KR100471126B1 - 반도체제조용설비의발생데이터관리방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 반도체 제조용 설비의 발생 데이터 관리방법에 관한 것으로, 본 발명에서는 첫째, 각 설비의 발생 데이터 테이블이 작성되는 시점에 이와 매칭되는 매칭 필드를 마련하고, 이러한 매칭 필드에 맞추어 각 설비에서 발생되는 관련 데이터 값을 소정의 통일된 데이터 명으로 일치·등록시킨 후, 이러한 통일된 데이터 명의 데이터 값이 호스트를 통해 수집되도록 함으로써, 호스트를 통한 과중한 머지 작업 없이도 신속한 데이터 분석작업을 이룰 수 있으며, 둘째, 계측설비의 계측 데이터 테이블이 작성되는 시점에 이와 매칭되는 매칭 필드를 마련하고, 이러한 매칭 필드에 맞추어 각 계측 데이터의 특성에 따른 서로 다른 계측 데이터 명을 구별·등록시킨 후, 이러한 구별 데이터 명의 계측 데이터 값이 호스트를 통해 수집되도록 함으로써, 호스트를 통한 과중한 머지 작업 없이도 신속한 계측 데이터 분석작업을 이룰 수 있다.

Description

반도체 제조용 설비의 발생 데이터 관리방법

본 발명은 반도체 제조용 설비의 발생 데이터 관리방법에 관한 것으로 좀더 상세하게는 설비에서 출력된 데이터가 호스트로 업로드되기 이전에 일반 설비의 경우, 각 설비에서 발생되는 동일 성격의 데이터를 하나의 데이터 명으로 통합해 주고, 계측설비의 경우, 측정되는 계측 데이터를 그 발생특성에 따라 구별될 수 있는 개별 계측 데이터 명으로 분할해 줌으로써, 호스트를 통한 과중한 머지 작업 없이도 신속한 데이터 분석을 이룰 수 있도록 하는 반도체 제조용 설비의 발생 데이터 관리방법에 관한 것이다.

일반적인 반도체 소자는 그 제조에 고도의 정밀성이 요구되며, 이에 따라, 통상의 반도체 생산라인에서는 정밀가공이 가능한 설비, 예컨대, 스퍼터링 설비, 식각 설비, 계측 설비 등을 배치하여 대부분의 반도체 제조공정을 수행하고 있다.

이때, 작업자는 각 설비의 동작상황을 면밀히 관찰함으로써, 라인 작업 효율의 향상을 꾀하고 있다.

도 1은 이러한 기능을 수행하는 종래의 반도체 제조용 설비의 배치 형상을 개략적으로 도시한 개념도이다.

도시된 바와 같이, 생산라인내에는 반도체 제조공정을 실행하는 설비(1)가 배치되며, 이러한 설비(1)에는 로트(2)가 로딩되어 적절한 반도체 제품으로 제조되고 있다.

이때, 설비(1)는 제어기능을 갖춘 호스트(3)와 온라인되는 바, 이에 따라, 설비(1)에서 발생되는 데이터는 전량 호스트(3)로 업로드된다.

이때, 작업 관리자는 호스트(3)에 수집된 데이터를 적절히 분석하여 공정상의 문제점을 도출하고, 이를 토대로 적절한 추후공정이 이루어질 수 있도록 알맞은 공정조치를 취한다.

한편, 도 2는 종래의 반도체 제조용 설비의 발생 데이터 관리방법을 순차적으로 도시한 순서도이고, 도 3 (a) 및 (b)는 종래의 설비 및 호스트에 부여되는 발생 데이터 테이블을 개략적으로 도시한 개념도이다.

