KR100460060B1 - 반사형기판,그의제조방법및이를적용한반사형액정표시장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 반사형 기판, 그의 제조방법 및 이를 적용한 반사형 액정표시장치를 개시한다. 개시된 본 발명의 반사형 기판은, 전면에 TFT 및 화소전극이 형성된 유리기판과, 상기 TFT 및 화소전극이 형성되지 않은 유리기판의 배면에 형성된 둘이상의 서로 다른 높이를 갖는 다수의 볼록부와, 상기 다수의 볼록부를 포함한 유리기판의 배면 전 영역 상에 형성된 감광성 수지로 이루어진 폴리머 수지막과, 상기 폴리머 수지막 상에 어떠한 평탄부도 없이 연속파형을 갖도록 형성된 광반사막을 포함하는 것을 특징으로 한다. 또한, 개시된 본 발명의 반사형 액정표시장치는, TFT 및 화소전극이 형성되지 않은 유리기판의 배면에 둘 이상의 서로 다른 높이를 갖는 다수의 볼록부가 형성되고, 상기 다수의 볼록부가 형성된 유리기판 배면의 전영역 상에 감광성 수지로 이루어진 폴리머 수지막이 형성되며, 상기 폴리머 수지막상에 어떠한 평탄부도 없이 연속파형을 갖도록 광반사막이 형성되어 구성된 하부기판으로 역할하는 반사형 기판과, 상기 반사형 기판에 대향하여 제공된 상부기판과, 상기 반사형 기판과 상부기판 사이에 봉입된 액정층을 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

반사형기판, 그의 제조방법 및 이를 적용한 반사형 액정표시장치

[발명의 기술분야]

본 발명은 백라이트를 사용하지 않는 반사형 액정표시장치에서의 반사형 기판, 그의 제조방법 및 이를 적용한 반사형 액정표시장치에 관한 것이다.

[종래 기술]

최근, 워드프로세스, 퍼스널 컴퓨터, 소형 TV 등에 대한 액정표시장치의 응용이 급속히 진척되고 있다. 특히, 외부 입사광의 반사를 이용하여 화면표시를 수행하는 반사형 액정표시장치는 백라이트를 사용할 필요가 없기 때문에 저전력을 소모하며 박형 및 경량으로 제조할 수 있다. 이 때문에, 반사형 액정표시장치는 많은 주목을 받고 있으며, 예컨데, 트위스티드 네마틱(TN) 시스템과 슈퍼 트위스티드 네마틱(STN) 시스템에 채용되고 있다.

그러나, 이들 시스템에 의하면, 액정표시장치에 제공된 직선 편광기로 인해 자연광의 광강도의 절반이 사용불가능하게 되어 표시가 어둡게 된다. 이 단점에 입각하여 자연광의 모든 광강도가 효율적으로 사용될 수 있는 표시모드가 제안되고 있다. 이의 한 예로 상전이형 게스트-호스트(Guest-Host) 시스템이 있다.(디.엘.화이트 및 지.엔.테일러, J. Appl. Phys. 454718(1974))

상전이형 게스트-호스트 시스템의 표시모드를 사용한 액정표지장치는 전계에 의해 야기되는 콜레스테릭-네마틱 상전이 현상을 이용하며, 직선 편광기와 같은 편광판을 필요로 하지 않는다. 이 형태의 액정표시장치와 마이크로 컬러필터를 조합하여 얻어진 반사형 액정표시장치도 제안되었다.(다쯔오 우찌다 등, Proceedings of the SID Vol. 29/2 157(1988))

편광판을 필요로 하지 않는 표시모드에서 보다 밝은 표시를 얻기 위해서는 임의의 입사각으로 화면에 입사하고 그에 대해 수직방향으로 산란되는 광의 강도가 증대되어야 한다. 이를 위해, 반사판의 반사특성을 조정하여 조정된 최적의 반사특성을 갖는 반사판을 제조하여야 한다. 상기 반사형 멀티 컬러 표시장치를 제안한 문헌에는 절연유리기판의 한 표면 상에 형성된 평탄도를 조정하고 비평탄 상태로 유리기판 상에 Ag로 형성된 막과 같은 금속박막을 형성하므로써 얻어진 반사판이 개시되어 있다.

