KR100474240B1 - 비페닐릴기로치환된트리스-아릴-s-트리아진 - Google Patents

비페닐릴기로치환된트리스-아릴-s-트리아진 Download PDF

Info

Publication number
KR100474240B1
KR100474240B1 KR1019970040583A KR19970040583A KR100474240B1 KR 100474240 B1 KR100474240 B1 KR 100474240B1 KR 1019970040583 A KR1019970040583 A KR 1019970040583A KR 19970040583 A KR19970040583 A KR 19970040583A KR 100474240 B1 KR100474240 B1 KR 100474240B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
carbon atoms
alkyl
hydroxy
tert
substituted
Prior art date
Application number
KR1019970040583A
Other languages
English (en)
Other versions
KR19980018969A (ko
Inventor
타일러 아더 스티븐슨
레바티 이엔가
라마나단 라비챈드란
Original Assignee
시바 스페셜티 케미칼스 홀딩 인크.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 시바 스페셜티 케미칼스 홀딩 인크. filed Critical 시바 스페셜티 케미칼스 홀딩 인크.
Publication of KR19980018969A publication Critical patent/KR19980018969A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100474240B1 publication Critical patent/KR100474240B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3467—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
    • C08K5/3477—Six-membered rings
    • C08K5/3492—Triazines
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D251/00—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings
    • C07D251/02—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
    • C07D251/12—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D251/14—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrogen or carbon atoms directly attached to at least one ring carbon atom
    • C07D251/24—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrogen or carbon atoms directly attached to at least one ring carbon atom to three ring carbon atoms
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31678—Of metal
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31678—Of metal
    • Y10T428/31692—Next to addition polymer from unsaturated monomers
    • Y10T428/31699—Ester, halide or nitrile of addition polymer

Abstract

Figure pat00001
G1 및 G2가 비페닐릴 잔기인 상기 화학식 (1)의 선정된 s-트리아진은 높은 열적 안정성 및 자동차 코팅의 안정화에 있어 크게 중요시되는 특징인 높은 흡광 계수를 갖는 UV 흡수제이다.