먼저, 도 2에 도시된 바와 같이, 설비(1)는 작업 관리자에 의해 만들어진 발생 데이터 테이블에 따라 자신의 동작상황과 관련하여 발생하는 여러 가지 데이터를 수집한다.(S1)

일례로, 설비1(1a) 및 설비2(1b)는 도 3 (a)에 도시된 발생 데이터 테이블에 맞추어 자신에게 부속된 여러 부품, 예컨대, 챔버1, 챔버2, 챔버3, 챔버4, 모터1, 모터2 등에서 발생하는 다양한 데이터 값을 수집한다. 이에 따라, 설비1(1a) 및 설비2(1b)의 부품 상태와 관련된 여러 가지 데이터는 적절히 수집된다.

이때, 설비1(1a) 및 설비2(1b)는 데이터를 발생시키는 부품에 대응하여 적절한 데이터 명을 부여한다. 이에 따라, 설비1(1a)은 도 3 (a)에 도시된 바와 같이, a1, a2, a3 … 등의 데이터 명을 부여하며 설비2(1b)는 b1, b2,b3… 등의 데이터 명을 부여한다.

여기서, 설비1(1a)이 부여하는 a1,a2,a3 등의 데이터 명은 설비2(1b)가 부여하는 b1,b2,b3 등의 데이터 명과 그 의미는 동일하다. 예컨대, 서로 다른 데이터 명 a1, b1은 공히 설비1(1a) 및 설비2(1b)에 부속된 부품의 온도 상태를 의미하는 데이터이다.

이어서, 설비(1)는 이와 같이 수집된 데이터를 부여된 데이터 명에 맞추어 호스트(3)로 업로드한다.(S2) 이에 따라, 호스트(3)에는 각 설비(1)의 동작상황에 따른 데이터가 전량 수집된다.

계속해서, 호스트(3)는 소정의 머지 프로그램을 이용하여 설비(1)로부터 업로드된 다양한 데이터 명의 데이터들을 그 내용에 따라 하나의 통일된 데이터 명으로 머지한다.(S4) 이는 후술하는 데이터 분석시 편리함을 제공하기 위함이다.

이에 따라, 설비1(1a) 및 설비2(1b)로부터 업로드된 서로 다른 데이터 명의 데이터들은 도 3 (b)에 도시된 바와 같이, 그 내용에 따라 하나의 통일된 데이터 명으로 맷치되어, a1, b1은 통일된 데이터 명 온도로, a2, b2는 통일된 데이터 명 습도로, a3, b3는 통일된 데이터 명 RPM으로 머지된다.

이후, 작업 관리자는 이와 같이 머지된 데이터를 분석하여 이에 따른 분석결과를 도출한다.(S4) 이에 따라, 현재의 설비(1) 동작상태는 적절한 상태로 조정된다.

한편, 이러한 종래의 설비가 하나의 데이터 명에 대응하여 다수개의 데이터 값을 발생하는 계측설비인 경우에도 도 2에 도시된 종래의 발생 데이터 관리방법은 적절히 적용된다.

이의 설명을 위해 도 4에는 웨이퍼의 형상이 개략적으로 도시되며, 도 5 (a) 내지 (c)에는 종래의 계측설비에 부여되는 계측 데이터 테이블이 도시된다.

먼저, 계측설비인 설비3(1c)은 가공된 웨이퍼(100)내의 소정 칩들에서 측정한 다수개의 CD 데이터 값을 작업 관리자에 의해 만들어진 계측 데이터 테이블에 따라 수집한다.(S1)

이때, 설비3(1c)은 도 4에 도시된 숫자(1,2…13,14)의 순서에 따라 칩의 CD를 측정한 후 그 측정결과에 따른 계측 데이터 값을 도 5 (a)에 도시된 바와 같은 계측 발생 데이터 테이블에 수집한다.

이어서, 설비3(1c)은 이러한 다수개의 계측 데이터 값에 일괄적으로 소정의 데이터 명, 예컨대, CD를 부여한 후, 수집된 계측 데이터를 부여된 데이터 명에 맞추어 호스트(3)로 업로드한다.(S2) 이에 따라, 호스트(3)에는 웨이퍼(100)내의 칩 상황에 따른 CD 데이터가 수집된다.