제 1 도 및 제 2 도는 종래 반사형 액티브 매트릭스 기판의 평면도이고, 제 2 도는 제 1 도의 A-A선 단면도로서, 이를 설명하면 다음과 같다.

제 1 도를 참조하면, 반사형 기판(20)에는 다수의 게이트 버스라인(22)(즉, 주사선)과 다수의 소스 버스라인(24)(즉, 신호선)이 서로 직교하여 절연유리기판(11)(즉, 하부 기판) 상에 제공되어 있다. 각 게이트 버스라인(22)과 각 소스 버스 라인(24)에 의해 한정된 직사각형부에는 광반사기능을 갖는 화소전극(19)이 제공된다. 각 화소전극(19)이 형성된 직사각형 부분의 한 코너에 게이트 전극(23)이 각 게이트 버스라인(22)으로부터 분기되고, 상기 각 게이트 전극(23)의 단부에는 박막 트랜지스터(21 : 이하, TFT)가 스위칭 소자로서 형성되어 있다. 게이트 전극(23)은 TFT(21)의 일부를 형성한다.

더욱이, 각 화소전극(19)이 형성된 직사각형 부분의 한 코너에는 소스 전극(25)이 각 소스 버스라인(24)으로부터 분기되어 있다. 상기 소스 전극(25)의 단부는 절연 상태로 게이트 전극(23)과 중첩한다. 상기 소스 전극(25)은 TFT(21)의 일부를 형성한다. 상기 소스 전극(25)과 떨어진 거리에 TFT(21)의 드레인 전극(26)이 제공되며, 이 드레인 전극(26)의 단부는 절연 상태로 게이트 전극(23)과 중첩한다. 상기 각 드레인 전극(26)은 각 화소전극(19)에 전기적으로 접속되어 있다.

제 2 도를 참조하면, 유리기판(11)에 형성된 게이트 전극(23) 위에 TFT(21)가 제공된다. 상기 게이트 전극(23)은 유리기판(11)의 전체 표면에 걸쳐 형성된 게이트 절연막(11a)으로 덮힌다. 상기 게이트 절연막(11a)의 일부에는 반도체층(27)이 형성되어 게이트 전극(23) 위의 영역을 덮는다. 상기 반도체층(27)의 양단을 덮도록 접점층(28)을 형성한다. 상기 접점층(28)을 덮도록 소스 전극(25)과 드레인 전극(26)을 형성한다.

광반사기능을 갖는 화소전극(19)이 형성되며, 상기 화소전극(19)의 아래에는 서로 다른 높이를 갖는 볼록부(14a, 14b)들이 유리기판(11)의 전면 상에 번갈아 형성된다. 상기 볼록부(14a, 14b)들을 덮기 위해 유리기판(11)의 전면 상에 폴리머 수지막(15)을 형성한다. 상기 폴리머 수지막(15)의 상면은 볼록부(14a, 14)로 인해 파형(波形)으로 되어 있다. 상기 폴리머 수지막(15)은 화소전극(19) 아래는 물론 유리기판(11)의 거의 전 표면에 걸쳐 형성된다. 상기 화소전극(19)은 접촉공(29)을 통해 드레인 전극(26)과 전기적으로 접속된다.

그러나, 상기한 종래 기술에 의하면, 화소전극 아래에는 광간섭을 방지하기 위해 볼록부가 형성되며, 이로인해, 상기 화소전극은 파형을 갖는 폴리머 수지막 상에 형성되어 자신 또한 파형을 갖게 되는데, 상기 화소전극은 드레인 전극과 연결되어야 하는 바, 드레인 전극과의 콘택 공정이 어려운 문제점이 있다.