Description

비페닐릴기로 치환된 트리스-아릴-ｓ- 트리아진
화학식 (1)의 s-트리아진은 중합체 기재, 특히 자동차 코팅의 안정화에 특히 유용한 높은 열 안정성 및 놀랄만큼 높은 흡광 계수를 갖는 UV 흡수제이다.
하나 이상의 아릴기가 트리아진 고리의 오르토 위치에 히드록시기를 갖는 트리스-아릴-s-트리아진은 UV 흡수제로 잘 공지되어 있다. 또한, 상기 트리아진류는 화학선 노출에 의한 유해 효과로부터 유기 중합체를 보호함이 잘 공지되어 있다.
본 출원의 목적을 위해 s-트리아진 고리상의 2,4-디히드록시페닐기는 레조르시놀기로 언급될 수 있다. 레조르시놀기에서 쓰이는 번호 매김 체계는 하기와 같이 나타낸다.
Figure pat00002
미국 특허 3,118,887호 및 3,268,474호는 하나 또는 그 이상의 트리스-아릴-s-트리아진류의 혼입에 의한 UV 광으로부터 플라스틱 및 수지 조성물의 보호에 대해 기재하고 있다. 전자의 특허는 2,4,6-트리스-(2,4-디히드록시페닐)-s-트리아진 및 2,4,6-트리스-(2-히드록시-4-알콕시페닐)-s-트리아진을 청구하고 있다. 트리스-5-알킬레조르시놀-s-트리아진은 제조되었지만, 시험 또는 청구되지 않았다.
미국 특허 3,268,474호는 중합체 물질의 조성물 및 하나 이상의 오르토-히드록시페닐기를 갖고 각 고리에 총 3개 이하의 알킬, 알콕시, 할로 등에 의해 3 개의 아릴 고리 각각에 더 치환될 수 있는 트리스-아릴-s-트리아진을 청구하고 있다. 바람직한 치환 양식은 제시되지 않았다.
트리스-(2-히드록시-4-알콕시페닐)-s-트리아진 및 2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-s-트리아진을 포함하는 조성물에 대한 특정한 청구가 있다. 또 트리스-알킬레조르시놀-s-트리아진의 예가 있지만, 시험되지 않았고 중합체를 갖는 조성물은 청구되지 않았다.
미국 특허 3,242,175호는 레조르시놀 고리에 치환기를 가지지 않는 비스-레조르시놀-트리스-아릴-s-트리아진을 청구하고 있다. 미국 특허 3,244,708호는 레조르시놀 고리에 치환기를 갖지 않는 모노-, 비스-, 트리스-레조르시놀-트리스-아릴-s-트리아진을 청구하고 있다. 상기 특허의 도입부의 마르쿠쉬 구조에서는 레조르시놀 고리에서 히드록시, 할로겐, 알킬, 알콕시, 페닐 또는 페닐알킬의 하나 또는 두 개 또는 조합에 의해 더 치환될 수 있는 모노-레조르시놀-트리스-아릴-s-트리아진을 제시하지 않고 있다. 바람직한 치환 양식은 언급되지 않았고 상기 화합물의 합성 또는 시험도 언급되지 않았다.
미국 특허 4,619,956호 및 4,740,542호는 광, 습기 및 산소의 작용에 대한 중합체 필름 코팅 또는 성형 제품에 있어 트리스-아릴-s-트리아진과 입체 장애 아민 광 안정화제의 상승작용적인 양의 사용을 개시하고 있다. 상기 특허에서 언급한 트리스-아릴-s-트리아진은 미국 특허 3,268,474호에 기재된 것들이다. 바람직한 s-트리아진은 4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-(2,4-디히드록시페닐)-s-트리아진 또는 4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-s-트리아진이다. 상기 특허의 마르쿠쉬 구조에서는 트리아진 고리의 오르토 위치에 하나 이상의 히드록시기를 갖고 3개의 아릴 고리의 각각에 3개 이하의 치환기를 가질 수 있는 트리스-아릴-s-트리아진을 기재하고 있다. 이들 치환기는 알킬, 알콕시, 할로 등을 포함한다. 바람직한 치환 양식은 주어지지 않았으며 레조르시놀 고리에 치환된 어떠한 화합물도 제조 또는 시험되지 않았다. 더욱이, 상기 두 특허는 특히 비페닐릴기로 치환된 모노-s-트리아진을 포괄적으로 기재하고 있지만, 비페닐기를 갖는 특정한 모노-s-트리아진은 개시되지 않았고 게다가, 이들 기에 의해 제공되는 상당히 높은 흡광 계수도 개시되지 않았다.
유럽 특허 출원 443,323호는 고 용해성 트리스-아릴-s-트리아진, 이들의 제조 공정 및 유기 용매를 갖는 이들의 조성물을 청구하고 있다. 이 공정에서 유용한 것으로 언급한 특정 트리아진은 2-(2,4-디히드록시페닐)-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진이다. 이 출원에서 청구한 트리스-아릴-s-트리아진은 미국 특허 3,268,474호에 기재한 것들을 본으로 하고 있다. 바람직한 트리아진은 모노-레조르시놀-트리스-아릴을 기재로 하는 s-트리아진이다. 바람직한 마르쿠쉬군은 레조르시놀 고리가 5번 위치에서 알킬기로 더욱 치환될 수 있음을 보여주고 있다. 그러나, 이 위치에서 치환 효과는 언급되지 않았고, 이러한 화합물은 제조 또는 시험되지 않았다.
유럽 특허 출원 483,488호 및 미국 특허 5,461,151호는 트리스-아릴-s-트리아진 및 입체 장애 아민을 포함한 상승작용적인 안정화제 조성물 및 이들 조성물의 혼입에 의한 중합체의 안정화 방법을 청구하고 있다. 또, 상기 조성물에서 청구된 트리아진은 미국 특허 3,268,474호에 기재된 것을 기재로 하고 있다. 바람직한 트리아진은 비스-크실릴-레조르시놀을 기재로 하는 s-트리아진이다. 이 출원의 본문은 레조르시놀 고리의 5번 위치에서 알킬기로 더 치환된 모노-레조르시놀-트리스-아릴을 기재로 하는 s-트리아진의 마르쿠쉬 구조를 보여주고 있다. 그러나, 레조르시놀 고리에서 더 치환된 이러한 트리아진은 제조 또는 시험되지 않았다.
미국 특허 4,826,978호 및 4,962,142호는 코팅 뿐만 아니라 중합체에 대한 자외선 차단막으로 유용한 트리스-아릴-s-트리아진의 종류를 개시하고 있다. 이 트리아진은 페닐기에서 전자 인출성 기(electron withdrawing group)가 치환된 비스-레조르시놀-페닐-s-트리아진을 기재로 한다. 레조르시놀기에서 더 이상의 치환은 언급되지 않았다.
미국 특허 5,106,891호는 UV 흡수제로서 하나 이상의 2-히드록시페닐벤조트리아졸 및 하나 이상의 2-히드록시페닐트리아진의 혼합물을 함유하는 코팅 조성물을 청구하고 있다. 기재된 트리아진은 모노-레조르시놀-트리스-아릴-s-트리아진을 기재로 하며 바람직한 구조는 비스-크실릴-레조르시놀-s-트리아진을 기재로 한다. 마르쿠쉬 구조에서는 아릴기가 3개 이하의 히드록시, 할로게노메틸, 알킬, 알콕시 또는 할로겐, 또는 이들의 조합에 의해 치환될 수 있음을 개시하고 있다. 따라서, 치환된 레조르시놀기를 가지는 트리스-아릴-s-트리아진의 구조는 개시하고 있으나, 바람직한 치환 양식은 개시되지 않았고 이들 화합물은 제조 또는 시험되지 않았다.
유럽 특허 출원 434,608호는 광, 열 및 산소에 의한 손상으로부터 안정화되고 입체 장애 아민 및 o-히드록시페닐-s-트리아진과의 조합물 또는 상기 트리아진만을 함유하는 유기 물질, 입체 장애 아민 및 상기 트리아진 또는 트리아진만의 조합물을 혼입함으로써 유기 물질을 안정화 시키는 방법, 신규 o-히드록시페닐-s-트리아진 및 유기 물질에 대한 안정화제로서 신규 s-트리아진의 용도를 청구하고 있다. 특별히 언급한 유기 물질은 코팅 결합제 및 방사-경화성 코팅 물질이다. 바람직한 트리아진은 레조르시놀 고리에서 더 치환되지 않은 모노-레조르시놀-트리스-아릴을 기재로 하는 s-트리아진이다. 하나 또는 2개의 알킬- 또는 할로- 치환된 레조르시놀기를 갖는 트리스-아릴-s-트리아진을 포함하는 마르쿠쉬 구조가 청구되어 있다. 바람직한 치환 양식은 제시되지 않았고 치환된 레조르시놀 고리를 갖는 어떠한 화합물도 제조 또는 시험되지 않았다.
유럽 특허 출원 442,847호는 결합제, 경화제 및 광, 열 및 산소에 의한 손상에 대한 안정화제로서 트리스-아릴-s-트리아진을 함유하는 코팅 조성물을 청구하고 있다. 자동차 코팅용으로 상기 조성물의 사용이 특별히 언급되어 있다. 상기 조성물에서 사용하기 위한 바람직한 트리아진은 레조르시놀 고리에서 치환되지 않은 모노-레조르시놀-트리스-아릴을 기재로 한 s-트리아진이다. 청구 범위에는 알킬 또는 할로겐으로 더 치환될 수 있는 하나 또는 2개의 레조르시놀기를 갖는 트리스-아릴-s-트리아진을 포함하는 마르쿠쉬 구조가 기재되어 있다. 바람직한 치환 양식은 제시되지 않았고 치환된 레조르시놀 고리를 갖는 어떠한 화합물도 제조 또는 시험되지 않았다.
미국 특허 5,354,794호는 전착 하도제(electro coat primer), 전착 하도제에 부착한 색도 도료(color coat), 색도 도료에 부착한 투명 도료(clear coat) 및 색도 도료 또는 투명 도료 또는 둘 다에 있어 트리스-아릴-s-트리아진 UV 흡수제를 포함하는 중합체 필름 조성물을 청구하고 있다. 트리스-아릴-s-트리아진류 특히 비스- 및 트리스-레조르시놀-트리스-아릴-s-트리아진을 기재로 한 것들이 상기 코팅 계를 안정화시키는데 있어 특별히 효과적임을 강조하고 있다. 조성물의 마르쿠쉬 구조는 레조르시놀 고리에서 1 내지 6개의 탄소 원자에 의해 치환될 수 있는 비스- 및 트리스-레조르시놀-트리스-아릴-s-트리아진을 청구하고 있다. 특정한 치환 양식은 논의되지 않았다. 2,4,6-트리스-(2,4-디히드록시-5-헥실페닐)-s-트리아진 제조의 실시예는 제시되었으나, 시험되지는 않았다.
미국 특허 5,298,067호는 모노-레조르시놀-트리스-아릴을 기재로 하는 s-트리아진의 단량체 또는 이합체 단독 또는 입체 장애 아민 또는 히드록시페닐벤조트리아졸과의 조합되어 안정화된 코팅 물질 및 상기 s-트리아진의 혼입에 의해 코팅 물질을 안정화하는 방법을 청구하고 있다. 레조르시놀기에서 더 이상의 치환은 언급되지 않았다. 특별히 언급한 코팅 물질은 자동차 래커이다.
유럽 특허 출원 165,608호는 트리스-아릴-s-트리아진의 종류를 비롯한 s-트리아진, 이들의 제조 공정 및 유기 물질, 특히 칼라 사진 물질에 있어 UV 흡수제로서 이들의 사용 방법을 개시하고 있다.
개시된 트리스-아릴-s-트리아진은 알킬, 알콕시, 히드록시, 또는 알킬 또는 페닐카르보닐으로 치환될 수 있는 1 내지 3개의 레조르시놀기를 갖는 것을 포함한다. 바람직한 치환 양식은 개시되지 않았다. 3번 위치에 메틸, 6번 위치에 히드록시, 메톡시 및 메틸, 및 5번 위치에 아세틸에 의해 치환된 레조르시놀을 갖는 비스-레조르시놀-트리스-아릴-s-트리아진에 대한 예가 주어져 있다.
미국 특허 3,843,371호는 UV 방사선에 대한 안정화제로서 트리스-아릴-s-트리아진을 함유하는 사진 물질을 청구하고 있다. 상기 특허의 청구범위의 마르쿠쉬 구조에서는 레조르시놀 고리 중 하나의 6번 위치에 알킬 치환기를 갖을 수 있는 비스-레조르시놀-트리스-아릴-s-트리아진을 포함한다. 바람직한 트리아진은 레조르시놀 고리에 더 이상의 치환이 없는 비스-레조르시놀-트리스-아릴을 기재로 하는 s-트리아진이다. 상기 특허의 본문의 마르쿠쉬 구조에서는 할로겐, 히드록시, 알킬, 알콕시,페닐, 페녹시, 시클로알콕시 등으로 치환할 수 있는 하나 또는 2개의 레조르시놀기를 가질 수 있는 트리스-아릴-s-트리아진을 기재하고 있다. 바람직한 치환 양식은 논의되지 않았으며 치환된 레조르시놀기를 갖는 어떠한 화합물도 제조 또는 시험되지 않았다.
유럽 특허 출원 468,921호는 s-트리아진과 하나 이상의 음이온 또는 비-음이온 화합물과의 수성 분산액을 청구하고 있다. 청구 범위의 마르쿠쉬 구조는 알킬 또는 할로겐으로 치환된 하나의 레조르시놀 고리를 가질 수 있는 트리스-아릴-s-트리아진을 포함한다. 치환 양식은 특정되지 않았다. 바람직한 트리아진은 레조르시놀 고리에 치환기를 갖지 않는 모노-레조르시놀-트리스-아릴을 기재로 하는 s-트리아진을 포함하고 s-트리아진류만 예시하고 있다. 미국 특허 4,831,068호는 s-트리아진 UV 흡수제를 사용하여 폴리에스테르 섬유 물질상의 염색을 안정화시키는 방법 및 상기 방법으로 처리된 폴리에스테르 섬유 물질을 청구하고 있다. 마르쿠쉬 구조 및 바람직한 트리아진은 유럽 특허 출원 468,921호에 있는 것과 같다. 또, 바람직한 유형의 s-트리아진류만이 실시예에 제시되어 있다.
미국 특허 4,950,304호는 표백제로 처리된 천연 또는 합성 폴리아미드 기재의 형광을 흡광 또는 억제하는 공정을 청구하고 있다. 이 공정은 히드록시페닐벤조트리아졸 또는 히드록시페닐트리아진을 함유하는 액체를 상기 기재에 도포하고 상기 UV 흡수제를 그 위에 고정하는 것을 포함한다. 개시된 s-트리아진의 마르쿠쉬 구조는 치환된 레조르시놀기를 가질 수 있는 트리스-아릴-s-트리아진을 포함한다. 레조르시놀기는 3번- 또는 5번 위치에서 할로겐, 알킬, 시클로알킬, 페닐알킬, 술포 등에 의해 치환될 수 있다. 바람직한 트리아진 구조는 레조르시놀 고리의 5번 위치에서 술포네이트기로 치환된 비스-페닐-레조르시놀-s-트리아진이다. 임의의 기타 치환기로 치환된 레조르시놀기를 갖는 s-트리아진은 제조 또는 시험되지 않았다. 레조르시놀의 3번 위치에 대한 5번 위치에서의 치환이 유리함은 논의되지 않았다.
미국 특허 5,096,489호는 s-트리아진과 조합한 염료의 수용액을 사용함으로써 잉크 제트 인쇄를 안정화하는 방법을 청구하고 있다. 마르쿠쉬 구조는 5번 위치에서 술포, 할로 또는 알킬기에 의해 치환된 하나 또는 그 이상의 레조르시놀기를 가질 수 있는 트리스-아릴-s-트리아진을 기재하고 있다. 상기 방법의 사용을 위한 바람직한 트리아진은 레조르시놀 고리에 치환기가 없는 비스- 및 트리스-레조르시놀-트리스-아릴-s-트리아진을 기재로 하고 있다. 치환된 레조르시놀기를 갖는 s-트리아진은 예시되어 있지 않았다. 레조르시놀 고리의 5번 위치에서의 치환의 유리한 점은 논의되지 않았다.
상술한 참고 문헌의 어느 것도 비페닐릴기를 갖는 s-트리아진을 개시하고 있지 않으며 이들 기에 의해 제공되는 상당히 높은 흡광 계수를 개시하지 않았다.
동시 계류 중인 미국 특허 출원 08/281,381호에는 이합체 및 저급 올리고머로 치환된 s-트리아진 UV 흡수제를 개시하고 있지만, 비페닐릴기로 치환된 s-트리아진은 개시되지 않았다.
본 발명은 상기 기술한 내용을 감안하여 광, 산소 및 열에 의한 유기 물질의 분해에 대한 우수한 안정화제인 트리스-아릴-s-트리아진을 제공하는데 있다.
본 발명은 하나 이상의 아릴기가 비페닐릴 또는 치환된 비페닐릴 잔기인 신규 이합체성 또는 올리고머성 트리스-아릴-s-트리아진에 관한 것이다.
보다 자세하게는, 본 발명은 하기 화학식 (1)의 화합물에 관한 것이다.
Figure pat00003
상기 식에서,
G1은 화학식
Figure pat00004
의 기이고,
G2는 화학식
Figure pat00005
의 기이며,
이때, q는 0 또는 1이고,
R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9 및 R10은 서로 독자적으로 수소, 히드록시, 시아노, 1 내지 20개 탄소 원자의 알킬, 1 내지 20개 탄소 원자의 알콕시, 7 내지 15개 탄소 원자의 페닐알킬, 4 내지 12개 탄소 원자의 시클로알킬, 4 내지 12개 탄소 원자의 시클로알콕시, 할로겐, 1 내지 5개 탄소 원자의 할로알킬, 술포닐, 카르복시, 2 내지 12개 탄소 원자의 아실아미노, 2 내지 12개 탄소 원자의 아실옥시, 2 내지 12개 탄소 원자의 알콕시카르보닐, 아미노카르보닐이거나 또는 R3 및 R4는 이들이 부착된 페닐 라디칼과 합쳐져서 중간에 하나 또는 그 이상의 산소 또는 질소 원자를 포함하는 고리형 라디칼이며,