계속해서, 호스트는 소정의 머지 프로그램을 이용하여 설비3(1c)으로부터 업로드된 CD라는 데이터 명의 계측 데이터들을 측정순서별로 분류한 후 도 5 (b)에 도시된 바와 같이, 그 측정순서에 따라 서로 다른 데이터 명을 부여한다.

이러한 작업을 수행하는 이유는 후술하는 데이터 분석시 편리함을 제공하기 위함이다.

이어서, 호스트(3)는 각 측정순서별로 파악된 계측 데이터 값을 상술한 서로 다른 데이터 명에 대응되도록 머지한다.(S3) 이에 따라, 각 계측 데이터 값은 도 5 (c)에 도시된 바와 같이 서로 다른 데이터 명과 매칭된다.

이후, 작업 관리자는 이와 같이 머지된 데이터를 분석하여 이에 따른 분석결과를 도출한다.(S4) 이에 따라, 웨이퍼를 가공한 설비의 동작상태는 적절한 상태로 조정된다.

이와 같이, 종래의 반도체 제조용 설비의 발생 데이터 관리방법에서는 일반 설비의 경우, 각 설비마다 서로 다른 이름의 데이터 값이 호스트로 업로드되도록 한 후 호스트를 통해 이러한 데이터가 분석에 용이한 형태로 머지되도록 함으로써, 적절한 제품생산관리를 이루고 있다.

또한, 이와 비교하여 계측설비의 경우, 서로 다른 데이터 값이 하나의 데이터 이름에 맞추어 일괄적으로 호스트로 업로드되도록 한 후 호스트를 통해 이러한 데이터가 분석에 용이한 형태로 머지되도록 함으로써, 적절한 제품생산관리를 이루고 있다.

그러나, 이러한 종래의 반도체 제조용 설비의 발생 데이터 관리방법에는 몇 가지 중대한 문제점이 있다.

첫째, 종래의 일반설비의 경우, 호스트에 수집되는 데이터 값이 각각 다른 데이터 명으로 업로드되는 바, 이러한 데이터 값을 용이하게 분석하기 위해서는 서로 다른 데이터 명의 데이터 값을 하나의 통일된 데이터 명으로 일치시키는 과중한 머지 작업이 호스트를 통해 수행되어야 함으로써, 예측하지 못한 전산작업상의 오류가 야기되는 문제점이 있다.

둘째, 계측설비의 경우, 호스트에 수집되는 다양한 데이터 값이 하나의 데이터 명으로 일괄되어 업로드되는 바, 이러한 다양한 데이터 값을 용이하게 분석하기 위해서는 데이터 값을 그 특성별로 구별하여 서로 다른 데이터 명을 부여하는 과중한 머지 작업이 호스트를 통해 수행되어야 함으로써, 예측하지 못한 전산작업상의 오류가 야기되는 문제점이 있다.

셋째, 이러한 전산작업상의 오류로 인해 잘못된 데이터가 수집되거나, 수집된 데이터가 장기간 유실되는 경우, 전체적인 공정관리 효율이 현저히 저하되는 문제점이 있다.

따라서, 본 발명의 목적은 각 설비의 발생 데이터 테이블이 작성되는 시점에 이와 매칭되는 매칭 필드를 마련하고, 이러한 매칭 필드에 맞추어 각 설비에서 발생되는 관련 데이터 값을 소정의 통일된 데이터 명으로 일치·등록시킨 후, 이러한 통일된 데이터 명의 데이터 값이 호스트를 통해 수집되도록 함으로써, 호스트를 통한 과중한 머지 작업 없이도 신속한 데이터 분석작업을 이룰 수 있도록 하는 반도체 제조용 설비의 발생 데이터 관리방법을 제공함에 있다.