또한, 이렇게 동일한 하부 유리기판의 전면에 TFT와 화소전극 및 광간섭 방지를 위한 볼록부가 구비되어 있으므로, 화소전극에는 과중한 스트레스가 인가되고, 이것은 곧 드레인 전극을 통하여 TFT 내에도 스트레스를 인가하게 되는 결과를 초래하여, 반사형 액정표시장치의 불량률이 중대되는 심각한 문제점이 있다.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 유리기판의 전면 상에 광간섭을 방지하기 위한 볼록부 및 폴리머 수지막을 형성함에 기인한 공정상의 어려움 및 불량률 증대를 방지할 수 있는 반사형 기판, 그의 제조방법 및 이를 적용한 반사형 액정표시장치를 제공함에 그 목적이 있다.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 반사형 기판은, 전면에 TFT 및 화소전극이 형성된 유리기판; 상기 TFT 및 화소전극이 형성되지 않은 유리기판의 배면에 형성된 둘 이상의 서로 다른 높이를 갖는 다수의 볼록부; 상기 다수의 볼록부를 포함한 유리기판의 배면 전 영역 상에 형성된 감광성 수지로 이루어진 폴리머 수지막; 및 상기 폴리머 수지막 상에 어떠한 평탄부도 없이 연속파형을 갖도록 형성된 광반사막을 포함하는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 반사형 기판의 제조방법은, 반사형 액정표시장치의 하부기판으로 역할하는 반사형 기판을 제조하는 방법에 있어서, TFT 및 화소전극이 형성되지 않은 유리기판의 배면에 둘 이상의 서로 다른 높이를 갖는 다수의 볼록부를 형성하는 단계; 상기 볼록부들을 갖는 유리기판의 배면 전 영역 상에 상기 볼록부들에 의해 어떠한 평탄부도 없이 연속파형의 표면을 갖는 폴리머 수지막을 형성하는 단계; 및 상기 폴리머 수지막 상에 연속파형을 갖도록 광반사막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

게다가, 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 반사형 액정표시장치는, TFT 및 화소전극이 형성되지 않은 유리기판의 배면에 둘 이상의 서로 다른 높이를 갖는 다수의 볼록부가 형성되고, 상기 다수의 볼록부가 형성된 유리기판 배면의 전 영역 상에 감광성 수지로 이루어진 폴리머 수지막이 형성되며, 상기 폴리머 수지막 상에 어떠한 평탄부도 없이 연속파형을 갖도록 광반사막이 형성되어 구성된 하부기판으로 역할하는 반사형 기판; 상기 반사형 기판에 대향하여 제공된 상부기판; 및 상기 반사형 기판과 상부기판 사이에 봉입된 액정층을 포함하는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따르면, 볼록부와 폴리머 수지막을 TFT 및 화소전극이 형성되지 않은 유리기판의 배면에 형성하면서 상기 폴리머 수지막 상에 광반사막을 형성함으로써, 제조 공정에서의 불량율을 크게 개선할 수 있음은 물론 유리기판 표면에서 발생될 수 있는 광간섭 효과를 제거할 수 있어서 선명한 상을 제공할 수 있다.

[실시예]

이하, 첨부된 도면에 의거하여 본 발명을 자세히 설명하도록 한다.

제 3 도는 본 발명에 따른 반사형 기판의 단면도이고, 제 4a 도 내지 제 4e 도는 본 발명에 따라 유리기판의 배면에 볼록부를 제조하기 위한 과정을 나타낸 단면도이며, 제 5 도는 본 발명에 따른 반사형 기판 제조시에 사용된 포토마스크의 평면도이고, 제 6 도는 간섭광의 발생을 예시한 개략도이다. 본 발명은 종래와 동일한 부분의 설명은 배제하고, 동일한 부호에 대하여는 동일한 부호를 부여하도록 한다.

우선, 본 발명의 원리에 대하여 제 6 도를 참조하여 설명하기로 한다.

제 6 도는 광이 유리기판에 입사하고, 입사광이 반사막으로부터 반사되어 유리기판으로부터 출사하도록 한 상태를 나타낸다. θi의 입사각으로 유리기판에 입사하는 광이 반사막 볼록부의 상부 및 저부로부터 반사되고, θo의 출사각으로 유리기판으로부터 출사되는 경우에 간섭광이 발생되는 것으로 한다. 이때, 상부에서 반사되는 광과 저부에서 반사되는 광 사이의 광로차 δ는 다음 식(1)로 표시된다.