E2는 수소, 1 내지 24개 탄소 원자의 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 5 내지 12개 탄소 원자의 시클로알킬; 또는 1 내지 8개의 할로겐, 에폭시, 글리시딜옥시, 푸릴옥시, -E4, -OE5, -N(E5)2, -CON(E5)2, -COE5, -COOE5, -OCOE5, -OCOC(E5)=C(E5)2, -C(E5)=CCOOE5, -CN, -NCO,
Figure pat00006
또는 이들의 조합에 의해 치환된 상기 알킬 또는 시클로알킬; 또는 중간에 1 내지 6개의 에폭시, -O-, -NE5-, -CONE5-, -COO-, -OCO-, -CO-, -C(E5)=C(E5)COO-, -OCOC(E5)=C(E5)-, -(E5)C=C(E5)-, 페닐렌 또는 G3가 -O-, -S-, -SO2-, -CH2- 또는 -C(CH3)2-인 -페닐렌-G3-페닐렌 또는 이들의 조합을 포함하는 상기 알킬 또는 시클로알킬; 또는 상술한 기의 조합에 의해 치환되고 또 중간에 이를 포함하는 상기 알킬 또는 시클로알킬이거나; 또는 E2는 -SO2E3 또는 -COE6이고;
E4는 6 내지 10개 탄소 원자의 아릴, 또는 1 내지 3개의 할로겐, 1 내지 8개 탄소 원자의 알킬, 1 내지 8개 탄소 원자의 알콕시 또는 이들의 조합에 의해 치환된 상기 아릴; 5 내지 12개 탄소 원자의 시클로알킬; 또는 7 내지 15개 탄소 원자의 페닐알킬, 또는 페닐 고리상에서 1 내지 3개의 할로겐, 1 내지 8개 탄소 원자의 알킬, 1 내지 8개 탄소 원자의 알콕시 또는 이들의 조합에 의해 치환된 상기 페닐 알킬; 또는 2 내지 18개 탄소 원자의 직쇄 또는 측쇄 알케닐이며;
E5는 E4에서 정의한 바와 같거나, 또는 E5는 수소 또는 1 내지 24개 탄소 원자의 직쇄 또는 측쇄 알킬이거나; 또는 E5는 화학식
Figure pat00007
의 기이고
T1은 수소, 옥실, 히드록시, 1 내지 12개 탄소 원자의 알킬, 하나 이상의 히드록시 또는 저급 알콕시에 의해 치환된 상기 알킬, 벤질 또는 2 내지 18개 탄소 원자의 알카노일이며;
E6은 1 내지 18개 탄소 원자의 직쇄 또는 측쇄 알킬, 2 내지 18개 탄소 원자의 직쇄 또는 측쇄 알케닐, 1 내지 12개 탄소 원자의 알콕시, 페녹시, 1 내지 12개 탄소 원자의 알킬아미노, 6 내지 12 탄소 원자의 아릴아미노 또는 -E7COOH 또는 -NH-E8-NCO이며;
E7은 2 내지 14개 탄소 원자의 알킬렌 또는 o-페닐렌이고;
E8은 2 내지 10개 탄소 원자의 알킬렌, 페닐렌, 톨릴렌, 디페닐렌메탄 또는 화학식
Figure pat00008
의 기이며;
t는 0 내지 9이고; 또
L은 1 내지 12개 탄소 원자의 직쇄 또는 측쇄 알킬렌, 5 내지 12개 탄소 원자의 시클로알킬렌, 시클로헥실렌 또는 페닐렌에 의해 치환되거나 또는 이를 중간에 포함하는 알킬렌이거나; 또는 L은 벤질리덴; 또는 L은 -S-, -S-S-, -S-L1-S-, -SO-, -SO2-, -SO-L1-SO-, -SO2-L1-SO2-, -CH2-NH-L1-NH-CH2- 또는 화학식
Figure pat00009
이며,
L1은 2 내지 12개 탄소 원자의 알킬렌, 5 내지 12 탄소 원자의 시클로알킬렌 또는 8 내지 12개 탄소 원자의 시클로헥실렌을 중간에 포함하거나 또는 이들에 의해 종결되는 알킬렌이고; 단, 하나 이상의 L 결합은 페닐 고리의 5번 위치에서 부착된다.
바람직하게는 t는 0 내지 3, 가장 바람직하게는 이합체 구조를 의미하는 0이다. 5번 위치에서 두 개의 레조르시놀 잔기에 치환된 불연속 이합체 이외에, "이합체 혼합물" 뿐만 아니라 선택된 조건하에서 레조르시놀 유도 고리가 5번 및 3번 위치를 통해 결합된 고급 올리고머를 합성할 수 있다. 5:5 및 5:3 위치에서 치환된 이합체는 상기 혼합물의 주성분이다. 5번 위치에서 치환된 레조르시놀 고리가 상당량으로 있기 때문에 이들 혼합물은 적색-이동된다. 이성질체는 크로마토그래피 또는 기타 유기 화학의 분리 기술에 의해 분리할 수 있지만, 혼합물 그 자체는 적색-이동하므로 효과적인 UV 흡수제 안정화제로 사용할 수 있다. 적색-이동하는 것 이외에, 이성질체 혼합물은 통상적인 유기 용매에 매우 잘 용해된다.
바람직하게는 G1 및 G2는 비페닐릴 또는 1 내지 3개의 저급 알킬 또는 할로겐으로 치환된 비페닐릴이다.
E2는 2 내지 24개 탄소 원자의 직쇄 또는 측쇄 알킬, 또는 하나 또는 2개의 -OE5(E5는 수소, 1 내지 24개 탄소 원자의 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 페닐임)에 의해 치환된 상기의 알킬이다.
가장 바람직하게는 E2는 하나의 히드록시 및 하나의 -OE5(E5는 1 내지 24개 탄소 원자의 알킬 또는 페닐임)에 의해 치환된 2 내지 24개 탄소 원자의 알킬이다.
본 발명의 기타 바람직한 구체예는 G1 및 G2가 비페닐릴 또는 1 내지 3개의 저급 알킬 또는 할로겐으로 치환된 비페닐릴이고;
t는 0 내지 3이며; 또
L은 메틸렌; 벤질리덴;
Figure pat00010
인 화학식 (1)의 화합물이다.
특별히 바람직하게는 G1 및 G2가 4-비페닐릴이고;
E2는 2 내지 6개 탄소 원자의 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 하나 또는 2개의 -OE5(E5는 수소 또는 1 내지 24개 탄소 원자의 직쇄 또는 측쇄 알킬임)에 의해 치환된 상기 알킬인 화학식 (1)의 화합물이다.
바람직한 또 다른 구체예는 E2가 하나의 히드록시 및 하나의 1 내지 24개 탄소 원자의 하나의 알콕시에 의해 치환된 1 내지 24개 탄소 원자의 알킬인 화학식 (1)의 화합물이다.
바람직한 화학식 (1)의 화합물은
a. 1,3-비스{1-{2,4-디히드록시-5-(3,5-디(4-비페닐릴)-s-트리아지닐))페닐]-1-메틸-에틸}벤젠;
b. 3:5, 5:5 및 3:3 위치에서 5:4:1의 비로 브릿지된 메틸렌-비스-[2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-디(4-비페닐릴)-s-트리아진]의 혼합물; 및
c. 3:5 및 5:5 위치에서 1:1의 비로 브릿지된 벤질리덴-비스-[2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-디(4-비페닐릴)-s-트리아진]의 혼합물이다.
화학식에서 의미하는 기가 알킬이면, 이들 알킬기는 예컨대 메틸, 에틸, 이소프로필, n-부틸, 삼차-부틸, 3차-아밀, 2-에틸헥실, n-옥틸, n-운데실, 라우릴, n-헵타데실 및 n-옥타데실이고; 알킬렌이면, 이들 알킬렌기는 예컨대 에틸렌, 트리메틸렌, 테트라메틸렌, 헥사메틸렌, 옥타메틸렌 및 2,2-디메틸프로판-1,3-디일이며; 시클로알킬렌이면, 이들 시클로알킬렌기는 예컨대 시클로펜틸렌 또는 시클로헥실렌이고; 알킬 또는 알콕시에 의해 치환된 페닐이면, 이들 기는 예컨대 톨릴, 크실릴 또는 메톡시페닐이며; 시클로알킬이면, 이들 기는 예컨대 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로옥틸 또는 시클로도데실이고; 페닐알킬이면, 이들 기는 예컨대 벤질, α-펜에틸, 2-펜에틸 또는 4-삼차-부틸벤질이며; -O- 또는 -NR5-에 의해 중간에 포함된 및 OH에 의해 치환될 수 있는 알킬이면, 이들 기는 예컨대 메톡시에틸, 에톡시에틸, 부톡시에틸, 부톡시프로필, CH3OCH2CH2OCH2CH2-, CH3CH2OCH2CH2OCH2CH2-, C4H9OCH2CH2OCH2CH2-, 도데실옥시프로필, 2-히드록시에틸, 2-히드록시프로필, 4-히드록시부틸, 6-히드록시헥실, -CH2CH2-NH-C4H9, -CH2CH2CH2NH-C8H17, -CH2CH2CH2-N(CH3)-CH2CH(C2H5)C4H9, 2-히드록시-3-노닐옥시프로폭시 및 2-히드록시-3-도데실옥시프로폭시이다.
본 발명의 또 다른 특징은 상기 생성물의 수득 공정이다. 트리스-아릴-s-트리아진 핵의 구조는 잘 공지되어 있고 미국 특허 3,268,474호 및 3,244,708호에 기재되어 있다. 여기서 청구된 것은 트리스-아릴-s-트리아진의 레조르시놀기가 "후-알킬화", 즉 5번 위치에서 포화 탄소로 치환됨으로써 관능화될 수 있는 공정이다.
본 화합물을 제조하는 데 필요한 중간체 및 시약은 주로 시판되는 품목 또는 그 분야의 공지된 방법에 의해 수득될 수 있다.
상기 "알킬화"를 위해 많은 공정을 이용할 수 있다. 예컨대 염화 알루미늄, p-톨루엔술폰산, 메탄술폰산 등과 같은 적절한 촉매를 사용하여 알켄, 염화 알킬 또는 알코올과의 프리델-크라프츠 알킬화 반응; 프리델-크라프츠 아실화 반응 생성물의 환원 반응; 칼륨, 나트륨, 알루미늄, 티타늄 등의 적절한 대이온과 함께 활성화(미카엘) 또는 불활성화 알켄에 대한 금속-페녹시드 첨가 반응.
바람직하게 이용되는 공정은 촉매량의 p-톨루엔술폰산 또는 메탄술폰산을 사용하여 알켄과의 프리델-크라프츠 알킬화 반응; 또는 촉매량의 디이소부틸 알루미늄 수소화물 또는 알루미늄 이소프로폭시드를 사용하여 불활성화 알켄에 대한 알루미늄 페녹시드의 첨가 반응이다.
가장 바람직하게 이용되는 공정은 촉매량의 알루미늄 이소프로폭시드를 사용하여 불활성화 알켄에 대한 레조르시놀-트리스-아릴-s-트리아진의 알루미늄 페녹시드 첨가 반응이며 이 반응은 110°및 250℃ 사이 온도에서 실시된다. 이 공정은 하기에 나타낸다:
Figure pat00011
본 화합물을 제조하는 공정은 바람직하게는 하기 화학식의 화합물의 양에 대해 2 내지 10 당량의 과량의 알켄, 시클로알켄 또는 페닐알켄을 사용하여 실시된다.
Figure pat00012
본 발명의 또 다른 특징은
(a) 화학선에 노출되면 분해되기 쉬운 유기 물질 및
(b) 유효 안정화 양의 화학식 (1) 또는 (2)의 화합물을 포함하는 화학선의 유해 효과로부터 안정화된 조성물이다.
유기 물질은 바람직하게는 중합체, 특별히 고 고형분 열경화성 아크릴/멜라민 수지 또는 아크릴 우레탄 수지; 가장 바람직하게는 고 고형분 열경화성 아크릴/멜라민 수지이다.
바람직한 조성물은,
(a) 금속 기재에 부착되는 전착 하도제,
(b) 전착 하도제에 부착되고 필름-형성 결합제 및 유기 안료 또는 무기 안료 또는 이들의 혼합물을 포함하는 하도- 또는 색도 도료,
(c) 하도 도료에 부착되며 필름-형성 결합제를 포함하는 투명 도료 및
(d) 하도 도료 또는 투명 도료 또는 하도 도료 및 투명 도료에 함유된 유효 안정화 양의 하나 이상의 트리스-아릴-s-트리아진 UV 흡수제를 포함하는 중합제 필름 조성물이다.
상기 조성물은 성분 (d)로서 1 내지 20 중량%의 필름-형성 결합제를 함유한다.
성분 (d)는 바람직하게는 하도 도료에 혼입된다.
본 발명은 또한 유효 안정화 양의 하나 이상의 2-히드록시페닐-2H-벤조트리아졸; 다른 트리스-아릴-s-트리아진; 또는 입체 장애 아민 또는 이들의 혼합물을 부가적으로 함유하는 조성물에 관한 것이다.
바람직한 2-히드록시페닐-2H-벤조트리아졸은
2-(2-히드록시-3,5-디-삼차-아밀페닐)-2H-벤조트리아졸;
2-[2-히드록시-3,5-디(α,α-디메틸벤질)페닐]-2H-벤조트리아졸;
2-[2-히드록시-3-(α,α-디메틸벤질)-5-옥틸페닐]-2H-벤조트리아졸;
2-{2-히드록시-3-삼차-부틸-5-[2-(오메가-히드록시-옥타(에틸렌옥시)카르보닐)에틸]-페닐}-2H-벤조트리아졸; 및
2-{2-히드록시-3-삼차-부틸-5-[2-(옥틸옥시)카르보닐)에틸]페닐}-2H-벤조트리아졸로 구성된 군으로부터 선정된다.
바람직한 기타 트리스-아릴-s-트리아진은
2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-s-트리아진;
2,4-디페닐-6-(2-히드록시-4-헥실옥시페닐)-s-트리아진; 및
2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-[2-히드록시-4-(3-도-/트리-데실옥시-2-히드록시-프로폭시)페닐]-s-트리아진으로 구성된 군으로부터 선정된다.
본 발명에 따른 광 및 습기의 작용에 대해 안정화시킬 수 있는 알키드 수지 래커는, 예컨대 알키드/멜라민 수지 및 알키드/아크릴/멜라민 수지를 기재로 하는 래커와 같은 특히 자동차 도장용(자동차 마무리용 래커)으로 사용되는 통상의 스토빙 래커이다(H.Wagner and H.F.Sarx, "Lackkunstharze"(1977), 99-123쪽 참조.). 기타 가교제는 글리코우릴 수지, 블록화 이소시아네이트 또는 에폭시 수지를 포함한다.
본 발명에 따라 안정화된 래커는 수정(retouching) 마무리 뿐만 아니라 특히 다양한 코일 코팅의 경우에 있어 금속 마무리용 코팅 및 고체 색조 마무리에 적합하다. 본 발명에 따라 안정화된 래커는 바람직하게도 2가지 방법, 즉 1층 피복법 또는 2층 피복법에 의한 통상의 방식으로 적용된다. 후자의 방법에서, 하도 도료를 함유하는 안료를 먼저 도포한 후 그 위에 투명 래커를 덧칠한다.
본 발명의 화합물은 에폭시, 에폭시-폴리에스테르, 비닐, 알키드, 아크릴 및 폴리에스테르 수지, 임의로 개질된 실리콘, 이소시아네이트 또는 이소시아누레이트와 같은 비-산 촉매화된 열 경화성 수지에서 사용 가능하다는 것이 또한 중요하다. 에폭시 및 에폭시-폴리에스테르 수지는 산, 산 무수물, 아민 등과 같은 통상의 가교제로 가교시킬 수 있다. 따라서, 에폭시드는 주쇄 구조에 반응기의 존재에 의해 개질된 다양한 아크릴 또는 폴리에스테르 수지에 대한 가교제로서 사용할 수 있다.
2층 피복법에 사용할 때, 본 발명의 화합물을 투명 도료 또는 투명 도료 및 착색된 하도 도료에 혼입시킬 수 있다.
최대 광 안정화를 달성하기 위해 통상적인 기타 광 안정화제와의 동시 사용이 유리할 수 있다. 상기 안정화제의 예로는 벤조페논, 벤조트리아졸, s-트리아진, 시아노아크릴레이트 또는 옥사닐리드 형의 UV 흡수제, 또는 예컨대 유기 니켈 화합물과 같은 금속-함유 광 안정화제 또는 입체 장애 아민 광 안정화제가 있다. 2층 피복 계에서, 상기의 부가적인 광 안정화제를 투명 도료 또는 투명 도료 및 착색 하도 하도에 첨가시킬 수 있다.
안정화될 수 있는 일반적인 중합체는 다음과 같다.
1. 예컨대 폴리에틸렌(경우에 따라 가교될 수 있는), 폴리프로필렌, 폴리이소부틸렌, 폴리부텐-1, 폴리메틸펜텐-1, 폴리이소프렌 또는 폴리부타디엔과 같은 모노올레핀 및 디올레핀의 중합체 뿐만 아니라 예컨대 시클로펜텐 또는 노르보르넨과 같은 시클로올레핀의 중합체.
2. 예컨대 폴리프로필렌과 폴리이소부틸렌의 혼합물과 같은 1)항에서 상술한 중합체의 혼합물.
3. 예컨대 에틸렌/프로필렌, 프로필렌/부텐-1, 프로필렌/이소부티디엔, 에틸렌/부텐-1, 프로필렌/부타디엔, 이소부틸렌/이소프렌, 에틸렌/알킬 아크릴레이트, 에틸렌/알킬 메타크릴레이트, 에틸렌/비닐 아세테이트와 같은 모노올레핀 및 디올레핀 상호간 또는 기타 비닐 단량체와의 공중합체, 또는 에틸렌/아크릴 산 공중합체 및 이들의 염(이오노머) 및 에틸렌과 프로필렌 및 디엔(예컨대, 헥사디엔, 디시클로펜타디엔 또는 에틸리덴-노르보르넨)의 삼합체.
4. 폴리스티렌, 폴리-(α-메틸스티렌).