본 발명의 다른 목적은 계측설비의 계측 데이터 테이블이 작성되는 시점에 이와 매칭되는 매칭 필드를 마련하고, 이러한 매칭 필드에 맞추어 각 계측 데이터의 특성에 따른 서로 다른 계측 데이터 명을 구별·등록시킨 후, 이러한 구별 데이터 명의 계측 데이터 값이 호스트를 통해 수집되도록 함으로써, 호스트를 통한 과중한 머지 작업 없이도 신속한 계측 데이터 분석작업을 이룰 수 있도록 하는 반도체 제조용 계측설비의 계측 데이터 관리방법을 제공함에 있다.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 반도체 제조용 설비의 발생 데이터 관리방법에 있어서, 설비의 발생 데이터 테이블이 작성되는 시점에서 상기 발생 데이터 테이블의 부품명 셀에 대응되도록 소정의 매칭 필드를 설정한 후 상기 매칭 필드에 상기 설비의 부품으로부터 발생되는 데이터가 다른 설비의 부품으로부터 발생되는 데이터와 동일 군으로 대별될 수 있도록 하는 소정의 통일 데이터 명을 등록하는 단계와; 상기 부품으로부터 발생되는 데이터를 상기 발생 데이터 테이블의 데이터 셀에 수집하는 단계와; 상기 데이터를 상기 통일 데이터 명으로 호스트로 업로드한 후 상기 데이터를 상기 통일 데이터 명에 따라 수집하여 상기 데이터를 분석하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 반도체 제조용 계측설비의 계측 데이터 관리방법에 있어서, 계측설비의 계측 데이터 테이블이 작성되는 시점에서 상기 계측 데이터 테이블의 계측 데이터 발생특성 셀에 대응되도록 소정의 매칭 필드를 설정한 후 상기 매칭 필드에 상기 계측설비로부터 측정되는 계측 데이터가 당해 발생특성에 따라 구별될 수 있도록 하는 소정의 개별 계측 데이터 명을 등록하는 단계와; 상기 계측설비를 통해 제품을 계측한 후 당해 계측결과 발생되는 상기 계측 데이터를 상기 계측 데이터 테이블의 계측 데이터 셀에 수집하는 단계와; 상기 계측 데이터를 상기 개별 계측 데이터 명으로 호스트로 업로드한 후 상기 계측 데이터를 상기 개별 계측 데이터 명에 따라 수집하여 상기 계측 데이터를 분석하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

이에 따라, 본 발명에서는 호스트의 머지 작업 없이도 작업 관리자에 의한 신속한 데이터 분석이 가능하다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 반도체 제조용 설비의 발생 데이터 관리방법을 좀더 상세히 설명하면 다음과 같다.

도 6은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 반도체 제조용 설비의 발생 데이터 관리방법을 순차적으로 도시한 순서도이고, 도 7 (a) 및 (b)는 본 발명의 제 1 실시예에 따라 설비 및 호스트에 부여되는 발생 데이터 테이블을 개략적으로 도시한 개념도이다.

도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제 1 실시예는 설비(1)의 발생 데이터 테이블이 작성되는 시점에서 발생 데이터 테이블의 부품명 셀에 대응되도록 일정한 매칭 필드를 설정한 후 이러한 매칭 필드에 설비(1)의 부품으로부터 발생되는 데이터가 다른 설비의 부품으로부터 발생되는 데이터와 동일 군으로 대별될 수 있도록 하는 통일 데이터 명을 등록하는 단계(S10,S11)와, 상술한 부품으로부터 발생되는 데이터를 발생 데이터 테이블의 데이터 셀에 수집하는 단계(S12)와, 데이터를 통일 데이터 명으로 호스트(3)로 업로드한 후 업로드된 데이터를 통일 데이터 명에 따라 수집하여 수집된 데이터를 분석하는 단계(S13,S14,S15)를 포함한다.

이하, 이러한 본 발명에 따른 제 1 실시예의 각 단계를 상세히 설명한다.

먼저, 작업 관리자는 설비(1)에 일정한 전산작업을 수행하여 발생 데이터 테이블을 작성함과 아울러 발생 데이터 테이블의 부품명 셀에 대응하여 매칭 필드를 추가로 작성한다.(S10) 이에 따라, 상술한 예의 설비1(1a) 및 설비2(1b)에는 도 7 (a)에 빗금친 영역으로 도시된 매칭 필드를 갖는 발생 데이터 테이블이 작성된다.