δ = Lsinθi + h(1/cosθi' + 1/cosθo' )·n - [Lsinθo' + h(tanθo' )sinθo]

= L(sinθi - sinθo) +h[(1/cosθi' + 1/cosθo' )·n

- tanθi' + tanθo' )sinθo] ········ (1)

상기 식(1)에서, θi는 반사막의 저부에서의 광의 입사각, θo' 는 그의 저부에서의 광의 출사각, L은 유리기판 상의 두 빛의 입사점 사이의 거리, h는 반사막의 상부 및 저부 상의 두 빛의 반사점 사이의 높이, n은 유리기판의 반사율을 각각 나타낸다.

상기 식(1)은 θi = θo, θi'= θo' 일 때만 계산될 수 있다. 이에 따라, θi = θo = θ, θi'= θo'= θ로 가정하면, 광로차 δ는 다음 식(2)로 표시된다.

δ =h[2n/cosθ'- 2tanθ' ·sinθ] ······ (2)

임의의 파장 λ1 및 λ2가 고려될 때, λ1의 광과 λ2의 광은 δ/λ1 = m ± 1/2(m은 정수)의 경우에 서로 연화되고, δ/λ2 = m인 경우에 λ2의 광은 서로 경화된다. 이에 따라, 다음 식(3)이 얻어질 수 있다.

δ(1/λ1- λ2) = 1/2 ······· (3)

상기 식(3)은 다음과 같이 표시될 수 있다.

δ = (λ1 · λ2)/2 · (λ1- λ2) ······· (4)

이에 따라, 상기 식(2)와 식(4)로부터, 높이 h는 다음 식(5)로 표시될 수 있다.

h= 1/2 ·[(λ1 ·λ2)/(λ1 - λ2)] -[cosθ'/(2n - 2sinθ' ·sinθ)] ······ (5)

상기한 바와 같이, 본 발명자들은 간섭광을 방지하기 위하여 반사막의 표면이 어떠한 평탄부도 없이 연속파형으로 형성되어야 한다는 것을 발견했다.

상기 관점에 입각하여, 본 발명에 따라 다음과 같은 반사막의 제조방법이 사용된다.

서로 다른 높이를 갖는 둘 이상의 볼록부들이 판상으로 베이스 부재에 형성된다. 다음, 상기 볼록부들을 갖는 베이스 부재 위에 폴리머 수지 등으로 이루어진 막을 형성하고, 그 위에 광반사 기능을 갖는 반사박막을 형성한다.

이에 따라 형성된 반사박막이 액티브 매트릭스 기판 상의 하부 유리기판 또는 상부 유리기판 각각의 배면에 부착될 때, 상기 하부 유리기판 또는 상부 유리기판은 어떠한 평탄부들도 없이 연속파형을 갖는 반사면을 가지며, 이에 따라, 반사광선이 서로 간석하지 않는다. 또한, 광 마스크를 사용하여 볼록부들을 광학적으로 형성하는 경우, 동일한 광조사 조건하에 양호한 재현성을 갖도록 상기 볼록부들을 형성할 수 있다.

본 발명의 일실시예를 제 3 도 및 제 4a 도 내지 제 4e 도를 참조하여 설명한다.

제 3 도를 참조하면, 유리기판(11)의 전면 상에는 종래와 동일하게 TFT(도시안됨)이 형성되고, 아울러, 액정을 구동시키기 위한 화소전극(도시안됨)이 형성된다. 상기 TFT는 유리기판(11) 상에 형성된 게이트 전극, 상기 게이트 전극을 포함한 유리기판(11)의 전 표면에 걸쳐 형성된 게이트 절연막, 상기 게이트 전극 상부의 게이트 절연막 부분 상에 형성된 반도체층, 상기 반도체층의 양단을 덮도록 형성된 한 쌍의 접점층, 상기 접점층 상에 형성된 소스 전극 및 드레인 전극을 포함한다. 상기 화소전극은 접촉공을 통해 드레인 전극과 전기적으로 접속된다.

상기 유기기판(11)의 배면에는, 도시된 바와 같이, 서로 다른 높이를 갖는 볼록부(14a, 14b)들이 형성된다. 본 실시예에서는 높이가 서로 다른 두 종류의 볼록부를 형성하지만, 그 외에 높이가 서로 다른 세 종류의 볼록부들을 형성할 수 있다.

즉, 두 종류 이상의 높이가 서로 다른 볼록부들을 형성하는 이유를 설명하면 다음과 같다.