5. 예컨대 스티렌/부타디엔, 스티렌/아크릴로니트릴, 스티렌/에틸 메타크릴레이트, 스티렌/부타디엔/에틸 아크릴레이트, 스티렌/아크릴로니트릴/메틸 아크릴레이트와 같은 스티렌 또는 메틸스티렌과 디엔 또는 아크릴산 유도체와의 공중합체; 스티렌 공중합체 및 예컨대 폴리아크릴레이트, 디엔 중합체 또는 에틸렌/프로필렌/디엔 삼합체와 같은 다른 중합체의 고 충격 강도를 갖는 혼합물; 및 예컨대 스티렌/부타디엔/스티렌, /이소프렌/스티렌, /에틸렌/부틸렌/스티렌 또는 스티렌/에틸렌/프로필렌/스티렌과 같은 스티렌의 블록 중합체.
6. 예컨대 폴리부타디엔상의 스티렌, 폴리부타디엔상의 스티렌 및 아크릴로니트릴, 폴리부타디엔상의 스티렌 및 알킬 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트, 에틸렌/프로필렌/디엔 삼합체상의 스티렌 및 아크릴로니트릴, 폴리아크릴레이트 또는 폴리메타크릴레이트상의 스티렌 및 아크릴로니트릴, 아크릴레이트/부타디엔 공중합체상의 스티렌 및 아크릴로니트릴과 같은 스티렌의 그라프트 공중합체 뿐만 아니라 이들과 5)항에서 나타낸 공중합체의 혼합물(예컨대 ABS-, MBS-, ASA- 또는 AES-중합체로 공지된 공중합체 혼합물).
7. 폴리클로로프렌, 염소화 고무, 염소화 또는 술포염소화 폴리에틸렌, 에피클로로히드린 동종- 및 공중합체와 같은 할로겐-함유 중합체, 예컨대 폴리비닐클로라이드, 폴리비닐리덴 클로라이드, 폴리비닐플루오라이드, 폴리비닐리덴 플루라이드와 같은 할로겐-함유 비닐 화합물로부터의 중합체 뿐만 아니라, 예컨대 비닐 클로라이드/비닐리덴 클로라이드, 비닐 클로라이드/비닐 아세테이트, 비닐리덴 클로라이드/비닐 아세테이트 공중합체 또는 비닐 플루오라이드/비닐 에테르 공중합체와 같은 이들의 공중합체.
8. 폴리아크릴레이트 및 폴리메타크릴레이트, 폴리아크릴아미드 및 폴리아크릴로니트릴과 같은 α,β-불포화 산 및 이들의 유도체로부터 유도된 중합체.
9. 8)항에서 상술한 단량체 상호간 또는 기타 불포화 단량체간의 공중합체. 예컨대 아크릴로니트릴/부타디엔, 아크릴로니트릴/알킬 아크릴레이트, 아크릴로니트릴/알콕시알킬 아크릴레이트 또는 아크릴로니트릴/비닐 할로게나이드 공중합체 또는 아크릴로니트릴/알킬 메타크릴레이트/부타디엔 삼합체.
10. 폴리비닐 알코올, 폴리비닐 아세테이트, 폴리비닐 스테아레이트, 폴리비닐 벤조에이트, 폴리비닐 말레에이트, 폴리비닐부티랄, 폴리알릴 프탈레이트 또는 폴리알릴-멜라민과 같은 불포화 알코올 및 아민 또는 이들의 아실 유도체 또는 이들의 아세탈 유도체로부터 유도된 중합체.
11. 폴리알킬렌 글리콜, 폴리에틸렌 옥사이드, 폴리프로필렌 옥사이드와 같은 고리형 에테르의 동종 중합체 및 공중합체 또는 이들과 비스-글리시딜 에테르와의 공중합체.
12. 폴리아세탈, 예컨대 폴리옥시메틸렌 및 에틸렌 옥사이드를 공단량체로 함유하는 폴리옥시메틸렌.
13. 폴리페닐렌 옥사이드 및 술피드 및 폴리페닐렌 옥사이드와 폴리스티렌과의 혼합물.
14. 한 쪽 끝에는 히드록시기를 말단기로, 다른 한 쪽에는 지방족 또는 방향족 폴리이소시아네이트를 갖는 폴리에테르, 폴리에스테르 또는 폴리부타디엔으로부터 유도된 폴리우레탄 뿐만 아니라 이들의 전구체(폴리이소시아네이트, 폴리올 또는 전중합체).
15. 폴리아미드 4, 폴리아미드 6, 폴리아미드 6/6, 폴리아미드 6/10, 폴리아미드 11, 폴리아미드 12, 폴리-2,4,4-트리메틸헥사메틸렌 테레프탈아미드, 폴리-p-페닐렌 테레프탈아미드 또는 폴리-m-페닐렌 이소프탈아미드와 같은 디아민 및 디카르복시산 및/또는 아미노카르복시산으로부터 유도된 폴리아미드 및 코폴리아미드 또는 상응하는 락탐 뿐만 아니라 이들과 예컨대 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜 또는 폴리테트라메틸렌 글리콜과 같은 폴리에테르와의 공중합체.
16. 폴리우레아, 폴리이미드 및 폴리아미드-이미드.
17. 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리-1,4-디메틸올-시클로헥산 테레프탈레이트, 폴리-[2,2-(4-히드록시페닐)-프로판] 테레프탈레이트 및 폴리히드록시벤조에이트와 같은 디카르복시산 및 디올 및/또는 히드록시카르복실산으로부터 유도된 폴리에스테르 또는 상응하는 락톤 뿐만 아니라 히드록시 말단기를 갖는 폴리에테르로부터 유도된 블록-코폴리에테르-에스테르.
18. 폴리카르보네이트.
19. 폴리술폰, 폴리에테르술폰 및 폴리에테르케톤.
20. 페놀/포름알데히드 수지, 우레아/포름알데히드 수지 및 멜라민/포름알데히드 수지와 같은 한쪽은 알데히드, 다른 한쪽은 페놀, 우레아 및 멜라민으로부터 유도된 가교 중합체.
21. 건조 및 비-건조 알키드 수지.
22. 포화 및 불포화 디카르복시산과 다가 알코올 및 가교제인 비닐 화합물과 코폴리에스테르로부터 유도된 불포화 폴리에스테르 수지, 및 낮은 가연성을 갖는 이들의 할로겐-함유 개질물.
23. 에폭시-아크릴레이트, 우레탄-아크릴레이트 또는 폴리에스테르 아크릴레이트와 같은 치환된 아크릴산 에스테르로부터 유도된 열 경화성 아크릴 수지.
24. 가교제로서 멜라민 수지, 우레아 수지, 폴리이소시아네이트 또는 에폭시드 수지와 혼합된 알키드 수지, 폴리에스테르 수지 또는 아크릴레이트 수지.
25. 예컨대 비스-글리시딜 에테르 또는 지환족 디에폭시드의 폴리에폭시드로부터 유도된 가교된 에폭시드 수지.
26. 셀룰로오스, 고무, 젤라틴 및 중합체 상동 방식으로 화학적으로 개질된 이들의 유도체와 같은 천연 중합체, 예컨대 셀룰로오스 아세테이트, 셀룰로오스 프로피오네이트 및 셀룰로오스 부티레이트, 또는 메틸 셀룰로오스와 같은 셀룰로오스 에테르.
27. 예컨대 PP/EPDM, 폴리아미드 6/EPDM 또는 ABS, PVC/EVA, PVC/ABS, PVC/MBS, PC/ABS, PBTP/ABS와 같은 상술한 중합체의 혼합물.
28. 순수한 단량체 화합물 또는 이들 화합물의 혼합물인 천연 및 합성 유기 물질, 예컨대 광물성 오일, 동물성 및 식물성 지방, 오일 및 왁스, 또는 합성 에스테르(예컨대 프탈레이트, 아디페이트, 포스페이트 또는 트리멜리테이트)를 기재로 하는 오일, 지방 및 왁스 및 중합체용 가소제 또는 섬유 방사 오일 뿐만 아니라 상기 물질의 수성 유제로 사용될 수 있는 다양한 중량비의 광물성 오일과 합성 에스테르의 혼합물.
29. 천연 또는 합성 고무의 수성 유제 예컨대, 카르복시화 스티렌/부타디엔 공중합체 천연 라텍스와 라티스.
30. 예컨대 미국 특허 4,259,467호에 기재된 연질, 친수성 폴리실록산; 및 예컨대 미국 특허 4,355,147호에 기재된 경질 폴리유기실록산.
31. 불포화 아크릴 폴리아세토아세테이트 수지 또는 불포화 아크릴 수지와 조합한 폴리케티민. 불포화 아크릴 수지는 우레탄 아크릴레이트, 폴리에테르 아크릴레이트, 부수적인 불포화기를 갖는 비닐 또는 아크릴 공중합체 및 아크릴화 멜라민을 포함한다. 폴리케티민은 산 촉매 존재하에서 폴리아민 및 케톤으로부터 제조할 수 있다.
32. 에틸렌성 불포화 단량체 또는 올리고머 및 다중 불포화 지방족 올리고머를 함유하는 방사선 경화성 조성물.
33. LSE-4103(Monsanto)와 같은 에폭시 관능성의 공에테르화된 고 고형분 멜라민 수지에 의해 가교된 광에 안정한 에폭시 수지와 같은 에폭시멜라민 수지.
일반적으로, 본 발명의 화합물은 안정화된 조성물의 약 1 내지 약 20 중량%로 사용할 수 있지만, 이 양은 특정 기재 및 적용에 따라 다를 수 있다. 1 내지 5 중량%가 유리하며; 바람직하게는 1.5 내지 2.5 중량%이다.
본 발명에서 궁극적으로 안정화된 조성물은 약 0.01 내지 약 5 중량%, 바람직하게는 약 0.025 내지 약 2 중량% 및 특별하게는 약 0.1 내지 약 1 중량%의 하기에 나타낸 물질 또는 이들의 혼합물과 같은 다양한 통상적인 첨가제를 경우에 따라 함유할 수 있다.
특히 중요한 기타 조성물은 벤조페논, 벤조트리아졸, 시아노아크릴산 유도체, 히드록시아릴-s-트리아진, 유기 니켈 화합물 및 옥사닐리드로 구성된 군으로부터 선정된 UV 흡수제를 부가적으로 함유하는 조성물을 포함한다.
바람직한 UV 흡수제는,
2-[2-히드록시-3,5-디(α,α-디메틸벤질)페닐]-2H-벤조트리아졸, 2-[2-히드록시-3-(α,α-디메틸벤질)-5-옥틸페닐]-2H-벤조트리아졸, 2-(2-히드록시-3,5-디-삼차-아밀페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-[2-히드록시-3-삼차-부틸-5-[(ω-히드록시-옥타(에틸렌옥시)카르보닐)에틸페닐]-2H-벤조트리아졸, 2-[2-히드록시-3-삼차-부틸-5-(2-(옥틸옥시)카르보닐에틸)페닐]-2H-벤조트리아졸, 4,4'-디옥틸옥시옥사닐리드, 2,2'-디옥틸옥시-5,5'-디-삼차-부틸옥사닐리드, 2,2'-디도데실옥시-5,5'-디-삼차-부틸옥사닐리드, 2-에톡시-2'-에틸옥사닐리드, 2,6-비스(2,4-디메틸페닐)-4-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-s-트리아진, 2,6-비스(2,4-디메틸페닐)-4-(2,4-디히드록시페닐)-s-트리아진, 2,4-비스(2,4-디히드록시페닐)-6-(4-클로로페닐)-s-트리아진, 2,6-비스(2,4-디메틸페닐)-4-[2-히드록시-4-(2-히드록시-3-도데실옥시프로판옥시)-페닐]-s-트리아진 및 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논으로 구성된 군으로부터 선정된다.
중요한 부가적 조성물은 유효 안정화 양의 페놀성 산화 방지제를 부가적으로 함유하는 조성물; 입체 장애 아민 유도체를 부가적으로 함유하는 조성물; 또는 포스파이트 또는 포스포나이트 안정화제를 부가적으로 함유하는 조성물을 포함한다.
특별히 중요한 조성물은 유기 물질이 공업적 마무리용; 코일 코팅용; 목재를 투명화하는 마무리용 또는 목재에 필름-형성하는 마무리용으로 사용되는 고 고형분 함량을 갖는 에나멜인 조성물을 포함한다.
또한 본 화합물이 반응성 관능기를 함유하면, 상기 화합물을 축합 반응 또는 자유 라디칼 첨가 반응에 의해 중합체 기재에 화학적으로 결합시킬 수 있다. 이는 비-이동성, 비-승화성 UV 흡수제 안정화제를 제공한다. 이들 반응성 관능기는 히드록시, 아미노, 아미도, 카르복시 및 에틸렌 불포화 잔기를 포함한다.
본 발명에 있어 유용한 다양한 유기 물질 및 본 화합물과 함께 사용하면 아주 효과적이라고 밝혀진 다양한 공첨가제는 본 출원의 이후에 상술하였다.
본 발명에 따라 안정화된 중합체 조성물은 경우에 따라 약 0.01 내지 약 5 중량%, 바람직하게는 약 0.025 내지 약 2 중량% 및 특별하게는 약 0.1 내지 약 1 중량%의 하기에 나타낸 물질과 같은 다양한 통상적인 첨가제 또는 이들의 혼합물을 함유할 수 있다.
1. 산화 방지제
1.1. 알킬화 모노페놀, 예컨대
2,6-디-삼차-부틸-4-메틸페놀
2-삼차-부틸-4,6-디메틸페놀
2,6-디-삼차-부틸-4-에틸페놀
2,6-디-삼차-부틸-4-n-부틸페놀
2,6-디-삼차-부틸-4-i-부틸페놀
2,6-디-시클로펜틸-4-메틸페놀
2-(α-메틸시클로헥실)-4,6-디메틸페놀
2,6-디-옥타데실-4-메틸페놀
2,4,6-트리시클로헥실페놀
2,6-디-삼차-부틸-4-메톡시메틸페놀
1.2. 알킬화 히드로퀴논, 예컨대
2,6-디-삼차-부틸-4-메톡시페놀
2,5-디-삼차-부틸히드로퀴논
2,5-디-삼차-아밀히드로퀴논
2,6-디페닐-4-옥타데실옥시페놀
1.3. 히드록시화 티오디페닐 에테르, 예컨대
2,2'-티오-비스-(6-삼차-부틸-4-메틸페놀)
2,2'-티오-비스-(4-옥틸페놀)
4,4'-티오-비스-(6-삼차-부틸-3-메틸페놀)
4,4'-티오-비스-(6-삼차-부틸-2-메틸페놀)
1.4. 알킬리덴-비스페놀, 예컨대
2,2'-메틸렌-비스-(6-삼차-부틸-4-메틸페놀)
2,2'-메틸렌-비스-(6-삼차-부틸-4-에틸페놀)
2,2'-메틸렌-비스-[4-메틸-6-(α-메틸시클로헥실)-페놀]
2,2'-메틸렌-비스-(4-메틸-6-시클로헥실페놀)
2,2'-메틸렌-비스-(6-노닐-4-메틸페놀)
2,2'-메틸렌-비스-[6-(α-메틸벤질)-4-노닐페놀]
2,2'-메틸렌-비스-[6-(α,α-디메틸벤질)-4-노닐페놀]
2,2'-메틸렌-비스-(4,6-디-삼차-부틸페놀)
2,2'-에틸리덴-비스-(4,6-디-삼차-부틸페놀)
2,2'-에틸리덴-비스-(6-삼차-부틸-4-이소부틸페놀)
4,4'-메틸렌-비스-(2,6-디-삼차-부틸페놀)
4,4'-메틸렌-비스-(6-삼차-부틸-2-메틸페놀)
1,1-비스-(5-삼차-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)-부탄
2,6-디-(3-삼차-부틸-5-메틸-2-히드록시벤질)-4-메틸페놀
1,1,3-트리스-(5-삼차-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)-부탄
1,1-비스-(5-삼차-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)-3-n-도데실메르캅토부탄
에틸렌글리콜 비스-[3,3-비스-(3'-삼차-부틸-4'-히드록시페닐)부티레이트]
디-(3-삼차-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)-디시클로펜타디엔
디-[2-(3'-삼차-부틸-2'-히드록시-5'-메틸-벤질)-6-삼차-부틸-4-메틸페닐]테레프탈레이트.
1.5. 벤질 화합물, 예컨대
1,3,5-트리스-(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질)-2,4,6-트리메틸벤젠
디-(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질) 술피드
3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질-메르캅토-아세트산 이소옥틸 에스테르
비스-(4-삼차-부틸-3-히드록시-2,6-디메틸벤질)디티올 테레프탈레이트
1,3,5-트리스-(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질) 이소시아누레이트
1,3,5-트리스-(4-삼차-부틸-3-히드록시-2,6-디메틸벤질) 이소시아누레이트
3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질-인산 디옥타데실 에스테르
3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질-인산 모노에틸 에스테르, 칼슘-염.
1.6. 아실아미노페놀, 예컨대
4-히드록시-라우르산 아닐리드
4-히드록시-스테아르산 아닐리드
2,4-비스-옥틸메르캅토-6-(3,5-삼차-부틸-4-히드록시아닐리노)-s-트리아진
옥틸-N-(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐)-카르바메이트.
1.7. 일가 또는 다가 알코올, 예컨대
메탄올 디에틸렌 글리콜
옥타데칸올 트리에틸렌 글리콜
1,6-헥산디올 펜타에리트리톨
네오펜틸 글리콜 트리스-히드록시에틸 이소시아누레이트
티오디에틸렌 글리콜 디-히드록시에틸 옥살산 디아미드
와 β-(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐)-프로피온산과의 에스테르.
1.8. 일가 또는 다가 알코올, 예컨대
메탄올 디에틸렌 글리콜
옥타데칸올 트리에틸렌 글리콜
1,6-헥산디올 펜타에리트리톨
네오펜틸 글리콜 트리스-히드록시에틸 이소시아누레이트
티오디에틸렌 글리콜 디-히드록시에틸 옥살산 디아미드
와 β-(5-삼차-부틸-4-히드록시-3-메틸페닐)-프로피온산과의 에스테르
1.9. β-(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐)-프로피온산의 아미드, 예컨대,