이어서, 작업 관리자는 작성된 매칭 필드 내에 통일 데이터 명을 등록한다.(S11) 이에 따라, 도 7 (a)에 도시된 바와 같이, 설비1(1a) 및 설비2(1b)의 각각의 매칭 필드에는 그 의미가 동일한 데이터를 대별할 수 있는 통일 데이터 명이 동일하게 입력·등록된다.

일례로, 작업 관리자가 서로 다른 설비(1), 예컨대, 설비1(1a) 및 설비2(1b)에 부속된 각 부품의 온도 상태를 그 데이터 값으로 수집하고자 하는 경우, 작업 관리자는 각 설비(1)에 작성된 매칭 필드의 셀내에 온도를 의미하는 통일 데이터 명 온도를 공히 등록시킨다. 이에 따라, 설비1(1a) 및 설비2(1b)는 후술하는 데이터 업로드시 온도라는 통일 데이터 명에 따라 수집된 온도 데이터를 호스트(3)로 업로드시킬 수 있다.

종래의 경우, 동일한 의미를 갖는 데이터일지라도 각 설비별로 서로 다른 데이터 명이 부여되어 호스트로 업로드되었던 바, 이에 따라, 호스트에서는 이를 분석에 용이한 형태로 머지하는 과도한 전산 작업을 수행하여야 했다.

그러나, 본 발명의 경우, 상술한 바와 같이, 데이터를 발생시키는 설비(1)가 비록 서로 다른 설비일지라도 수집되는 데이터가 동일한 의미를 갖는 데이터라면, 그 데이터 명을 통일 데이터 명으로 일치시킴으로써, 설비(1)는 수집된 데이터를 통일된 데이터 명에 따라 호스트(3)로 업로드시킬 수 있다. 이에 따라, 데이터 명을 일치시키기 위한 호스트의 과도한 머지 작업 없이도 작업 관리자는 수집된 데이터를 신속하게 분석할 수 있다.

이어서, 설비(1)는 작업 관리자에 의해 만들어진 통일 데이터 명에 따라 자신의 동작상황과 관련하여 발생하는 여러 가지 데이터를 수집한다.(S12)

일례로, 설비1(1a) 및 설비2(1b)는 도 7 (a)에 도시된 통일 데이터 명에 맞추어 자신에게 부속된 여러 부품, 예컨대, 챔버1, 챔버2, 챔버3, 챔버4, 모터1, 모터2 등에서 발생하는 다양한 데이터 값을 수집한다. 이에 따라, 설비1(1a) 및 설비2(1b)의 부품 상태와 관련된 여러 가지 데이터, 예컨대, 온도 데이터, 습도 데이터, RPM 데이터는 통일 데이터 명에 맞추어 적절히 수집된다.

계속해서, 설비(1)는 이와 같이 수집된 데이터를 부여된 통일 데이터 명에 맞추어 호스트(3)로 업로드한다.(S13) 이에 따라, 호스트(3)에는 각 설비의 동작상황에 따른 데이터가 전량 수집된다.

계속해서, 호스트(3)는 업로드된 데이터를 통일 데이터 명에 맞추어 수집·쏘팅한 후 그 결과를 외부로 출력한다.(S14) 이에 따라, 동일한 의미를 갖는 각 설비(1)의 데이터는 동일한 통일 데이터 명에 대응하여 외부로 출력된다.

일례로, 도 7 (b)에 도시된 바와 같이, 설비1(1a) 및 설비2(1b)의 데이터 값 중 온도를 의미하는 데이터인 100℃, 80℃ 등은 통일 데이터 명 온도 항목에, 습도를 의미하는 데이터인 60%, 50% 등은 통일 데이터 명 습도 항목에, RPM을 의미하는 데이터인 80RPM, 70RPM 등은 RPM항목에 대응하여 수집된 후 외부로 출력된다.