2개의 인접한 볼록부들의 높이가 같을 경우, 그 볼록부들의 각 표면에 상으하는 화소전극 부위에서 반사된 빛은 서로 간섭하기 쉽다 반면, 볼록부들의 높이를 서로 다르게 하면, 파장 의존성을 감소시킬 수 있다.

계속해서, 상기 볼록부(14a, 14b)들은 폴리머 수지막(15)으로 덮혀지며, 이러한 폴리머 수지막(15)은 볼록부(14a, 14b)들로 인해 그 표면이 파형을 갖도록 된다. 이때, 폴리머 수지막(15)은 유리기판(11) 배면의 거의 전 영역에 걸쳐 형성된다. 본 실시예에서, 상기 폴리머 수지막(15)은 감광성 수지(상표명: OFPR-800, 도쿄 오까 고교사 제)로 형성된다.

다음으로, 본 발명에 따라 유리기판의 배면에 볼록부를 제조하기 위한 과정을 제 4a 도 내지 제 4e 도를 참조하여 설명하도록 한다.

제 4a 도에 도시된 바와 같이, 감광성 수지로 구성된 레지스트막(12)이 스핀 코팅법에 의해 유리기판(11)의 배면에 형성된다. 본 실시예에서는 두께 1.1mm를 갖는 유리기판(상표명 7059, 코닝사 제품)이 이용되며, 레지스트막(12)으로는 전술한 감광성 수지(상표명 OFPR-800, 도쿄 오까 고교사 제품)을 사용한다. 이때, 레지스트막(12)은 500∼3000rpm의 스핀코팅법으로 형성하는 것이 바람직하다. 본 실시예에서, 레지스트막(12)은 30초 동안 1500rpm의 스핀코팅법으로 형성하고, 그 두께는 2.5㎛이다. 본 실시예에서는 도쿄 오까 고교사 제품인 OFPR-800을 사용하지만, 본 발명의 재료는 이것에 국한되지 않는다. 노출 공정에 의해 패턴화될 수만 있으면, 포지티브나 네가티브의 어떤 감광성 수지라도 사용할 수 있다. 예를들면, 도쿄 오까 고교사 제품인 OMR-83, OMR-85, ONNR-20, OFPR-2, OFPR-830, OFPR-500 또는 시 플레이 파 이스트사 제품인 TF-20, 1300-27, 1400-27을 사용할 수도 있다. 그 외에, 도레이 인더스트리스사 제품인 포토니스(photoneece), 세끼스이 파인 케미컬사 제품인 RW101 및 니뽄 가야꾸 고교사 제품인 R101, R633을 이용할 수 있다.

이어서, 레지스트막(12)이 형성된 유리기판(11)을, 예컨데, 30분 동안 90℃에서 미리 고온 건조한다. 그런다음, 제 5 도에 도시된 포토마스크(13)를 제 4b 도에 도시된 바와 같이 레지스트막(12) 위에 배치하고, 이 상태에서 포토마스크(13)를 화살표로 표시된 바와 같이 빛에 노출시킨다. 포토마스크(13)는 패턴 홀(13a, 13b)이 뚫려 있는 판(13c)으로 만들어진다. 본 실시예에서, 패턴 홀(13a, 13h)은 직경 5pm의 원형이다. 이들 패턴 홀(13a, 13h)은 판(13c)에 무작위로 형성되고, 인접 패턴 홀(13a, 13b) 사이의 간격은 2㎛ 또는 그 이상이다. 여기서, 간격이 너무 넓으면, 폴리머 수지막(15)의 윗면을 연속적인 파형으로 만들기가 어렵다는 것을 주의하여야 한다. 본 실시예에서, 포토마스크(13)의 패턴 홀(13a, 13b)의 형태가 원형이지만, 사각형, 타원형, 또는, 줄무늬 등 어떠 형상도 가능하다.

이어서, 이렇게 얻어진 적층 구조물(즉, 유리기판 11과 레지스트막 12)을 예컨데 도쿄 오까 고교사 제품인 NMD-3로 조제된 2.38%의 현상액으로 현상한다. 현상에 의해, 제 4c 도에 도시된 바와 같이, 서로 높이가 다른 미세한 여러개의 볼록부(14a, 14b)가 유리기판(11)의 배면에 형성된다. 이들 를록부(14a, 14b)의 상단은 패터닝 공정에 의하여 모서리가 각이 져 있다. 여기서, 볼록부(14a, 14b)에 해당하는 지역의 높이는 노출 공정 직후에는 동일하다. 그러나, 현상 공정 동안에 각각의 볼록부(14a, 14b)의 높이가 다르게 되는데, 이는 경화된 볼록부(14a, 14b)의 단면적 차이 때문이다. 본 실시예에서 높이가 2.48㎛인 볼록부(14a)는 직경 5㎛의 패턴 홀(13a)에 의해 형성되고, 높이 1.64㎛의 볼록부(14b)는 직경 3㎛의 패턴 홀(13b)에 의해 형성된다. 볼록부(14a, 14b)들의 높이는 패턴 홀(13a, 13b)의 크기, 노출 시간 및 현상 시간에 따라 달라진다. 패턴 홀(13a, 13b)의 크기는 전술한 크기로 제한되지 않는다.

다음에, 볼록부(14a, 14b)가 형성된 유리기판(11)을 1시간 동안 200℃에서 열처리하여 볼록부를 연화시킨다. 따라서, 볼록부(14a, 14b)의 상단 모서리들이, 제 4d 도에 도시된 바와 같이, 둥그스럼해진다.

열처리된 유리기판(11) 배면에는, 제 4e 도에 도시된 바와 같이, 스핀코팅법으로 폴리머 수지막(15)이 형성된다. 이때, 폴리머 수지로는 전술한 OFPR-800을 사용한다. 폴리머 수지막(15)은 스핀코팅법, 바람직하게는 1000∼3000RPM의 스핀코팅법에 의하여 형성된다. 본 실시예에서는 폴리머 수지막(15)을 2000RPM에서 스핀코팅법으로 형성한다. 그 결과, 유리기판(11) 배면에는 연속적인 파형 형태인 폴리머 수지막(15)이 형성된다.

그 후, 광반사 기능을 갖는 Al, Ni, Cr, Ag 등이 예컨데 스퍼터링법으로 폴리머 수지막(15) 상에 형성되어 광반사막(30)이 형성된다. 이때, 상기 광반사막(30)의 두께는 0.01∼1.0㎛가 바람직하다.

이렇게 형성된 광반사막(30)은 평탄부가 전혀 없는데, 이것은 광반사막(30)이 연속적인 파형 형태의 표면을 갖는 폴리머 수지막(15) 상에 형성되기 때문이다.

이와 같이 형성된 하부 유리기판은 그 배면에 볼록부(14a, 14b)가 형성되어, 제 3 도에 도시된 바와 같이, 입사광(θi)의 차가 현저하더라도 반사율이 파장에 따라 덜 변하므로, 반사관에 간섭이 일어나지 않는다.

전술한 실시예에서, TFT(21)는 스위칭 소자로 사용된다. 본 발명은 여기에 제한되지 않고, 금속-절연체-금속(MIM) 소자, 다이오드 및 배리스터와 같은 다른 스위칭 소자를 사용해도 좋다.

더욱이, 본 실시예에서는 유리기판(11)을 절연기판으로 사용하지만, Si기판과 같은 불투명 기판을 사용해도 비슷한 효과를 낼 수 있다. 이 경우, 주변회로를 기판에 집적할 수 있다는 잇점이 있다.

또한, 본 실시예에서는 볼록부들이 하부 유리기판의 배면에만 형성되는 것에 국한되지 않고, 하부 유리기판에 대향하는 상부 유리기판 배면에도 전술한 볼록부 형성 공정에 의하여 동일하게 형성할 수 있다.

본 실시예에서는 표시모드로서 상전이형 게스트-호스트 모드를 이용하지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않는다. 예를들면, 복층형 게스트-호스트 모드와 같은 흡광 모드, 폴리머 분산형 LCD에 사용되는 광산란형 표시모드, 및 강유전성 LCD에 이용되는 복굴절 표시모드 등을 사용할 수 있다.

전술한 바와 같이, 본 발명에 의하면 광반사 기능을 갖는 금속박막이나 대향 전극을 연속적인 파형 형태로 형성하여 파장 의존성을 축소시킴으로써 어떤 간섭색도 없는 만족할만한 밝은 표시를 얻을 수 있다. 또한, 포토마스크를 이용해 포토리소그래피 공정으로 볼록부들을 형성하면, 볼록부들을 재현성이 양호하게 형성할 수 있고, 이 볼록부 때문에 활소전극 윗면도 재현성이 양호하게 만들 수 있다.

여기에서는 본 발명의 특정 실시예에 대해서 설명하고 도시하였지만, 당해 기술의 전문가라면 본 발명의 범위와 정신을 벗어나지 않고도 다양한 다른 변형을 쉽게 할 수 있다. 따라서, 이하 특허청구의 범위는 본 발명의 진정한 사상과 범위에 속하는 한 모든 수정과 변형을 포함하는 것으로 이해할 수 있다.

제 1 도는 종래 반사형 기판의 평면도,

제 2 도는 제1도의 A-A선 단면도.

제 3 도는 본 발명에 따른 반사형 기판의 단면도.

제 4a 도 내지 제 4e 도는 본 발명에 따라 유리기판의 배면에 볼록부를 제조하기 위한 과정을 나타낸 단면도.

제 5 도는 본 발명에 따른 반사형 기판 제조시에 사용된 포토마스크의 평면도.

제 6 도는 간섭광의 발생을 예시한 개략도.

- 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 -

11 : 유리기판 12 : 레지스트막

13 : 포토마스크 13a,13b : 패턴 홀

13c : 판 14a,14b : 볼록부

15 : 폴리머 수지막 19 : 화소전극

20 : 반사형 기판 21 : TFT

22 : 게이트 버스라인 23 : 게이트 전극

24 : 소스 버스라인 25 : 소스 전극

26 : 드레인 전극 27 : 반도체층

28 : 접점층 29 : 접촉공

30 : 광반사막

Claims (5)

1. 전면에 TFT 및 화소전극이 형성된 유리기판;

   상기 TFT 및 화소전극이 형성되지 않은 유리기판의 배면에 형성된 둘 이상의 서로 다른 높이를 갖는 다수의 볼록부;

   상기 다수의 볼록부를 포함한 유리기판의 배면 전 영역 상에 형성된 감광성 수지로 이루어진 폴리머 수지막; 및

   상기 폴리머 수지막 상에 어떠한 평탄부도 없이 연속파형을 갖도록 형성된 광반사막을 포함하는 것을 특징으로 하는 반사형 기판.
2. 제 1 항에 있어서, 상기 광반사막은 Al, Ni, Cr 및 Ag로 구성된 그룹으로부터 선택되는 어느 하나의 금속으로 이루어진 것을 특징으로 하는 반사형 기판.
3. 반사형 액정표시장치의 하부기판으로 역할하는 반사형 기판을 제조하는 방법에 있어서,

   TFT 및 화소전극이 형성되지 않은 유리기판의 배면에 둘 이상의 서로 다른 높이를 갖는 다수의 볼록부를 형성하는 단계;

   상기 볼록부들을 갖는 유리기판의 배면 전 영역 상에 상기 볼록부들에 의해 어떠한 평탄부도 없이 연속파형의 표면을 갖는 폴리머 수지막을 형성하는 단계; 및

   상기 폴리머 수지막 상에 연속파형을 갖도록 광반사막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반사형 기판의 제조방법.
4. 제 3 항에 있어서, 상기 볼록부는 포토마스크를 사용하여 광학적으로 형성하는 것을 특징으로 하는 반사형 기판의 제조방법.
5. TFT 및 화소전극이 형성되지 않은 유리기판의 배면에 둘 이상의 서로 다른 높이를 갖는 다수의 볼록부가 형성되고, 상기 다수의 볼록부가 형성된 유리기판 배면의 전 영역 상에 감광성 수지로 이루어진 폴리머 수지막이 형성되며, 상기 폴리머 수지막 상에 어떠한 평탄부도 없이 연속파형을 갖도록 광반사막이 형성되어 구성된 하부기판으로 역할하는 반사형 기판;

   상기 반사형 기판에 대향하여 제공된 상부기판; 및

   상기 반사형 기판과 상부기판 사이에 봉입된 액정층을 포함하는 것을 특징으로 하는 반사형 액정표시장치.