N,N'-디-(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)-헥사메틸렌디아민
N,N'-디-(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)-트리메틸렌디아민
N,N'-디-(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)-히드라진
2. UV 흡수제 및 광 안정화제
2.1. 2-(2'-히드록시페닐)-벤조트리아졸, 예컨대 5'-메틸-3',5'-디-삼차-부틸-, 5'-삼차-부틸-, 5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-, 5-클로로-3',5'-디-삼차-부틸-, 5-클로로-3'-삼차-부틸-5'-메틸-, 3'-이차-부틸-5'-삼차-부틸-, 4'-옥톡시-, 3',5'-디-삼차-아밀-, 3',5'-비스-(α,α-디메틸벤질), 3'-삼차-부틸-5'-(2-(오메가-히드록시-옥타-(에틸렌옥시)카르보닐-에틸)-, 3'-도데실-5'- 및 3'-삼차-부틸-5'-(2'-옥틸옥시카르보닐)에틸- 및 도데실화-5'-메틸 유도체.
2.2. 2-히드록시-벤조페논, 예컨대 4-히드록시-, 4-메톡시-, 4-옥톡시-, 4-데실옥시-, 4-도데실옥시-, 4-벤질옥시-, 4,2',4'-트리히드록시- 및 2'-히드록시-4,4'-디메톡시 유도체.
2.3. 임의로 치환된 벤조산의 에스테르, 예컨대 페닐 살리실레이트, 4-삼차-부틸페닐 살리실레이트, 옥틸페닐 살리실레이트, 디벤조일레조르시놀, 비스-(4-삼차-부틸벤조일)-레조르시놀, 벤조일레조르시놀, 3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤조산 2,4-디-삼차-부틸페닐 에스테르 및 3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤조산 헥사데실 에스테르.
2.4. 아크릴레이트, 예컨대 α-시아노-β,β-디페닐아크릴산 에틸 에스테르 또는 이소옥틸 에스테르, α-카르보메톡시-신남산 메틸 에스테르, α-시아노-β-메틸-p-메톡시-신남산 메틸 에스테르 또는 부틸 에스테르, α-카르보메톡시-p-메톡시-신남산 메틸 에스테르, N-(β-카르보메톡시-β-시아노비닐)-2-메틸-인돌린.
2.5 니켈 화합물, 예컨대 n-부틸아민, 트리에탄올아민 또는 N-시클로헥실디에탄올아민과 같은 부가적인 리간드를 경우에 따라 갖는 2,2'-티오-비스-[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-페놀]의 니켈 착물(예컨대 1:1 또는 1:2 착물), 니켈 디부틸 디티오카바메이트, 4-히드록시-3,5-디-삼차-부틸벤질 포스폰산의 모노알킬 에스테르(예컨대 메틸, 에틸 또는 부틸 에스테르)의 니켈 염, 케톡심(예컨대 2-히드록시-4-메틸-페닐 운데실케톡심)의 니켈 착물, 부가적인 리간드를 경우에 따라 갖는 1-페닐-4-라우로일-5-히드록시 피라졸의 니켈 착물.
2.6. 입체 장애 아민, 예컨대 비스-(2,2,6,6-테트라메틸피페리딜) 세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜) 세바케이트, n-부틸-3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질 말론산 비스-(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜) 에스테르, 1-히드록시에틸-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시피페리딘과 숙신산의 축합 생성물, N,N'-(2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)-헥사메틸렌디아민과 4-삼차-옥틸아미노-2,6-디클로로-s-트리아진의 축합 생성물, 트리스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)-니트릴로트리아세테이트, 테트라키스-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄-테트라카르복실레이트, 1,1'(1,2-에탄디일)-비스-(3,3,5,5-테트라메틸피페라지논).
2.7. 옥살산 디아미드, 예컨대 4,4'-디-옥틸옥시-옥사닐리드, 2,2'-디-옥틸옥시-5,5'-디-삼차-부틸-옥사닐리드, 2,2'-디-도데실옥시-5,5'-디-삼차-부틸-옥사닐리드, 2-에톡시-2'-에틸-옥사닐리드, N,N'-비스(3-디메틸아미노프로필)-옥살아미드, 2-에톡시-5-삼차-부틸-2'-에틸옥사닐리드 및 이것과 2-에톡시-2'-에틸-5,4'-디-삼차-부틸옥사닐리드와의 혼합물 및 오르토- 및 파라-메톡시 뿐만 아니라 o- 및 p-에톡시-이치환된 옥사닐리드의 혼합물.
2.8. 히드록시페닐-s-트리아진, 예컨대 2,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-4-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-s-트리아진;
2,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-4-(2,4-디히드록시페닐)-s-트리아진; 2,4-비스-(2,4-디히드록시페닐)-6-(4-클로로페닐)-s-트리아진; 2,4-비스-[2-히드록시-4-(2-히드록시에톡시)페닐]-6-(4-클로로페닐)-s-트리아진; 2,4-비스-[2-히드록시-4-(2-히드록시-4-(2-히드록시에톡시)페닐]-6-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진; 2,4-비스-[2-히드록시-4-(2-히드록시에톡시)페닐]-6-(4-브로모페닐)-s-트리아진; 2,4-비스-[2-히드록시-4-(2-아세톡시에톡시)페닐]-6-(4-클로로페닐)-s-트리아진; 2,4-비스(2,4-디히드록시페닐)-6-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진.
3. 금속 탈활성화제, 예컨대 N,N'-디페닐옥살산 디아미드, N-살리실알-N'-살리실로일히드라진, N,N'-비스-살리실로일히드라진, N,N'-비스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)-히드라진, 3-살리실로일아미노-1,2,4-트리아졸, 비스-벤질리덴-옥살산 디히드라지드.
4. 포스파이트 및 포스포나이트, 예컨대 트리페닐 포스파이트, 디페닐알킬 포스파이트, 페닐디알킬 포스파이트, 트리-(노닐페닐) 포스파이트, 트리라우릴 포스파이트, 트리옥타데실 포스파이트, 디-스테아릴 펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스(2,4-디-삼차-부틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스테아릴-소르비톨 트리포스파이트, 테트라키스(2,4-디-삼차-부틸페닐) 4,4'-디페닐렌디포스포나이트.
5. 과산화물 분해 화합물, 예컨대 β-티오디프로피온산의 에스테르, 예컨대 라우릴-, 스테아릴-, 미리스틸- 또는 트리데실 에스테르, 메르캅토-벤즈이미다졸 또는 2-메르캅토벤즈이미다졸의 아연 염, 디부틸-디티오카르밤산 아연, 디옥타데실 디술피드, 펜타에리트리톨 테트라키스-(β-도데실메르캅토)-프로피오네이트.
6. 히드록시아민, 예컨대 N,N-디벤질히드록시아민, N,N-디에틸히드록시아민, N,N-디옥틸히드록시아민, N,N-디라우릴히드록시아민, N,N-디테트라데실히드록시아민, N,N-디헥사데실히드록시아민, N,N-디옥타데실히드록시아민, N-헥사데실-N-옥타데실히드록시아민, N-헵타데실-N-옥타데실히드록시아민, 수소화 수지 아민으로부터 유도된 N,N-디알킬히드록시아민.
7. 니트론, 예컨대 N-벤질-알파-페닐 니트론, N-에틸-알파-메틸 니트론, N-옥틸-알파-헵틸 니트론, N-라우릴-알파-운데실 니트론, N-테트라데실-알파-트리데실-니트론, N-헥사데실-알파-펜타데실 니트론, N-옥타데실-알파-헵타데실 니트론, N-헥사데실-알파-헵타데실 니트론, N-옥타데실-알파-펜타데실 니트론, N-헵타데실-알파-헵타데실 니트론, N-옥타데실-알파-헥사데실 니트론, 수소화 수지 아민으로부터 유도된 N,N'-디알킬히드록시아민으로부터 유도된 니트론.
8. 폴리아미드 안정화제, 예컨대 요오드 및/또는 인 화합물과 결합한 구리 염 및 이가 마그네슘의 염.
9. 염기성 공안정화제, 예컨대 멜라민, 폴리비닐피롤리돈, 디시안디아미드, 트리알릴 시아누레이트, 우레아 유도체, 히드라진 유도체, 아민, 폴리아미드, 폴리우레탄, 고 지방산의 알칼리금속 염 및 알칼리 토금속 염, 예컨대 스테아르산 칼슘, 스테아르산 아연, 스테아르산 마그네슘, 리시놀레산 나트륨 및 팔미트산 칼륨, 피로카테콜산 안티몬 또는 피로카테콜산 아연.
10. 핵 생성제, 예컨대 4-삼차-부틸벤조산, 아디프산, 디페닐아세트산.
11. 충전제 및 강화제, 예컨대 탄산 칼슘, 실리케이트, 유리 섬유, 석면, 활석, 카올린, 운모, 황산바륨, 금속 산화물 및 수산화물, 카본 블랙, 흑연.
12. 기타 첨가제, 예컨대 가소제, 윤활제, 유화제, 안료, 형광 증백제, 난연제, 대전 방지제, 발포제 및 디아우릴 티오디프로피오네이트 또는 디스테아릴 티오디프로피오네이트와 같은 황 상승제.
특별히 중요한 페놀성 산화 방지제는 n-옥타데실 3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시히드로신나메이트, 네오펜탄테트라일테트라키스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시히드로신나메이트), 디-n-옥타데실 3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질포스포네이트, 1,3,5-트리스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질)이소시아누레이트, 티오디에틸렌 비스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시히드로신나메이트), 1,3,5-트리메틸-2,4,6-트리스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질)벤젠, 3,6-디옥사옥타-메틸렌 비스(3-메틸-5-삼차-부틸-4-히드록시히드로신나메이트), 2,6-디-삼차-부틸-p-크레솔, 2,2'-에틸렌-비스(4,6-디-삼차-부틸페놀), 1,3,5-트리스(2,6-디메틸-4-삼차-부틸-3-히드록시벤질)이소시아누레이트, 1,1,3-트리스(2-메틸-4-히드록시-5-삼차-부틸-페닐)부탄, 1,3,5-트리스[2-(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시히드로신나모일옥시)에틸]이소시아누레이트, 3,5-디-(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질)메시톨, 헥사메틸렌 비스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시히드로신나메이트), 1-(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시아닐리노)-3,5-디(옥틸티오)-s-트리아진, N,N'-헥사메틸렌-비스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시-히드로신남아미드), 칼슘 비스(에틸 3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질포스포네이트), 에틸렌 비스[3,3-디(3-삼차-부틸-4-히드록시페닐)부티레이트, 옥틸 3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질메르캅토아세테이트, 비스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시히드로신나모일)-히드라지드 및 N,N'-비스[2-(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시히드로신나모일옥시)-에틸]-옥사미드로 구성된 군으로부터 선정된다.
매우 바람직한 페놀성 산화 방지제는 네오펜탄테트라일 테트라키스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시히드로신나메이트, n-옥타데실 3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시히드로신나메이트, 1.3.5-트리메틸-2,4,6-트리스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드로벤질)벤젠, 1,3,5-트리스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질)이소시아누레이트, 2,6-디-삼차-부틸-p-크레솔 또는 2,2'-에틸리덴-비스-(4,6-디-삼차-부틸페놀)이다.
특별히 중요한 입체 장애 아민 화합물은 비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일) 세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일) 세바케이트, 디(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일)(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질)부틸말로네이트, 4-벤조일-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 3-n-옥틸-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자-스피로[4,5]데칸-2,4-디온, 트리스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일) 니트릴로트리아세테이트, 1,2-비스(2,2,6,6-테트라메틸-3-옥소피페라진-4-일)에탄, 2,2,4,4-테트라메틸-7-옥사-3,20-디아자-21-옥소디스피로[5.1.11.2] 헤네이코산, 2,4-디클로로-6-삼차-옥틸아미노-s-트리아진 및 4,4'-헥사메틸렌비스(아미노-2,2,6,6-테트라메틸-피페리딘)의 중축합 생성물, 1-(2-히드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시피페리딘 및 숙신산의 중축합 생성물, 4,4'-헥사메틸렌비스-(아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘) 및 1,2-디브로모에탄의 중축합 생성물, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일) 1,2,3,4-부탄-테트라카르복실레이트, 테트라키스(1,2,2,6,6,-펜타메틸피페리딘-4-일)1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 2,4-디클로로-6-모르폴리노-s-트리아진 및 4,4'-헥사메틸렌비스(아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘)의 중축합 생성물, N,N',N",N'"-테트라키스[(4,6-비스(부틸-2,2,6,6-테트라메틸-피페리딘-4-일)-아미노-s-트리아진-2-일]-1,10-디아미노-4,7-디아자데칸, 혼합된 [2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일/β,β,β',β'-테트라메틸-3,9-(2,4,8,10-테트라옥사스피로[5,5]-운데칸) 디에틸] 1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 혼합된 [1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일/β,β,β',β'-테트라메틸-3,9-(2,4,8,10-테트라옥사스피로[5,5]운데칸)디에틸] 1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 옥타메틸렌비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-카르복실레이트), 4,4'-에틸렌비스(2,2,6,6-테트라메틸피페라진-3-온), N-2,2,6,6-테트라메틸피페라딘-4-일-n-도데실숙신이미드, N-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일-n-도데실숙신이미드, N-1-아세틸-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일 n-도데실숙신이미드, 1-아세틸-3-도데실-7,7,9.9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4,5]데칸-2,4-디온, 디-(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일) 세바케이트, 디-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일) 숙신에이트, 1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시-피페리딘, 폴리-{[6-삼차-옥틸아미노-s-트리아진-2,4-디일][2-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)이미노-헥사메틸렌-[4-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)이미노] 및 2,4,6-트리스[N-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)-n-부틸아미노]-s-트리아진으로 구성된 군으로부터 선정된다.