이후, 작업 관리자는 이와 같이 각 통일 데이터 명 별로 취합된 데이터를 분석하여 이에 따른 분석결과를 도출한다.(S15) 이에 따라, 현재 설비(1)의 동작상태는 적절한 상태로 조정된다.

한편, 도 8은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 반도체 제조용 계측설비의 계측 데이터 관리방법을 순차적으로 도시한 순서도이고, 도 9 (a) 및 (b)는 본 발명의 제 2 실시예에 따라 계측설비 및 호스트에 부여되는 계측 데이터 테이블을 개략적으로 도시한 개념도이다.

도 8에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제 1 실시예는 계측설비의 계측 데이터 테이블이 작성되는 시점에서 계측 데이터 테이블의 계측 데이터 발생특성 셀에 대응되도록 소정의 매칭 필드를 설정한 후 이러한 매칭 필드에 상술한 계측설비로부터 측정되는 계측 데이터가 그것의 발생특성에 따라 구별될 수 있도록 하는 개별 계측 데이터 명을 등록하는 단계(S20,S21)와, 계측설비를 통해 제품을 계측한 후 당해 계측결과 발생되는 계측 데이터를 계측 데이터 테이블의 계측 데이터 셀에 수집하는 단계(S22)와, 이러한 계측 데이터를 개별 계측 데이터 명으로 호스트(3)로 업로드한 후 업로드된 계측 데이터를 개별 계측 데이터 명에 따라 수집하여 수집된 계측 데이터를 분석하는 단계(S23,S24,S25)를 포함한다.

이하, 이러한 본 발명에 따른 제 2 실시예의 각 단계를 상세히 설명한다.

먼저, 작업 관리자는 계측설비에 일정한 전산작업을 수행하여 계측 데이터 테이블을 작성함과 아울러 계측 데이터 테이블의 계측 데이터 발생특성 셀, 예컨대, 데이터 측정순서 셀에 대응하여 매칭 필드를 추가로 작성한다.(S20) 이에 따라, 상술한 예의 계측설비인 설비3(1c)에는 도 9 (a)에 빗금친 영역으로 도시된 매칭 필드를 갖는 계측 데이터 테이블이 작성된다.

이어서, 작업 관리자는 작성된 매칭 필드 내에 개별 계측 데이터 명을 등록한다.(S21) 이에 따라, 도 9 (a)에 도시된 바와 같이, 설비3(1c)의 매칭 필드에는 그 발생특성이 다른 다수개의 데이터를 구별할 수 있는 개별 계측 데이터 명이 분리되어 입력·등록된다.

일례로, 작업 관리자가 계측설비에서 측정된 계측 데이터를 그 측정순서 별로 수집하는 경우, 작업 관리자는 계측설비에 작성된 매칭 필드의 셀내에 계측 데이터 측정순서를 구별할 수 있는 개별 계측 데이터 명을 등록시킨다. 이에 따라, 설비3(1c)은 후술하는 계측 데이터 업로드시 측정된 계측 데이터를 그 측정순서에 따른 개별 계측 데이터 명에 맞추어 호스트(3)로 업로드시킬 수 있다.

종래의 경우, 계측설비에서 그 발생특성에 따라 수집되는 다양한 계측 데이터 값은 단지 하나의 데이터 명으로 일괄되어 업로드되었던 바, 이에 따라, 호스트에서는 이를 분석에 용이한 형태로 분리하는 과도한 전산 작업이 수행되어야 했다.

그러나, 본 발명의 경우, 상술한 바와 같이, 계측설비에서 측정되는 계측 데이터는 그 발생특성에 따라 구별되어 개별 계측 데이터 명으로 분할됨으로써, 계측설비는 수집된 계측 데이터를 서로 구별되는 개별 계측 데이터 명에 따라 호스트(3)로 업로드시킬 수 있다. 이에 따라, 계측 데이터 값을 그 특성별로 구별하여 서로 다른 데이터 명을 부여하기위한 호스트(3)의 과도한 전산작업 작업 없이도 작업 관리자는 수집된 데이터를 신속하게 분석할 수 있다.

이어서, 계측설비는 작업 관리자에 의해 만들어진 개별 계측 데이터 명에 따라 도 4에 도시된 웨이퍼내의 각 칩을 도시된 숫자(1,2…13,14)의 순서에 따라 측정한 후 측정된 계측 데이터 값을 도 9 (a)에 도시된 바와 같은 계측 데이터 테이블에 수집한다.(S22)

일례로, 설비3(1c)은 도 9 (a)에 도시된 개별 계측 데이터 명에 맞추어 상술한 측정순서별로 자신이 측정한 다양한 계측 데이터 값을 수집한다. 이에 따라, 측정된 여러 가지 계측 데이터, 예컨대, 10,20…,130,140은 서로 구별되는 개별 계측 데이터 명, 예컨대, CD1, CD2, CDP 등에 맞추어 적절히 수집된다.

계속해서, 계측설비는 이와 같이 수집된 데이터를 부여된 개별 계측 데이터 명에 맞추어 호스트(3)로 업로드한다.(S23) 이에 따라, 호스트(3)에는 웨이퍼내의 칩 상황에 따른 계측 데이터가 전량 수집된다.

이어서, 호스트(3)는 업로드된 계측 데이터를 개별 계측 데이터 명에 맞추어 수집·쏘팅한 후 그 결과를 외부로 출력한다.(S24) 이에 따라, 서로 다른 의미를 갖는 각 계측 데이터는 서로 구별되는 개별 계측 데이터 명에 대응하여 외부로 출력된다.

일례로, 도 9 (b)에 도시된 바와 같이, 설비3(1c)의 계측 데이터 값 중 그 측정순서에 따라 서로 다른 의미를 갖는 계측 데이터인 10,20,…130,140은 각각 CD1항목, CD2 항목, CDP 항목에 대응하여 외부로 출력된다.

이후, 작업 관리자는 이와 같이 각 개별 계측 데이터 명 별로 취합된 계측 데이터를 분석하여 이에 따른 분석결과를 도출한다.(S25) 이에 따라, 웨이퍼를 가공한 설비의 동작상태는 적절한 상태로 조정된다.

이와 같이, 본 발명에서는 설비에서 출력된 데이터가 호스트로 업로드되기 이전에 일반 설비의 경우, 각 설비에서 발생되는 동일 성격의 데이터를 하나의 데이터 명으로 통합해 주고, 계측설비의 경우, 측정되는 계측 데이터를 그 발생특성에 따라 구별될 수 있는 개별 계측 데이터 명으로 분할해 줌으로써, 호스트를 통한 과중한 머지 작업 없이도 신속한 데이터 분석을 이룰 수 있다.

이러한 본 발명은 생산라인내에 배치되어 소정의 자동화된 관리를 필요로하는 모든 반도체 제조설비에서 두루 유용한 효과를 나타낸다.

그리고, 본 발명의 특정한 실시예가 설명 및 도시되었지만 본 발명이 당업자에 의해 다양하게 변형되어 실시될 가능성이 있는 것은 자명한 일이다.

이와 같은 변형된 실시예들은 본 발명의 기술적사상이나 관점으로부터 개별적으로 이해되어져서는 안되며 이와 같은 변형된 실시예들은 본 발명의 첨부된 특허청구의 범위안에 속한다 해야 할 것이다.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 반도체 제조용 설비의 발생 데이터 관리방법에서는 첫째, 각 설비의 발생 데이터 테이블이 작성되는 시점에 이와 매칭되는 매칭 필드를 마련하고, 이러한 매칭 필드에 맞추어 각 설비에서 발생되는 관련 데이터 값을 소정의 통일된 데이터 명으로 일치·등록시킨 후, 이러한 통일된 데이터 명의 데이터 값이 호스트를 통해 수집되도록 함으로써, 호스트를 통한 과중한 머지 작업 없이도 신속한 데이터 분석작업을 이룰 수 있으며, 둘째, 계측설비의 계측 데이터 테이블이 작성되는 시점에 이와 매칭되는 매칭 필드를 마련하고, 이러한 매칭 필드에 맞추어 각 계측 데이터의 특성에 따른 서로 다른 계측 데이터 명을 구별·등록시킨 후, 이러한 구별 데이터 명의 계측 데이터 값이 호스트를 통해 수집되도록 함으로써, 호스트를 통한 과중한 머지 작업 없이도 신속한 계측 데이터 분석작업을 이룰 수 있다.

