit pattern, thereby reducing the defect of the circuit pattern, thereby improving reliability of the printed circuit board. Provided are a printed circuit board and a method of manufacturing the same.

또한, 본 발명은 상술한 바와 같은 문제를 해결하기 위하여, 시드층 에칭 공정시 발생하는 에칭액의 어택의 상관없이 소망하는 크기로만 도금층을 형성하여 미세 회로패턴을 구현하는 인쇄회로기판 및 그 제조방법을 제공한다. The present invention also provides a printed circuit board and a method of manufacturing the same to form a fine circuit pattern by forming a plating layer only to a desired size irrespective of the attack of the etching liquid generated during the seed layer etching process in order to solve the problems described above. to provide.

상기 기술적 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은, 절연층 내부에 적어도 하나의 내층 회로패턴이 형성된 베이스 기판; 상기 베이스 기판의 적어도 일면에 형성되어 상기 내층 회로패턴과 전기적으로 연결되며 금속층 및 금속층 상면에 형성된 금속 보호층을 포함하는 외층 회로패턴; 및 상기 외층 회로패턴 상면에 상기 외층 회로패턴의 적어도 일부가 노출되도록 형성된 솔더 레지스트 패턴;을 포함하고, 상기 금속 보호층은 상기 금속층과 에칭 요건이 상이한 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판을 제공한다. In order to solve the above technical problem, the present invention, the base substrate formed with at least one inner circuit pattern in the insulating layer; An outer circuit pattern formed on at least one surface of the base substrate and electrically connected to the inner circuit pattern and including a metal layer and a metal protective layer formed on an upper surface of the metal layer; And a solder resist pattern formed to expose at least a portion of the outer circuit pattern on an upper surface of the outer circuit pattern, wherein the metal protective layer has different etching requirements from the metal layer.

본 발명에 따른 인쇄회로기판의 있어서, 금속 보호층은 금속층과 에칭 요건이 상이한 것을 특징으로 한다. In the printed circuit board according to the present invention, the metal protective layer is characterized by different etching requirements from the metal layer.

또한, 본 발명에 따른 인쇄회로기판의 있어서, 금속 보호층은 금속층보다 두께가 얇은 것을 특징으로 한다. In the printed circuit board according to the present invention, the metal protective layer is thinner than the metal layer.

또한, 본 발명에 따른 인쇄회로기판의 있어서, 금속층은 구리층인 것을 특징으로 한다. In addition, in the printed circuit board according to the present invention, the metal layer is characterized in that the copper layer.

또한, 본 발명에 따른 인쇄회로기판의 있어서, 금속층은 시드층 및 도금층으로 구성되는 것을 특징으로 한다. In addition, in the printed circuit board according to the present invention, the metal layer is characterized by consisting of a seed layer and a plating layer.

또한, 본 발명에 따른 인쇄회로기판의 있어서, 솔더 레지스트 패턴은 절연 물질로 형성되는 것을 특징으로 한다. In the printed circuit board according to the present invention, the solder resist pattern is formed of an insulating material.

상기 기술적 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은, (A) 적어도 하나의 내층 회로패턴이 내부에 형성된 절연층에 비아홀을 형성하여 베이스 기판을 제공하는 단계, (B) 베이스 기판의 적어도 일면에 시드층을 형성하는 단계, (C) 시드층 상면에 외층 레지스트 패턴을 형성하고 전해 도금을 수행하여 도금층을 형성하는 단계, (D) 도금층 상면에 금속 보호층을 형성하는 단계, (E) 외층 레지스트 패턴을 제거하고 노출된 시드층을 제거하여 상기 내층 회로패턴과 전기적으로 연결되는 외층 회로패턴을 형성하는 단계, 및 (F) 외층 회로패턴 상면에 일부 외층 회로패턴이 노출되도록 솔더 레지스트 패턴을 형성하는 단계를 포함하고, (E) 단계에서 금속 보호층은 제거되지 않는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 제조방법을 제공한다. In order to solve the above technical problem, the present invention, (A) at least one inner layer circuit pattern to form a via hole in the insulating layer formed therein to provide a base substrate, (B) a seed layer on at least one surface of the base substrate Forming a plating layer by (C) forming an outer layer resist pattern on an upper surface of the seed layer and performing electroplating, (D) forming a metal protective layer on an upper surface of the plating layer, and (E) forming an outer layer resist pattern Removing and removing the exposed seed layer to form an outer circuit pattern electrically connected to the inner circuit pattern, and (F) forming a solder resist pattern to expose some outer circuit patterns on the upper surface of the outer circuit pattern. It includes, and provides a method of manufacturing a printed circuit board, characterized in that the metal protective layer is not removed in step (E).

본 발명에 따른 인쇄회로기판의 제조방법에 있어서, 금속 보호층은 시드층과 에칭 요건이 상이한 것을 특징으로 한다. In the method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention, the metal protective layer is characterized in that the seed layer and the etching requirements are different.

또한, 본 발명에 따른 인쇄회로기판의 제조방법에 있어서, 시드층과 도금층은 동일한 금속층으로 형성되는 것을 특징으로 한다. In the method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention, the seed layer and the plating layer are formed of the same metal layer.

또한, 본 발명에 따른 인쇄회로기판의 제조방법에 있어서, 시드층과 도금층은 구리로 형성되는 것을 특징으로 한다. In the method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention, the seed layer and the plating layer are formed of copper.

또한, 본 발명에 따른 인쇄회로기판의 제조방법에 있어서, 금속 보호층은 니켈, 주석, 금, 백금, 아연 중 적어도 하나로 형성되는 것을 특징으로 한다. In the method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention, the metal protective layer is formed of at least one of nickel, tin, gold, platinum, and zinc.

또한, 본 발명에 따른 인쇄회로기판의 제조방법에 있어서, (E) 단계 이후에, (G) 금속 보호층을 제거하여 시드층 및 도금층으로 구성된 외층 회로패턴을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다. In addition, in the method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention, after the step (E), (G) further comprises the step of forming an outer circuit pattern consisting of a seed layer and a plating layer by removing the metal protective layer. It is done.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시형태를 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, preferred embodiment of this invention is described with reference to an accompanying drawing.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄회로기판의 단면도이다. 3 is a cross-sectional view of a printed circuit board according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 3을 참조하여 설명하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄회로기판(200)은 절연층(130) 내부에 적어도 하나의 내층 회로패턴(120)이 형성된 베이스 기판, 베이스 기판 상면에 형성되어 베이스 기판의 내부 회로패턴(120)과 전기적으로 연결되며 금속층(140, 160) 및 금속 보호층(170)을 포함하는 외층 회로패턴(180), 및 외층 회로패턴(180) 상면에 외층 회로패턴(180)의 적어도 일부가 노출되도록 형성된 솔더 레지스트 패턴(190)을 포함한다. Referring to FIG. 3, the printed circuit board 200 according to the exemplary embodiment of the present invention is formed on a base substrate and an upper surface of the base substrate on which at least one inner layer circuit pattern 120 is formed in the insulating layer 130. An outer circuit pattern 180 electrically connected to the inner circuit pattern 120 of the base substrate and including the metal layers 140 and 160 and the metal protective layer 170, and an outer circuit pattern on the upper surface of the outer circuit pattern 180. The solder resist pattern 190 is formed to expose at least a portion of the 180.

여기서, 베이스 기판의 절연층(130) 내에 형성된 내부 회로패턴(120)은 그 사이에 절연층(110)이 형성되어 있으므로 내부 회로패턴(120)에 비아홀(114)을 형성하여 서로 전기적으로 연결되도록 한다. Here, since the insulating layer 110 is formed between the internal circuit patterns 120 formed in the insulating layer 130 of the base substrate, the via holes 114 are formed in the internal circuit patterns 120 to be electrically connected to each other. do.

외층 회로패턴(180)을 형성하는 금속층(140, 160)은 시드층(140) 및 동도금층(160)으로 구성되고, 이때, 시드층(140) 및 동도금층(160)은 같은 금속, 예컨대 구리로 형성되는 것이 바람직하다. 또한, 금속 보호층(170)은 금속층(140, 160)보다 얇은 두께로 시드층(140) 및 동도금층(160)과 다른 에칭 요건을 갖는 금속으로 형성된다. 일례로, 니켈, 주석, 금, 백금, 아연 등으로 형성될 수 있다. The metal layers 140 and 160 forming the outer circuit pattern 180 may be formed of the seed layer 140 and the copper plating layer 160. In this case, the seed layer 140 and the copper plating layer 160 may be formed of the same metal, for example, copper. It is preferable to form. In addition, the metal protective layer 170 is formed of a metal having a different etching requirement from the seed layer 140 and the copper plating layer 160 to a thickness thinner than the metal layers 140 and 160. For example, it may be formed of nickel, tin, gold, platinum, zinc, or the like.

솔더 레지스트 패턴(190)은 외부 단자와 연결되는 외층 회로패턴(180)의 일부를 제외하고 그 나머지 외층 회로패턴(180)을 보호하기 위해 형성된 것으로, 절연 물질로 형성된다. The solder resist pattern 190 is formed to protect the remaining outer circuit pattern 180 except for a part of the outer circuit pattern 180 connected to the external terminal, and is formed of an insulating material.

이후, 도 4 내지 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄회로기판의 제조방법을 나타낸 도면이다. 4 to 5 are views illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to an embodiment of the present invention.

여기서, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄회로기판의 제조방법을 도 시한 순서도이고, 도 5a 내지 도 5m은 도 4에 따른 인쇄회로기판의 제조방법을 상세하게 도시한 공정도이다. 4 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIGS. 5A to 5M are detailed flowcharts illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to FIG. 4.

먼저, 도 4를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄회로기판의 제조방법을 설명하면 다음과 같다.First, a manufacturing method of a printed circuit board according to an exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 4.

베이스 기판을 제공한다(S100).A base substrate is provided (S100).

베이스 기판은 적어도 일면에 동박층이 형성된 동박적층판에 내층 회로패턴을 형성하고, 반경화 상태의 절연층을 적층한 후, 회로패턴에 대응하는 비아홀을 형성하여 제공할 수 있다. The base substrate may be formed by forming an inner circuit pattern on at least one surface of a copper foil laminated plate having a copper foil layer formed thereon, stacking an insulating layer in a semi-cured state, and forming a via hole corresponding to the circuit pattern.

여기서, 비아홀은 CNC 드릴(Computer Numerical Control Drill) 등의 기계 드릴을 사용하여 베이스 기판을 관통하는 관통홀 및 레이저 드릴을 사용하여 회로패턴에 대응하는 절연층에 형성하는 블라인드 비아홀을 포함할 수 있다. Here, the via hole may include a through hole penetrating the base substrate using a mechanical drill such as a Computer Numerical Control Drill, and a blind via hole formed in an insulating layer corresponding to a circuit pattern using a laser drill.

이후, 베이스 기판의 적어도 일면에 시드층을 형성한다(S200).Thereafter, a seed layer is formed on at least one surface of the base substrate (S200).

시드층은 절연층에 외층 회로패턴을 형성하고 비아홀에 도금층을 형성하기 위한 전처리로, 절연층의 표면에 도전성을 부여하기 위하여 무전해 동도금으로 형성될 수 있다. The seed layer is a pretreatment for forming an outer circuit pattern in the insulating layer and a plating layer in the via hole, and may be formed of electroless copper plating to impart conductivity to the surface of the insulating layer.

다음으로, 시드층 상면에 외층 레지스트 패턴을 형성하고 도금층을 형성한다(S300).Next, an outer layer resist pattern is formed on the seed layer upper surface and a plating layer is formed (S300).

외층 레지스트 패턴은 외층 회로패턴에 대응하는 패턴이 형성된 것으로, 일례로, 감광성 물질을 이용하여 포토리소그래피 공법으로 형성할 수 있다. 이렇게 형성된 외층 레지스트 패턴에 전해 동도금을 수행하면 외층 레지스트 패턴 사이에 동도금층이 형성되어, 시드층과 함께 동금속층을 형성할 수 있다. The outer layer resist pattern is formed with a pattern corresponding to the outer layer circuit pattern. For example, the outer layer resist pattern may be formed by a photolithography method using a photosensitive material. When electrolytic copper plating is performed on the outer layer resist pattern thus formed, a copper plating layer is formed between the outer layer resist patterns, thereby forming a copper metal layer together with the seed layer.

이후, 도금층 상면에 금속 보호층을 형성한다(S400).After that, a metal protective layer is formed on the plating layer (S400).

도금층 상면에 형성된 금속 보호층은 이후, 시드층 제거시 도금층을 보호하기 위한 것으로, 시드층 및 도금층을 구성하는 금속과 다른 금속으로 형성된다. 예컨대, 시드층 및 도금층을 무전해 동도금 및 전해 동도금으로 형성하였을 경우, 금속 보호층은 니켈 도금으로 형성하여 도금층을 보호할 수 있다. The metal protective layer formed on the upper surface of the plating layer is for protecting the plating layer when the seed layer is removed, and is formed of a metal different from the metal constituting the seed layer and the plating layer. For example, when the seed layer and the plating layer are formed of electroless copper plating and electrolytic copper plating, the metal protective layer may be formed of nickel plating to protect the plating layer.

이렇게 도금층과 금속 성분이 다른 금속 보호층을 도금층 상면에 형성하면, 도금층과 금속 성분이 같은 시드층의 일부를 제거하기 위하여 에칭 공정을 수행하여도, 금속 보호층에 의해 노출된 도금층의 표면적이 적기 때문에 과에칭으로 인한 도금층의 불량을 최소화할 수 있다. 따라서, 시드층 제거시 함께 에칭되는 도금층의 여유분을 더 형성하지 않아도 소망하는 미세 외층 회로패턴을 형성하는 효과를 가져올 수 있다. If the metal protective layer having a different metal layer from the plating layer is formed on the upper surface of the plating layer, the surface area of the plating layer exposed by the metal protective layer is small even if an etching process is performed to remove a part of the seed layer where the plating layer and the metal component are the same. Therefore, the defect of the plating layer due to overetching can be minimized. Therefore, it is possible to bring about an effect of forming a desired fine outer layer circuit pattern without further forming a margin of the plating layer which is etched together when removing the seed layer.

이때, 금속 보호층은 무전해 도금으로 형성가능하지만, 전해 도금으로 형성하여 도금층 상면에만 형성하는 것이 바람직하다. At this time, the metal protective layer may be formed by electroless plating, but it is preferable that the metal protective layer is formed by electroplating and formed only on the upper surface of the plating layer.

다음으로, 외층 레지스트 패턴을 제거하고 노출된 시드층을 제거하여 베이스 기판의 회로패턴과 전기적으로 연결되는 외층 회로패턴을 형성한다(S500).Next, the outer layer resist pattern is removed and the exposed seed layer is removed to form an outer layer circuit pattern electrically connected to the circuit pattern of the base substrate (S500).

외층 레지스트 패턴을 제거한 후, 노출된 시드층을 에칭 처리하여 제거하면, 시드층 및 도금층으로 형성된 동금속층과 금속 보호층을 포함하는 외층 회로패턴을 형성할 수 있다. 이때, 노출된 시드층 제거시, 금속 보호층에 의해 도금층은 최소 부위만 노출되어 과에칭에 의한 불량없이 소망하는 미세 외층 회로패턴을 형성할 수 있다. After removing the outer layer resist pattern, the exposed seed layer is removed by etching to form an outer layer circuit pattern including a copper metal layer and a metal protective layer formed of the seed layer and the plating layer. At this time, when the exposed seed layer is removed, the plating layer may be exposed to only a minimum portion by the metal protective layer, thereby forming a desired fine outer circuit pattern without defects due to overetching.

여기서, 외층 회로패턴은 비아홀에 의해 절연층 내에 형성된 내층 회로패턴과 전기적으로 연결될 수 있다. The outer circuit pattern may be electrically connected to the inner circuit pattern formed in the insulating layer by the via hole.

이후, 외층 회로패턴 상면에 일부 외층 회로패턴이 노출되도록 솔더 레지스트 패턴을 형성하여 인쇄회로기판을 형성한다(S600).Thereafter, a solder resist pattern is formed on the upper surface of the outer circuit pattern to expose a portion of the outer circuit pattern to form a printed circuit board (S600).

솔더 레지스트 패턴은 외층 회로패턴에서 부품이 실장되는 일부 외층 회로패턴을 제외하고 나머지 외층 회로패턴을 보호하기 위한 것으로 이후, 접속 단자의 용해 온도에서도 충분히 견디는 내열성 수지로 형성하는 것이 바람직하다. The solder resist pattern is intended to protect the remaining outer circuit pattern except for some outer circuit patterns in which components are mounted in the outer circuit pattern, and then, the solder resist pattern is preferably formed of a heat resistant resin that can sufficiently withstand the melting temperature of the connection terminal.

이때, 실시예에 따라서, 금속 보호층을 제거한 후 솔더 레지스트 패턴을 형성할 수 있다. At this time, according to the embodiment, after removing the metal protective layer may form a solder resist pattern.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 인쇄회로기판의 제조방법에 있어서는, 절연층 상면에 외층 회로패턴을 형성하기 위하여, 무전해 동도금으로 시드층을 형성하고, 외층 레지스트 패턴을 형성한 후, 동도금층뿐만 아니라 동도금층 상면에 금속 보호층도 형성함으로써, 외층 레지스트 패턴 제거시 노출되는 시드층을 제거하기 위한 에칭 공정을 수행하여도 동도금층은 금속 보호층에 의해 보호되므로 과에칭에 대한 불량없이 소망하는 동도금층만 형성하여 미세 외층 회로패턴을 형성할 수 있는 효과를 가져올 수 있다. As described above, in the method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention, in order to form an outer circuit pattern on the upper surface of the insulating layer, a seed layer is formed of electroless copper plating, and after forming an outer layer resist pattern, the copper plating layer In addition, by forming a metal protective layer on the upper surface of the copper plating layer, even if the etching process for removing the seed layer exposed during the removal of the outer layer resist pattern is carried out, the copper plating layer is protected by the metal protective layer so that it is desired without defects on overetching. Only the copper plating layer may be formed to bring about an effect of forming a fine outer circuit pattern.

도 5a 내지 도 5m은 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄회로기판을 제조하는 방법을 도시한 공정도로써, 이를 참조하여 설명하면 다음과 같다.5A to 5M are process diagrams illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to an exemplary embodiment of the present invention.

먼저, 도 5a에 도시된 바와 같이, 절연층(110)의 양면에 동박층(112)이 개재 된 동박적층판(100)을 제공한다. First, as shown in FIG. 5A, the copper foil laminated plate 100 having the copper foil layer 112 interposed on both surfaces of the insulating layer 110 is provided.

여기서, 절연층(110)은 전기적인 특성뿐만 아니라 기계적 강도도 충분하고 온도에 의한 치수변화가 작도록 보강기재가 포함된 수지층을 사용하는 것이 바람직하다. Here, it is preferable to use the resin layer including the reinforcing base material such that the insulating layer 110 has sufficient mechanical strength as well as electrical characteristics and small dimensional change due to temperature.

이후, 도 5b에 도시된 바와 같이, 동박적층판(100)에 내부 비아홀(114)을 형성한다. Thereafter, as illustrated in FIG. 5B, an inner via hole 114 is formed in the copper-clad laminate 100.

내부 비아홀(114)은 이후 절연층(110)에 양면에 형성될 내층 회로패턴을 서로 전기적으로 연결시키기 위한 것으로, 예컨대, CNC 드릴과 같은 기계 드릴링으로 형성할 수 있다. The inner via hole 114 is for electrically connecting the inner circuit patterns to be formed on both sides of the insulating layer 110 to each other. For example, the inner via hole 114 may be formed by mechanical drilling such as a CNC drill.

다음으로, 도 5c에 도시된 바와 같이, 내부 비아홀(114)이 형성된 동박적층판(100)에 도금층(116)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 5C, the plating layer 116 is formed on the copper-clad laminate 100 having the inner via hole 114 formed thereon.

내부 비아홀(114)은 내벽에 절연층(110)을 포함하고 있으므로, 무전해 도금 및 전해 도금을 수행하여 도금층(116)을 형성함으로써 내부 비아홀(114)에 도전성을 부여할 수 있다. Since the inner via hole 114 includes the insulating layer 110 on the inner wall, electrolytic plating and electrolytic plating may be performed to form the plating layer 116 to impart conductivity to the inner via hole 114.

여기서, 무전해 동도금을 수행한 후 전해 동도금을 수행하는 이유는 전기분해에 의한 전해 동도금을 절연층(110) 상에 직접 실시할 수 없기 때문이다. 따라서, 화학동도금인 무전해 동도금을 수행한 후, 전해 동도금을 실시하여 도금층(116)을 형성할 수 있다. 또한, 무전해 동도금만으로는 도금막을 두껍게 하기 어렵고, 물성도 전해 동도금에 미치지 못하여 전해 동도금을 함께 수행하는 것이 바람직하다. Here, the electrolytic copper plating after electroless copper plating is performed because electrolytic copper plating by electrolysis cannot be directly performed on the insulating layer 110. Therefore, after performing electroless copper plating, which is chemical copper plating, electrolytic copper plating may be performed to form the plating layer 116. In addition, electroless copper plating alone makes it difficult to thicken the plating film, and it is preferable that the electrolytic copper plating is performed together since the physical properties thereof do not reach the electrolytic copper plating.

이후, 도 5d에 도시된 바와 같이, 도금층(116)이 형성된 동박층(112)에 내층 회로패턴(120)을 형성한다. Thereafter, as illustrated in FIG. 5D, the inner circuit pattern 120 is formed on the copper foil layer 112 on which the plating layer 116 is formed.

내층 회로패턴(120)은 일례로, 도금층(116)이 형성된 동박층(112)의 상면에 감광성 물질(미도시)을 도포하고 패턴이 형성된 아트워크 필름을 밀착시킨 후, 노광 및 현상 공정을 수행하여 에칭 레지스트 패턴을 형성하고 에칭 공정을 수행하는 포토리소그래피(photolithography) 공법으로 형성할 수 있다. For example, the inner circuit pattern 120 may be formed by applying a photosensitive material (not shown) to the upper surface of the copper foil layer 112 on which the plating layer 116 is formed, adhering the artwork film on which the pattern is formed, and then performing exposure and development processes. By forming an etching resist pattern may be formed by a photolithography method that performs an etching process.

이때, 절연층(110)의 양면에 형성된 내층 회로패턴(120)은 도금층(116)이 형성된 내부 비아홀(114)에 의해 서로 전기적으로 연결될 수 있다. In this case, the inner circuit patterns 120 formed on both surfaces of the insulating layer 110 may be electrically connected to each other by the inner via hole 114 in which the plating layer 116 is formed.

다음으로, 도 5e에 도시된 바와 같이, 내층 회로패턴(120) 상면에 절연층(130)을 적층한다.Next, as shown in FIG. 5E, the insulating layer 130 is stacked on the upper surface of the inner circuit pattern 120.

여기서, 절연층(130)은 바람직하게, 유리섬유에 열경화성 수지를 침투시켜 반 경화상태로 만든 프리프레그(prepreg)를 사용하여 별도의 접착제를 사용하지 않아도 소정의 열과 압력에 의해 내층 회로패턴(120) 상면에 용이하게 적층될 수 있도록 한다. In this case, the insulating layer 130 is preferably a prepreg made by penetrating the thermosetting resin into the glass fiber and made into a semi-cured state. ) It can be easily stacked on the upper surface.

이후, 도 5f에 도시된 바와 같이, 절연층(130)에 내층 회로패턴(120)과 대응하는 블라인드 비아홀(132)을 형성하여 베이스 기판(135)을 형성한다. Subsequently, as illustrated in FIG. 5F, a blind via hole 132 corresponding to the inner circuit pattern 120 is formed in the insulating layer 130 to form the base substrate 135.

블라인드 비아홀(132)은 내층 회로패턴(120)과 이후 형성될 외층 회로패턴을 전기적으로 연결시키기 위한 것으로, 내층 회로패턴(120)에 대응하는 부분에 co2 레이저 드릴과 같은 레이저 드릴을 이용하여 형성할 수 있다. The blind via hole 132 is for electrically connecting the inner circuit pattern 120 and the outer circuit pattern to be formed later. The blind via hole 132 may be formed using a laser drill such as a co2 laser drill in a portion corresponding to the inner circuit pattern 120. Can be.

실시예에 따라서, 기계 드릴을 이용하여 베이스 기판(135)을 관통하는 관통 홀(미도시)을 베이스 기판(135)에 더 형성할 수 있다. According to an embodiment, through holes (not shown) penetrating the base substrate 135 may be further formed in the base substrate 135 using a mechanical drill.

다음으로, 도 5g에 도시된 바와 같이, 베이스 기판(135) 양면에 시드층(140)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 5G, the seed layer 140 is formed on both surfaces of the base substrate 135.

시드층(140)은 외층 회로패턴을 형성할 도금층을 형성하기 위한 전처리 공정으로, 전기분해에 의한 도금층을 절연층(130) 상면에 직접 수행할 수 없기 때문에 무전해 도금을 수행하여 형성되는 시드층(140)을 먼저 형성한다. The seed layer 140 is a pretreatment process for forming a plating layer for forming an outer circuit pattern. Since the plating layer by electrolysis cannot be directly performed on the upper surface of the insulating layer 130, the seed layer is formed by performing electroless plating. 140 is first formed.

여기서, 시드층(140)은 구리(Cu)를 이용한 무전해 동도금으로 형성하는 것이 바람직하다. Here, the seed layer 140 is preferably formed of an electroless copper plating using copper (Cu).

이후, 도 5h에 도시된 바와 같이, 시드층(140) 상면에 외층 회로패턴을 위한 외층 레지스트 패턴(150)을 형성한다. Subsequently, as shown in FIG. 5H, an outer layer resist pattern 150 for an outer layer circuit pattern is formed on the seed layer 140.

외층 레지스트 패턴(150)은 외층 회로패턴에 대응하는 부분이 오픈되도록 일례로, 감광성 물질을 이용하여 형성할 수 있다. The outer layer resist pattern 150 may be formed using, for example, a photosensitive material so that a portion corresponding to the outer layer circuit pattern is opened.

다음으로, 도 5i에 도시된 바와 같이, 외층 레지스트 패턴(150)이 형성된 시드층(140) 상면에 동도금층(160)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 5I, a copper plating layer 160 is formed on the top surface of the seed layer 140 on which the outer layer resist pattern 150 is formed.

동도금층(160)은 외층 레지스트 패턴(150) 내의 오픈된 공간에서 시드층(140) 상면에 형성되어 이후, 외층 회로패턴을 형성할 수 있도록 한다. The copper plating layer 160 is formed on the top surface of the seed layer 140 in an open space in the outer layer resist pattern 150 to form an outer layer circuit pattern.

여기서, 동도금층(160)은 구리(Cu)를 이용한 전해 동도금으로 형성하여, 시드층(140)과 함께 동 금속층을 형성하는 것이 바람직하다. Here, the copper plating layer 160 is preferably formed by electrolytic copper plating using copper (Cu) to form a copper metal layer together with the seed layer 140.

이후, 도 5j에 도시된 바와 같이, 동도금층(160) 상면에 금속 보호층(170)을 형성한다. Thereafter, as shown in FIG. 5J, the metal protective layer 170 is formed on the upper surface of the copper plating layer 160.

금속 보호층(170)은 이후, 시드층(140) 제거를 위한 에칭 공정 수행시, 동도금층(160)을 보호하기 위한 것으로, 금속 보호층(170)은 시드층(140) 및 동도금층(160)과 다른 금속층으로 형성된다. 일례로, 금속 보호층(170)은 시드층(140) 및 동도금층(160)을 형성하는 구리(Cu)가 아닌, 니켈, 주석, 금, 백금, 아연 등으로 형성하는 것이 바람직하다. The metal protective layer 170 is for protecting the copper plating layer 160 when the etching process for removing the seed layer 140 is performed, and the metal protective layer 170 is the seed layer 140 and the copper plating layer 160. ) And other metal layers. For example, the metal protective layer 170 may be formed of nickel, tin, gold, platinum, zinc, or the like, rather than copper (Cu) forming the seed layer 140 and the copper plating layer 160.

이렇게 시드층(140) 및 동도금층(160)과 금속 성분이 다른 금속 보호층(170)을 동도금층(160) 상면에 형성하면, 이후, 동도금층(160)과 금속 성분이 같은 시드층(140)의 일부를 제거하기 위하여 에칭 공정을 수행하여도, 금속 보호층(170)에 의해 노출된 동도금층(160)의 표면적이 적기 때문에 과에칭으로 인한 도금층의 불량을 최소화할 수 있다. 따라서, 시드층(140) 제거시 함께 에칭되는 동도금층(160)의 여유분을 더 형성하지 않아도 소망하는 미세 외층 회로패턴을 형성하는 효과를 가져올 수 있다. If the seed layer 140 and the copper plating layer 160 and the metal protective layer 170 different from the metal component is formed on the upper surface of the copper plating layer 160, the seed layer 140 having the same metal component as the copper plating layer 160 is formed. Even if the etching process is performed to remove a portion of the metal sheet), since the surface area of the copper plating layer 160 exposed by the metal protective layer 170 is small, defects of the plating layer due to overetching may be minimized. Therefore, even when the seed layer 140 is removed, an additional portion of the copper plating layer 160 which is etched together may not be further formed, thereby forming the desired fine outer circuit pattern.

이때, 금속 보호층(170)은 무전해 도금으로 형성가능하지만, 전해 도금으로 형성하여 동도금층(160) 상면에만 형성하는 것이 바람직하다. In this case, the metal protective layer 170 may be formed by electroless plating, but preferably, the metal protective layer 170 is formed by electroplating and formed only on the upper surface of the copper plating layer 160.

다음으로, 도 5k에 도시된 바와 같이, 외층 레지스트 패턴(150)을 제거하여 시드층(140)을 노출시킨다. Next, as shown in FIG. 5K, the outer layer resist pattern 150 is removed to expose the seed layer 140.

즉, 금속 보호층(170)을 형성한 후, 더 이상 필요없는 외층 레지스트 패턴(150)을 박리시킴으로써, 외층 레지스트 패턴(150)에 대응하는 시드층(140)을 노출시키게 된다. That is, after the metal protective layer 170 is formed, the seed layer 140 corresponding to the outer layer resist pattern 150 is exposed by peeling off the outer layer resist pattern 150 that is no longer needed.

이후, 도 5l에 도시된 바와 같이, 노출된 시드층(140)을 제거하여 외층 회로 패턴(180)을 완성한다. Thereafter, as illustrated in FIG. 5L, the exposed seed layer 140 is removed to complete the outer circuit pattern 180.

노출된 시드층(140)에 에칭 공정을 수행하여 제거하면, 시드층(140) 및 동도금층(160)뿐만 아니라, 금속 보호층(170)도 포함하는 외층 회로패턴(180)을 형성할 수 있다. 여기서, 노출된 시드층(140) 제거시, 동도금층(160)은 금속 보호층(170)에 의해 최소 부위만 노출되므로 과에칭에 의한 언더컷 등과 같은 불량이 발생하지 않는다. When the exposed seed layer 140 is removed by performing an etching process, an outer circuit pattern 180 including not only the seed layer 140 and the copper plating layer 160 but also the metal protective layer 170 may be formed. . Here, when removing the exposed seed layer 140, the copper plating layer 160 is exposed only a minimum portion by the metal protective layer 170 does not cause a defect such as undercut due to over-etching.

외층 회로패턴(180)은 블라인드 비아홀(132)에 의해 절연층(130) 내에 형성된 내층 회로패턴(120)과 전기적으로 연결될 수 있다. The outer circuit pattern 180 may be electrically connected to the inner circuit pattern 120 formed in the insulating layer 130 by the blind via hole 132.

다음으로, 도 5m에 도시된 바와 같이, 외층 회로패턴(180) 상면에 솔더 레지스트 패턴(190)을 형성함으로써, 인쇄회로기판(200)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 5M, the solder resist pattern 190 is formed on the upper surface of the outer circuit pattern 180, thereby forming the printed circuit board 200.

솔더 레지스트 패턴(190)은 이후, 외부와 접속하는 일부 외층 회로패턴(180)을 제외하고, 나머지 외층 회로패턴(180)을 보호하기 위하여 형성하는 것으로, 배선간의 단락, 오접속의 문제를 방지시켜주고, 전자 부품을 실장할 때 원하지 않는 접속 등의 불량을 방지시켜준다. 솔더 레지스트 패턴은 일례로 접속 단자의 용해온도에서도 충분히 견디는 내열성 수지로 만들어진 PSR(Photo imageable solder resist ink)과 같은 솔더 레지스트용 잉크를 사용하는 것이 바람직하다. The solder resist pattern 190 is formed to protect the remaining outer circuit patterns 180 except for some outer circuit patterns 180 connected to the outside, thereby preventing short circuits and incorrect connections between wirings. To prevent unwanted connection and the like when mounting electronic components. As the solder resist pattern, for example, it is preferable to use an ink for solder resist, such as a photo imageable solder resist ink (PSR) made of a heat resistant resin that can sufficiently withstand the melting temperature of the connection terminal.

이때, 실시예에 따라, 외층 회로패턴(180)에 형성된 금속 보호층(170)을 제거한 후, 솔더 레지스트 패턴(190)을 형성할 수 있다. In this case, after removing the metal protective layer 170 formed on the outer circuit pattern 180, the solder resist pattern 190 may be formed.

종래의 인쇄회로기판의 제조방법에 있어서는, 도금층(7)은 시드층(5)과 같은 금속으로 형성되어 있기 때문에 불필요한 시드층(5)을 제거하기 위한 에칭 공정시 시드층(5)과 함께 도금층(7)이 에칭되므로, 도금층(7) 형성시 이러한 점을 고려하여 소망하는 크기보다 더 큰 도금층(7)을 형성하여 미세 회로패턴 구현에 한계를 가져오는 문제점이 있었다. 또한, 이렇게 소망하는 크기보다 더 큰 도금층(7)을 형성할 경우, 불필요한 시드층(5)과 함께 에칭 공정을 수행하면, 도금층(5)이 에칭액과 만나는 표면적이 넓어져 에칭액의 어택(attack)을 많이 받기 때문에 도금층(5) 하단에 언더컷을 형성하여 층간 들뜸 현상을 발생시키는 문제점을 가져왔다. In the conventional method of manufacturing a printed circuit board, since the plating layer 7 is formed of the same metal as the seed layer 5, the plating layer together with the seed layer 5 during the etching process to remove the unnecessary seed layer 5. Since (7) is etched, in consideration of this point in forming the plating layer 7, there is a problem in that a plating layer 7 larger than a desired size is formed to bring a limitation to the implementation of a fine circuit pattern. In addition, in the case of forming the plating layer 7 larger than the desired size, when the etching process is performed together with the unnecessary seed layer 5, the surface area where the plating layer 5 meets the etching solution becomes wider and the attack of the etching solution is performed. Since receiving a lot of the undercut to form an undercut at the bottom of the plating layer 5 has caused a problem of causing the interlayer lifting phenomenon.

그러나, 상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 인쇄회로기판(200)의 제조방법에 있어서는, 동도금층(160) 상면에 시드층(140) 및 동도금층(160)과 다른 금속으로 형성된 금속 보호층(170)을 형성함으로써, 불필요한 시드층(140) 제거를 위한 에칭 공정시 동도금층(160)과 에칭액이 만나는 표면적을 최소로 만들어줌으로써, 동도금층(160)의 에칭양을 감소시켜 소망하는 크기보다 더 큰 도금층을 형성하지 않아도 배선간의 단락 또는 층간 들뜸과 같은 불량이 발생되지 않아 미세 회로패턴을 구현할 수 있는 효과를 가져온다. However, as described above, in the method of manufacturing the printed circuit board 200 according to the present invention, the metal protective layer formed of a metal different from the seed layer 140 and the copper plating layer 160 on the copper plating layer 160 ( 170 to minimize the surface area where the copper plating layer 160 and the etching liquid meet during the etching process for removing the unnecessary seed layer 140, thereby reducing the etching amount of the copper plating layer 160 more than the desired size Even if a large plating layer is not formed, defects such as short circuits or lifting of layers are not generated, resulting in an effect of implementing a fine circuit pattern.

이상에서 기술한 바와 같이, 본 발명은 특정 실시예를 통하여 설명되었으나, 본 발명의 범위가 상기 실시예로 한정되는 것이 아니며 본 발명의 범위 내에서 다양한 변형이 가능하다. 본 발명의 범위는 이하의 특허청구범위의 해석에 의해서만 한정된다. As described above, the present invention has been described through specific embodiments, but the scope of the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications are possible within the scope of the present invention. It is intended that the scope of the invention only be limited by the following claims.