가장 바람직한 입체 장애 아민 화합물은 비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일) 세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일)(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질) 부틸말로네이트, 1-(2-히드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시피페리딘 및 숙신산의 중축합 생성물, 2,4-디클로로-6-삼차-옥틸아미노-s-트리아진 및 4,4'-헥사메틸렌비스(아미노-2,2,6,6-테트라메틸-피페리딘)의 중축합 생성물, N,N',N",N'"-테트라키스[(4,6-비스(부틸-2,2,6,6-테트라메틸-피페리딘-4-일)-아미노-s-트리아진-2-일]-1,10-디아미노-4,7-디아자데칸, 디-(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페라딘-4-일) 세바케이트, 디-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일) 숙신에이트, 1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시-피페리딘, 폴리-{[6-삼차-옥틸아미노-s-트리아진-2,4-디일][2-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)이미노-헥사메틸렌-[4-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)이미노] 또는 2 ,4,6-트리스[N-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)-n-부틸아미노]-s-트리아진이다.
하기의 실시예는 예시 목적일 뿐 어떠한 방식으로든 본 발명의 범위를 한정하지 않는다.
실시예 1
1,3-비스{1-[2,4-디히드록시-5-(3,5-디(비페닐릴)-s-트리아지닐))페닐]-1-메틸에틸}벤젠
Figure pat00013
자기 교반기, 응축기, 온도계 및 질소 분위기가 구비된 500ml 3가지, 둥근 바닥 플라스크에 2-(2,4-디히드록시페닐)-4,6-디(비페닐릴)-s-트리아진 및 촉매량의 알루미늄 이소프로폭시드를 장입하였다. 혼합물을 185℃까지 가열하고 1,3-디이소프로페닐벤젠을 한꺼번에 첨가하였다. 온도를 132℃까지 낮추고 혼합물을 6 시간 동안 교반시켰다. 상온으로 냉각시킨 후, 혼합물을 에틸 아세테이트로 희석시키고 물로 2번, 염수로 1번 세척하였다. 유기 층을 무수 황산 마그네슘상에서 건조시키고 여과하였다. 유기 용매를 감압하에서 제거하였다. 조생성물을 12% 에틸 아세테이트/헵탄을 사용하는 중압 크로마토그래피로 정제시켜 표제 화합물을 수득하였다.
실시예 2
3:5, 5:5 및 3:3 위치에서 5:4:1의 비로 브릿지된 메틸렌-비스-2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-디(비페닐릴페닐)-s-트리아진의 혼합물.
Figure pat00014
응축기, 자기 교반기 및 질소 분위기가 구비된 250ml 둥근 바닥 플라스크에 2-(2-히드록시4-옥틸옥시페닐)-4,6-디(비페닐릴페닐)-s-트리아진, 디에톡시메탄, 촉매량의 p-톨로엔술폰산 및 디옥산을 장입하였다. 혼합물을 90℃에서 28시간 동안 교반하고 상온까지 냉각한 후, 약간의 에틸 아세테이트로 희석시켰다. 혼합물을 물로 3번 세척하고 중탄산 나트륨 포화 용액으로 3번 세척한 후 염수로 세척하였다. 유기 층을 무수 황산 마그네슘상에서 건조시키고 여과하였다. 유기 용매를 감압하에서 제거시켜 유리질을 수득하였다. 조생성물을 19:1의 헵탄:에틸 아세테이트를 사용하는 중압 크로마토그래피로 정제시켜 유리질 고체와 같은 메틸렌으로 브릿지된 이합체 혼합물을 수득하였다.
상기 혼합물은 t가 0인 화학식 (2)의 화합물에 상응한다. 또한 상기 혼합된 이성질체 생성물의 분광학적 분석에서 t가 1, 2 및/또는 3으로 보여지는 미량의 고급 "올리고머"가 있다.
실시예 3
3:5 및 5:5 위치에서 1:1의 비로 브릿지된 벤질리덴-비스-2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-디(비페닐릴)-s-트리아진의 혼합물.
Figure pat00015
응축기, 자기 교반기 및 질소 분위기가 구비된 250ml 둥근 바닥 플라스크에 2-(2-히드록시-4-옥틸옥시 페닐)-4,6-디(비페닐릴)-)s-트리아진, 벤즈알데히드 및 촉매량의 p-톨로엔술폰산을 장입하였다. 혼합물을 140℃에서 3시간 동안 교반한 다음 상온까지 냉각시켰다. 이 혼합물을 에틸 아세테이트로 처리하고 중탄산 나트륨 포화 용액으로 2번, 물로 한 번 세척한 후 염수로 세척하였다. 유기 층을 무수 황산 마그네슘상에서 건조시키고 여과하였다. 유기 용매 및 과량의 벤즈알데히드를 감압하에서 제거시켜 조생성물을 수득하며, 이를 19:1의 헵탄:에틸 아세테이트를 사용하는 중압 크로마토그래피로 정제시켜 벤질리덴으로 브릿지된 이합체 혼합물을 수득하였다.
상기 혼합물은 t가 0이고 또 L이 벤질리덴인 화학식 (6)의 화합물에 상응한다.
실시예 3a
페닐메틸렌-비스-[2-(2-옥틸옥시-4-히드록시-5-4,6-디(4-비페닐릴)-s-트리아지닐)페닐)]
Figure pat00016
응축기, 자기 교반기 및 질소 분위기가 구비된 100ml 둥근 바닥 플라스크에 2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-디(4-비페닐릴)-)s-트리아진 6.03g, 벤즈알데히드 14.6g 및 p-톨루엔술폰산 2.54g을 장입하였다. 혼합물을 120℃에서 한 시간동안 교반시켰다. 과량의 벤즈알데히드를 감압하에서 제거하고 얻어진 고체를 물과 함께 부수었다. 진공 여과하여 4.23g의 표제 화합물을 황색 고체로 수득하였다; 융점 208-211℃.
상기 화합물은 t가 0이고 또 L이 벤질리덴인 화학식 (6)의 화합물에 상응한다.
실시예 3b
페닐메틸렌-비스-[2-(2-옥틸옥시-4-히드록시-5-4,6-디(4-비페닐릴)-s-트리아지닐)페닐)]
Figure pat00017
응축기 및 자기 교반기가 구비된 100ml 둥근 바닥 플라스크에 2-(2-히드록시 4-(3-부톡시-2-히드록시프로폭시)페닐)-4,6-디(4-비페닐릴)-s-트리아진 5.10g, 벤즈알데히드 8.3g 및 p-톨로엔술폰산 1.21g을 장입하였다. 혼합물을 120℃에서 0.5시간 동안 교반시켰다. 일부의 헵탄을 첨가하고 고체를 진공 여과로 수집하였다. 생성물을 염화 메틸렌으로 1회, 중탄산 나트륨의 포화 용액으로 2회 및 물로 3회 세척하였다. 수득된 황색 고체를 공기-건조시켜 3.44g의 표제 화합물을 수득하였다. 1H-NMR 및 질량 스펙트럼은 상기의 생성물과 일치한다.
상기 화합물은 t가 0 이고 또 L이 벤질리덴인 화학식 (6)의 화합물에 상응한다.
실시예 4
UV 투명 하도 도료에 적용된 UV 흡수제를 함유하는 고 고형분 열경화성 아크릴 투명 도료의 박리에 대한 내성.
시판하고 있는 UV 투명 하도 도료 위에 실시예 2의 UV 흡수제 2중량%(아크릴 멜라민 수지의 중량 기준)를 함유하는 시판되고 있는 고 고형분 열경화성 아크릴 멜라민 투명 도료의 1.8-2.0 mil(0.036-0.051mm) 두께의 필름을 웨트.온.웨트 분무 도포함으로써 시험 패널을 제조하였다. Advance Coatings Technology사 제품의 4"×12"(10.16×30.48cm) UNIPRIMER 패널상에 상도를 도포하였다. 피복된 패널을 250。F(121℃)에서 30분 동안 베이킹하였다. 일주일 동안 공기 조화실에 저장한 후, 플로리다에서 상기 패널을 SAE J-1976에 따라 남방 5。, 암상(Black-box)에서 노출시켰다. 패널을 일년동안 노출시켰다. 일년 후, 100。F(38℃) 및 100% 습도에 패널을 4일간 노출함으로써 습도 시험을 수행하였다. 4일 후, 테이프 부착 시험을 수행하였다.
본 화합물은 옥외 노출되는 동안 하도 도료에 대한 투명 도료의 접착을 개량하는데 효과적이다.
실시예 5
전착 하도제에 직접 도포된 UV 흡수제를 함유하는 아크릴 우레탄 투명 도료의 박리에 대한 내성.
Advance Coatings Technology사 제품의 4"×12"(10.16×30.48cm) UNIPRIMER 패널상에 실시예 3의 시험 UV 흡수제 2중량%(우레탄 수지의 중량 기준)를 함유하는 시판되고 있는 아크릴 우레탄 투명 도료의 1.8-2.0 mil(0.036-0.051mm) 두께의 필름을 직접 분무 도포함으로써 시험 패널을 제조하였다.
피복된 패널을 250。F(121℃)에서 30분 동안 베이킹하였다. 일주일 동안 공기-조화실에서 저장한 후, 플로리다에서 상기 패널을 SAE J-1976에 따라 남방 5°, 암상(Black-box)에서 노출시켰다. 패널의 박리에 대해 날마다 측정하였고 패널 면적의10% 이상으로 박리가 명백할 때 시험을 중단하였다.
본 화합물은 전착 하도제로부터 투명 도료의 박리를 지연시키는데 효과적이다.
실시예 6
하기 실시예는 공압출된 제품에서 제조된 것과 같은 얇은 표면 보호 층으로만 UV 흡수제가 혼입된 적층 폴리카르보네이트 판에서 본 발명의 o-히드록시페닐-s-트리아진의 효용을 설명하고 있다.
본 실시예 1 또는 2의 UV 흡수제 5중량%를 함유하는 1 mil(0.0254mm) 폴리카르보네이트 필름(LEXANR 141-111N, General Electric사)을 350。F(177℃), 1000psi(70Kg/cm2)에서 3분동안, 3000psi(210Kg/cm2)에서 3분동안, 그 후 냉각하는 동안 3000psi(210Kg/cm2)에서 3분 동안 와바시(Wabash) 압축 성형기에서 압축 성형을 통하여 UV에 안정화되지 않은 125 mil(3.18mm) 폴리카르보네이트 판(LEXANR 141-111N)과 결합시킴으로써 적층 판을 제조하였다. 이 판을 입사 광에 면한 보호층을 갖는 ASTM 명칭 G26-88 시험 방법 C를 이용하여 Atlas CI-65 크세논 방전 내후성 시험기에서 노출시켰다. 중합체 분해는 ACS 분광 광도계에서 황색 지수(YI)를 측정함으로써 측정하였다.
본 발명의 o-히드록시페닐-s-트리아진은 폴리카르보네이트 시트의 분해 및 변색으로부터 보호하는데 매우 효과적이다.
실시예 7
폴리프로필렌 섬유 샘플은 안료, 포스파이트, 페놀성 산화 방지제 또는 히드록시아민, 금속 스테아레이트, UV 흡수제 또는 입체 장애 아민 광 안정화제 또는 UV 흡수제 및 입체 장애 아민 광 안정화제의 조합물을 함유하는 섬유급 폴리프로필렌을 압출함으로써 제조하였다.
상기 안료는 25% 안료 및 75% 수지 비율로 고 전단 혼합기에서 두 성분을 혼합하고 생성한 수지/안료 혼합물을 와바시(Wabash) 압축 성형기(모델 번호 30-1515-4T3)에서 압축시켜 얇은 시이트로 만들고 이 시이트를 적은 농도의 새로운 프로필렌 수지에서 분산시키기 위해 미세칩으로 절단함으로써 순수한 안료 및 폴리프로필렌 수지(PROFAXR 6301, Himont사)로부터 제조된 안료 농축물로서 첨가되었다.
최종 제제화 과정에서 모든 첨가제 및 안료의 농도는 수지를 기준으로 하여 중량 %로 표시하였다.
상기 제제는 포스파이트 0.05-0.1%, 페놀성 산화 방지제 0-1.25% , 히드록시아민 0-0.1%, 스테아르산 칼슘 0.05-0.1%, 본 실시예 2 또는 3의 UV 흡수제 0-1.25% 및/또는 입체 장애 아민 안정화제 0-1.25%를 함유한다. 이 물질은 텀블 건조기에서 건조-혼합하였고 475。F(246℃)에서 통상적인 다목적 나사(24:1 L/D)를 가진 Superior/MPM 1"(2.54cm) 일축 압출기에서 압출하였고, 수조에서 냉각 및 펠릿화하였다. 상기의 펠릿을 약 525。F(274℃)에서 41개의 구멍, 델타 모양의 방사구금이 장착된 HILLS Research 섬유 압출기(Model # REM-3P-24)에서 섬유로 방적하였다. 방적 토우(tow)는 3.2:1의 연신 비율로 연신시켜 최종 데니어 615/41를 제조하였다.
이 섬유 샘플을 로슨-헴필(Lawson-Hemphil) 섬유 분석 직기에서 양말을 짜서 적절한 길이로 잘라 검정 패널 온도 89℃, 340 나노미터에서 0.55W/m2 및 상대 습도 50%의 Atlas Ci65 Xenon Arc Weather-Ometer에서 노출시켰다(Society of Automotive Engineers SAE J 1885 시험 절차).
섬유 샘플은 일정한 간격으로 ASTM D 2244-79에 따른 반사율 모드에 의해 착색계 분광 광도계에서 색 측정을 수행함으로써 시험하였다. 같은 샘플을 갑작스런 고장에 대비하여 별도로 검사하였다.
상기 시험 결과는 본 발명의 UV 흡수제와 입체 장애 아민의 조합이 착색된 프로필렌 섬유보다 헐씬 우수한 보호 효과를 제공하며 전체 농도가 같도록 사용하면 입체 장애 아민만으로 얻어지는 보호 수준에 비해 보다 상승적인 안정화 보호 효과를 제공함을 보여준다.
착색된 폴리프로필렌 섬유가 착색된 나일론 또는 폴리에스테르 섬유로 대체될 때 똑같은 우수한 안정화 효과를 보여준다.
본 발명의 s-트리아진은 중합체 기재, 특히 자동차 코팅의 안정화에 특히 유용하다.