도 1은 종래의 반도체 제조용 설비의 배치 형상을 개략적으로 도시한 개념도.

도 2는 종래의 반도체 제조용 설비의 발생 데이터 관리방법을 순차적으로 도시한 순서도.

도 3 (a) 및 (b)는 종래의 설비 및 호스트에 부여되는 발생 데이터 테이블을 개략적으로 도시한 개념도.

도 4는 종래의 계측공정이 진행된 웨이퍼의 형상을 개략적으로 도시한 예시도.

도 5 (a) 내지 (c)는 종래의 계측설비에 부여되는 계측 데이터 테이블을 개략적으로 도시한 개념도.

도 6은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 반도체 제조용 설비의 발생 데이터 관리방법을 순차적으로 도시한 순서도.

도 7 (a) 및 (b)는 본 발명의 제 1 실시예에 따라 설비 및 호스트에 부여되는 발생 데이터 테이블을 개략적으로 도시한 개념도.

도 8은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 반도체 제조용 설비의 발생 데이터 관리방법을 순차적으로 도시한 순서도.

도 9 (a) 및 (b)는 본 발명의 제 2 실시예에 따라 계측설비 및 호스트에 부여되는 계측 데이터 테이블을 개략적으로 도시한 개념도.

Claims (2)

1. 반도체 제조용 설비의 발생 데이터 관리방법에 있어서,

   설비의 발생 데이터 테이블이 작성되는 시점에서 상기 발생 데이터 테이블의 부품명 셀에 대응되도록 소정의 매칭 필드를 설정한 후 상기 매칭 필드에 상기 설비의 부품으로부터 발생되는 데이터가 다른 설비의 부품으로부터 발생되는 동일한 의미의 데이터와 동일 군으로 대별될 수 있도록 하는 소정의 통일 데이터 명을 등록하는 단계와;

   상기 설비들의 상기 부품들로부터 발생되는 데이터를 상기 발생 데이터 테이블의 데이터 셀에 수집하는 단계와;

   상기 데이터를 상기 통일 데이터 명으로 호스트로 업로드한 후 상기 데이터중 동일한 의미를 가지는 데이터들을 상기 통일 데이터 명에 따라 수집하여 상기 데이터를 분석하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 설비의 발생 데이터 관리방법.
2. 반도체 제조용 계측설비의 계측 데이터 관리방법에 있어서,

   계측설비의 계측 데이터 테이블이 작성되는 시점에서 상기 계측 데이터 테이블의 계측 데이터 발생특성 셀에 대응되도록 소정의 매칭 필드를 설정한 후 상기 매칭 필드에 상기 계측설비로부터 측정되는 계측 데이터가 당해 발생특성에 따라 구별될 수 있도록 하는 소정의 개별 계측 데이터 명을 등록하는 단계와;

   상기 계측설비를 통해 제품을 계측한 후 당해 계측결과 발생되는 상기 계측 데이터를 상기 계측 데이터 테이블의 계측 데이터 셀에 수집하는 단계와;

   상기 계측 데이터를 상기 개별 계측 데이터 명으로 호스트로 업로드한 후 상기 계측 데이터를 상기 개별 계측 데이터 명에 따라 수집하여 상기 계측 데이터를 분석하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 계측설비의 계측 데이터 관리방법.

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