KR100487677B1 - An insoluble electrode on which a platinum contained oxide covering is formed and its manufacturing method - Google Patents

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Abstract

가. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야.end. The technical field to which the invention described in the claims belongs.

본 발명은 폐수처리에 적용되어지는 백금족 계열의 산화물 피복층이 형성된 불용성 전극 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 특히 고가인 백금족 금속의 함량을 줄여 제조 단가를 절감시키면서도 내구성과 반응성은 보다 향상시킬 수 있도록 한 것이다.       The present invention relates to an insoluble electrode having a platinum group-based oxide coating layer applied to wastewater treatment, and a method of manufacturing the same. Particularly, it is possible to improve durability and reactivity while reducing manufacturing cost by reducing the content of expensive platinum group metals. will be.

나. 발명이 해결하려는 기술적 과제.       I. The technical problem to be solved by the invention.

현재, 전기분해를 위하여 사용되는 전극 중 특히 백금족 계열의 산화물 피복층이 형성된 전극은 내구성과 반응성에서 우수한 성능을 나타내고 있어 난 분해성 폐수처리 뿐 아니라 도금공정 등 다양한 산업분야에 유용하게 적용할 수 있는 것이나, 피복물질의 구성성분으로서 고가인 백금족 계열의 귀금속류가 대부분을 차지하여 엄청난 제조비용이 소요되기 때문에 극히 일부분의 분야에만 적용될 뿐이다.Currently, electrodes formed with platinum group oxide coating layers among the electrodes used for electrolysis show excellent performance in durability and reactivity, and thus can be usefully applied to various industrial fields such as plating process as well as difficult degradable wastewater treatment. As a constituent of the coating material, expensive platinum group-based precious metals occupy most of them and require huge manufacturing costs, so they are applied to only a few parts of the field.

따라서 피복물질의 구성성분으로서 백금족 금속의 함량을 줄이고 다른 금속류의 함량을 증가시켜 저렴한 제조비용으로 백금족 계열의 전극을 제공하는 방법이 시도되고 있으나 이는 결국 내구성과 반응성의 성능 저하를 가져오게 되는 문제점을 안게 되는 것이다.Therefore, a method of providing a platinum group-based electrode at a low manufacturing cost by reducing the content of the platinum group metal and increasing the content of other metals as a constituent of the coating material has been attempted. It will be embraced.

다. 발명의 해결방법의 요지.All. Summary of the Solution of the Invention.

통상적으로 백금족 피복층의 형성을 위하여 주로 사용되는 백금족 금속 중 이리듐(Ir)이 같은 백금족의 금속 가운데 산화력이 가장 우수한 금속으로 전류 전압의 조절범위가 넓고 전기도금방법이 피복두께의 조절이 자유롭다는 것에 착안하여 전금도금 공정을 통한 박막의 1차 이리듐(Ir) 피복층을 형성시킨 후, 그 표면으로 백금족 금속류가 포함된 다성분의 금속산화물을 사용하여 열증착 공정을 통한 통상의 두께를 갖는 2차 피복층을 형성시켜 전체적으로 소요되는 백금족 금속류의 함량은 절감하면서 복층의 산화물 피복층으로 내구성 및 반응성을 향상시킨 전극을 제조토록 한 것이다.       In general, among the platinum group metals mainly used for forming the platinum group coating layer, the metals of the platinum group having the same iridium (Ir) have the highest oxidation power and have a wide range of current voltage control and the electroplating method is free to control the coating thickness. Focusing on forming the first iridium (Ir) coating layer of the thin film through the electroplating process, and then the secondary coating layer having a normal thickness through the thermal deposition process using a multi-component metal oxide containing platinum group metals on its surface It is to form an electrode to improve the durability and reactivity with a double layer oxide coating layer while reducing the content of the platinum group metals as a whole to form.

라. 발명의 중요한 용도.       la. Important use of the invention.

전기분해용.        For electrolysis.

Description

백금족 계열의 산화물 피복층이 형성된 불용성 전극 및 이의 제조방법{An insoluble electrode on which a platinum contained oxide covering is formed and its manufacturing method}       An insoluble electrode on which a platinum contained oxide covering is formed and its manufacturing method}

본 발명은 폐수처리에 적용되어지는 백금족 계열의 산화물 피복층이 형성된 불용성 전극 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 특히 전기도금 공정을 통한 순수 백금족 금속의 1차 박막 피복층과 열증착 공정을 통한 백금족 계열의 다성분 금속산화물의 2차 피복층으로 이루어져 고가인 백금족 금속의 함량을 절감시키면서도 내구성과 반응성은 보다 향상시킬 수 있도록 한 것이다.The present invention relates to an insoluble electrode having a platinum group-based oxide coating layer applied to wastewater treatment, and a method of manufacturing the same. In particular, the first thin film coating layer of pure platinum group metal through an electroplating process and a platinum group-based multi-layer through a thermal deposition process. The secondary coating layer of the component metal oxide is to improve the durability and reactivity while reducing the content of expensive platinum group metal.