Claims (5)

  1. 하기 화학식 (1)의 화합물:
    Figure pat00025
    상기 식에서,
    G1은 화학식
    Figure pat00026
    의 기이고,
    G2는 화학식
    Figure pat00027
    의 기이며,
    이때, q는 0 또는 1이고,
    R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9 및 R10은 서로 독자적으로 수소, 히드록시, 시아노, 1 내지 20개 탄소 원자의 알킬, 1 내지 20개 탄소 원자의 알콕시, 7 내지 15개 탄소 원자의 페닐알킬, 4 내지 12개 탄소 원자의 시클로알킬, 4 내지 12개 탄소 원자의 시클로알콕시, 할로겐, 1 내지 5개 탄소 원자의 할로알킬, 술포닐, 카르복시, 2 내지 12개 탄소 원자의 아실아미노, 2 내지 12개 탄소 원자의 아실옥시, 2 내지 12개 탄소 원자의 알콕시카르보닐, 아미노카르보닐이거나 또는 R3 및 R4는 이들이 부착된 페닐 라디칼과 합쳐져서 중간에 하나 또는 그 이상의 산소 또는 질소 원자를 포함하는 시클릭 고리형 라디칼이며,
    E2는 수소, 1 내지 24개 탄소 원자의 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 5 내지 12개 탄소 원자의 시클로알킬; 또는 1 내지 8개의 할로겐, 에폭시, 글리시딜옥시, 푸릴옥시, -E4, -OE5, -N(E5)2, -CON(E5)2, -COE5, -COOE5, -OCOE5, -OCOC(E5)=C(E5)2, -C(E5)=CCOOE5, -CN, -NCO,
    Figure pat00028
    또는 이들의 조합에 의해 치환된 상기 알킬 또는 시클로알킬; 또는 중간에 1 내지 6개의 에폭시, -O-, -NE5-, -CONE5-, -COO-, -OCO-, -CO-, -C(E5)=C(E5)COO-, -OCOC(E5)=C(E5)-, -(E5)C=C(E5)-, 페닐렌 또는 G3가 -O-, -S-, -SO2-, -CH2- 또는 -C(CH3)2-인 -페닐렌-G3-페닐렌 또는 이들의 조합을 포함하는 상기 알킬 또는 시클로알킬; 또는 상술한 기의 조합에 의해 치환되고 또 중간에 이를 포함하는 상기 알킬 또는 시클로알킬이거나; 또는 E2는 -SO2E3 또는 -COE6이고;
    E4는 6 내지 10개 탄소 원자의 아릴, 또는 1 내지 3개의 할로겐, 1 내지 8개 탄소 원자의 알킬, 1 내지 8개 탄소 원자의 알콕시 또는 이들의 조합에 의해 치환된 상기 아릴; 5 내지 12개 탄소 원자의 시클로알킬; 또는 7 내지 15개 탄소 원자의 페닐알킬, 또는 페닐 고리상에서 1 내지 3개의 할로겐, 1 내지 8개 탄소 원자의 알킬, 1 내지 8개 탄소 원자의 알콕시 또는 이들의 조합에 의해 치환된 상기 페닐 알킬; 또는 2 내지 18개 탄소 원자의 직쇄 또는 측쇄 알케닐이며;
    E5는 E4에서 정의한 바와 같거나, 또는 E5는 수소 또는 1 내지 24개 탄소 원자의 직쇄 또는 측쇄 알킬이거나; 또는 E5는 화학식
    Figure pat00029
    의 기이고
    T1은 수소, 옥실, 히드록시, 1 내지 12개 탄소 원자의 알킬, 하나 이상의 히드록시 또는 저급 알콕시에 의해 치환된 상기 알킬, 벤질 또는 2 내지 18개 탄소 원자의 알카노일이며;
    E6은 1 내지 18개 탄소 원자의 직쇄 또는 측쇄 알킬, 2 내지 18개 탄소 원자의 직쇄 또는 측쇄 알케닐, 1 내지 12개 탄소 원자의 알콕시, 페녹시, 1 내지 12개 탄소 원자의 알킬아미노, 6 내지 12 탄소 원자의 아릴아미노 또는 -E7COOH 또는 -NH-E8-NCO이며;
    E7은 2 내지 14개 탄소 원자의 알킬렌 또는 o-페닐렌이고;
    E8은 2 내지 10개 탄소 원자의 알킬렌, 페닐렌, 톨릴렌, 디페닐렌메탄 또는 화학식
    Figure pat00030
    의 기이며;
    t는 0 내지 9이고; 또
    L은 1 내지 12개 탄소 원자의 직쇄 또는 측쇄 알킬렌, 5 내지 12개 탄소 원자의 시클로알킬렌, 시클로헥실렌 또는 페닐렌에 의해 치환되거나 또는 이를 중간에 포함하는 알킬렌이거나; 또는 L은 벤질리덴; 또는 L은 -S-, -S-S-, -S-L1-S-, -SO-, -SO2-, -SO-L1-SO-, -SO2-L1-SO2-, -CH2-NH-L1-NH-CH2- 또는 화학식
    Figure pat00031
    이며,
    L1은 2 내지 12개 탄소 원자의 알킬렌, 5 내지 12 탄소 원자의 시클로알킬렌 또는 8 내지 12개 탄소 원자의 시클로헥실렌을 중간에 포함하거나 또는 이들에 의해 종결되는 알킬렌이고; 단, 하나 이상의 L 결합은 페닐 고리의 5번 위치에서 부착됨.
  2. 제 1항에 있어서, G1 및 G2가 4-비페닐릴이고;
    t는 0이며;
    E2는 수소, 3 내지 12개 탄소 원자의 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 하나의 히드록시 및 하나의 -OE5(E5는 1 내지 24개 탄소 원자의 알킬임)에 의해 치환된 상기 알킬이고; 또
    L는 메틸렌, 벤질리덴 또는 페닐렌을 중간에 포함하는 4 내지 8개 탄소 원자의 알킬렌인 화합물.
  3. (a) 화학선에 노출되면 분해되기 쉬운 유기 물질 및
    (b) 유효 안정화 양의 제 1항에 따른 화학식 (1)의 화합물
    을 포함하는 화학선의 유해 효과로부터 안정화된 조성물.
  4. 제 3항에 있어서, 성분 (b)가 성분 (a)의 1 내지 20 중량%인 조성물.
  5. 제 3항에 있어서, 유효 안정화 양의 하나 이상의 2-히드록시페닐-2H-벤조트리아졸; 또 다른 트리스-아릴-s-트리아진; 또는 입체 장애 아민 광 안정화제 또는 이들의 혼합물을 부가적으로 함유하는 조성물.
KR1019970040583A 1996-08-27 1997-08-25 비페닐릴기로치환된트리스-아릴-s-트리아진 KR100474240B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/703,751 US5726309A (en) 1996-08-27 1996-08-27 Tris-aryls-triazines substituted with biphenylyl groups
US08/703751 1996-08-27
US8/703751 1996-08-27