본 발명의 인쇄회로기판 및 그 제조방법에 따르면, 외층 회로패턴을 형성하 기 위한 시드층 및 도금층 형성 후, 도금층 상면에 시드층 및 도금층과 금속 성분이 다른 금속 보호층을 더 형성함으로써, 불필요한 시드층 제거시 도금층의 에칭양을 최소화하여 미세 회로패턴을 용이하게 구현할 수 있다. According to the printed circuit board and the manufacturing method of the present invention, after forming the seed layer and the plating layer for forming the outer layer circuit pattern, by forming a metal protective layer different from the seed layer and the plating layer and the metal component on the plating layer, unnecessary seed When removing the layer, it is possible to easily implement a fine circuit pattern by minimizing the amount of etching of the plating layer.

Claims (12)

절연층 내부에 적어도 하나의 내층 회로패턴이 형성된 베이스 기판;A base substrate having at least one inner layer circuit pattern formed in the insulating layer; 상기 베이스 기판의 적어도 일면에 형성되어 상기 내층 회로패턴과 전기적으로 연결되며 금속층 및 금속층 상면에 형성된 금속 보호층을 포함하는 외층 회로패턴; 및An outer circuit pattern formed on at least one surface of the base substrate and electrically connected to the inner circuit pattern and including a metal layer and a metal protective layer formed on an upper surface of the metal layer; And 상기 외층 회로패턴 상면에 상기 외층 회로패턴의 적어도 일부가 노출되도록 형성된 솔더 레지스트 패턴;A solder resist pattern formed on an upper surface of the outer circuit pattern to expose at least a portion of the outer circuit pattern; 을 포함하고,Including, 상기 금속 보호층은 상기 금속층과 에칭 요건이 상이한 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판.And the metal protective layer has different etching requirements from the metal layer. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 금속 보호층은 상기 금속층보다 두께가 얇은 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판.The printed circuit board of claim 1, wherein the metal protective layer is thinner than the metal layer. 제1항에 있어서, 상기 금속층은 구리층인 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판.The printed circuit board of claim 1, wherein the metal layer is a copper layer. 제1항에 있어서, 상기 금속층은 시드층 및 도금층으로 구성되는 것을 특징으 로 하는 인쇄회로기판.The printed circuit board of claim 1, wherein the metal layer comprises a seed layer and a plating layer. 제1항에 있어서, 상기 솔더 레지스트 패턴은 절연 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판.The printed circuit board of claim 1, wherein the solder resist pattern is formed of an insulating material. (A) 적어도 하나의 내층 회로패턴이 내부에 형성된 절연층에 비아홀을 형성하여 베이스 기판을 제공하는 단계;(A) forming a via hole in an insulating layer having at least one inner circuit pattern formed therein to provide a base substrate; (B) 상기 베이스 기판의 적어도 일면에 시드층을 형성하는 단계;(B) forming a seed layer on at least one surface of the base substrate; (C) 상기 시드층 상면에 외층 레지스트 패턴을 형성하고 전해 도금을 수행하여 도금층을 형성하는 단계;(C) forming an outer layer resist pattern on the seed layer and performing electrolytic plating to form a plating layer; (D) 상기 도금층 상면에 금속 보호층을 형성하는 단계; (D) forming a metal protective layer on an upper surface of the plating layer; (E) 상기 외층 레지스트 패턴을 제거하고 노출된 시드층을 제거하여 상기 내층 회로패턴과 전기적으로 연결되는 외층 회로패턴을 형성하는 단계; 및(E) removing the outer layer resist pattern and removing an exposed seed layer to form an outer circuit pattern electrically connected to the inner circuit pattern; And (F) 상기 외층 회로패턴 상면에 일부 외층 회로패턴이 노출되도록 솔더 레지스트 패턴을 형성하는 단계;(F) forming a solder resist pattern on the upper surface of the outer layer circuit pattern to expose a portion of the outer layer circuit pattern; 를 포함하고, Including, 상기 (E) 단계에서 상기 금속 보호층은 제거되지 않는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 제조방법.The manufacturing method of the printed circuit board, characterized in that the metal protective layer is not removed in the step (E). 제7항에 있어서, 상기 금속 보호층은 상기 시드층과 에칭 요건이 상이한 것 을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 제조방법.8. The method of claim 7, wherein the metal protective layer has different etching requirements from the seed layer. 제7항에 있어서, 상기 시드층과 상기 도금층은 동일한 금속층으로 형성되는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 제조방법.The method of claim 7, wherein the seed layer and the plating layer are formed of the same metal layer. 제7항에 있어서, 상기 시드층과 상기 도금층은 구리로 형성되는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 제조방법.The method of claim 7, wherein the seed layer and the plating layer are formed of copper. 제7항에 있어서, 상기 금속 보호층은 니켈, 주석, 금, 백금, 아연 중 적어도 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 제조방법.The method of claim 7, wherein the metal protective layer is formed of at least one of nickel, tin, gold, platinum, and zinc. 제7항에 있어서, 상기 (E) 단계 이후에, The method of claim 7, wherein after step (E), (G) 상기 금속 보호층을 제거하여 상기 시드층 및 상기 도금층으로 구성된 외층 회로패턴을 형성하는 단계;(G) removing the metal protective layer to form an outer circuit pattern composed of the seed layer and the plating layer; 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 제조방법.Method of manufacturing a printed circuit board further comprising a.
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