종래에 전기분해를 위하여 사용되어진 공지의 전극 제조기술은 티타늄을 전극체로 사용하여 카본나이트라이드(carbonitride)를 아아크 용융법 또는 플라즈마 용융법을 이용하여 피복층을 형성시켰던 것으로, 그 공정이 상당히 복잡하고 위험성을 포함하므로 실제 응용이 쉽지 않고, 피복층 형성을 위한 피복물질의 손실이 많을 뿐 아니라 피복층이 쉽게 벗겨져 내구성이 약하고, 고전류 밀도 하에서 운전토록 되어 높은 에너지 소비에 따른 수명의 저하로 장기간의 사용이 어려운 문제점이 있었다.A known electrode manufacturing technique used for electrolysis in the past has formed a coating layer using carbonitride using arc melting or plasma melting using titanium as an electrode body, and the process is quite complicated and dangerous. It is not easy to apply practically, and there is not only a large loss of coating material for forming the coating layer, but also the coating layer is easily peeled off, and the durability is weak, and it is difficult to use for a long time due to the deterioration of life due to high energy consumption. There was this.

따라서 최근에는 전해전압을 낮출 수 있어 전류 소모량이 적고, 전극체에의 밀착력이 우수하여 내구성이 좋을 뿐 아니라 전극에서의 수소-산소 발생의 용출이 우수하여 반응성을 높일 수 있는 특성을 가지고 있는 백금족 금속류를 피복물질로 사용함으로서 도금 등 다양한 산업분야는 물론 난 분해성 폐수처리 등에 유용하게 적용할 수 있는 백금족의 산화물 피복층이 형성된 전극을 제조하는 다양한 방법이 시도되고 있는 것이나, 피복물질의 구성성분으로서 고가인 백금족 계열의 귀금속류가 대부분을 차지하여 엄청난 제조비용이 소요되기 때문에 실제로 적용되는 범위는 일 부분에 지나지 않고 있다.Therefore, in recent years, the electrolytic voltage can be lowered, the current consumption is low, the adhesion to the electrode body is excellent, the durability is excellent, and the platinum group metals have the characteristics of improving the reactivity due to the excellent elution of hydrogen-oxygen generation from the electrode. As a coating material, various methods for producing an electrode having a platinum group oxide coating layer which can be usefully applied to various industrial fields such as plating as well as difficult degradable wastewater treatment have been attempted, but are expensive as a constituent of the coating material. Only a few precious metals of the platinum group series are required for huge manufacturing costs.

따라서 피복물질의 구성성분으로서 백금족 금속의 함량을 줄이고 다른 금속류의 함량을 증가시켜 저렴한 제조비용으로 백금족 계열의 전극을 제공하는 방법이 시도되고 있으나 이는 결국 내구성과 반응성의 성능 저하를 가져오게 되는 또 다른 문제점을 안게 되는 것이다.Therefore, a method of providing a platinum group-based electrode at a low manufacturing cost by reducing the content of the platinum group metal and increasing the content of other metals as a constituent of the coating material has been attempted, but this leads to a decrease in durability and reactivity. You have a problem.

따라서 본 발명은 상기한 종래의 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로, 본 발명의 목적은 저렴한 제조단가이면서 기존에 제작된 전극보다 내구성과 반응성을 향상시킬 수 있는 백금족 계열의 산화물 피복층이 형성된 불용성 전극을 제조토록 하기 위함이다.      Therefore, the present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, an object of the present invention is to provide an insoluble electrode formed of a platinum group-based oxide coating layer that can improve the durability and reactivity than the electrode manufactured at a low production cost To make it.

이를 위하여, 전극체의 표면에 이리듐(Ir)을 사용하여 우선적으로 전기도금 공정을 통한 순수 백금족 금속인 이리듐(Ir)의 일차 박막 피복층을 형성시킨 후, 백금(Pt), 이리듐(Ir), 루테늄(Ru)의 백금족 금속류와 주석(Sn), 이산화티탄(TiO2)의 비백금족 금속류로 조성되는 백금족 계열의 다성분 금속산화물의 2차 피복층을 반복적인 열증착 공정을 통하여 형성시킨 것이다.To this end, first, by using iridium (Ir) on the surface of the electrode body to form a primary thin film coating layer of iridium (Ir), a pure platinum group metal through an electroplating process, platinum (Pt), iridium (Ir), ruthenium A secondary coating layer of a platinum group-based multicomponent metal oxide composed of (Ru) platinum group metals, tin (Sn) and non-platinum group metals of titanium dioxide (TiO 2 ) is formed through a repeated thermal deposition process.

이하 일실시 예에 의거 본 발명을 상세히 설명하면 다음과 같다.       Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the following examples.

우선 본 발명은 백금족 계열의 산화물 피복층을 열증착 공정을 통하여 형성시킴으로서 불용성 양극을 제조하는 공지의 전극 제조방법에 있어서, 열증착 공정의 전 단계에 이리듐(Ir)을 사용한 전기도금 공정을 우선적으로 행하여 박막의 이리듐(Ir) 일차 피복층을 형성시키는 것을 포함하는 것이다.       First, the present invention is a known electrode manufacturing method for producing an insoluble anode by forming a platinum group-based oxide coating layer through a thermal deposition process, the electroplating process using iridium (Ir) prior to the thermal deposition process Forming a thin iridium (Ir) primary coating layer.

이때 본 발명에서 이리듐(Ir) 전기도금을 행하는 이유는 이리듐(Ir)이 같은 백금족 금속 가운데 산화력이 가장 우수한 금속으로 전류 전압의 조절범위가 넓고, 전기도금방법을 통하여 피복층의 두께를 자유롭게 조절할 수 있어 박막층으로의 형성이 가능하기 때문이다.       At this time, the reason for the electroplating of iridium (Ir) in the present invention is a metal having the highest oxidation power among the same platinum group metals of iridium (Ir), the control range of the current voltage is wide, the thickness of the coating layer can be freely adjusted through the electroplating method This is because the thin film layer can be formed.

이를 위하여 본 발명에서 실시하는 이리듐(Ir) 전기도금 공정은,       To this end, the iridium (Ir) electroplating process carried out in the present invention,

① 1mM-5mM 옥살산(Oxalic acid)에의 0.22mM-1mM K3IrCl6 (Potassium iridium chloride) 용해단계와,① dissolving 0.22 mM-1 mM K 3 IrCl 6 (Potassium iridium chloride) in 1 mM-5 mM oxalic acid,

② pH 조절단계(pH : 9 ~ 11)와,        ② pH control step (pH: 9 ~ 11),

③ 실온에서 방치시켜 안정화시키는 단계와,        (3) stabilizing by leaving it at room temperature;

⑤ 인가전압 0.1 ~ 1.0V, 전류밀도 0.01 ~ 0.05mA/cm2에서의 도금단계로 이루 어진다.⑤ It consists of plating step at applied voltage 0.1 ~ 1.0V, current density 0.01 ~ 0.05mA / cm 2 .

또 다른 실시예에 따른 이리듐(Ir)의 전기도금 공정은        Electroplating process of iridium (Ir) according to another embodiment

① 0.1M 염화수소(HCl)(10ml)와 에탄올에 10 ~ 50mMNa2IrCl66H2 O① 10 ~ 50mMNa 2 IrCl 6 6H 2 O in 0.1M hydrogen chloride (HCl) (10ml) and ethanol

(sodium iridium chloride)을 용해단계와, dissolving sodium iridium chloride,

② 70℃로의 가열단계와,        ② heating to 70 ° C.,

③ 용액 부피를 유지하기 위한 ethanol을 첨가단계와,       ③ adding ethanol to maintain the solution volume;

④ pH 조절단계와,        ④ pH adjustment step,

⑤ 색의 변화를 확인하기 위한 2차 가열단계와,       ⑤ the second heating step to check the color change,

⑥ 실온에서 방치시켜 안정화시키는 단계와,        ⑥ to stabilize at room temperature,

⑦ 인가 전압 : 0.1 ~ 1.0V, 전류밀도 0.01 ~ 0.05mA/cm2에서 도금하는 단계로 이루어진다.⑦ applied voltage: 0.1 ~ 1.0V, the current density of 0.01 ~ 0.05mA / cm 2 consists of a step of plating.

이때 상기 전기도금 공정에서 인가전압을 0.1 ~ 1.0V로 한 이유는 인가전압이 0.1V 미만일 경우에는 피복층이 너무 얇아서 약하고 인가전압이 1.0V 초과일 경우에는 피복층이 두꺼워져 강도는 강해지나 피복층이 불균일하여 전극 표면의 전체면에서 균일한 반응을 얻을 수 없기 때문이고, 전류밀도의 범위 및 pH 조절, 안정화단계는 통상의 전기분해공정에서 공통적으로 사용되고 있는 공정이다.       At this time, the reason why the applied voltage is 0.1 ~ 1.0V in the electroplating process is because the coating layer is too thin when the applied voltage is less than 0.1V, and when the applied voltage is above 1.0V, the coating layer becomes thick and the strength becomes uneven, but the coating layer is uneven. This is because it is not possible to obtain a uniform reaction on the entire surface of the electrode surface, and the range of current density, pH control, and stabilization are common steps in a conventional electrolysis process.

한편, 본 발명의 전극 제조를 위하여 사용되는 전극체의 재료로서는 티타늄, 니켈, 탄소강, 철 등이 사용되며, 사용된 재료를 판상, mesh상, 봉상의 형태로 하여 사용하는 것으로서 이미 공지된 기술이다.       Meanwhile, titanium, nickel, carbon steel, iron, and the like are used as the material of the electrode body used for manufacturing the electrode of the present invention, and the material used is in the form of a plate, a mesh, and a rod. .

또한 상기 백금족 계열의 산화물 피복층을 형성시키기 위한 피복물질로서는 백금(Pt), 주석(Sn), 이리듐(Ir), 루테늄(Ru)의 염화금속 및 이산화티탄(TiO2)의 복합 산화물 중 3종 이상이 혼합된 것을 사용하는 것으로서, 그 조성성분은 루테늄(Ru)-백금(Pt)-주석(Sn), 이리듐(Ir)-백금(Pt)-주석(Sn), 루테늄(Ru)-이리듐(Ir)-백금(Pt)-주석(Sn), 루테늄(Ru)-백금(Pt)-이산화티탄(TiO2), 이리듐(Ir)-백금(Pt)-이산화티탄(TiO2), 루테늄(Ru)-백금(Pt)-주석(Sn)-이산화티탄(TiO2), 이리듐(Ir)-백금(Pt)-주석(Sn)-이산화티탄(TiO2)으로 이루어지되, 구성성분 가운데 특히 고가인 이리듐(Ir)과 백금(Pt)은 전체 성분을 100%를 기준으로 하였을 경우 30%이하로 하고, 그 외의 성분은 70%의 조성비율로 구성한다.In addition, as the coating material for forming the platinum group-based oxide coating layer, three or more of complex oxides of platinum (Pt), tin (Sn), iridium (Ir), ruthenium (Ru), and metal oxides of titanium dioxide (TiO 2 ) This mixture is used and its composition is ruthenium (Ru)-platinum (Pt)-tin (Sn), iridium (Ir)-platinum (Pt)-tin (Sn), ruthenium (Ru)-iridium (Ir) ) -Pt (Pt) -tin (Sn), ruthenium (Ru) -platinum (Pt) -titanium dioxide (TiO 2 ), iridium (Ir) -platinum (Pt) -titanium dioxide (TiO 2 ), ruthenium (Ru) Iridium: platinum (Pt)-tin (Sn)-titanium dioxide (TiO 2 ), iridium (Ir)-platinum (Pt)-tin (Sn)-titanium dioxide (TiO 2 ); (Ir) and platinum (Pt) should be 30% or less based on 100% of all components, and the other components should be 70% of composition ratio.

또한 상기 피복물질의 조성비율은 본 발명의 목적을 달성하기 위한 최적의 조건을 제시한 것으로서, 본 발명을 제한하는 것은 아니며 단지 이 조성비율이 가장 경제적이면서도 양질의 전극을 제조할 수 잇는 것을 의미하는 것이다.       In addition, the composition ratio of the coating material suggests the optimum conditions for achieving the object of the present invention, and does not limit the present invention, which merely means that the composition ratio can produce the most economical and high quality electrode. will be.

즉, 이리듐(Ir)과 백금(Pt)이 30% 미만일 경우는 백금족 금속의 함량이 적어 내구성 및 반응성이 다소 저하되고, 30% 이상일 경우에는 경제성이 다소 떨어지게 되기 때문이다.       That is, when iridium (Ir) and platinum (Pt) are less than 30%, the content of the platinum group metal is small, so durability and reactivity are slightly lowered, and when it is 30% or more, the economic efficiency is slightly lowered.

따라서 이 조성비율 범위의 ±20% 이내의 조건에서도 충분히 본 발명의 목적을 달성할 수 있는 것이다.       Therefore, the object of this invention can fully be achieved even in the conditions within +/- 20% of this composition ratio range.

또한, 본 발명의 전극은 다음의 제조공정에 의하여 제조될 때 가장 우수한 성능의 전극을 얻을 수 있는 것으로, 그 제조공정은 아래와 같다,        In addition, the electrode of the present invention can obtain the electrode of the best performance when manufactured by the following manufacturing process, the manufacturing process is as follows,

(1) 전극체를 연마수단체(sand blaster)로 연마하고, 10% 옥살산(oxalic acid)에서 30분간 가열하여 전극체 표면의 유기성 산화막을 완전히 제거한다.        (1) The electrode body was polished with sand blaster and heated for 30 minutes in 10% oxalic acid to completely remove the organic oxide film on the surface of the electrode body.

(2) 앞에서 제시한 전기도금 제법을 이용하여 이리듐(Ir) 전기도금을 행한다.        (2) Iridium (Ir) electroplating is carried out using the electroplating method presented above.

(3) (2)의 과정 중에 묽은염산 또는 이소프로필알콜 용액 또는 염산과 이소프로필알코올이 일정비로 혼합된 용액을 용매로 준비하고 여기에 일정 성분비의 조성으로 피복성분을 용해시킨다.        (3) During the process of (2), dilute hydrochloric acid or isopropyl alcohol solution or a solution of hydrochloric acid and isopropyl alcohol mixed in a constant ratio is prepared as a solvent, and the coating component is dissolved in the composition of a certain ratio.

(4) (2)의 과정에 의하여 이리듐(Ir)이 일차적으로 전기도금되어진 전극체에 피복성분이 용해되어진 피복용액을 도포하고 500 ~ 600℃에서 열증착을 반복함으로서 금속산화물 피복층이 이차적으로 형성되어진 전극을 제조하게 된다.        (4) A metal oxide coating layer is formed second by applying a coating solution in which a coating component is dissolved to an electrode body to which iridium (Ir) is first electroplated by the process of (2) and repeating thermal deposition at 500 to 600 ° C. It is to prepare the electrode.

이때 열증착의 반복 횟수는 4 ~ 6회 정도로 하는 것이 바람직하며, 이때 필요한 하소 온도인 500 ~ 600℃는 금속산화물을 열분해하여 수 마이크론 두께의 산화물 층을 형성시키기 위하여 필요한 특정 온도로서 이때 형성되는 산화물 층은 대개 열충격에 의하여 특정적인 갈라짐을 보이게 되고, 이 현상은 전극의 활성화 표면적을 넓히게 되는 것이다.       In this case, the number of times of repeated thermal evaporation is preferably about 4 to 6 times. In this case, the required calcination temperature of 500 to 600 ° C. is a specific temperature required to pyrolyze the metal oxide to form an oxide layer having a thickness of several microns. The layer usually exhibits specific cracking due to thermal shock, which increases the active surface area of the electrode.

그러나, 이 외의 온도 즉 500℃ 미만이나 600℃ 초과에서는 갈라짐이 이루어지지 않거나 갈라진 부분이 뚜렷하지 못하여 그 효과가 상쇄되어지기 때문에 이 특정 온도가 필요한 것으로, 이 갈라짐은 실제 전극으로 이용하여 폐수 처리에 적용 후에도 큰 부착물 없이 유지되어지는 것이다.       However, at other temperatures other than 500 ° C or above 600 ° C, this particular temperature is necessary because no cracking occurs or the cracks are not clear and the effect is canceled. This cracking is required for the wastewater treatment using the actual electrode. It remains without any large deposits after application.

이하 상기에서 제시한 제조공정에 따른 전극의 제조 실시 예에 의하여 본 발명을 보다 상세히 설명하기로 한다.      Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the manufacturing examples of the electrode according to the above-described manufacturing process.

[실시예 1]      Example 1

(1) 전극체 준비단계      (1) electrode body preparation step

임의의 크기로 준비된 전극체를 연마도구인 샌드블러스터(sand blaster)를 사용하여 연마하고, 10% 옥살산(oxalic acid)에 약 80℃로 하여 10분 정도 탈지시키고 세척 건조한다.         The electrode body prepared in any size is polished using a sand blaster, which is a polishing tool, degreased at about 80 ° C. in 10% oxalic acid for about 10 minutes, and washed and dried.

(2) 전기도금 단계       (2) electroplating step

준비된 전극체를 상기에 제시한 제법을 이용하여 이리듐(Ir) 전기 도금을 행한다.          Iridium (Ir) electroplating is performed on the prepared electrode body using the manufacturing method shown above.

(3) 피복물질액 준비단계      (3) Coating material liquid preparation step

일정 성분비의 Ir + Pt(30% - 1:2)와 Ru + Sn(70% - 2:5)를 피복물질의 용질로 사용하여 묽은염산 또는 이소프로필알콜 용액 또는 염산과 이소프로필알코올이 일정비로 혼합된 용매에 교반하면서 2 ~ 5시간정도 용해시킨다.          Dilute hydrochloric acid or isopropyl alcohol solution or hydrochloric acid and isopropyl alcohol in constant ratio using Ir + Pt (30%-1: 2) and Ru + Sn (70%-2: 5) Dissolve for 2 to 5 hours while stirring in the mixed solvent.

(4) (2)에서 제조되어진 전극에 (3)의 피복물질액을 브러싱(blushing)하거나 담지시킨 후, 5분간 건조시킨 후, 500 ~ 600℃로 하소함으로서 열증착에 의한 피복층을 형성시킨다.      (4) The coating material solution of (3) is brushed or supported on the electrode prepared in (2), dried for 5 minutes, and then calcined at 500 to 600 ° C to form a coating layer by thermal evaporation.

이때의 횟수는 약 4 ~ 6회 정도로 행한다.           The frequency | count at this time is performed about 4-6 times.

(5) 상기 단계를 통하여 제조된 전극의 성능분석단계 : 실제 폐수에 적용하여 그 결과를 얻음으로서 확인하고 SEM(주사전자현미경)을 통하여 첨부된 사진과 같은 전극의 상태를 확인한다.      (5) Performance analysis step of the electrode manufactured through the above step: by confirming the result obtained by applying to the actual wastewater and through the SEM (scanning electron microscope) to check the state of the electrode as shown in the attached photo.

Fig. Photo of electrode surface at 500-600℃Fig. Photo of electrode surface at 500-600 ℃

[실시예 2]       Example 2

상기[실시예 1]에서의 제조단계와 동일하게 제조하되, 피복물질의 성분을 [실시예 2]에서는 백금(Pt) 30% 와 루테늄(Ru)+주석(Sn) 70%, [실시예 3]에서는 이리듐(Ir)+백금(Pt) 30%와 주석(Sn) 70%, [실시예 4]에서는 이리듐(Ir) 30%와 루테늄(Ru)+주석(Sn) 70%, [실시예 5]에서는 백금(Pt) 30%와 루테늄(Ru)+이산화티탄(TiO2) 70%, [실시예 6]에서는 이리듐(Ir)+백금(Pt) 30%와 이산화티탄(TiO2) 70%, [실시예 7]에서는 백금(Pt) 30%와 루테늄(Ru)+주석(Sn)+이산화티탄(TiO2) 70%, [실시예 8]에서는 이리듐(Ir)+백금(Pt) 30%와 주석(Sn)+이산화티탄(TiO2) 70%로 구성하여 본 발명의 전극을 제조하였다.The preparation of the coating material was carried out in the same manner as in [Example 1], except that the coating material contained in [Example 2] 30% platinum (Pt), ruthenium (Ru) + tin (Sn), and [Example 3]. ] 30% iridium (Ir) + platinum (Pt) and 70% tin (Sn), [Example 4] 30% iridium (Ir) and ruthenium (Ru) + tin (Sn) 70, [Example 5 ] 30% platinum (Pt) and 70% ruthenium (Ru) + titanium dioxide (TiO 2 ), [Example 6] Iridium (Ir) + platinum (Pt) 30% and titanium dioxide (TiO 2 ) 70%, In Example 7, 30% of platinum (Pt) and ruthenium (Ru) + tin (Sn) + titanium dioxide (TiO 2 ) 70%, and in [Example 8], iridium (Ir) + platinum (Pt) 30% and The electrode of the present invention was prepared by constructing 70% of tin (Sn) + titanium dioxide (TiO 2 ).

따라서 상기와 같이 제조된 본 발명의 전극은 도 1에 도시된 바와 같이 전극체(1)의 표면으로 전기도금 공정을 통한 박막의 일차 이리듐(Ir) 피복층(2)과, 그 표면으로 열증착 공정을 통한 백금족 금속류를 포함한 다성분의 2차 금속산화물 피복층(3)이 형성됨으로서 전체적으로 소요되는 백금족 금속류의 함량은 절감되면서 전기도금 및 열증착 공정을 통한 복층의 피복층으로 내구성과 반응성은 향상되는 효과를 얻을 수 있는 것이다.       Therefore, the electrode of the present invention prepared as described above is a primary iridium (Ir) coating layer (2) of the thin film through the electroplating process to the surface of the electrode body 1, as shown in Figure 1, and the thermal deposition process on the surface Through the formation of a multi-component secondary metal oxide coating layer (3) including platinum group metals through the reduction of the content of the platinum group metals as a whole, while improving the durability and reactivity as a multi-layer coating layer through the electroplating and heat deposition process. You can get it.

상기 효과는 다음의 실시 예를 통하여 입증할 수 있는 것으로, 다음의 실시 예는 본 발명의 이해를 돕기 위해 기술한 것으로 본 발명이 여기의 예에 국한된 것은 아니다.       The above effects can be demonstrated through the following examples, and the following examples are described to help the understanding of the present invention, and the present invention is not limited thereto.

먼저 처리 대상이 되는 폐수를 염색 폐수, 침출수, 화학폐수 및 도금폐수 등으로 하여 전해 산화-환원 처리 실험을 실시한 결과, 폐수에 따른 폐수 내의 유기물농도 처리결과, 총 질소의 처리결과, 중금속 처리결과 그리고 색도 처리결과를 다음 표3, 4, 5에 기존의 처리 공법 결과와 비교하여 나타내었다.        First, electrolytic oxidation-reduction experiments were carried out using the wastewater treated as dyeing wastewater, leachate, chemical wastewater and plating wastewater, and the results of organic matter concentration in wastewater, total nitrogen treatment, heavy metal treatment, The results of chromaticity treatment are shown in Tables 3, 4, and 5 compared with the results of conventional treatment methods.

그림 1, 2 및 3은 본 발명을 이용한 각종 폐수에 대한 처리시간의 변화에 따른 처리효율을 보인 것이다.        Figures 1, 2 and 3 show the treatment efficiency according to the change in treatment time for various wastewaters using the present invention.

표. 3 각종 폐수에 따른 기존 처리와의 난분해성 유기물 처리 비교table. 3 Comparison of hardly degradable organic matter treatment with conventional treatment according to various wastewater

처 리 방 법 및 효 율(%)Treatment method and efficiency (%) 생물학적처리Biological treatment 촉매처리Catalytic treatment 전기응집Electrocoagulation 본 발명을 이용한 전해처리Electrolytic treatment using the present invention 도금폐수Plating wastewater 적용불가Not applicable 7070 6060 90∼9990-99 축산폐수Livestock Wastewater 6060 8080 5050 70∼8070-80 염색폐수Dye Wastewater 6060 6060 5050 70∼8070-80 화학폐수Chemical wastewater 고농도 시 적용불가Not applicable at high concentrations 6060 4040 90∼9990-99

그림. 1 각종 폐수에 있어서 본 기술의 난분해성 유기물 제거 효율Drawing. 1 Removal efficiency of degradable organics of this technology in various wastewaters

표. 4 각종 폐수에 따른 기존 처리와의 질소화합물 처리 비교table. 4 Comparison of nitrogen compound treatment with conventional treatment according to various wastewater

처 리 방 법 및 효 율(%)Treatment method and efficiency (%) 생물학적처리Biological treatment 촉매처리Catalytic treatment 전기응집Electrocoagulation 본 발명을 이용한 전해처리Electrolytic treatment using the present invention 도금폐수Plating wastewater -- -- -- 80∼9580-95 축산폐수Livestock Wastewater 6060 8080 6060 70∼8070-80 염색폐수Dye Wastewater -- -- -- -- 화학폐수Chemical wastewater 5050 6060 4040 90∼9990-99

그림. 2 각종 폐수에 있어서 본 기술의 질소화합물 제거 효율Drawing. 2 Nitrogen compound removal efficiency of this technology

표. 5 각종 폐수에 따른 기존 처리와의 중금속 및 색도 처리 비교table. 5 Comparison of Heavy Metals and Color Treatments with Conventional Treatments for Various Wastewaters

처 리 방 법 및 효 율(%)Treatment method and efficiency (%) 생물학적처리Biological treatment 촉매처리Catalytic treatment 전기응집Electrocoagulation 본 발명을 이용한 전해처리Electrolytic treatment using the present invention 도금폐수Plating wastewater -(-)-(-) 40(70)40 (70) 60(50)60 (50) >90(>95)> 90 (> 95) 축산폐수Livestock Wastewater -(40)-(40) -(60)-(60) -(50)-(50) -(>95)-(> 95) 염색폐수Dye Wastewater -(40)-(40) -(70)-(70) -(60)-(60) -(>95)-(> 95) 화학폐수Chemical wastewater -(40)-(40) 40(60)40 (60) 50(50)50 (50) >90(>90)> 90 (> 90)

( )는 색도에 관한 효율 () Is the efficiency with respect to chromaticity

그림. 3 각종 폐수에 있어서 전해처리의 중금속 제거 효율과 색도 제거 효율         Drawing. 3 Heavy Metal Removal Efficiency and Color Removal Efficiency of Electrolytic Treatment in Various Wastewaters

다음의 표. 6은 전도도에 따른 운전 조건에 대한 결과이다.            The following table. 6 is the result for operating conditions according to conductivity.

이것은 위에서 언급하였듯이 각종 폐수의 성상에 맞도록 전극의 분류와 운전 조건의 확립하는데 기본이 되는 것으로서 표. 7에는 각종 폐수에 대하여 사용하는 전극과 전류밀도, 그리고 전압 등에 대하여 분류하였다.       As mentioned above, this table is the basis for establishing the electrode classification and operation conditions to meet the characteristics of various wastewater. 7 classified into electrodes, current densities, and voltages used for various wastewaters.

표. 6 전도도에 따른 운전 효율table. 6 Operation efficiency according to conductivity

전도도(ms/cm)(염소 농도에 따른 변화)Conductivity (ms / cm) (changes with chlorine concentration) 분 석 내 용 및 효 율(%)Analysis Content and Efficiency (%) CODCOD T-NT-N 중금속heavy metal 색도Chromaticity ≤10≤10 7070 7070 >90> 90 8080 10∼1510 to 15 9090 9090 >95> 95 >95> 95 ≥15≥15 >90> 90 >90> 90 >95> 95 >95> 95

표. 7 폐수에 따른 운전 조건 및 설비의 분류table. 7 Classification of operating conditions and equipment according to wastewater

운전조건 및 설비 분류Operating condition and equipment classification 폐수처리장치Wastewater Treatment System 전류밀도(A/cm2)Current density (A / cm 2 ) 전압(V)Voltage (V) 사용 전극Used electrode 도금폐수Plating wastewater 본 발명 전극을 사용한 폐수처리장치Wastewater treatment apparatus using the electrode of the present invention 0.01-0.100.01-0.10 5-85-8 ④⑤⑥⑦⑧ⓐ④⑤⑥⑦⑧ⓐ 축산폐수Livestock Wastewater 3-83-8 ④⑤⑥⑦⑧ⓑ④⑤⑥⑦⑧ⓑ 염색폐수Dye Wastewater 5-85-8 ④⑤⑥⑦⑧ⓑ④⑤⑥⑦⑧ⓑ 화학폐수Chemical wastewater 3-73-7 ①②③④⑤⑥⑦⑧ⓐ①②③④⑤⑥⑦⑧ⓐ

(전극)    (electrode)

(양극) ① 루테늄(Ru)-백금(Pt)-주석(Sn) ②이리듐(Ir)-백금(Pt)-주석(Sn) ③ 루테늄(Ru)-이리듐(Ir)-백금(Pt)-주석(Sn) ④루테늄(Ru)-백금(Pt)-이산화티탄(TiO2) ⑤ 이리듐(Ir)-백금(Pt)-이산화티탄(TiO2) ⑥루테늄(Ru)-백금(Pt)-주석(Sn)-이산화티탄(TiO2) ⑦ 이리듐(Ir)-백금(Pt)-주석(Sn)-이산화티탄(TiO2) ⑧ 루테늄(Ru)- 백금(Pt)-이리듐(Ir)(Anode) ① Ruthenium (Ru)-Platinum (Pt)-Tin (Sn) ② Iridium (Ir)-Platinum (Pt)-Tin (Sn) ③ Ruthenium (Ru)-Iridium (Ir)-Platinum (Pt)-Tin (Sn) ④ Ruthenium (Ru)-Platinum (Pt)-Titanium dioxide (TiO 2 ) ⑤ Iridium (Ir)-Platinum (Pt)-Titanium dioxide (TiO 2 ) ⑥ Ruthenium (Ru)-Platinum (Pt)-Tin ( Sn)-Titanium dioxide (TiO 2 ) ⑦ Iridium (Ir)-Platinum (Pt)-Tin (Sn)-Titanium dioxide (TiO 2 ) ⑧ Ruthenium (Ru)-Platinum (Pt)-Iridium (Ir) (음극) ⓐ 무전해 도금 전극(니켈, 철) ⓑ 철, 티타늄, 니켈, 탄소강의 mesh, 판 또는 봉상(Cathode) ⓐ Electroless plating electrode (nickel, iron) ⓑ Mesh, plate or rod of iron, titanium, nickel and carbon steel

그림. 4는 1차 처리로서 본 발명 기술의 적용과 2차 처리로 생물학적 처리를 장기간동안 같이 운전한 결과이다.       Drawing. 4 shows the results of operating the biological treatment for a long time with the application of the present invention as the primary treatment and the secondary treatment.

이 결과에 의하여 본 발명의 전극을 이용한 폐수처리 시스템은 기존의 생물학적 처리 시스템과 조합이 가능함을 보인다.       These results show that the wastewater treatment system using the electrode of the present invention can be combined with existing biological treatment systems.

또한 전극의 수명이 상당히 지속적인 것을 확인할 수 있다. It can also be seen that the life of the electrode is quite constant .

본 발명에 의한 전극은 고가의 백금족 계열인 귀금속류의 사용량이 절감되어 저렴한 제조단가로의 제작이 가능함은 물론, 이리듐(Ir)을 사용한 우선적인 전기도금 공정으로 피복층의 균일화 및 복층의 피복층 형성에 따른 내구성 및 반응성의 향상으로 기존의 전극보다 훨씬 긴 수명과 넓은 적용범위로 폐수처리 등에의 적용 시에도 훨씬 우수한 처리효율을 얻을 수 있는 것이다.The electrode according to the present invention can be manufactured at a low manufacturing cost by reducing the amount of expensive platinum group-based precious metals, as well as by the uniform electroplating process using iridium (Ir) according to the uniformity of the coating layer and the formation of the coating layer of the multilayer. Due to the improved durability and responsiveness, much longer lifespan and wider application range than conventional electrodes can be achieved even when applied to wastewater treatment.

도 1은 본 발명 전극의 구성을 나타낸 단면도.       1 is a cross-sectional view showing the configuration of the electrode of the present invention.

〈도면의 주요부분에 대한 설명〉                  <Description of Main Parts of Drawing>

1: 전극체 2: 이리듐(Ir) 피복층       1: Electrode body 2: Iridium (Ir) coating layer

3: 백금족이 포함된 금속산화물 피복층        3: metal oxide coating layer containing platinum group

Claims (9)

삭제delete 백금족 계열의 산화물 피복층을 열층착 공정을 통하여 형성시킴으로서 불용성 양극을 제조하는 공지의 전극 제조방법에 있어서 상기 열증착 공정의 전 단계에 이리듐(Ir)을 사용한 전기도금 공정을 우선적으로 행하여 박막의 1차 이리듐(Ir) 피복층을 형성시키는 공정을 포함하되, 상기 전기도금은 옥살산(Oxalic acid)에 K3IrCl6 (Potassium iridium chloride)을 용해 하여 인가전압 0.1 ~ 1.0V하에서 도금하는 단계를 포함함을 특징으로 하는 백금족 계열의 산화물 피복층이 형성된 불용성 전극의 제조방법.In a known electrode manufacturing method for forming an insoluble anode by forming a platinum group-based oxide coating layer through a thermal lamination process, an electroplating process using iridium (Ir) is preferentially performed prior to the thermal deposition process, and thus the first thin film is formed. Forming an iridium (Ir) coating layer, wherein the electroplating includes dissolving K 3 IrCl 6 (Potassium iridium chloride) in oxalic acid and plating under an applied voltage of 0.1 to 1.0 V. The manufacturing method of the insoluble electrode in which the platinum group series oxide coating layer was formed. 제2항에 있어서, 상기 전기도금은 염화수소와 에탄올에 Na2IrCl66H2O (sodium iridium chloride)을 용해하여 인가전압 0.1 ~ 1.0V 하에서 도금하는 단계를 포함함을 특징으로 하는 백금족 계열의 산화물 피복층이 형성된 불용성 전극의 제조방법.The platinum group-based oxide of claim 2, wherein the electroplating comprises dissolving Na 2 IrCl 6 6H 2 O (sodium iridium chloride) in hydrogen chloride and ethanol and plating the same under an applied voltage of 0.1 to 1.0 V. The manufacturing method of the insoluble electrode in which the coating layer was formed. 제 2항에 있어서, 상기 산화물 피복층 형성을 위한 피복물질은 백금(Pt), 주석(Sn), 이리듐(Ir), 루테늄(Ru)과 이산화티탄(TiO2) 중 3종 이상이 혼합된 것을 사용함을 특징으로 하는 백금족 계열의 산화물 피복층이 형성된 불용성 전극의 제조방법.The method of claim 2, wherein the coating material for forming the oxide coating layer uses a mixture of three or more of platinum (Pt), tin (Sn), iridium (Ir), ruthenium (Ru) and titanium dioxide (TiO 2 ). Method for producing an insoluble electrode formed with a platinum group-based oxide coating layer characterized in that. 제 4항에 있어서, 상기 이리듐(Ir)과 백금(Pt)을 전체피복 물질의 구성성분 중 30% ±20% 이하로 조성됨을 특징으로 하는 백금족 계열의 산화물 피복층이 형성된 불용성 전극의 제조방법.        5. The method of claim 4, wherein the iridium (Ir) and the platinum (Pt) are composed of 30% ± 20% or less of the constituents of the entire coating material. 삭제delete 전극체의 표면에 전기도금 공정을 통한 막박의 1차 이리듐(Ir) 피복층이 형성되고, 이리듐(Ir)피복층의 표면으로 열증착 공정을 통한 백금족 계열의 2차 산화물 피복층이 형성되는 것에 있어서, 상기 산화물 피복층은 백금(Pt), 주석(Sn) 이리듐(Ir), 루테늄(Ru), 이산화티탄(TiO2) 중 3종 이상이 혼합됨을 특징으로 하는 백금족 계열의 산화물 피복층이 형성된 전극.In the formation of the primary iridium (Ir) coating layer of the film foil through the electroplating process on the surface of the electrode body, and the platinum group-based secondary oxide coating layer through the thermal evaporation process is formed on the surface of the iridium (Ir) coating layer, The oxide coating layer is an electrode having a platinum group-based oxide coating layer, characterized in that at least three of platinum (Pt), tin (Sn) iridium (Ir), ruthenium (Ru), titanium dioxide (TiO 2 ) is mixed. 제 7항에 있어서, 상기 이리듐(Ir)과 백금(Pt)은 산화물 피복층 전체 성분의 30% ±20%이하로 조성됨을 특징으로 하는 백금족 계열의 산화물 피복층이 형성된 전극.       8. The electrode according to claim 7, wherein the iridium (Ir) and the platinum (Pt) are composed of 30% ± 20% or less of the total components of the oxide coating layer. 제 7항에 있어서, 상기 산화물 피복층은 갈라짐이 있도록 됨을 특징으로 하는 백금족 계열의 산화물 피복층이 형성된 전극.       8. The electrode according to claim 7, wherein the oxide coating layer is cracked.
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