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR19980018969A KR19980018969A (ko) 1998-06-05
KR100474240B1 true KR100474240B1 (ko) 2005-06-20

Family

ID=24826635

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019970040583A KR100474240B1 (ko) 1996-08-27 1997-08-25 비페닐릴기로치환된트리스-아릴-s-트리아진

Country Status (9)

Country Link
US (2) US5726309A (ko)
EP (1) EP0826675A1 (ko)
JP (1) JPH1087637A (ko)
KR (1) KR100474240B1 (ko)
AU (1) AU725829B2 (ko)
BR (1) BR9704503A (ko)
CA (1) CA2213958A1 (ko)
MX (1) MX9706168A (ko)
TW (1) TW470761B (ko)

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5726309A (en) * 1996-08-27 1998-03-10 Ciba Specialty Chemicals Corporation Tris-aryls-triazines substituted with biphenylyl groups
BE1012529A3 (fr) * 1996-09-13 2000-12-05 Ciba Sc Holding Ag Melange de triaryltriazines et son utilisation pour la stabilisation de materiaux organiques.
US6239276B1 (en) 1998-06-22 2001-05-29 Cytec Technology Corporation Non-yellowing para-tertiary-alkyl phenyl substituted triazine and pyrimidine ultraviolet light absorbers
US6297377B1 (en) 1998-06-22 2001-10-02 Cytec Technology Corporation Benzocycle-substituted triazine and pyrimidine ultraviolet light absorbers
TWI259182B (en) 1998-11-17 2006-08-01 Cytec Tech Corp Process for preparing triazines using a combination of Lewis acids with reaction promoters
US6191199B1 (en) 1999-05-03 2001-02-20 Ciba Speciatly Chemicals Corporation Stabilized adhesive compositions containing highly soluble, high extinction photostable hydroxyphenyl-s-triazine UV absorbers and laminated articles derived therefrom
EP1252226B1 (en) 2000-02-01 2007-02-07 Ciba SC Holding AG Method of content protection with durable uv absorbers
GB2361005B (en) 2000-04-04 2002-08-14 Ciba Sc Holding Ag Synergistic mixtures of uv-absorbers in polyolefins
US6867250B1 (en) 2000-10-30 2005-03-15 Cytec Technology Corp. Non-yellowing ortho-dialkyl aryl substituted triazine ultraviolet light absorbers
US6414155B1 (en) 2000-11-03 2002-07-02 Cytec Technology Corp. Oligomeric hindered amine light stabilizers based on multi-functional carbonyl compounds and methods of making same
US6727300B2 (en) 2000-11-03 2004-04-27 Cytec Technology Corp. Polymeric articles containing hindered amine light stabilizers based on multi-functional carbonyl compounds
US6545156B1 (en) 2000-11-03 2003-04-08 Cytec Technology Corp. Oligomeric hindered amine light stabilizers based on multi-functional carbonyl compounds and methods of making same
US6492521B2 (en) 2000-11-03 2002-12-10 Cytec Technology Corp. Hindered amine light stabilizers based on multi-functional carbonyl compounds and methods of making same
ATE359325T1 (de) 2001-03-22 2007-05-15 Ciba Sc Holding Ag Verwendung von aromatischen verbindungen als mittel zur kontrolle der phase sowie zur reduzierung der teilchengrösse von chinacridonpigmenten
US6855269B2 (en) * 2001-11-09 2005-02-15 Cytec Technology Corp. Phenyl ether-substituted hydroxyphenyl triazine ultraviolet light absorbers
WO2004076419A1 (en) 2003-02-26 2004-09-10 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Water compatible sterically hindered alkoxyamines and hydroxy substituted alkoxyamines
US7595011B2 (en) 2004-07-12 2009-09-29 Ciba Specialty Chemicals Corporation Stabilized electrochromic media
DE102005041952A1 (de) 2005-09-03 2007-03-08 Bayer Materialscience Ag Zusammensetzungen enthaltend Polycarbonat und neuartige UV-Absorber
US20070238814A1 (en) * 2006-04-10 2007-10-11 Basf Corporation Method of making coating compositions
JP5419871B2 (ja) 2007-06-29 2014-02-19 バーゼル・ポリオレフィン・イタリア・ソチエタ・ア・レスポンサビリタ・リミタータ 非フェノール系安定剤を含む照射ポリオレフィン組成物
ATE541889T1 (de) 2008-09-05 2012-02-15 Thor Gmbh Flammschutzzusammensetzung enthaltend ein phosphonsäurederivat
EP2379639B1 (en) 2008-12-22 2014-07-09 Basf Se Use of a friction reducing agent
EP2387600B1 (en) 2009-01-19 2014-04-02 Basf Se Organic black pigments and their preparation
JP6317880B2 (ja) 2009-07-07 2018-04-25 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアＢａｓｆ Ｓｅ カリウム・セシウム・タングステンブロンズ粒子
WO2012034932A1 (en) 2010-09-14 2012-03-22 Basf Se Use of specific bis(biphenyl)triazine derivatives and mixtures thereof as uv absorbers
EP2912017A4 (en) 2012-10-23 2016-07-20 Basf Se ETHYLENE UNSATURATED OLIGOMERS CONTAINING POLYMER STABILIZING GROUPS
KR102294024B1 (ko) 2013-09-27 2021-08-27 바스프 에스이 건축 재료를 위한 폴리올레핀 조성물
US10294423B2 (en) 2013-11-22 2019-05-21 Polnox Corporation Macromolecular antioxidants based on dual type moiety per molecule: structures, methods of making and using the same
TWI685524B (zh) 2013-12-17 2020-02-21 美商畢克美國股份有限公司 預先脫層之層狀材料
AU2016294860B2 (en) 2015-07-20 2021-01-28 Basf Se Flame retardant polyolefin articles
PL3841166T3 (pl) 2018-08-22 2022-09-26 Basf Se Stabilizowana poliolefina formowana rotacyjnie
WO2020190833A1 (en) 2019-03-18 2020-09-24 Basf Se Uv curable compositions for dirt pick-up resistance
US20220282064A1 (en) 2019-07-30 2022-09-08 Basf Se Stabilizer composition

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL275368A (ko) * 1961-03-06
US3118887A (en) * 1961-03-06 1964-01-21 American Cyanamid Co O-hydroxy substituted tris aryl-s-triazines
CH480090A (de) * 1962-10-30 1969-10-31 Ciba Geigy Verwendung von neuen Hydroxyphenyl-1,3,5-triazinen als Ultraviolettschutzmittel ausserhalb der Textilindustrie
NL123744C (ko) * 1962-10-30
NL130993C (ko) * 1963-02-07
FR1494413A (fr) * 1965-09-24 1967-09-08 Ciba Geigy Nouveaux dérivés hydroxyphényl-1,3,5-triazines contenant des groupes sulfoniques, procédé pour les préparer et leur emploi
CH478589A (de) * 1965-09-24 1969-09-30 Ciba Geigy Verwendung von Aryl-1,3,5-triazinen als Stabilisierungsmittel gegen Ultraviolettstrahlung und Hitzeeinwirkung ausserhalb der Textilindustrie
DE3581002D1 (de) * 1984-06-22 1991-02-07 Ilford Ag Hydroxyphenyltriazine, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung als uv-absorber.
US4619956A (en) * 1985-05-03 1986-10-28 American Cyanamid Co. Stabilization of high solids coatings with synergistic combinations
US4831068A (en) * 1987-02-27 1989-05-16 Ciba-Geigy Corporation Process for improving the photochemical stability of dyeings on polyester fibre materials
US4950304A (en) * 1987-10-02 1990-08-21 Ciba-Geigy Corporation Process for quenching or suppressing the fluorescence of substrates treated with fluorescent whitening agents
US4962142A (en) * 1987-12-29 1990-10-09 Milliken Research Corporation Reactive, non-yellowing triazine compounds useful as UV screening agents for polymers
US4826978A (en) * 1987-12-29 1989-05-02 Milliken Research Corporation Reactive, non-yellowing triazine compounds useful as UV screening agents for polymers
DE59008517D1 (de) * 1989-08-25 1995-03-30 Ciba Geigy Ag Lichtstabilisierte Tinten.
EP0434608B1 (en) * 1989-12-05 1997-04-02 Ciba SC Holding AG Stabilized organic material
DE59106390D1 (de) * 1990-02-16 1995-10-12 Ciba Geigy Ag Gegen Schädigung durch Licht, Wärme und Sauerstoff stabilisierte Ueberzugsmittel.
ES2098242T3 (es) * 1990-02-28 1997-05-01 Cytec Tech Corp Estabilizacion de recubrimientos de elevado contenido de solidos con composiciones liquidas de absorbentes de uv de triazina.
DE59107052D1 (de) * 1990-03-30 1996-01-25 Ciba Geigy Ag Lackzusammensetzungen
EP0468921B2 (de) * 1990-07-23 1998-07-22 Ciba SC Holding AG Wässrige Dispersion schwerlöslicher UV-Absorber
ATE150056T1 (de) * 1990-10-29 1997-03-15 Cytec Tech Corp Hydroxyaryltriazine und tetraalkylpiperidine enthaltende synergistische uv-absorbermischung
KR100187320B1 (ko) * 1991-02-21 1999-04-01 월터 클리웨인 광, 산소 및 열에 대해 안정화된 도료
TW222292B (ko) * 1991-02-21 1994-04-11 Ciba Geigy Ag
US5354794A (en) * 1993-02-03 1994-10-11 Ciba-Geigy Corporation Electro coat/base coat/clear coat finishes stabilized with S-triazine UV absorbers
US5556973A (en) * 1994-07-27 1996-09-17 Ciba-Geigy Corporation Red-shifted tris-aryl-s-triazines and compositions stabilized therewith
DE69637916D1 (de) * 1995-03-15 2009-06-10 Ciba Holding Inc Biphenyl-substituierte Triazine als Lichtschutzmittel
US5726309A (en) * 1996-08-27 1998-03-10 Ciba Specialty Chemicals Corporation Tris-aryls-triazines substituted with biphenylyl groups

Also Published As

Publication number Publication date
AU725829B2 (en) 2000-10-19
US5726309A (en) 1998-03-10
AU3517597A (en) 1998-03-05
BR9704503A (pt) 1998-11-17
CA2213958A1 (en) 1998-02-27
JPH1087637A (ja) 1998-04-07
MX9706168A (es) 1998-02-28
KR19980018969A (ko) 1998-06-05
US5849821A (en) 1998-12-15
TW470761B (en) 2002-01-01
EP0826675A1 (en) 1998-03-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100474240B1 (ko) 비페닐릴기로치환된트리스-아릴-s-트리아진
US5675004A (en) Red-shifted tris-aryl-S-triazines
US5476937A (en) S-triazine UV absorbers substituted by a sulfur-containing moiety
EP0576527B1 (en) 5-thio-substituted benzotriazole uv-absorbers and stabilized compositions
KR100488744B1 (ko) 내구성이강화된벤조트리아졸uv흡수제
US5563242A (en) Electro coat/base coat/clear coat finishes stabilized with soluble and thermally stable benzotriazole UV absorbers
EP0572554B1 (en) 5-sulfonyl-substituted benzotriazole uv-absorbers and stabilized compositions
EP0389419B1 (en) Non-migrating 1-hydrocarbyloxy hindered amine compounds as polymer stabilizers
MXPA97006168A (es) Tris-aril-s-triazinas substituidas con grupos bifenililo
JP2002518489A (ja) ポリ（トリスアリール−１，３，５−トリアジン＝カルバマート）紫外光吸収剤
KR19980063593A (ko) 안정한 니트록사이드와 에틸렌으로 치환된 1,2-비스-부가생성물및 안정화된 조성물
EP0764686B1 (en) Hybrid s-triazine light stabilizers substituted by benzotriazole or benzophenone moieties and compositions stabilized therewith
US5015682A (en) Oligomeric N-hydrocarbyloxy hindered amine light stabilizers
US5118736A (en) N,N-bis(1-hydrocarbyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)amino triazines and stabilized compositions
US5204422A (en) Peroxide free radical initiators containing hindered amine moieties with low basicity
US5015683A (en) Bis(1-hydrocarbyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)-amine derivatives and stabilized compositions
US5387691A (en) 2-(benzotriazol-2-yl)-4-alkyl-6-(2-hydroxy-3-benzoyl-6-alkoxybenzyl)phenols and stabilized compositions
EP0389431B1 (en) N-Hydrocarbyloxy derivatives of hindered amine-substituted s-triazines
CA2012512C (en) Peroxide compounds containing hindered amine moieties with low basicity
MXPA97008572A (en) High durabili uv benzotriazolicos absorbers
MXPA97009369A (en) 1.2-bis-stable nitroxid adducts with substitute ethylene and stabilization compositions

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee